NL1004822C2 - Material for a photo-electrode in a free electron laser - Google Patents

Material for a photo-electrode in a free electron laser Download PDF

Info

Publication number
NL1004822C2
NL1004822C2 NL1004822A NL1004822A NL1004822C2 NL 1004822 C2 NL1004822 C2 NL 1004822C2 NL 1004822 A NL1004822 A NL 1004822A NL 1004822 A NL1004822 A NL 1004822A NL 1004822 C2 NL1004822 C2 NL 1004822C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
photo
value
substrate
cathode
photocathode
Prior art date
Application number
NL1004822A
Other languages
Dutch (nl)
Inventor
Diego Bisero
Gerardus Joannes Ernst
Original Assignee
Nl Laser Res
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nl Laser Res filed Critical Nl Laser Res
Priority to NL1004822A priority Critical patent/NL1004822C2/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1004822C2 publication Critical patent/NL1004822C2/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J1/02Main electrodes
    • H01J1/34Photo-emissive cathodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/12Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/0903Free-electron laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2201/00Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/34Photoemissive electrodes
    • H01J2201/342Cathodes
    • H01J2201/3421Composition of the emitting surface
    • H01J2201/3426Alkaline metal compounds, e.g. Na-K-Sb
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)

Abstract

A caesium-potassium-tellurium composite is used as a photoelectric material.

Description

Titel: Foto-elektrodeTitle: Photoelectrode

De uitvinding heeft betrekking op een foto-elektrode, en meer in het bijzonder op een foto-elektrode die geschikt is om te worden toegepast in een vrije-elektronlaser ("free electron laser").The invention relates to a photoelectrode, and more particularly to a photoelectrode suitable for use in a free electron laser.

5 Voorts heeft de uitvinding betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke foto-elektrode.The invention further relates to a method for manufacturing such a photoelectrode.

Een vrije-elektronlaser ("free electron laser") is op zich bekend, en de aard en constructie daarvan vormt geen onderwerp van de onderhavige aanvrage. Volstaan wordt met op 10 te merken, dat in een dergelijke laser elektronen worden gedwongen een gebogen baan af te leggen, waarbij straling wordt gegenereerd. Daarbij wordt bij voorkeur gebruik gemaakt van een foto-elektrode, dat wil zeggen een orgaan dat is ontworpen om bij bestraling met licht met een voorafbepaalde 15 golflengte elektronen te genereren (foto-emissie), welke gegenereerde elektronen onder invloed van een elektrisch veld worden versneld tot een voorafbepaalde energie. Een dergelijke elektrode zal in het hiernavolgende ook worden aangeduid met de term "foto-kathode".A free electron laser is known per se, and the nature and construction thereof is not the subject of the present application. Suffice it to note that in such a laser electrons are forced to travel a curved path, whereby radiation is generated. Preferably, a photoelectrode is used, that is to say an element designed to generate electrons (photo emission) upon irradiation with light of a predetermined wavelength, which electrons are accelerated under the influence of an electric field to a predetermined energy. Such an electrode will hereinafter also be referred to by the term "photo-cathode".

20 Een foto-kathode dient te voldoen aan onder meer de volgende criteria, in de eerste plaats moet de foto-kathode compatibel zijn met het in een free electron laser heersende ultra-hoge vacuüm. In de tweede plaats is een hoge quantum-efficiency (QE) gewenst, waarmee wordt bedoeld de verhouding 25 tussen het aantal uit de foto-kathode vrijgemaakte elektronen en het aantal op de foto-kathode ingestraalde fotonen. Voorts is een lange levensduur gewenst, hetgeen in de praktijk neerkomt op de tijdsduur dat de quantum-efficiency tijdens bedrijf hoger is dan een voorafbepaalde waarde.A photo-cathode must meet, inter alia, the following criteria. First, the photo-cathode must be compatible with the ultra-high vacuum prevailing in a free electron laser. Secondly, a high quantum efficiency (QE) is desired, which means the ratio between the number of electrons released from the photo-cathode and the number of photons irradiated on the photo-cathode. Furthermore, a long service life is desired, which in practice amounts to the time that the quantum efficiency during operation is higher than a predetermined value.

30 Een materiaal dat geschikt is gebleken voor gebruik als foto-kathode, is Cs2Te. Dit materiaal heeft echter onder meer het belangrijke nadeel, dat het niet stabiel genoeg is.A material that has been found suitable for use as a photo-cathode is Cs2Te. However, this material has, among other things, the important drawback that it is not stable enough.

Tijdens gebruik kan Cs verdampen uit de foto-kathode, waardoor 1004822 2 niet alleen de quantum-efficiency vermindert, maar waardoor ook vonken veroorzaakt kunnen worden in de versneller van de free electron laser.During use, Cs can evaporate from the photo-cathode, which means that 1004822 2 not only reduces quantum efficiency, but can also cause sparks in the accelerator of the free electron laser.

Het is derhalve een doel van de onderhavige uitvinding om 5 een alternatief materiaal te verschaffen dat bruikbaar is als foto-emitterend materiaal in een foto-kathode voor bijvoorbeeld een free electron laser. Meer in het bijzonder beoogt de onderhavige uitvinding een foto-kathode te verschaffen die een goede levensduur heeft, en waarvan het foto-emitterend 10 materiaal chemisch stabieler is dan Cs2Te. Nog meer in het bijzonder beoogt de onderhavige uitvinding een foto-kathode te verschaffen waarvan de quantum-efficiency beter is dan met Cs2Te wordt bereikt.It is therefore an object of the present invention to provide an alternative material which can be used as a photo-emitting material in a photo-cathode for, for example, a free electron laser. More particularly, the present invention aims to provide a photo-cathode which has a good life and whose photo-emissive material is chemically more stable than Cs2Te. Even more particularly, the present invention aims to provide a photo-cathode whose quantum efficiency is better than achieved with Cs2Te.

Volgens een belangrijk aspect van de onderhavige 15 uitvinding bevat een foto-kathode de elementen Cs, K en Te in combinatie.According to an important aspect of the present invention, a photo-cathode contains the elements Cs, K and Te in combination.

De bovengenoemde en andere aspecten, kenmerken en voordelen van de onderhavige uitvinding zullen verduidelijkt worden door de hiernavolgende beschrijving van een 20 uitvoeringsvorm van een foto-kathode volgens de uitvinding, onder verwijzing naar de tekening, waarin: figuur 1 schematisch een gedeelte van een free electron laser toont; figuur 2 voor een bepaald experiment de gemeten quantum-25 efficiency als functie van de neerslagtijd toont; en figuur 3 de spectrale respons toont van een volgens de onderhavige uitvinding vervaardigde Cs-K-Te-fotokathode.The above and other aspects, features and advantages of the present invention will be elucidated by the following description of an embodiment of a photo-cathode according to the invention, with reference to the drawing, in which: figure 1 schematically shows a part of a free electron laser shows; figure 2 shows for a given experiment the measured quantum-25 efficiency as a function of the precipitation time; and Figure 3 shows the spectral response of a Cs-K-Te photocathode prepared according to the present invention.

Figuur 1 toont schematisch een gedeelte van een free 30 electron laser 1, omvattende een versnellerruimte 2 met daarin opgesteld een foto-kathode 10. Bij bestraling met licht 3, afkomstig van een laserbron 4, emitteert de foto-kathode 10 elektronen 5, die door ter wille van de eenvoud niet weergegeven versnellingsmiddelen worden versneld en de 35 versnellingsruimte 2 via de uitgang 6 daarvan verlaten om de laserruimte 7 van de free electron laser 1 te bereiken.Figure 1 schematically shows a part of a free 30 electron laser 1, comprising an accelerator space 2 with a photo-cathode 10 disposed therein. Upon irradiation with light 3, from a laser source 4, the photo-cathode 10 emits electrons 5, which are for the sake of simplicity, accelerating means not shown are accelerated and leave the accelerating space 2 via its output 6 to reach the laser space 7 of the free electron laser 1.

1004822 31004822 3

De free electron laser 1 is voorzien van een preparatiekamer 8. De foto-kathode 10 is gemonteerd op een langwerpige drager 11, die axiaal verplaatsbaar is tussen een uitgeschoven stand waarbij de foto-kathode 10 zich in de 5 bedrijfspositie in de versnellerruimte 2 bevindt, zoals weergegeven in figuur 1, en een ingetrokken stand waarbij de foto-kathode 10 zich in een preparatiepositie bevindt in de preparatiekamer 8.The free electron laser 1 is provided with a preparation chamber 8. The photo-cathode 10 is mounted on an elongated support 11, which is axially movable between an extended position, the photo-cathode 10 being in the operating position in the accelerator space 2, as shown in Figure 1, and a retracted position where the photo-cathode 10 is in a preparation position in the preparation chamber 8.

De gebruikelijke gang van zaken bij het bedrijven van de 10 free electron laser 1 is als volgt. Eerst wordt een substraat voor de foto-kathode 10 gemonteerd op de drager 11, en deze wordt in de preparatiepositie gebracht. Vervolgens wordt de preparatiekamer 8 gesloten en geëvacueerd tot ultrahoogvacuüm, waarna vervaardigingsstappen worden uitgevoerd voor het 15 vervaardigen van een foto-emissielaag op het substraat.The usual procedure for operating the 10 free electron laser 1 is as follows. First, a substrate for the photo-cathode 10 is mounted on the support 11, and it is brought into the preparation position. Then, the preparation chamber 8 is closed and evacuated to ultra-high vacuum, after which manufacturing steps are carried out to produce a photo-emission layer on the substrate.

Wanneer deze laag gereed is, wordt de preparatiekamer 8 in communicatie gebracht met de versnellerruimte 2, wordt de drager 11 in de bedrijfspositie in de versnellerruimte 2 gebracht, en kan de free electron laser 1 in bedrijf worden 20 genomen, totdat door "slijtage" de quantumefficiency van de foto-emissielaag te klein is geworden.When this layer is ready, the preparation chamber 8 is brought into communication with the accelerator space 2, the carrier 11 is brought into the accelerator space 2 in the operating position, and the free electron laser 1 can be put into operation until "wear" causes the quantum efficiency of the photo-emission layer has become too small.

Daarna wordt het bovenbeschreven proces herhaald. In een praktijksituatie waarbij de foto-emissielaag bestaat uit Cs2Te, is een preparatie/bedrijf-cyclus mogelijk gebleken met 25 een periode van ongeveer één dag, waarbij de preparatie enkele uren duurt, en waarbij de levensduur van de foto-emissielaag eveneens enkele uren bedraagt.The above-described process is then repeated. In a practical situation where the photo-emission layer consists of Cs2Te, a preparation / operating cycle with a period of about one day has been found, whereby the preparation takes several hours, and the life of the photo-emission layer is also several hours. .

In het hiernavolgende zullen de foto-emitterende 30 eigenschappen van het volgens de onderhavige uitvinding voorgestelde foto-emitterende materiaal worden gedemonstreerd door bespreking van testresultaten van een volgens de onderhavige voorstellen vervaardigde foto-kathode.In the following, the photo-emissive properties of the photo-emissive material proposed according to the present invention will be demonstrated by discussing test results of a photo-cathode manufactured according to the present proposals.

Op de drager 11 werd een substraat voor een foto-kathode 35 bevestigd. Het substraat was vervaardigd van molybdeen, maar andere geschikte materialen zijn ook mogelijk.A substrate for a photo-cathode 35 was mounted on the support 11. The substrate was made of molybdenum, but other suitable materials are also possible.

- -V. - - , • - r . C ' 4- -V. - -, • - r. C '4

Vervolgens werd door middel van een op zich bekende depositie-methode op het substraat een dunne Te-laag aangebracht, welke methode in het hiernavolgende slechts kort, op samenvattende wijze, zal worden besproken. Een op een actuator 5 bevestigde houder met Te werd gepositioneerd in de nabijheid van het Mo-substraat, en verhit tot een temperatuur van ongeveer 300 °C. De temperatuur van het substraat werd op een lagere waarde gehoudens in het hier besproken voorbeeld-experiment op ongeveer 120 °C. De druk in de preparatiekamer 8 10 bedroeg ongeveer 10~10 - 10-9 Torr.Subsequently, a thin Te layer was applied to the substrate by means of a deposition method known per se, which method will be discussed briefly, in summary, below. A container with Te mounted on an actuator 5 was positioned in the vicinity of the Mo substrate and heated to a temperature of about 300 ° C. The temperature of the substrate was kept at a lower value in the example experiment discussed here at about 120 ° C. The pressure in the preparation chamber 8 was about 10-10-10-9 Torr.

Het Te verdampt, en slaat neer op het koudere substraat. Het neerslagproces werd gecontinueerd gedurende ongeveer 30 minuten. Hoewel dit niet experimenteel is geverifieerd, wordt aangenomen dat de dikte van de aldus neergeslagen Te-laag 15 ongeveer enkele tientallen nanometers bedraagt.The Te evaporates, and settles on the colder substrate. The precipitation process was continued for about 30 minutes. Although this has not been experimentally verified, it is believed that the thickness of the Te layer 15 thus deposited is about a few tens of nanometers.

Vervolgens werd op vergelijkbare wijze K neergeslagen op de Te-laag, waarbij echter de temperatuur van een houder met K hoger moet worden gekozen dan de eerder genoemde temperatuur voor de Te-houder, omdat het verdampingspunt van K hoger ligt 20 dan dat van Te, zoals voor een deskundige duidelijk zal zijn. Een geschikt gebleken temperatuur voor de K-houder is ongeveer 500 °C, en werd toegepast bij het onderhavige experiment. De temperatuur TSUb van het substraat werd weer op ongeveer 120 eC gehouden.Then, in a similar manner, K was deposited on the Te layer, however, the temperature of a container with K should be chosen higher than the previously mentioned temperature for the Te container, because the evaporation point of K is higher than that of Te, as will be clear to an expert. A suitable temperature for the K container has been found to be about 500 ° C, and was used in the present experiment. The substrate temperature TSUb was again maintained at about 120 eC.

25 Vervolgens werd op vergelijkbare wijze Cs neergeslagen op de Te-K-compositie, waarbij de temperatuur van een houder met Cs op ongeveer 565 °C werd gehouden. De temperatuur T8Ub van het substraat werd nu op ongeveer 150 eC gehouden.Then, Cs was similarly deposited on the Te-K composition, keeping the temperature of a container with Cs at about 565 ° C. The temperature T8Ub of the substrate was now kept at about 150 eC.

Zoals eerder vermeld, is de quantum-efficiency QE een 30 belangrijke parameter met betrekking tot de kwaliteit van een foto-kathode, welke parameter in het kader van de onderhavige uitvinding wordt gedefinieerd als het aantal geproduceerde elektronen gedeeld door het aantal opvallende fotonen, en kan worden uitgedrukt in procenten. Deze parameter werd tijdens 35 het neerslagproces van Cs en K gemeten bij verschillende golflengten. Daartoe werd het substraat bestraald met licht afkomstig van een kwiklamp, waarbij verschillende r ' ' ; 5 banddoorlaat-interferentiefilters werden toegepast voor het selecteren van gewenste golflengtebanden, zoals voor een deskundige duidelijk zal zijn. De fotostroom van de kathode werd gemeten met behulp van een pico-ampèremeter, waarbij de 5 kathode met behulp van een batterij werd voorgespannen (bias) op een waarde van -90 V.As mentioned earlier, the quantum efficiency QE is an important parameter with regard to the quality of a photo-cathode, which parameter in the context of the present invention is defined as the number of electrons produced divided by the number of striking photons, and are expressed in percentages. This parameter was measured at different wavelengths during the precipitation process of Cs and K. To this end, the substrate was irradiated with light from a mercury lamp, different r ''; Band-pass interference filters were used to select desired wavelength bands, as will be apparent to one skilled in the art. The photocurrent of the cathode was measured using a pico-ammeter, the cathode being biased using a battery to a value of -90 V.

Figuur 2 toont een illustratieve grafiek van de gemeten QE bij 259 nm als functie van de neerslagtijd t, voor een experiment waarbij de temperatuur Teub van het substraat 10 initieel op ongeveer 120 °C werd gehouden tijdens het neerslaan van Te en K, en op ongeveer 150 °c werd gehouden tijdens het neerslaan van Cs. Het nulpunt van de horizontale as correspondeert met het begin van de neerslag van K.Figure 2 shows an illustrative graph of the measured QE at 259 nm as a function of the precipitation time t, for an experiment in which the temperature Teub of the substrate 10 was initially kept at about 120 ° C during the precipitation of Te and K, and at about 150 ° C was maintained during the precipitation of Cs. The zero point of the horizontal axis corresponds to the beginning of the precipitation of K.

In deze grafiek zijn zes stadia te herkennen, als volgt: 15 1) In het eerste stadium is QE nul, althans zeer laag; in het weergegeven voorbeeld duurt het eerste stadium ongeveer 10 minuten.Six stages can be identified in this graph, as follows: 1) In the first stage, QE is zero, at least very low; in the example shown, the first stage takes about 10 minutes.

2) In het tweede stadium neemt QE relatief snel toe als functie van de tijd? in het weergegeven voorbeeld duurt het 20 tweede stadium ongeveer 3 minuten.2) In the second stage, QE increases relatively quickly as a function of time? in the example shown, the second stage takes about 3 minutes.

3) In het derde stadium is QE vrijwel constant; in het weergegeven voorbeeld duurt het derde stadium vrij kort, minder dan een minuut. De in dit stadium bereikte waarde van QE zal in het hiernavolgende ook worden aangeduid als maximale 25 waarde QEm,k* en de neerslagtijd waarbij deze maximale waarde Qem,k wordt bereikt, zal in het hiernavolgende ook worden aangeduid als tMfK. In het weergegeven voorbeeld bedraagt tM,K dus ongeveer 13 minuten, en bedraagt QEm,k ongeveer 7,5%.3) In the third stage, QE is almost constant; in the example shown, the third stage is quite short, less than a minute. The value of QE reached at this stage will also be referred to hereinafter as maximum value QEm, k *, and the precipitation time at which this maximum value Qem, k is reached will also be referred to below as tMfK. Thus, in the example shown, tM, K is about 13 minutes, and QEm, k is about 7.5%.

4) In het vierde stadium neemt QE relatief snel af als 30 functie van de tijd? in het weergegeven voorbeeld duurt het vierde stadium ongeveer 1-2 minuten. Aan het eind van het vierde stadium bedraagt QE ongeveer 6%.4) In the fourth stage does QE decrease relatively quickly as a function of time? in the example shown, the fourth stage takes about 1-2 minutes. At the end of the fourth stage, QE is about 6%.

5) In het vijfde stadium blijft QE vrijwel constant. De in dit stadum bereikte waarde van QE zal in het hiernavolgende 35 ook worden aangeduid als verzadigingswaarde QEs,r, en de neerslagtijd waarbij deze verzadigingswaarde QEs,k wordt bereikt, zal in het hiernavolgende ook worden aangeduid als ‘ OÜ4822 6 ts,K· in het weergegeven voorbeeld bedraagt tS/K dus ongeveer 27 minuten, en bedraagt QEs,k ongeveer 6 %.5) In the fifth stage, QE remains almost constant. The value of QE reached in this stage will also be referred to hereinafter as saturation value QEs, r, and the precipitation time at which this saturation value QEs, k is reached will also be referred to below as "O488 6 ts, K · in the example shown is tS / K about 27 minutes, and QEs, k about 6%.

6) Bij t = 27 min werd overgeschakeld op het neerslaan van Cs, hetgeen het begin van het zesde stadium markeert. In dit 5 zesde stadium neemt QE relatief direct snel toe als functie van de tijd. Met het voortschrijden van de tijd neemt de stijgsnelheid van QE geleidelijk af, tot QE uiteindelijk vrijwel constant blijft. De in dit stadum bereikte waarde van QE zal in het hiernavolgende ook worden aangeduid als 10 verzadigingswaarde QEs,kcs/ en de neerslagtijd waarbij deze verzadigingswaarde QEs,kcs wordt bereikt, gemeten vanaf het begin van de Cs-neerslag, zal in het hiernavolgende ook worden aangeduid als ts,KCs· In het weergegeven voorbeeld duurt het zesde stadium ongeveer 15 minuten (ts,KCs ** 15 min), en 15 bedraagt QEs,kcs ongeveer 20,8%.6) At t = 27 min switch was made to the precipitation of Cs, marking the beginning of the sixth stage. In this fifth sixth stage, QE increases relatively quickly as a function of time. As time progresses, the rate of ascent of QE gradually decreases, until QE eventually remains almost constant. The value of QE achieved in this stage will also be referred to hereinafter as 10 saturation value QEs, kcs / and the precipitation time at which this saturation value QEs, kcs is measured, measured from the beginning of the Cs precipitation, will also be described below. referred to as ts, KCs · In the example shown, the sixth stage takes about 15 minutes (ts, KCs ** 15 min), and 15 QEs, kcs is about 20.8%.

In de figuur is nog met een dichte cirkel een meetpunt bij 23,4% aangeduid, welke waarde gemeten is na het verwijderen van de Cs-houder. Verondersteld wordt, dat de Cs-houder tijdens het zesde stadium gedeeltelijk het licht van de 20 kwiklamp afschermde, zodat de tijdens het zesde stadium optredende QE in feite hoger is dan de gemeten QE, en wel ongeveer 12,5%. Dit betekent, dat QEs,kcs in werkelijkheid dus ongeveer 23,4% bedraagt.In the figure, a measuring circle at 23.4% is still indicated with a solid circle, which value was measured after removing the Cs holder. It is believed that the Cs holder during the sixth stage partially shielded the light from the mercury lamp, so that the QE occurring during the sixth stage is in fact higher than the measured QE, about 12.5%. This means that QEs, kcs is in reality about 23.4%.

De genoemde zes stadia blijken karakteristiek te zijn 25 voor het gedrag van een Cs-K-Te fotokathode als functie van de tijd tijdens het neerslagproces van K en Cs, hoewel de genoemde waarden kunnen afhangen van de procesparameters. Zo geldt in zijn algemeenheid, dat QEm,k lager is voor hogere waarden van tSUb· 30 Vermoedelijk kan het genoemde karakteristieke gedrag worden verklaard door aan te nemen, dat de samenstelling van de oppervlaktelaag van de kathode wijzigt tijdens het vervaardigingsproces. Initieel bestaat de oppervlaktelaag in hoofdzaak uit Te (eerste stadium). Tijdens het neerslagproces 35 van K zal de K-concentratie toenemen, waarbij de samenstelling van de oppervlaktelaag vermoedelijk via Κ2Τβ3 en KTe verandert tot K2Te. Het lijkt redelijk om aan te nemen dat de foto- . ..482 2 7 emitterende eigenschappen afhankelijk zijn van de compositie van het K-Te-materiaal.The said six stages appear to be characteristic of the behavior of a Cs-K-Te photocathode as a function of time during the deposition process of K and Cs, although the values mentioned may depend on the process parameters. For example, in general, QEm, k is lower for higher values of tSUb · 30. Presumably, said characteristic behavior can be explained by assuming that the composition of the surface layer of the cathode changes during the manufacturing process. Initially, the surface layer mainly consists of Te (first stage). During the K precipitation process, the K concentration will increase, with the composition of the surface layer presumably changing to K2Te via Κ2Τβ3 and KTe. It seems reasonable to assume that the photo. .. 482 2 7 emissive properties depend on the composition of the K-Te material.

Tijdens het zesde stadium, wanneer Cs wordt toegevoegd aan de K-Te-compositie, neemt QE toe met stijgende Cs-5 concentratie, tot aan een bepaalde verzadigingswaarde.During the sixth stage, when Cs is added to the K-Te composition, QE increases with increasing Cs-5 concentration, up to a certain saturation value.

Aangenomen wordt, dat de neergeslagen Cs-atomen diffunderen in de eerder aangebrachte K-Te-compositie.The precipitated Cs atoms are believed to diffuse into the previously applied K-Te composition.

De gemeten QE-waarde van 23,4% is bijzonder hoog. Tot nog 10 toe werd aangenomen dat CS2Te het beste materiaal was voor toepassing in het zacht-ultravioletgebied, maar de QE-waarde van dat materiaal is lager dan de QE-waarde die thans door het materiaal volgens de onderhavige uitvinding wordt geboden. Verwezen wordt bijvoorbeeld naar een artikel van S.H. Kong 15 et al in J.Appl.Phys., vol.77 (1995), blz.6031, waar voor CS2Te een QE-waarde tussen 15 en 18%, gemeten bij 251 nm, wordt gerapporteerd.The measured QE value of 23.4% is very high. Until now, CS2Te was believed to be the best material for use in the soft ultraviolet region, but the QE value of that material is lower than the QE value currently offered by the material of the present invention. For example, reference is made to an article by S.H. Kong 15 et al in J.Appl.Phys., Vol.77 (1995), p. 6031, where for CS2Te a QE value between 15 and 18%, measured at 251 nm, is reported.

In een vergelijkend experiment is vijf maal een foto-kathode vervaardigd volgens de hierboven beschreven voorkeurs-20 procedure. Van deze foto-kathodes werd steeds QEs,kcs gemeten bij 259 nm; de gemeten waarden bevonden zich in het gebied van 21,9% tot 23,4%. In dezelfde preparatiekamer werd, onder overigens vergelijkbare omstandigheden, vijf maal een foto-kathode vervaardigd van Cs2Te, en QE werd gemeten; van deze 25 foto-kathodes bleken de gemeten waarden van QE zich te bevinden in het gebied van 10,3% tot 12,2%. Hieruit blijkt, dat de QE-waarde die thans door het materiaal volgens de onderhavige uitvinding wordt geboden, gemiddeld een factor 2 hoger is dan de QE van het bekende materiaal.In a comparative experiment, a photo-cathode was prepared five times according to the above-described preferred procedure. QEs, kcs of these photo-cathodes were always measured at 259 nm; the measured values were in the range from 21.9% to 23.4%. In the same preparation chamber, under otherwise comparable conditions, a photo-cathode was made of Cs2Te five times, and QE was measured; of these 25 photo-cathodes, the measured values of QE were found to be in the range of 10.3% to 12.2%. This shows that the QE value currently offered by the material of the present invention is on average a factor of 2 higher than the QE of the known material.

3030

Figuur 3 illustreert de spectrale respons van QEs,kcs van de Cs-K-Te-fotokathode volgens de uitvinding. Ter vergelijking toont figuur 3 ook de spectrale respons van QEs,k van een K-Te-fotokathode waarvan Tsub 120 eC bedroeg, dat wil zeggen 35 een fotokathode waarbij het vervaardigingsproces werd gestopt na de vijfde stap. Voorts toont figuur 3 ter vergelijking de spectrale respons van QEs,cs van een Cs-Te-fotokathode waarvan , . . -rÓ 2¾ 8 TSub 150 °c bedroeg, dat wil zeggen een fotokathode waarbij tijdens het vervaardigingsproces de stappen 1 t/m 5 werden overgeslagen. Het blijkt, dat zowel bij relatief grote golflengten als bij relatief kleine golflengten de Cs-K-Te-5 fotokathode volgens de uitvinding een betere QE-waarde biedt dat de conventionele Cs2Te-fotokathode. In alle gevallen wordt de beste QE-waarde bereikt bij relatief kleine golflengten.Figure 3 illustrates the spectral response of QEs, kcs of the Cs-K-Te photocathode of the invention. For comparison, Figure 3 also shows the spectral response of QEs, k of a K-Te photocathode of which Tsub was 120 eC, ie a photocathode in which the manufacturing process was stopped after the fifth step. Furthermore, Figure 3 shows for comparison the spectral response of QEs, cs of a Cs-Te photocathode of which,. . -rÓ 2¾ 8 TSub was 150 ° C, that is, a photocathode in which steps 1 to 5 were skipped during the manufacturing process. It has been found that the Cs-K-Te-5 photocathode according to the invention offers a better QE value than the conventional Cs2Te photocathode both at relatively large wavelengths and at relatively small wavelengths. In all cases, the best QE value is achieved at relatively small wavelengths.

Het door de onderhavige uitvinding voorgestelde Cs-K-Te-10 emissiemateriaal blijkt in goede mate stabiel te zijn. Een exemplaar van een volgens de beschreven werkwijze vervaardigde fotokathode werd gedurende 100 uur bewaard onder een druk van ongeveer 10~10 Torr. Hierbij werd geen significante verandering van QE(259 nm) gemeten, en ook niet van de 15 spectrale respons. Dit wordt gezien als indicatie dat de levenduur tijdens bedrijf relatief lang is.The Cs-K-Te-10 emission material proposed by the present invention appears to be quite stable. A copy of a photocathode prepared by the described method was stored under a pressure of about 10 ~ 10 Torr for 100 hours. No significant change of QE (259 nm) was measured, nor of the spectral response. This is seen as an indication that the service life during operation is relatively long.

Als belangrijke oorzaak voor het verminderen van de QE tijdens bedrijf wordt gezien het verdampen van Cs uit het kathode-materiaal. Vermoed wordt, dat door de beschreven 20 werkwijze wordt bereikt, dat Cs diffundeert in de eerder gevormde compositie van Te en K, en dat het voor Cs moeilijker is om daaruit te verdampen. Dit vermoeden wordt gesteund door een experiment, waarbij tijdens de zesde stap de temperatuur lager werd gekozen dan 150 eC, namelijk 120 °C. Nadat het 25 neerslagproces was voltooid, werd de temperatuur verhoogd tot 150 eC, hetgeen een toename van de QE bleek op te leveren. Een mogelijke verklaring voor dit waargenomen verschijnsel is dat bij de lagere temperatuur Cs slecht diffundeert in de eerder gevormde compositie van Te en K, en dus als het ware een laag 30 van overmatige Cs wordt gevormd op de eerder gevormde compositie van Te en K. Door het verhogen van de temperatuur tot 150 °C werd de diffusie van die overmatige Cs gestimuleerd.Evaporation of Cs from the cathode material is considered to be an important cause for the reduction of the QE during operation. It is suspected that the process described achieves that Cs diffuses into the previously formed composition of Te and K, and it is more difficult for Cs to evaporate therefrom. This presumption is supported by an experiment in which the temperature was chosen to be lower than 150 eC, namely 120 ° C, during the sixth step. After the precipitation process was completed, the temperature was raised to 150 eC, which was found to yield an increase in QE. A possible explanation for this observed phenomenon is that at the lower temperature Cs diffuses poorly in the previously formed composition of Te and K, and thus, as it were, a layer of excess Cs is formed on the previously formed composition of Te and K. By raising the temperature to 150 ° C, the diffusion of those excess Cs was stimulated.

Een belangrijk aspect volgens de onderhavige uitvinding 35 is, dat vermeden wordt dat zich een laag van overmatige Cs bevindt op het oppervlak van de fotokathode, omdat daaruit 1004822 9 gemakkelijk Cs kan worden vrijgemaakt dat de versneller vervuilt.An important aspect of the present invention is that it avoids the presence of a layer of excess Cs on the surface of the photocathode, since it allows Cs to be easily released to contaminate the accelerator.

Onderzocht is, of QEs,kcs afhangt van de duur van het 5 K-verdampings/neerslag-proces. Dit werd gedaan door het onder verwijzing naar figuur 2 beschreven proces verschillende malen te herhalen, en daarbij het starttijdstip van de zesde stap (27 min in figuur 2) te variëren. De tijdsduur van de zesde stap werd steeds zo lang gekozen, dat verzekerd werd dat de 10 verzadigingswaarde QEs,kcs werd bereikt.It has been investigated whether QEs, kcs depends on the duration of the 5 K evaporation / precipitation process. This was done by repeating the process described with reference to Figure 2 several times, varying the starting time of the sixth step (27 min in Figure 2). The duration of the sixth step was always chosen so long that it was ensured that the saturation value QEs, kcs was reached.

Hierbij bleek, dat ts,KCs steeds ongeveer gelijk was aan de helft van de duur van het K-verdampings/neerslag-proces. Verrassenderwijs bleek, dat de verzadigingswaarde QEs,kcs niet significant verandert indien de duur van het K-verdampings/ 15 neerslag-proces wordt gevarieerd in het gebied van tM>K tot ts,K* Een mogelijke verklaring voor dit resultaat is, dat reeds bij tM>K het maximaal bereikbare resultaat wordt bereikt, en dat bij verder continueren van het K-verdampings/ neerslag-proces en een dienovereenkomstig langer Cs-verdam-20 pings/neerslag-proces alleen een dikkere Cs-K-Te-laag wordt geproduceerd, of wellicht een dikkere Cs-K-laag op Te. Om deze reden verdient het de voorkeur om het K-verdampings/neerslag-proces op het tijdstip tM,K/ of kort daarna, te beëindigen en over te gaan op het Cs-verdampings/neerslag-proces, omdat 25 daardoor de totale procesduur zo kort mogelijk wordt gehouden, en de materiaal- en energiekosten beperkt zijn.It was found that ts, KCs were always approximately equal to half the duration of the K-evaporation / precipitation process. Surprisingly, it appeared that the saturation value QEs, kcs does not change significantly if the duration of the K-evaporation / precipitation process is varied in the range from tM> K to ts, K * A possible explanation for this result is that already at tM> K the maximum achievable result is achieved, and that with a further continuation of the K-evaporation / precipitation process and a correspondingly longer Cs-evaporation / precipitation process, only a thicker Cs-K-Te layer is produced , or perhaps a thicker Cs-K layer on Te. For this reason, it is preferable to terminate the K-evaporation / precipitation process at the time tM, K / or shortly thereafter and switch to the Cs-evaporation / precipitation process, because the total process time is thus reduced. kept as short as possible, and material and energy costs are limited.

Het zal duidelijk zijn dat de in het voorgaande besproken eigenschappen van het Cs-K-Te-emissiemateriaal bijzonder 30 veelbelovend zijn voor toepassing in een free electron laser. Deze verwachting wordt nog versterkt door een proef waarbij een volgens de onderhavige uitvinding vervaardigde kathode, welke was vervaardigd volgens het hierboven beschreven voorbeeld, werd gebruikt in de versnellerruimte 2, en de 35 vrije-elektronenlaser 1 in gebruik werd genomen. Na ca.It will be clear that the properties of the Cs-K-Te emission material discussed above are particularly promising for use in a free electron laser. This expectation is further reinforced by a test in which a cathode manufactured according to the present invention, which was manufactured according to the example described above, was used in the accelerator space 2, and the free electron laser 1 was put into use. After approx.

3 bedrijfsuren was QE gedaald tot een "resf'waarde van ongeveer 2 è 3 %, en deze "resf'waarde bleef daarna gedurende 1 C '4? 2.2.For 3 hours of operation, QE had fallen to a "resf" value of about 2–3%, and this "resf" value remained for 1 C'4? 2.2.

10 langere tijd (meer dan 25 uur) stabiel. De genoemde waarde van 2 è 3 % is weliswaar aanzienlijk lager dan de initiële waarde van QE, maar altijd nog hoger dan de "rest"waarden die worden bereikt door Cs-Te-emissiemateriaal.10 stable for a longer time (more than 25 hours). Although the stated value of 2 to 3% is considerably lower than the initial value of QE, it is still still higher than the "residual" values achieved by Cs-Te emission material.

55

Het zal voor een deskundige duidelijk zijn dat het mogelijk is de weergegeven uitvoeringsvorm van de Cs-K-Te-fotokathode volgens de uitvinding te veranderen of te modificeren, zonder af te wijken van de uitvindingsgedachte of 10 de beschermingsomvang zoals gedefinieerd in de conclusies.It will be apparent to a person skilled in the art that it is possible to change or modify the illustrated embodiment of the Cs-K-Te photocathode according to the invention, without departing from the inventive idea or the scope of protection as defined in the claims.

Zo is het bijvoorbeeld mogelijk dat het volgens de onderhavige uitvinding voorgestelde foto-emitterende materiaal wordt gebruikt voor andere toepassingen dan een foto-kathode van een free electron laser.For example, it is possible that the photo-emissive material proposed according to the present invention may be used for applications other than a photo-cathode of a free electron laser.

15 Ook valt het binnen de omvang van de onderhavige uitvindingsgedachte om bij de vervaardigingsprocedure de volgorde van het neerslaan van de componenten Te, K en Cs te veranderen, of om intermitterend verschillende lagen van die componenten neer te slaan, of om die componenten tegelijker-20 tijd neer te slaan, in een experiment is een foto-kathode vervaardigd volgens een procedure als in het voorgaande beschreven, met dien verstande dat de volgorde van het neerslaan van Cs en K was omgewisseld, zodat dus eerst Te, vervolgens Cs en daarna K werd neergeslagen. Ook hierbij werd 25 een nuttige QE bereikt van ongeveer 15%, welke waarde veel hoger is dan de QE van een Cs2Te-materiaal, maar niet zo hoog als de waarde die werd bereikt bij de meer gedetailleerd beschreven proces-volgorde, die derhalve de voorkeur geniet.It is also within the scope of the present inventive idea to change the order of deposition of the components Te, K and Cs in the manufacturing procedure, or to deposit intermittently different layers of those components, or to make those components simultaneously. time down, in an experiment a photo-cathode was made according to a procedure as described above, it being understood that the order of precipitation of Cs and K was reversed, so that first Te, then Cs and then K knocked down. Again, a useful QE of about 15% was achieved, which value is much higher than the QE of a Cs2Te material, but not as high as the value achieved in the more detailed process sequence, which is therefore preferred enjoy.

It 0 0 4 8 2 2It 0 0 4 8 2 2

Claims (18)

1. Gebruik van een Cs-K-Te-compositie als foto-elektrisch materiaal.1. Use of a Cs-K-Te composition as a photoelectric material. 2. Foto-kathode (10) voor het onder invloed van elektro-5 magnetische straling (3) emitteren van elektronen (5), omvattende een substraat en een daarop aangebrachte actieve laag die in hoofdzaak uit een Cs-K-Te-compositie bestaat.Photo-cathode (10) for emitting electrons (5) under the influence of electro-magnetic radiation (3), comprising a substrate and an active layer applied to it, consisting essentially of a Cs-K-Te composition . 3. Vrije-elektronlaser (1), omvattende een in een 10 versnellerruimte (2) positioneerbare fotokathode (10) volgens conclusie 2.Free electron laser (1), comprising a photocathode (10) according to claim 2, which can be positioned in an accelerator space (2). 4. Werkwijze voor het vervaardigen van een fotokathode (10) volgens conclusie 2, omvattende de volgende stappen: 15 in een eerste stap wordt op een substraat van een geschikt materiaal, bij voorkeur molybdeen, een laag Te aangebracht; in een tweede stap wordt K neergeslagen; en in een derde stap wordt Cs neergeslagen.Method for manufacturing a photocathode (10) according to claim 2, comprising the following steps: in a first step, a layer of Te is applied to a substrate of a suitable material, preferably molybdenum; in a second step K is precipitated; and in a third step, Cs is precipitated. 5. Werkwijze volgens conclusie 4, waarbij in de eerste stap het Te wordt aangebracht door middel van een dampneerslag-proces, waarbij gedurende een eerste voorafbepaalde tijd een houder met Te wordt verhit tot een eerste voorafbepaalde temperatuur hoger dan de temperatuur (TSUb) van het substraat. 25The method of claim 4, wherein in the first step the Te is applied by a vapor deposition process, wherein a container of Te is heated for a first predetermined time to a first predetermined temperature higher than the temperature (TSUb) of the substrate. 25 6. Werkwijze volgens conclusie 4 of 5, waarbij in de tweede stap het K wordt aangebracht door middel van een dampneerslag-proces, waarbij gedurende een tweede voorafbepaalde tijd een houder met K wordt verhit tot een tweede voorafbepaalde 30 temperatuur hoger dan de temperatuur (T8Ub) van het substraat.6. Method according to claim 4 or 5, wherein in the second step the K is applied by means of a vapor deposition process, wherein a container with K is heated for a second predetermined time to a second predetermined temperature higher than the temperature (T8Ub ) of the substrate. 7. Werkwijze volgens conclusie 6, waarbij de temperatuur van de K-houder op ongeveer 500 °C wordt gehouden. 1004822The method of claim 6, wherein the temperature of the K container is maintained at about 500 ° C. 1004822 * 8. Werkwijze volgens één der conclusies 6-7, waarbij althans tijdens de tweede stap TSUb wordt gehouden op een waarde van ongeveer 120 °C. 5A method according to any one of claims 6-7, wherein at least during the second step TSUb is kept at a value of about 120 ° C. 5 9. Werkwijze volgens één der conclusies 6-8, waarbij tijdens de tweede stap de quantumefficiency QE van de fotokathode wordt gemeten, en waarbij het neerslagproces van K wordt beëindigd wanneer of nadat QE een maximumwaarde QEM,K heeft 10 bereikt.9. A method according to any one of claims 6-8, wherein during the second step the quantum efficiency QE of the photocathode is measured, and wherein the deposition process of K is terminated when or after QE has reached a maximum value QEM, K. 10. Werkwijze volgens één der conclusies 4-9, waarbij de tweede stap wordt uitgevoerd na de eerste stap.The method of any one of claims 4-9, wherein the second step is performed after the first step. 11. Werkwijze volgens één der voorgaande conclusies, waarbij in de derde stap het Cs wordt aangebracht door middel van een dampneerslagproces, waarbij gedurende een derde voorafbepaalde tijd een houder met Cs wordt verhit tot een derde voorafbepaalde temperatuur hoger dan de temperatuur (TSUb) van het 20 substraat.A method according to any one of the preceding claims, wherein in the third step the Cs is applied by means of a vapor deposition process, wherein a container with Cs is heated for a third predetermined time to a third predetermined temperature higher than the temperature (TSUb) of the 20 substrate. 12. Werkwijze volgens conclusie 11, waarbij de temperatuur van de Cs-houder op ongeveer 565 °C wordt gehouden.The method of claim 11, wherein the temperature of the Cs container is maintained at about 565 ° C. 13. Werkwijze volgens één der conclusies 11-12, waarbij althans tijdens de derde stap Tgub wordt gehouden op een waarde van ongeveer 150 °C.The method of any one of claims 11-12, wherein at least during the third step Tgub is kept at a value of about 150 ° C. 14. Werkwijze volgens één der conclusies 11-13, waarbij 30 tijdens de derde stap de quantumefficiency QE van de fotokathode wordt gemeten, en waarbij het neerslagproces van Cs wordt beëindigd wanneer of nadat QE een verzadigingswaarde QEm,kcs heeft bereikt.14. A method according to any one of claims 11-13, wherein during the third step the quantum efficiency QE of the photocathode is measured, and wherein the deposition process of Cs is ended when or after QE has reached a saturation value QEm, kcs. 15. Werkwijze volgens één der voorgaande conclusies, waarbij de derde stap wordt uitgevoerd na de eerste stap. ' ) ·' r ?The method of any preceding claim, wherein the third step is performed after the first step. R? 16. Werkwijze volgens één der voorgaande conclusies, waarbij de derde stap wordt uitgevoerd na de tweede stap.The method of any preceding claim, wherein the third step is performed after the second step. 17. Werkwijze volgens één der voorgaande conclusies, waarbij 5 de tweede stap en de derde stap afwisselend worden uitgevoerd.17. A method according to any one of the preceding claims, wherein the second step and the third step are performed alternately. 18. Werkwijze volgens één der voorgaande conclusies, waarbij de tweede stap en de derde stap tegelijkertijd worden uitgevoerd. * : o 9The method of any preceding claim, wherein the second step and the third step are performed simultaneously. *: o 9
NL1004822A 1996-12-18 1996-12-18 Material for a photo-electrode in a free electron laser NL1004822C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1004822A NL1004822C2 (en) 1996-12-18 1996-12-18 Material for a photo-electrode in a free electron laser

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1004822 1996-12-18
NL1004822A NL1004822C2 (en) 1996-12-18 1996-12-18 Material for a photo-electrode in a free electron laser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1004822C2 true NL1004822C2 (en) 1998-06-19

Family

ID=19764087

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1004822A NL1004822C2 (en) 1996-12-18 1996-12-18 Material for a photo-electrode in a free electron laser

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL1004822C2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3262748A (en) * 1962-02-26 1966-07-26 Alfred H Sommer Method for making u-v responsive photoemissive tubes
JPS4822650B1 (en) * 1969-08-05 1973-07-07
US4196257A (en) * 1978-07-20 1980-04-01 Rca Corporation Bi-alkali telluride photocathode
DE3925776A1 (en) * 1988-08-04 1990-03-08 Hamamatsu Photonics Kk METHOD FOR PRODUCING A PHOTOMULTIPLIER TUBE
EP0422384A1 (en) * 1989-09-28 1991-04-17 Rockwell International Corporation Regenerative ultraviolet driven photocathode
JPH0668840A (en) * 1992-08-24 1994-03-11 Hamamatsu Photonics Kk Photoelectic surface and photomultiplier tube

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3262748A (en) * 1962-02-26 1966-07-26 Alfred H Sommer Method for making u-v responsive photoemissive tubes
JPS4822650B1 (en) * 1969-08-05 1973-07-07
US4196257A (en) * 1978-07-20 1980-04-01 Rca Corporation Bi-alkali telluride photocathode
DE3925776A1 (en) * 1988-08-04 1990-03-08 Hamamatsu Photonics Kk METHOD FOR PRODUCING A PHOTOMULTIPLIER TUBE
EP0422384A1 (en) * 1989-09-28 1991-04-17 Rockwell International Corporation Regenerative ultraviolet driven photocathode
JPH0668840A (en) * 1992-08-24 1994-03-11 Hamamatsu Photonics Kk Photoelectic surface and photomultiplier tube

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Week 7328, Derwent World Patents Index; AN 73-39847u, XP002037652 *
KONG S H ET AL: "CESIUM TELLURIDE PHOTOCATHODES FICHE DE CIRCULATION DES ARTICLES", 1 June 1995, JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOL. 77, NR. 11, PAGE(S) 6031 - 6038, XP000543558 *
MICHELATO P ET AL: "R & D ACTIVITY ON HIGH QE ALKALI PHOTOCATHODES FOR RF GUNS", May 1995, PROCEEDINGS OF THE 1995 PARTICLE ACCELERATOR CONFERENCE, DALLAS, MAY 1 - 5, 1995, VOL. 2, PAGE(S) 1049 - 1051, INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS ENGINEERS, XP000613093 *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 018, no. 308 (E - 1560) 13 June 1994 (1994-06-13) *
S.H. KONG ET AL: "fabrication and characterization of cesium telluride photocathodes...", NUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS IN NUCLEAR PHYSICS RESEARCH A, vol. 358, 1995, pages 276 - 279, XP002037651 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5463271A (en) Structure for enhancing electron emission from carbon-containing cathode
Nakajima et al. Generation of ballistic electrons in nanocrystalline porous silicon layers and its application to a solid-state planar luminescent device
FR2602246A1 (en) METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING A THIN FILM OF COMPOUND OXIDE
US5973446A (en) Field emission cathode and methods in the production thereof
FR2517470A1 (en) LASER STIMULATED HIGH-DENSITY CURRENT ELECTRON GENERATOR AND METHOD OF MANUFACTURING SAME
US3960620A (en) Method of making a transmission mode semiconductor photocathode
EP0543725B1 (en) Rare earth-containing integrated optical component structure, method of manufacturing and applications thereof
NL1004822C2 (en) Material for a photo-electrode in a free electron laser
JP3299544B2 (en) Field emission cathode and method of manufacturing the same
FR2723255A1 (en) Field emission display device
Michelato et al. Characterization of Cs2Te photoemissive film: formation, spectral responses and pollution
Koshida et al. Visible electro-and photoluminescence from porous silicon and its related optoelectronic properties
JP2000164921A (en) Semiconductor light emitting material, manufacture thereof, and light emitting element using the material
NL1004071C2 (en) Potassium telluride
US3630587A (en) Activating method for cesium activated iii-v compound photocathode using rare gas bombardment
US5463272A (en) Cathode for photoelectric emission, cathode for secondary electron emission, electron multiplier tube, and photomultiplier tube
JP2508015B2 (en) Method of manufacturing light emitting material
Teichert et al. Report on photocathodes
JPS6191844A (en) Electron source device by light excitation
RU2159478C2 (en) Autoemission cathode and its manufacturing process; autoemission device
Garbe et al. Efficient photoemission from GaAs epitaxial layers
CN115924961B (en) Oxide photocathode material and photocathode manufacturing method
WO2013102883A1 (en) Luminescent layer formed from a polarised ferroelectric luminescent material for a cathodoluminescent device
US4929867A (en) Two stage light converting vacuum tube
Steinberg Photoemission from GaAs thin films

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20040701