MXPA01010562A - Baños de electrodeposición conteniendo itrio - Google Patents

Abstract

Se describen composiciones de baño de electrodeposición mejoradas incluyendo una fase resinosa dispersada en un medio acuoso, constando la fase resinosa de una resina iónica elec- trodepositable conteniendo hidrógeno activo y un agente de curado, donde la mejora incluye la adición a un baño de elec-trodeposición de al menos una fuente de itrio en una cantidad de aproximadamente 10 a 10.000 partes por millón de itrio total en base al peso del baño de electrodeposición. Las composiciones de baño de electrodeposición son preferiblemente catiónicas y proporcionan excelente resistencia a la corrosión sobre una variedad de sustratos metálicos incluyendo acero no tratado. También se describe un método de electrorrecubrir un sustrato conductor usando las composiciones de baño de electrodeposición mejoradas de la invención. También se describen sustratos metálicos que se recubren usando el método de la invención.

Description

BAÑOS DE ELECTRODEPOSICION CONTENIENDO ITRIO CAMPO DE LA INVENCIÓN La presente invención se refiere a composiciones de re-cubrimiento mejoradas y, en particular, a baños de electrodeposición conteniendo una fase resinosa dispersada en un medio acuoso, estando compuesta la fase resinosa de una resina iónica electrodepositable, un agente de curado para ella, una fuente de itrio; y a su uso en el método de electrodeposi-ción. ANTECEDENTES DE la INVENCIÓN La electrodeposición como método de aplicación de recubrimientos implica la deposición de una composición peliculí-gena sobre un sustrato conductor bajo la influencia de un po-tencial eléctrico aplicado. La electrodeposición resulta cada vez más importante en la industria de recubrimientos porque, en comparación con los medios de recubrimiento no electrofo-réticos, la electrodeposición ofrece mayor utilización de pintura, mejor protección contra la corrosión y baja contami-nación ambiental. La electrodeposición se realizó inicialmente sirviendo como ánodo la pieza que se recubría. Esto se denominó familiarmente electrodeposición aniónica. Sin embargo, en 1972, la electrodeposición catiónica se introdujo comercialmente. Desde entonces, la electrodeposición catiónica ha ganado constantemente popularidad y hoy día es con mucho el método de electrodeposición más predominante. Más del 80 por ciento de todos los vehículos de motor producidos en todo el mundo reciben un recubrimiento de imprimación por electrodeposición catiónica. Los recubrimientos electrodepositables incluyen normalmente un polímero peliculígeno electrodepositable y un agente de curado, en combinación, entre otros, con pigmentos. Los pigmentos conteniendo plomo, como cromato de plomo y sílice, silicato básico de plomo, cromato de plomo, y sulfato de plomo, se usan con frecuencia en recubrimientos electrodeposita-bles porque imparten excelente resistencia a la corrosión al artículo electrorrecubierto. Sin embargo, el ácido usado en baños de electrodeposición catiónica solubiliza a menudo una porción del pigmento de plomo formando sales de plomo que son solubles en la fase acuosa del baño de electrodeposición. Estas sales de plomo llegan con frecuencia al ultrafiltrado del baño, necesitando así la extracción y posterior desecho de plomo metálico y/o materiales iónicos u orgánicos conteniendo plomo. En los últimos años, debido a problemas ambientales, el uso de recubrimientos sin plomo se ha impuesto en particular en Europa y Japón. Aunque se puede lograr recubrimientos su-perficiales de calidad excelente por medio de electrodeposición catiónica de recubrimientos sin plomo, la extracción de pigmentos de plomo inhibidores de corrosión puede dar lugar a reducida resistencia a la corrosión de estos recubrimientos, en particular cuando se aplican a sustratos de acero no tra-tados o pobremente pretratados. La Patente de Estados Unidos número 4.789.441 describe un recubrimiento metálico en un sustrato aplicado por electrodeposición compuesta de una matriz metálica de níquel, cobalto o hierro que contiene partículas de CrAlM2 donde M2 es itrio, silicio o titanio. El recubrimiento metálico de electrodeposición compuesta imparte resistencia a la corrosión a sustratos que se utilizan en medios agresivos y es especialmente útil para recubrir alabes de turbinas de gas. Este "recubrimiento" es de naturaleza completamente metálica y se de-be fundir con el sustrato a temperaturas superiores a 700°C, preferiblemente más de 1100°C para lograr la difusión de los metales depositados al sustrato. Tales recubrimientos no son adecuados para uso general en aplicaciones de pintura industriales comunes.

El uso de itrio para mejorar la resistencia a la corrosión de recubrimientos orgánicos convencionales no se conoce en la técnica. Tampoco se conoce la efectividad de itrio como un inhibidor de corrosión en recubrimientos electrodeposita-bles catiónicos convencionales. Por lo tanto, sería ventajoso proporcionar un baño de electrodeposición sin plomo conteniendo una fuente de itrio que proporciona mejor resistencia a la corrosión de los sustratos metálicos electrorrecubier-tos, especialmente acero no tratado. COMPENDIO DE la INVENCIÓN Según la presente invención, una composición de recubrimiento incluye (a) una resina conteniendo grupos hidrógeno activo y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos hidrógeno activo de (a) . La composi-ción contiene itrio o un compuesto de itrio en una cantidad de aproximadamente 0,005 a 5 por ciento, preferiblemente no más de 2,5 por ciento, y más preferiblemente no más de 1,0 por ciento en peso de itrio (medido como itrio elemental) en base al peso de sólidos de resina totales. En una realización concreta, la invención consiste en un baño de electrodeposición, que tiene mejor resistencia a la corrosión, incluyendo una fase resinosa dispersada en un medio acuoso. La fase resinosa incluye los componentes siguientes : (a) una resina iónica electrodepositable conteniendo grupos hidrógeno activo, y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos hidrógeno activo de (a) . El itrio o un compuesto de itrio está presente en el baño de electrodeposi-ción en una cantidad de aproximadamente 10 a aproximadamente 10.000 partes por millón de itrio total (medido como itrio elemental) en base al peso del baño de electrodeposición. También se facilita un método de electrorrecubrir un sustrato conductor que sirve como un electrodo cargado en un circuito eléctrico incluyendo el electrodo y un contraelectrodo de carga opuesta que se sumergen en un baño acuoso de electrodeposición descrito anteriormente, y sustratos metálicos recubiertos con el método. DESCRIPCIÓN DETALLADA DE la INVENCIÓN El baño de electrodeposición de la presente invención incluye en general una fase resinosa dispersada en un medio acuoso donde la fase resinosa incluye los componentes siguientes : (a) una resina iónica electrodepositable conteniendo grupos hidrógeno activo, y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos hidrógeno activo de (a) , donde la mejora incluye un baño de electrodeposición conteniendo itrio presente en una cantidad de aproximadamente 10 a aproximadamente 10.000 partes por millón, preferiblemente no más de aproximadamente 5.000 partes por millón, y más preferiblemente no más de aproximadamente 1.000 partes por millón, de itrio total (medido como itrio elemental) . A niveles inferiores a 10 partes por millón de itrio total, en base al peso del baño de electrodeposición, no se observa mejora apreciable de la resistencia a la corrosión del sustrato electrorrecubierto. A niveles de itrio superiores a 10.000 ppm, las características de estabilidad y aplicación de las composiciones de baño de electrorrecubrimiento pueden quedar afectadas negativamente. Los compuestos de itrio tanto solubles como insolubles pueden servir como la fuente de itrio en los baños de electrodeposición de la invención. Los ejemplos de fuentes de itrio adecuadas para uso en el baño de electrodeposición sin plomo de la presente invención son sales de itrio orgánicas e inorgánicas solubles tal como acetato de itrio, cloruro de itrio, formato de itrio, carbonato de itrio, sulfamato de itrio, lactato de itrio y nitrato de itrio. Cuando el itrio se va a añadir a un baño de electrorrecubrimiento como una solución acuosa, el nitrato de itrio, un compuesto de itrio fácilmente disponible, es una fuente de itrio preferida. Otros compuestos de itrio adecuados para uso en los baños de electrodeposición de la presente invención son compuestos de itrio orgánicos e inorgánicos, como óxido de itrio, bromuro de itrio, hidróxido de itrio, molibdato de itrio, sulfato de itrio, silicato de itrio y oxalato de itrio. También se puede utilizar complejos de organoitrio y metal itrio. Cuando el itrio se ha de incorporar a un baño de electrorrecubrimiento como un componente en la pasta de pigmento, el óxido de itrio es la fuente preferida de itrio. Además de dichos compuestos de itrio, los baños de electrodeposición de la presente invención también contienen, co-mo un polímero peliculígeno principal, una resina electrodepositable iónica, preferiblemente catiónica, conteniendo hidrógeno activo. Se conocen una amplia variedad de polímeros peliculígenos electrodepositables y se pueden usar en los baños de electrodeposición de la invención a condición de que los polímeros sean "dispersibles en agua", es decir, adaptados para ser solubilizados, dispersados o emulsionados en agua. El polímero dispersible en agua es de naturaleza iónica, es decir, el polímero contendrá grupos aniónicos funcionales para impartir una carga negativa o, como se prefiere, grupos funcionales catiónicos para impartir una carga positiva . Ejemplos de resinas peliculígenas adecuadas para uso en composiciones de baño de electrodeposición aniónica son polímeros conteniendo ácido carboxílico, de base solubilizada, tal como el producto de reacción o aducto de un aceite secante o éster de ácidos grasos semisecante con un ácido dicarboxílico o anhídrido; y el producto de reacción de un éster de ácidos grasos, ácido insaturado o anhídrido y materiales modificantes insaturados adicionales que se hacen reaccionar además con poliol. También son adecuados los interpolímeros al menos parcialmente neutralizados de hidroxi-alquil esteres de ácidos carboxílicos insaturados, ácido carboxílico insaturado y al menos otro monómero etilénicamente insaturado. Otra resina electrodepositable adecuada incluye un vehículo alquí-dico-aminoplástico, es decir, un vehículo conteniendo una resina alquídica y una resina aminoaldehídica. Otra composición de resina electrodepositable aniónica incluye esteres mezclados de un poliol resinoso. Estas composiciones se describen con detalle en la Patente de Estados Unidos número 3.749.657 en la columna 9, líneas 1 a 75 y la columna 10, líneas 1 a 13, todas las cuales se incorporan a la presente memoria por referencia. También se puede utilizar otros polímeros ácido funcionales tal como poliepóxido fosfatizado o polímeros acrílicos fosfatizados como es conocido por los expertos en la materia. Como se ha indicado, se prefiere que la resina iónica electrodepositable conteniendo hidrógeno activo (a) sea catiónica y capaz de deposición en un cátodo. Los ejemplos de tales resinas peliculígenas catiónicas incluyen resinas conteniendo grupos de sales de amina tal como la reacción productos ácido solubilizados de poliepóxidos y aminas primarias o secundarias tal como los descritos en las Patentes de Estados Unidos número 3.663.389; 3.984.299; 3.947.338 y 3.947.339. Generalmente, estas resinas conteniendo grupos de sales de amina se utilizan en combinación con un agente de curado de isocianato bloqueado. El isocianato puede estar plenamente bloqueado como se describe en la Patente de Estados Unidos citada número 3.984.299 o el isocianato puede es-tar parcialmente bloqueado y reaccionar con la estructura de resina tal como se describe en la Patente de Estados Unidos número 3.947.338. Además, se puede usar como la resina peli-culígena composiciones de un componente como las descritas en la Patente de Estados Unidos número 4.134.866 y DE-OS número 2.707.405. Además de los productos de reacción de epoxi -amina, también se puede seleccionar resinas peliculígenas de resinas acrílicas catiónicas como las descritas en las Patentes de Estados Unidos número 3.455.806 y 3.928.157. Además de las resinas conteniendo grupos de sales de amina, también se puede emplear resinas conteniendo grupos de sales de amonio cuaternario. Los ejemplos de estas resinas son los que se forman a partir de la reacción de un poliepóxido orgánico con una sal de amina terciaria. Tales resinas se describen en las Patentes de Estados Unidos número 3.962.165; 3.975.346 y 4.001.101. Los ejemplos de otras resinas catiónicas son resinas conteniendo grupos de sales de sulfonio ternario y resinas conteniendo grupos de sales de fosfonio cuaternario tal como las descritas en las Patentes de Estados Unidos número 3.793.278 y 3.984.922, respectivamente. Además, se puede usar las resinas peliculígenas que curan mediante transesterificación tal como se describe en la Solicitud Europea número 12463. Además, se puede usar composiciones catiónicas preparadas a partir de bases de Mannich tal como se describe en la Patente de Estados Unidos número 4.134.932. Las resinas para las que la presente invención es especialmente efectiva, son las resinas de carga positiva que contienen grupos amina primaria y/o secundaria. Tales resinas se describen en las Patentes de Estados Unidos número 3.663.389, 3.947.339 y 4.116.900. En la Patente de Estados Unidos número 3.947.339, un derivado de poliquetimina de una poliamina tal como dietilentriamina o trietilentetramina se reacciona con un poliepóxido. Cuando el producto de reacción se neutraliza con ácido y se dispersa en agua, se generan grupos amina primaria libre. Además, se forman productos equivalentes cuando se reacciona poliepóxido con poliaminas excesivas tal como dietilentriamina y trietilentetramina y la poliamina excesiva se extrae al vacío de la mezcla de reac-ción. Tales productos se describen en las Patentes de Estados Unidos número 3.663.389 y 4.116.900. La resina iónica electrodepositable conteniendo hidrógeno activo descrita anteriormente está presente en el baño de electrodeposición de la invención en cantidades de aproximadamente 1 a aproximadamente 60 por ciento en peso, preferiblemente de aproximadamente 5 a aproximadamente 25 en base al peso total del baño de electrodeposición. La fase resinosa del baño de electrodeposición de la presente invención incluye además (b) un agente de curado adaptado para reaccionar con los grupos hidrógeno activo de la resina iónica electrodepositable (a) descritos inmediatamente antes. Son adecuados los agentes de curado de amino-plástico y poliisocianato orgánico bloqueado para uso en la presente invención, aunque aquí se prefieren los isocianatos bloqueados para electrodeposición catódica. La resinas aminoplásticas, que son el agente de curado preferido para electrodeposición aniónica, son los productos de condensación de aminas o amidas con aldehidos. Los ejem-píos de amina adecuada o amidas son melamina benzoguanamina, urea y compuestos similares. En general, el aldehido empleado es formaldehído, aunque se puede hacer productos de otros aldehidos tal como acetaldehído y furfural . Los productos de condensación contienen grupos metilol o grupos alquilol simi-lares dependiendo del aldehido particular empleado. Preferiblemente, estos grupos metilol se eterifican por reacción con un alcohol. Varios alcoholes empleados incluyen alcoholes monohídricos conteniendo de 1 a 4 átomos de carbono tal como metanol, etanol, isopropanol, y n-butanol, prefiriéndose me-tanoi. Comercializan resinas aminoplásticas American Cianamid Co., bajo la marca comercial CYMEL, y Monsanto Chemical Co., bajo la marca comercial RESIMENE. Los agentes de curado aminoplásticos se utilizan típicamente en unión con la resina electrodepositable aniónica con-teniendo hidrógeno activo en cantidades del orden de aproximadamente 5 por ciento a aproximadamente 60 por ciento en peso, preferiblemente de aproximadamente 20 por ciento a aproximadamente 40 por ciento en peso, basándose los porcen-tajes en el peso total de los sólidos de resina en el baño de electrodeposición . Los agentes de curado preferidos para uso en electrodeposición catódica son poliisocianatos orgánicos bloqueados. Los poliisocianatos pueden estar plenamente bloqueados como se describe en la Patente de Estados Unidos número 3.984.299, columna 1, líneas 1 a 68, columna 2 y columna 3, líneas 1 a 15, o parcialmente bloqueados y reaccionados con la estructura polimérica como se describe en la Patente de Estados Unidos número 3.947.338 columna 2, líneas 65 a 68, columna 3 y columna 4, líneas 1 a 30, que se incorporan por referencia aquí. Por "bloqueado" se entiende que los grupos isocianato han reaccionado con un compuesto de manera que el grupo isocianato bloqueado resultante sea estable a los hidrógenos activos a temperatura ambiente, pero reactivo con hidrógenos activos en el polímero peliculígeno a temperaturas elevadas usualmente de entre 90°C y 200°C. Los poliisocianatos adecuados incluyen poliisocianatos aromáticos y alifáticos, incluyendo poliisocianatos cicloalifáticos y los ejemplos representativos incluyen difenilmeta-no-4, 4 ' -diisocianato (MDI) , 2,4- o 2,6-toluen diisocianato (TDI) , incluyendo sus mezclas, p-fenilen diisocianato, diisocianatos de tetrametileno y hexametileno, diciclohexilmetano-4 , 4 ' -diisocianato, diisocianato de isoforona, mezclas de fe-nilmetano-4 , 4 ' -diisocianato y polimetilen polifenilisociana-to. Se puede usar poliisocianatos superiores tal como triiso-cianatos. Un ejemplo incluiría trifenilmetano-4 , 4 ' , 4 " -triisocianato. También se puede utilizar () -prepolímeros de isocianato con polioles tal como neopentil glicol y trimetilolpropano y con polioles poliméricos tal como policaprolac-tona dioles y trioles (relación equivalente NCO/OH superior a 1) . Los agentes de curado de poliisocianato se utilizan típicamente en unión con la resina catiónica electrodepositable conteniendo hidrógeno activo en cantidades del orden de aproximadamente 5 por ciento a aproximadamente 60 por ciento en peso, preferiblemente de aproximadamente 20 por ciento a aproximadamente 50 por ciento en peso, basándose los porcentajes en el peso total de los sólidos de resina del baño de electrodeposición. Las composiciones acuosas de la presente invención tienen forma de una dispersión acuosa. Se estima que el término "dispersión" es un sistema resinoso bifásico transparente, translúcido u opaco en el que la resina está en la fase dis-persada y el agua está en la fase continua. El tamaño medio de partícula de la fase resinosa es generalmente inferior a 1,0 y generalmente inferior a 0,5 mieras, preferiblemente inferior a 0,15 miera. La concentración de la fase resinosa en el medio acuoso es al menos 1 y generalmente de aproximadamente 2 a aproximadamente 60 por ciento en peso en base al peso total de la dispersión acuosa. Cuando las composiciones de la presente invención tienen forma de concentrados de resina, tienen en general un contenido de sólidos de resina de aproximadamente 20 a aproximadamente 60 por ciento en peso en base al peso de la dispersión acuosa. Los baños de electrodeposición de la invención se suministran típicamente como dos componentes: (1) una alimentación de resina clara, que incluye en general la resina iónica electrodepositable conteniendo hidrógeno activo, es decir, el polímero peliculígeno principal, el agente de curado, y componentes no pigmentados dispersibles en agua adicionales; y (2) una pasta de pigmento, que incluye en general uno o varios pigmentos, una resina triturable dispersible en agua que puede ser la misma o diferente del polímero peliculígeno principal, y, opcionalmente, aditivos tal como adyuvantes de humectación o dispersión. Los componentes del baño de electrodeposición (1) y (2) se dispersan en un medio acuoso que incluye agua y, generalmente, solventes coalescentes . Se deberá apreciar que hay varios métodos por los que el compuesto de itrio se puede incorporar al baño de electrodeposición. Un compuesto de itrio soluble se puede añadir "limpio", es decir, directamente al baño sin previa mezcla o re-acción con otros componentes. Alternativamente, un compuesto de itrio soluble se puede añadir a la alimentación de resina predispersada clara que puede incluir la resina iónica, el agente de curado y/o cualquier otro componente no pigmentado. Preferiblemente, un compuesto de itrio soluble se añade "lim-pió" al baño de electrodeposición. Por otra parte, los compuestos de itrio insolubles y/o pigmentos de itrio se premezclan preferiblemente con el componente de pasta de pigmento antes de la incorporación de la pasta al baño de electrodeposición. El baño de electrodeposición de la presente invención puede contener itrio como el único componente inorgánico inhibidor de corrosión o se puede complementar con otros componentes inhibidores de corrosión inorgánicos u orgánicos tal como calcio, bismuto o polifenoles tal como polímeros fenol funcionales. Preferiblemente el baño de electrodeposición está sustancialmente libre de plomo. El baño de electrodeposición de la presente invención tiene un contenido de sólidos de resina generalmente dentro del orden de aproximadamente 5 a 25 por ciento en peso en ba-se al peso total del baño de electrodeposición. Como se ha indicado, además de agua, el medio acuoso puede contener un solvente coalescente. Los solventes coalescentes útiles incluyen hidrocarbonos, alcoholes, esteres, éteres y cetonas. Los solventes coalescentes preferidos in-cluyen alcoholes, polioles y cetonas. Los solventes coalescentes específicos incluyen isopropanol, butanol, 2-etilhexanol, isoforona, 2-metoxipentanona, etilen y propilen glicol y los monoetil, monobutil y monohexil éteres de etilen glicol. La cantidad de solvente coalescente es generalmente entre aproximadamente 0,01 y 25 por ciento y, cuando se utiliza, preferiblemente de aproximadamente 0,05 a aproximadamente 5 por ciento en peso en base al peso total del medio acuoso. Como se ha explicado anteriormente, se puede incluir en la dispersión una composición de pigmento y, si se desea, varios aditivos tal como surfactantes, agentes humectantes o catalizador. La composición de pigmento puede ser del tipo convencional incluyendo pigmentos, por ejemplo, óxidos de hierro, cromato de estroncio, negro de carbón, polvo de carbón, dióxido de titanio, talco, sulfato de bario, así como pigmentos de color tal como amarillo de cadmio, rojo de cadmio, amarillo de cromo y análogos. El contenido de pigmento de la dispersión se expresa usualmente como una relación de pigmento a resina. En la práctica de la invención, cuando se emplea pigmento, la relación de pigmento a resina está por lo general dentro del orden de aproximadamente 0,02 a 1:1. Los otros aditivos indicados anteriormente están generalmente en la dispersión en cantidades de aproximadamente 0,01 a 3 por ciento en peso en base al peso de sólidos de resina. Las composiciones de recubrimiento electrodepositables de la presente invención se pueden aplicar por electrodeposición a una variedad de sustratos electroconductores especialmente metales, como acero no tratado, acero galvanizado, alu-minio, cobre, magnesio y materiales recubiertos con carbono conductor. El voltaje aplicado para electrodeposición se puede variar y puede ser, por ejemplo, desde sólo 1 voltio hasta varios cientos de voltios, pero típicamente es de entre 50 y 500 voltios. La densidad de corriente es por lo general entre 0,053 y 0,535 amp/cm2 (0,5 amperio y 5 amperios por pie cuadrado) y tiende a disminuir durante la electrodeposición indicando la formación de una película aislante. Después de aplicar el recubrimiento por electrodeposi-ción, se cura generalmente por cocción a temperaturas elevadas tal como aproximadamente 90°C a aproximadamente 260°C durante aproximadamente 1 a aproximadamente 40 minutos. Ilustran la invención los ejemplos siguientes que, sin embargo, no se ha de considerar que limitan la invención a sus detalles. Todas las partes y porcentajes en los ejemplos siguientes así como en toda la memoria descriptiva son en peso a no ser que se indique lo contrario. EJEMPLOS Los Ejemplos A y B describen la preparación de resinas electrodepositables catiónicas, conteniendo también el Ejemplo A un entrecruzador de poliuretano. Los ejemplos C y D describen la preparación de resinas triturables de pigmento conteniendo sales de amonio cuaternario. Los Ejemplos AA y BB describen la preparación de una pasta de pigmento adecuada para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de la invención. Los ejemplos CC y DD describen la preparación de premezclas del baño de electrodeposición para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de los Ejemplos 1 y 2, y los Ejemplos 3 y 4, respectivamente. El Ejemplo EE describe la preparación de la solución de itrio soluble para uso en las composiciones de baño de los Ejemplos 2 y 4. La Tabla 1 ilustra la mejora de la resistencia a la corrosión por deformación por trazador observada con la inclusión de solución de itrio soluble en composiciones sin plomo del baño de electrodeposición de la invención. EJEMPLO A Se preparó un entrecruzador de poliuretano a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES PESO (gramos) EQUIVALENTES Carga I : aducto BPA/EO1 2825,1 11,461 Etanol 703 15,282 Propilen glicol 1161,4 (15,282 moles) Metil isobutil cetona 710,8 Carga II: PAPI 294 O2 5042,9 38,204 Metil isobutil cetona 1249,3 1 Aducto de Bisfenol A y un diol conteniendo 6 óxido de etileno, comercializado como MACOL 98A MOD1 por BASF Corp. 2 Difenil diisocianato de metileno polimérico que se puede obtener de Dow Chemical Co. Se añadió los ingredientes de la Carga I a un matraz de parte inferior redonda, de 12 litros, equipado adecuadamente. Se calentó estos ingredientes bajo agitación suave bajo una capa de nitrógeno a una temperatura de 50 °C. El PAPI 2940 se añadió gradualmente durante un período de aproximadamente 2 horas subiendo la temperatura a 110°C, seguido de un enjuague de aproximadamente 176,6 gramos de metil isobutil cetona. La mezcla de reacción se mantuvo a 110 °C hasta que no se detectó isocianato por espectroscopia de infrarrojos. Después se añadió los 1072,7 gramos restantes de metil isobutil cetona a la mezcla de reacción, que tenía un contenido final de sólidos de aproximadamente 83% (1 hora a 110°C) . Se preparó una resina catiónica a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES PESO (gramos) EQUIVALENTES Carga I : Entrecruzador de 3658,1 poliuretano como el descrito inmediatamente antes EPON 8801 1971,6 10,487 Bisfenol A 760,4 6,7 aducto BPA/EO2 2,5 0,005 TETRONIC 150R13 0,6 Solvente4 192,1 Carga II: Aminopropidietano- 259,5 3,204 lamina5 Dietanolamina 181,1 1,725 Bencildimetilamina 3,9 1 Diglicidil éter de Bisfenol A comercializado por Shell Oil and Chemical Co. 2 Aducto preparado a partir de una relación molar 1:2 de Bisfenol A etoxilado (9 moles de óxido de etileno por mol de Bisfenol A) y anhídrido hexahidroftálico mezclado en la presencia de 0,05% de catalizador de trietilamina y mantenido a 100 °C durante 3,5 horas. 3 Surfactante comercializado por BASF Corp. 4 Producto de reacción de 2 moles de dietilen glicol mono- butil éter y 1 mol formaldehído, 98% activo, preparado como se describe en la Patente de Estados Unidos número 4.891.111 concedida a McCollum y otros. 5 Comercializado por Huntsman Corporation. Se añadió los ingredientes de la Carga I a un matraz de parte inferior redonda, de 12 litros, equipado adecuadamente. Se agitó la mezcla de reacción bajo agitación suave y calentó bajo una capa de nitrógeno a una temperatura de aproximadamente 75°C, seguido de la adición de la Carga II. La mezcla de reacción se dejó a exotermo y después de expirar el exo-termo, la temperatura de reacción se ajustó a aproximadamente 120°C a 123°C y se mantuvo a dicha temperatura durante aproximadamente 2 horas. La mezcla de reacción tenía un peso equivalente de epoxi superior a 20.000 en base a los sólidos, un contenido de amina de 0,77 miliequivalentes por gramo en base a los sólidos, y una viscosidad de burbuja de Gardner-Holdt de S/T (cuando se reduce a 50% de sólidos con 1 -metoxi-2 -propanol) . Se preparó una dispersión acuosa de la resina catiónica preparada anteriormente a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES : PESO (gramos) EQUIVALENTES Carga I : Ácido sulfámico 155,1 1,597 Agua desionizada 4144,2 Carga II : Resina catiónica 6700,0 preparada inmediatamente antes Carga III: Gomorrosina1 101,8 Carga IV: Agua desionizada 4162,8 1 Solución de gomorrosina a 30% (comercializada por Aldrich Chemical Company, Inc.) en metil isobutil cetona. Se añadió la Carga I a un baño equipado con un agitador y se calentó a una temperatura de 50 °C. Se añadió y mezcló la resina catiónica a esta temperatura durante aproximadamente 30 minutos hasta que se dispersó bien, tiempo en el que se añadió gradualmente la gomorrosina (Carga III) . Se mezcló la resina catiónica y la gomorrosina durante 15 minutos, tiempo en el que se añadió el agua desionizada de la Carga IV. La dispersión se calentó a una temperatura de aproximadamente 60°C a 65°C y se sometió a una presión reducida de aproxima-damente 0,69 kg/cm2 (20 pulgadas de mercurio) durante un período de aproximadamente 2 horas, tiempo durante el que se extrajo la metil isobutil cetona por destilación al vacío. La dispersión resultante tenía sólidos de 41,9% (1 hora a 110°C) . EJEMPLO B Se preparó una resina catiónica a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES: PESO (gramos) EQUIVALENTES Carga I EPON 880 376,0 2 , 000 Bisfenol A 148,0 1 , 300 BPA/EO aducto1 5,2 0 , 020 Solvente2 59,6 Yoduro de etiltri- 0,53 fenil fosfonio Carga II : Metiletanolamina 0,1 0,001 Diquetimina3 235, 9 0, 629 1 Aducto de Bisfenol A y un diol conteniendo 6 óxido de etileno, comercializados como MACOL 98A MOD1 por BASF Corp. 2 Producto de reacción de 2 moles de monobutil éter de dietilen glicol y 1 mol de formaldehído, 98% activo, preparado como se describe en la Patente de Estados Unidos número 4.891.111 concedida a McCollum y otros. 3 Diquetimina derivada de dietilen triamina y metil isobutil cetona (73% de sólidos en metil isobutil cetona) , preparada como se describe en la Patente de Estados Unidos número 3.947.339 concedida a Jerabek y otros. Se añadió los ingredientes de Carga I a un matraz de 5 litros equipado adecuadamente bajo agitación suave en el or-den mostrado anteriormente. La mezcla de reacción se calentó a una temperatura de 125°C bajo una capa de nitrógeno, después se permitió el exotermo a una temperatura de aproximadamente 145°C a 160°C y después se mantuvo durante una hora a una temperatura de aproximadamente 145 °C. La mezcla de reacción se enfrió después a una temperatura de aproximadamente 125°C, tiempo en el que se añadió los ingredientes de la Carga II y la mezcla de reacción se mantuvo durante dos horas adicionales a dicha temperatura. Después del período de mantenimiento, se vertió lentamente aproximadamente 85% del producto de reacción a una solución de ácido acético (28,9 g (0,481 equivalentes) y 190,0 gramos de agua desionizada) y se dejó mezclar durante 30 minutos, se añadió agua desionizada adicional para reducir los sólidos de dispersión a 36% (1 hora @ 110°C) . Después se extrajo la dispersión catiónica al vacío para quitar la metil isobutil cetona. EJEMPLO C Este ejemplo describe la preparación de una resina tri-turable de pigmento conteniendo sales de amonio cuaternario. El Ejemplo C-1 describe la preparación de un agente cuaterni-zante de sal de aminoácido y el Ejemplo C-2 describe la preparación de un polímero conteniendo grupos epoxi que después se cuaterniza con la sal de aminoácido del Ejemplo C-1. EJEMPLO C-1 El agente cuaternizante de sal de aminoácido se preparó usando el procedimiento siguiente: Se añadió 445 partes en peso de N,N-dimetiletanolamina a un matraz de 5 litros equipado adecuadamente. Se añadió lentamente bajo agitación suave 660 partes en peso de PAPI 2940 (diisocianato polimérico comercializado por Dow Chemical Co.) durante un período de 1,5 horas, seguido de un enjuague de 22,1 partes en peso del solvente mencionado anteriormente para los Ejemplos A y B. Durante esta adición, la mezcla de reacción se dejó a exotermo a una temperatura de aproximadamen-te 89°C y se mantuvo a dicha temperatura durante aproximadamente 1 hora hasta la reacción completa del isocianato determinada por espectroscopia de infrarrojos. Entonces se añadió 512 partes en peso de una solución acuosa de ácido láctico a 88% durante un período de 25 minutos, seguido de la adición de aproximadamente 2136,11 partes en peso de agua desionizada. La temperatura de reacción se mantuvo a aproximadamente 80 °C durante aproximadamente 6 horas hasta que se obtuvo un índice de acidez estabilizado de 70,6. EJEMPLO C-2 El polímero conteniendo grupos de sales de amonio cuaternario se preparó usando el procedimiento siguiente. Se añadió a un matraz de 5 litros equipado adecuadamente bajo agitación suave 528,8 partes en peso de EPON 828 (poliglicidil éter de Bisfenol A comercializado por Shell Oil y Chemical Co . ) ; 224,9 partes en peso de Bisfenol A; 83,7 partes en peso del solvente mencionado anteriormente en los Ejemplos A y B; y 0,5 partes en peso de yoduro deetiltrife-nilfosfonio. La mezcla de reacción se calentó a aproximadamente 140°C, se dejó a exotermo a aproximadamente 180 °C, después se enfrió a aproximadamente 160°C y se mantuvo a dicha temperatura durante aproximadamente 1 hora. El producto polimérico tenía entonces un peso equivalente de epoxi de 982,9. La mezcla de reacción se enfrió después a una temperatura de aproximadamente 130°C, tiempo en el que se añadió aproximadamente 164,9 partes en peso del solvente de los Ejemplos A y B y la temperatura se disminuyó a aproximadamente 95-100°C, seguido de la adición de aproximadamente 418,4 partes en peso del agente cuaternizante de aminoácido del Ejemplo C-1 duran-te un período de 15 minutos, y seguido después de la adición de aproximadamente 1428,1 partes en peso de agua desionizada. La temperatura de reacción se mantuvo a aproximadamente 80 °C durante aproximadamente 6 horas hasta que el índice de acidez del producto de reacción cayó por debajo de 1,0. La resina triturable de pigmento conteniendo grupos de sales de amonio cuaternario resultante se redujo más con aproximadamente 334,7 partes en peso del solvente de los Ejemplos A y B. EJEMPLO D Este ejemplo describe la preparación de una segunda resina triturable de pigmento conteniendo grupos de sales de amonio cuaternario. El Ejemplo D-l describe la preparación de un agente cuaternizante de sal de aminoácido y el Ejemplo D-2 describe la preparación de un polímero conteniendo grupos epoxi que después se cuaterniza con la sal de aminoácido del Ejemplo DI. EJEMPLO D-l El agente cuaternizante de sal de aminoácido se preparó usando el procedimiento siguiente. Se añadió bajo agitación 267,4 partes en peso de N, N-dimetiletanolamina a un matraz de 5 litros equipado adecuadamente. A una temperatura de aproximadamente 23 °C, se añadió lentamente 396 partes en peso de PAPI 2940 durante un período de 1,0 hora, seguido de un enjuague de aproximadamente 13,9 partes en peso del solvente mencionado anteriormente en los Ejemplos A y B. La temperatura se dejó a exotermo a aproximadamente 90°C durante esta adición y se mantuvo después a dicha temperatura durante aproximadamente 45 minutos hasta la desaparición del isocianato determinada por espectroscopia de infrarrojos. Entonces se añadió 112,8 partes en peso de dime-tilcocoamina seguido de la adición de aproximadamente 361,3 partes en peso de solución acuosa de ácido láctico a 88% durante un período de 15 minutos. Después se añadió aproximadamente 695,0 partes en peso de agua desionizada y la tempera-tura de reacción se mantuvo a aproximadamente 85°C durante aproximadamente 3 horas hasta que se obtuvo un índice de acidez estabilizado. EJEMPLO D-2 El polímero conteniendo grupos de sales de amonio cua-ternario se preparó usando el procedimiento siguiente. Se añadió 631,7 partes en peso de EPON 828; 268,7 partes en peso de Bisfenol A; 10,0 partes en peso del solvente de los Ejemplos A y B; y 0,6 partes de yoduro deetiltrifenilfos-fonio a un matraz de 5 litros equipado adecuadamente. La mezcla de reacción se calentó a aproximadamente 140 °C y dejó a exotermo a una temperatura de aproximadamente 180°C, tiempo en el que la mezcla de reacción se enfrió a 160°C y mantuvo durante aproximadamente 1 hora a un peso equivalente de epoxi de 991,0. La reacción se enfrió más a aproximadamente 130°C y se añadió 421,2 partes en peso de Bisfenol A etoxilado (6 moles de óxido de etileno por mol de Bisfenol A) . Después prosiguió el enfriamiento hasta que se obtuvo una temperatura de aproximadamente 80°C, tiempo en el que se añadió 346,4 partes en peso del agente cuaternizante de sal de aminoácido del Ejemplo D-l durante un período de aproximadamente 30 a 35 minutos, seguido de la adición de 404,8 partes en peso de agua desionizada. La mezcla de reacción se mantuvo a una temperatura de aproximadamente 80°C durante aproximadamente 6 horas hasta que el índice de acidez cayó por debajo de 1,0. La resina triturable de pigmento conteniendo grupos de sales de amonio cuaternario resultante se redujo más con 2232,2 partes en peso de agua desionizada. EJEMPLO AA Este ejemplo describe la preparación de una pasta de pigmento adecuado para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de la presente invención. La pasta de pigmento se preparó a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes : INGREDIENTES PESO (gramos) Resina triturable conteniendo 2002,4 grupos de sales de amonio cuaternario del Ejemplo C Surfynol GA1 30,8 Agua desionizada 400 Ti-Pure R-9002 1725,0 CSX-3333 39,0 Pasta catalizadora4 772,1 Agua desionizada 284, 7 1 Surfactante iniónico que se puede obtener de Air Products and Chemicals, Inc. 2 Pigmento de dióxido de titanio que se puede obtener de E. I. Dupont de Nemours & Co. (Inc.) 3 Perlas de negro de carbón que se pueden obtener de Cabot Corp. 4 Pasta catalizadora preparada a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES PESO (gramos) Resina triturable conteniendo 632,0 grupos de sales de amonio cuaternario resina del Ejemplo D Agua desionizada 92,0 n-Butoxipropanol 19,0 STANN BO1 368, 0 Catalizador de óxido de di-n-dibutilestaño que se puede obtener de Sankyo Organic Chemicals Co., Ltd. Se añadió los ingredientes anteriores, en el orden mostrado, bajo agitación de cizalladura alta. Después de mezclar bien los ingredientes, se transfirió la pasta de pigmento a un molino de arena vertical y se trituró a un valor Hegman de aproximadamente 7,25. EJEMPLO BB Este ejemplo describe la preparación de una pasta de pigmento adecuada para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de la presente invención. La pasta de pigmento se preparó a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes : INGREDIENTES PESO (gramos) Resina triturable conteniendo 2002,4 grupos de sales de amonio cuaternario del Ejemplo C Surfynol GA1 30,8 Agua desionizada 400 Ti-Pure R-9002 1776,4 CSX-3333 39,9 Oxalato de calcio hidrato4 61,6 Pasta catalizadora5 772,1 Agua desionizada 284,7 Surfactante iniónico que se puede obtener de Air Products and Chemicals, Inc. Pigmento de dióxido de titanio que se puede obtener de E. I. Dupont de Nemours & Co. (Inc.) Perlas de negro de carbón que se puede obtener de Cabot Corp. Oxalato de calcio hidrato comercializado por Aldrich Chemical Company Inc. Pasta catalizadora preparada a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES PESO (gramos) Resina triturable conteniendo 632,0 grupos de sales de amonio cuaternario del Ejemplo D Agua desionizada 92,0 n-Butoxipropanol 19,0 STANN BO 368,0 Se añadió secuencialmente los ingredientes anteriores bajo agitación de cizalladura alta. Después de mezclar bien los ingredientes, se transfirió la pasta de pigmento a un molino de arena vertical y se trituró a un valor Hegman de aproximadamente 7,25. EJEMPLO CC Este ejemplo describe la preparación de una premezcla de baño de electrodeposición para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de los Ejemplos 1 y 2 siguientes. La premezcla de baño de electrodeposición se preparó a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES PESO (gramos) Resina catiónica del Ejemplo A 3739,6 Resina catiónica del Ejemplo B 226 Flexibilizante1 497 Aditivo de flujo2 80 Solvente de los Ejemplos A y B 67,4 Pasta de pigmento del Ejemplo AA 623,8 Ácido fenilfosfónico3 1,5 Agua desionizada 4764, 7 1 Producto de reacción de JEFFAMINE D400 (polioxipropilendia- mina que se puede obtener de Huntsman Corporation) y DER-732 (epóxido alifático que se puede obtener comercialmente de Dow Chemical Co) , preparado como se describe en la Patente de Estados Unidos número 4.423.166 concedida a Moriarity y otros. 2 Producto de reacción de metilamina; óxido de propileno; y diisocianato de tolueno como se describe en la Patente de Estados Unidos número 5.348.578. 3 Ácido fenilfosfónico comercializado por Aldrich Chemical Company, Inc. EJEMPLO DD Este ejemplo describe la preparación de una premezcla de baño de electrodeposición para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de los Ejemplos 3 y 4 siguientes. La premezcla de baño de electrodeposición se preparó a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes: INGREDIENTES PESO (gramos) Resina catiónica del Ejemplo A 3739,6 Resina catiónica del Ejemplo B 226 Flexibilizante del Ejemplo CC 497 Aditivo de flujo del Ejemplo 80 CC Solvente de los Ejemplos A y B 67,4 Pasta de pigmento del Ejemplo 623,8 BB Ácido fenilfosfónico1 1,5 Agua desionizada 4764, 7 1 Ácido fenilfosfónico comercializado por Aldrich Chemical Company, Inc. EJEMPLO EE Este ejemplo describe la preparación de una solución de itrio soluble para uso en las composiciones de baño de electrodeposición de los Ejemplos 2 y 4 siguientes. La solución de itrio soluble se preparó a partir de una mezcla de los ingredientes siguientes : INGREDIENTES PESO (gramos) Nitrato de itrio hexahidrato1 43,1 Agua desionizada 956, 9 1 Comercializado por Aldrich Chemical Company, Inc. EJEMPLOS 1-4 Los Ejemplos 2 y 4 describen la preparación de composiciones de baño de electrodeposición de la invención que contienen 500 ppm de la solución de itrio soluble del Ejemplo EE . Los Ejemplos Comparativos 1 y 3 no contienen solución de itrio soluble. Las composiciones de baño de electrodeposición se prepararon a partir de una mezcla de los ingredientes si- guientes : PREPARACIÓN DEL BAÑO DE ELECTRODEPOSICION Se diluyó la resina catiónica del Ejemplo B bajo agitación con aproximadamente 15% del agua desionizada total. La resina diluida se agitó después en la resina catiónica del Ejemplo A. La resina flexibilizadora se diluyó por separado con el solvente bajo agitación, después se diluyó más con aproximadamente 30% del agua desionizada total antes de la adición a la mezcla de resina catiónica. Después se añadió el aditivo de control de flujo. El ácido fenilfosfónico se diluyó con aproximadamente 5% del agua desionizada total antes de la adición a la mezcla de resina catiónica. La pasta de pigmento se diluyó por separado con el agua desionizada restante y añadió a la mezcla de resina anterior. Los sólidos del baño final eran aproximadamente 22,5%, con una relación de pigmento a resina de 0,12:1,0. Los baños de prueba se ultrafiltra-ron a 20% y rellenaron solamente con agua dulce desionizada para los Ejemplos Comparativos 1 y 3, y con agua dulce desio-nizada y la cantidad predeterminada de solución de itrio soluble en los Ejemplos 2 y 4 antes del electrorrecubrimiento. PROCEDIMIENTO DE ELECTRORRECUBRIMIENTO Se electrodepositó cada una de las composiciones del baño de electrodeposición de los Ejemplos 1 a 4 anteriores so-bre paneles de acero laminados en frío no fosfatados, comercializados por ACT Laboratories. Las condiciones para la electrodeposición catiónica de cada uno eran las siguientes: 2 minutos a 32,2°C (90°F) a 160-180 voltios para obtener un espesor de película curada de 0,015 a 0,020 mm (0,6 a 0,8 mi-lésimas de pulgada) . El sustrato recubierto se curó en un horno eléctrico a 171, 1°C (340°F) durante 20 minutos. PROCEDIMIENTO DE PRUEBA Se rayó cada uno de los paneles de prueba de acero no tratados recubiertos, cortando el recubrimiento al sustrato metálico, en una configuración en "X" . Los paneles de prueba se sometieron después a la prueba de rociado de sal según ASTB 117. Se evaluó la corrosión de "deformación de rayado" y el aspecto visual de los paneles de prueba. La deformación de rayado se denomina la distancia media (en milímetros) de co-rrosión desde la marca de rayado. Los resultados de la prueba se exponen en la TABLA 1 siguiente.

TABLA 1 Los datos expuestos en la TABLA 1 anterior ilustran la mejora de la resistencia a la corrosión por deformación por trazador observada con la inclusión de soluciones de itrio solubles en los baños de electrodeposición de la invención.

Claims (27)

Reivindicaciones

1. En una composición de recubrimiento electrodepositable, incluyendo dicha composición de recubrimiento una fase resinosa dispersada en un medio acuoso, incluyendo dicha fase resinosa: (a) una resina iónica electrodepositable conteniendo grupos hidrógeno activo, y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales re-activos con los grupos hidrógeno activo de (a) , la mejora que incluye la inclusión en la composición de al menos una fuente de itrio soluble presente en una cantidad de aproximadamente 0,005 por ciento en peso a aproximadamente 5 por ciento en peso de itrio en base al peso total de sóli-dos de resina de la composición de recubrimiento electrodepositable.

2. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 1, donde la cantidad de itrio presente no es más de aproximadamente 1,0 por ciento en peso en base al peso total de sólidos de resina en la composición de recubrimiento electrodepositable.

3. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 1, donde dicha composición está sustancialmente libre de plomo.

4. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 1, donde dicha fase resinosa incluye además al menos un pigmento no de plomo.

5. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 1, donde dicha fuente de itrio es un compuesto de itrio seleccionado del grupo que consta de óxido de itrio, nitrato de itrio, acetato de itrio, cloruro de itrio, sulfamato de itrio, lactato de itrio, formato de itrio y sus mezclas .

6. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 5, donde dicho compuesto de itrio es óxido de itrio.

7. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 1, donde dicho compuesto de itrio es una sal soluble de itrio seleccionada del grupo que consta de sulfamato de itrio, acetato de itrio, lactato de itrio, formato de itrio y nitrato de itrio.

8. La composición de recubrimiento electrodepositable de la reivindicación 1, donde dicha resina iónica conteniendo hidrógeno activo es catiónica.

9. En un baño de electrodeposición, incluyendo dicho ba-ño de electrodeposición una fase resinosa dispersada en un medio acuoso, incluyendo dicha fase resinosa: (a) una resina iónica electrodepositable conteniendo grupos hidrógeno activo, y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales re-activos con los grupos hidrógeno activo de (a) , la mejora que incluye un baño de electrodeposición conteniendo al menos una fuente de itrio soluble presente en una cantidad de aproximadamente 10 partes por millón a aproximadamente 10,000 partes por millón de itrio, en base al peso del baño de electrodeposición.

10. El baño de electrodeposición de la reivindicación 9, donde la cantidad de itrio no es superior a aproximadamente 1000 partes por millón en base al peso del baño de electrode-posición.

11. El baño de electrodeposición de la reivindicación 9, donde dicho baño está sustancialmente libre de plomo.

12. El baño de electrodeposición de la reivindicación 9, donde dicha fase resinosa incluye además al menos un pigmento no de plomo.

13. El baño de electrodeposición de la reivindicación 9, donde dicha fuente de itrio se selecciona del grupo que consta de óxido de itrio, nitrato de itrio, acetato de itrio, cloruro de itrio, sulfamato de itrio, lactato de itrio, formato de itrio y sus mezclas.

14. El baño de electrodeposición de la reivindicación 13, donde dicho compuesto de itrio es óxido de itrio.

15. El baño de electrodeposición de la reivindicación 9, donde dicho compuesto de itrio es una sal soluble seleccionada del grupo que consta de sulfamato de itrio, acetato de itrio, lactato de itrio, formato de itrio y nitrato de itrio.

16. El baño de electrodeposición de la reivindicación 9, donde dicha resina iónica conteniendo grupos hidrógeno activo es catiónica.

17. Una composición de recubrimiento conteniendo los componentes siguientes: (a) una resina conteniendo grupos hidrógeno activo; y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos hidrógeno activo de (a) , donde la composición de recubrimiento incluye de aproximadamente 0,005 por ciento en peso a aproximadamente 5,0 por ciento en peso de itrio en base al peso total de sólidos de resina en la composición de recubrimiento.

18. Un método de electrorrecubrir un sustrato conductor que sirve como un electrodo cargado en un circuito eléctrico incluyendo dicho electrodo y un contraelectrodo de carga opuesta, sumergiéndose dichos electrodos en una composición acuosa de electrorrecubrimiento, incluyendo pasar corriente eléctrica entre dichos electrodos para producir deposición de la composición de electrorrecubrimiento en el sustrato como una película sustancialmente continua, incluyendo la composición acuosa de electrorrecubrimiento: (a) una resina iónica electrodepositable conteniendo grupos hidrógeno activo, y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos hidrógeno activo de (a) , donde la mejora incluye un baño de electrodeposición conteniendo al menos una fuente de itrio soluble presente en una cantidad de aproximadamente 10 partes por millón a aproximadamente 10.000 partes por millón de itrio total, en base al peso del baño de electrodeposición.

19. El método de la reivindicación 18, donde la cantidad de itrio total no es superior a aproximadamente 1.000 partes por millón en base al peso del baño de electrodeposición.

20. El método de la reivindicación 18, donde la cantidad de itrio total no es superior a aproximadamente 500 partes por millón, en base al peso del baño de electrodeposición.

21. El método de la reivindicación 18, donde el baño de electrodeposición está sustancialmente libre de plomo.

22. El método de la reivindicación 18, donde dicha fase resinosa incluye además al menos un pigmento no de plomo.

23. El método de la reivindicación 18, donde dicho compuesto de itrio es una sal soluble de itrio selecccionada del grupo que consta de sulfamato de itrio, acetato de itrio, lactato de itrio, formato de itrio y nitrato de itrio.

24. El método de la reivindicación 18, donde dicho compuesto de itrio es óxido de itrio.

25. El método de la reivindicación 18, donde el sustrato es el cátodo.

26. El método de la reivindicación 18, donde dicho sus-trato se compone de acero no tratado.

27. El método de la reivindicación 18, donde dicho sustrato se compone de acero galvanizado.