MXPA01004025A - Diseno mejorado de valvula integrada para un cromatografo de gas. - Google Patents

Abstract

Se describe un cromatografo de gas (600) con multiples valvulas (635,655). Una caracterizacion del cromatografo de gas multi-valvula incluye multiples valvulas, multiples detectores de conductividad termica (TCDs) y un distribuidor. Esto permite la separacion y medida de una muestra de gas en una unidad integrada compacta. La unidad es deseable particularmente porque los solenoides asociados con las valvulas se adjuntan de forma directa a la parte de debajo del distribuidor, eliminando entonces la necesidad de entubado entre los solenoides y las valvulas. Otras caracteristicas tambien pueden estar presentes. Por ejemplo, un bloque multi-valvula libre de fugas puede incluir una primera zona de temperatura que calienta las valvulas y detectores y una segunda zona de temperatura que calienta las columnas. La caracteristica libre de fugas se puede lograr al colocar tomillos de fijacion a traves del centro de cada valvula. Las areas de insercion de gas transportadoras se pueden proveer en el bloque multi-valvula para mejorar el desempeno. Se puede lograr una separacion mejorada de las zonas de temperatura que llevan a ganancias posteriores en el desempeno, al utilizar tanto un aislador termico y un intervalo de aire. Ademas, los sensores de temperatura colocados en la primera zona de temperatura se pueden localizar idealmente para minimizar el error de medicion, dando como resultado aun mas ganancias posteriores.

Description

DISEÑO MEJORADO DE VÁLVULA INTEGRADA PARA UN CROMATÓGRAFO DE GAS REMISIÓN A SOLICITUDES RELACIONADAS No aplica DECLARACIÓN CON RESPECTO A UNA INVESTIGACIÓN O DESARROLLO PATROCINADO DE MANERA FEDERAL No aplica ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN Campo de la invención Esta invendóp se relaciona al campo de la cromatografía de gas. En particular, esta invendón se relaciona con un nuevo cromatógrafo de gas. Aún más en particular, esta invención se reladona con un nuevo cromatógrafo de gas que tiene múltiples válvulas y detectores. Descripción del Arte Relacionado Ei campo del cromatógrafo de gas se reladona con el análisis de muestras de gas que fluyen a través de un ducto de proceso. Se provee de una muestra al cromatógrafo de gas, el cual entonces separa la muestra en pordones y utiliza una variedad de detectores para analizar la concentración de componentes en particular en la corriente de proceso. Antes de ahora, han existido un número de problemas con los cromatógrafos de gas. Por ejemplo, las medidones rápidas y exactas son deseables en cualquier tipo de cromatógrafo de gas. Una corriente de gas que fluye a través del ducto de proceso se puede componer de varias diferentes dases de componentes e idealmente, se analizaran cada uno de estos componentes. Sin embargo, los cromatógrafos de gas convencionales no pueden responder a los cambios de proceso tan rápido como se desee. Además, los contaminantes líquidos en la corriente de proceso pueden inducir futuras complicaciones a cualquier análisis. Otro problema con los cromatógrafos de gas anteriores es una falta de flexibilidad en el análisis de la corriente de gas. Con frecuenda sería deseable analizar las diferentes características de la comente de gas sin cambiar a otro cromatógrafo de gas. Sin embargo, los cromatógrafos de gas anteriores están restringidos debido a su número limitado de válvulas y por su falta de flexibilidad. Como tal, un cromatógrafo de gas se necesita para analizar corrientes de proceso complejas con una mayor exactitud y veloddad. Otros problemas con los cromatógrafos de gas también han existido en el sistema de válvulas que induyen los cromatógrafos de gas. Por ejemplo, no es fácil de dar servicio a estas válvulas. El mantenimiento puede ser necesario ya que con frecuenda los flujos a través de un cromatógrafo de gas están sucios, y esta contaminación puede afectar el desempeño de ios componentes claves en el cromatógrafo de gas. La sustitudón de componentes limpios en el cromatógrafo de gas puede minimizar el problema, aunque el desensamble del cromatógrafo de gas en el pasado lo ha hecho una experienda difícil y frustrante. Por lo tanto, existe una necesidad de un cromatógrafo de gas nuevo. Como lo saben los que tienen conocimiento del arte anterior, éste también presenta otros problemas que se deben resolver o minimizar.

RESUMEN DE LA INVENCIÓN Una caracterizadón descrita induye un ensamble multi-válvula. Este ensamble multi-válvula incluye una pluralidad de placas y diafragmas unidos para formar una pluralidad de válvulas. Una de estas placas es un distribuidor que incluye un pasaje de línea común y una pluralidad de pasajes de actuación (impulso), al menos uno de los pasajes de activación está conectado al pasaje de línea común, ahí hay al menos tantos pasajes de actuación como válvulas. De manera alternativa, esta caracterización se puede ver como un dispositivo multi-válvula que induye al menos dos válvulas integradas en una primera región que induye una primera región, un detector de propiedad de corriente de gas como un TCD, y un primer sensor de temperatura. Una segunda región integra un segundo calentador y un segundo sensor de temperatura, con el primer sensor de temperatura de fa región y detector de propiedad de corriente de gas que se encuentran en la misma curva radial con respecto al punto en la segunda región. La invendón comprende una combinación de características y ventajas que la habilitan para superar varios problemas de dispositivos anteriores. Las varias características descritas con anterioridad, al igual que otras características, serán aparentes para aquellos expertos en el arte a la lectura de la siguiente descripción detallada de las caracterizadones preferendales de la invención, y al referirse a los dibujos adjuntos.

BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS Para una descripdón más detallada de la caracterizadón preferencial de la presente invendón, ahora se hará referencia a los dibujos adjuntos, en donde: La Figura 1 es un diagrama simplificado de un sistema de cromatógrafo de gas.

La Figura 2 es un esquema simplificado de un cromatógrafo de gas. La Figura 3A es un diagrama esquemático de una válvula en una configuradón de ENCENDIDO (ON). La Figura 3B es un diagrama esquemático de una válvula en una configuradón de APAGADO (OFF).

La Figura 3C es un diagrama esquemático de un sistema múltiple e válvulas para analizar una muestra. La Figura 4 es una vista transversal ilustrativa de una válvula. La Figura 5 es una vista transversal ilustrativa de un solenoide. La Figura 6 es una vista isométrica explotada de una caracterizadón de un bloque multi-válvula. La Figura 7A es una vista superior de una placa de pistón superior para el bloque multi-válvula de la Figura 6. La Figura 7B es una vista inferior de una placa de pistón superior para el bloque 10 multi-válvula de la Figura 6. La Figura 8A es una vista superior de una placa de pistón inferior para el bloque multi-válvula de la Figura 6. La Figura 8B es una vista inferior de una piaca de pistón inferior para el bloque multi-válvula de la Figura 6. 15 La Figura 9A es una vista superior de una placa base para el bloque multi- válvula de la Figura 6. La Figura 9B es una vista inferior de una placa base para el bloque multi-válvula de la Figura 6. ) La Figura 10A es una vista superior de una placa primaria para el bloque multi- 20 válvula de la Figura 6. La Figura 10B es una vista inferior de una placa primaria para el bloque multi- válvula de la Figura 6. La Figura 11 es un diafragma de sellado para el bloque multi-válvula de la Figura 6. 25 La Figura 12 es un diafragma de cojinete para el bloque multi-válvula de la Figura 6.

La Figura 13A es un diafragma de actuador superior para el bloque multi-válvula de la Figura 6. La Figura 13B es un diafragma de actuador inferior para el bloque multi-válvula de la Figura 6. F5 La Figura 14 es una vista transversal de un ensamble de multi-válvula durante operación. La Figura 15 es una vista superior de una pieza inferior de aislamiento para un homo de ensamble de multi-válvula. La Figura 16 es una vista transversal de una caracterizadón de un ensamble de 10 muiti-válvula. ,. La Figura 17 es una vista ¡sométrica explotada de una segunda caracterización de un bloque multi-válvula. La Figura 18A es una vista superior de una placa primaria para el bloque multi- válvula de la Figura 17. 15 La Figura 18B es una vista inferior de una placa primaria para el bloque multi- válvula de !a Figura 17. La Figura 19A es una vista superior de una placa de pistón superior para el bloque multi-válvula de la Figura 17. La Figura 19B es una vista inferior de una placa de pistón superior para el bloque multi-válvula de la Figura 17. La Figura 20A es una vista superior de una placa de pistón inferior para el bloque multi-válvula de la Figura 17. La Figura 20B es una vista inferior de una placa de pistón inferior para el bloque multi-válvula de la Figura 17. 25 La Figura 21 A es una vista superior de una placa base para el bloque multi- válvula de ia Figura 17.

La Figura 21 B es una vista inferior de una placa base para el bloque multi- válvula de la Figura 17 La Figura 22 es una vista de un diafragma de sellado inferior de la Figura 17. La Figura 23 es una vista de un diafragma de actuador inferior de la Figura 17. La Figura 24 es una vista de un diafragma de actuador superior de la Figura 17. La Figura 25 es una vista de un diafragma de cojinete de la Figura 17. La Figura 26 es una vista de un diafragma de sellado superior de la Figura 17. La Figura 27 es una vista perspectiva de un ensamble de multi-váivula que incluye un distribuidor y solenoides. 10 La Figura 28A es una vista superior de un distribuidor para el bloque de multi- ^ válvula de ta Figura 17. La Figura 28B es una vista inferior de un distribuidor para el bloque de multi- válvula de la Figura 17. La Figura 29 es una primera vista transversal de la segunda caracterización del 15 ensamble de multi-válvula. La Figura 30 es una segunda vista transversal de una segunda caracterización del ensamble de multi-válvula. La Figura 31 es una ilustración de un sistema de cromatógrafo de gas adaptado ) para su uso en un ambiente de refinerías. 20 DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LA CARACTERIZACIÓN PREFERENCIAL La Figura 1 muestra un sistema de cromatógrafo de gas generalmente construido de acuerdo a las enseñanzas de este documento. El gas flujo a través de un ducto de proceso 110, una muestra de éste se toma mediante una sonda de muestras 120 antes de ser introducido al cromatógrafo de gas (GC) 100. La muestra de gas se puede filtrar y localizada por calor generalmente a lo largo del entubado 130 antes de fluir en el cromatógrafo de gas 100. Este calentamiento se puede requerir para gases que pueden condensarse en un gas parcial, el líquido parcial fluye a temperaturas más frías. Después de analizarse mediante el cromatógrafo de gas, la muestra de gas es ya sea regresada en el ducto de proceso 110, o ventilada a la atmósfera. Con respecto a la Figura 2, el cromatógrafo de gas 100 induye un ensamble de válvulas 210 conectadas a múltiples columnas 220 y detectores 230, en este caso, detectores de conductividad térmica (TCD). Una muestra de gas por lo general sigue el camino 240 a través del ensamble de válvulas 210, columnas 220 y TCDs 230. El ensamble de válvulas permite la selección de columnas 220 que contienen una fase líquida, o polímero poroso, u otro material que actúa para separar la muestra de gas en múltiples porciones, cada pordón se libera de manera secuencial a los TCDs 230. Por ejemplo, una muestra de gas puede contener varios componentes de hidrocarburo de peso molecular. La columna 220 podría separar la muestra de gas para que los componentes de hidrocarburo de peso molecular menor se remuevan primero de la columna, seguido de un componente de peso molecular mayor, etc. Con relación a las Figuras 3A y 3B, se muestra la operación de una válvula. La válvula 300 incluye una pluralidad de puertos de válvula, etiquetadas 1-6. Se apreciaría que más o menos números de puertos también se puedan utilizar. La línea de entrada 310 proporciona una muestra de gas a la válvula 300. La línea de exhaustión 320 expide la muestra de gas de la válvula 300. Las líneas sólidas 330 muestran pasajes abiertos entre puertos, mientras que las líneas punteadas 340 indican pasajes bloqueados entre los puertos. Un solenoide (no mostrado) coloca una válvula 300 en ya sea una posición ENCENDIDO, como se muestra en la Figura 3A, o una posición OFF, como se muestra en la Figura 3B. Cuando una válvula se encuentra en la posición de ENCENDIDO, el gas fluye de la línea de entrada 310, a través del puerto 1 al puerto 6, a través de la línea 315 y finalmente a través del puerto 3 al puerto 2 y fuera de la línea de exhaustión 320. Cuando la válvula se encuentra en la posidón de APAGADO, el gas fluye de la línea de entrada 310, a través del puerto 1 ai puerto 2 y fuera a través de la línea de exhaustíón 320. Las Figuras 3C y 3D ilustran como un par de válvulas pueden operar ya sea solas o en combinación con válvulas adicionales (no mostradas). Una primera válvula 300 induye una serie de 6 puertos de válvulas. Una segunda válvula 350 también induye una serie de 6 puertos de válvula. El entubado asociado 310, 315, 320, 325 y 390, y ias columnas 360 y 370 también se muestran al igual que el TCD 380 dual. 10 La línea de entrada 310 se adjunta a una línea de transporte de muestra (no ^ mostrada). Cuando la primera válvula 300 se encuentra en una posidón de APAGADO, la muestra de gas fluye de la línea e entrada 310 al puerto 1 al puerto 3 de la válvula 300 y fuera de la línea de exhaustión 320. Cuando la válvula 300 se encuentra en una posidón de ENCENDIDO, la muestra de gas fluye del puerto 1 al puerto 6 y después a través del circuito cerrado de muestra 315. Ese gas entonces fluye del puerto 3 al puerto 2 de ia válvula 300 y es expedido fuera de la línea de exhaustión 320. En este momento, el circuito cerrado de muestra 315 se llena con una muestra de gas. Esto significa que, si la válvula 300 se APAGA en este momento, una muestra de gas se fe queda atrapada dentro del drcurto cerrado de muestra 315. 20 Ahora refiriéndose a la válvula 350, cuando ésta se encuentra en una confíguradón de APAGADO, el gas de transporte fluye de la línea de entrada de gas de transporte 390 a través del puerto 2 de la válvula 350, al puerto 1 y luego a través del entubado de transporte 325. En este momento, la válvula 300 se encuentra también en una confíguradón de APAGADO, para que así el gas de transporte en el entubado 325 sea forzado a través del puerto 5 al puerto 6 y a través de un entubado de muestra de gas 315. Por consiguiente, está ac ón hace que la muestra de gas vaya hacia la columna 360 vía los puertos 3 y 4. La muestra de gas entonces puede de manera adicional impulsarse a través de la columna 370 y en el TCD 380 dual vía os puertos 4 y 3. Muchas otras combinaciones de puertos también existen y se encuentran dentro de la pericia de los conocedores del arte. Por lo que las válvulas se pueden conectar en series para formar "canales". =- Cada canal se alimenta en un par de TCDs correspondientes (un TCD de medidón y un TCD de referencia). El uso de más de un par de TCDs da como resultado el análisis simultáneo de los TCDs de la muestra que fluye a través de sus columnas adjuntas correspondientes. Este análisis paralelo resulta en un aumento de la velocidad de análisis en comparación al análisis serial. Además, debido a que la tecnología en la actualidad limita los canales y los pares de detector a una correspondencia uno a uno, el número de canales en uso en un tiempo en particular está limitado por el número de válvulas y por el número de detectores. Por supuesto, mientras sea mayor el número de válvulas, mayor será el número de canales potenciales, y habrá más potencial para más procesamientos paralelos y un sistema general mas rápido. Pero incluso si el número de detectores limita el número de canales que se están utilizando en cualquier tiempo, un mayor número de válvulas da como resultado un mayor número de canales de los que se pueden escoger para cada TCD. Por ejemplo, un sistema de multi-válvula puede tener sufidentes válvulas para operar ocho canales. Incluso si sólo dos pares de detectores existen, sólo dichos dos canales se pueden utilizar en cualquier momento, los pares de detector se pueden diseñar para seleccionar que canal de los ocho canales se debe de conectar. Esto aumenta de manera importante la flexibilidad del presente sistema de cromatógrafo de gas descrito. Con respecto a la Figura 4, se muestra un corte transversal de un ensamble de válvula pardal. La válvula 400 induye una placa base 410 con puertos de activación 412 y 414, un diafragma de actuador inferior 420, una placa de pistón inferior 430 con un pistón largo asociado 435, un diagrama de actuador superior 440, una placa de pistón superior 450 con un pistón corto asociado 455, un diagrama de cojinete 460, un diagrama de sellado 465 y una placa primaria 470 con puertos de válvula 472 y 474 allí. Estos puertos de válvula de forma adecuada pueden ser puertos 1 y 6 como se muestra en la Figura 3. Con referencia a la Figura 4, una muestra de gas 480 entra en el puerto de válvula 472. Esta muestra de gas 480 viaja fuera del puerto de válvula 474 cuando el pistón largo 435 se encuentra en una posidón elevada (cerrada) y un pistón corto 455 no lo está. Un pistón largo 435 se eleva mediante presión e gas aplicada al puerto de activación A 412. Esta presión deforma el diafragma de actuador inferior 420y hace que el pistón largo 435 vaya en una dirección hacia arriba en una placa de pistón inferior 430. El extremo superior del pistón largo 435 entonces colinda contra la placa primaria 470. De manera similar, el pistón corto 455 es actuado (impulsado) por la presión de gas del puerto de activadón B 414, y hace que la muestra de gas 480 vaya por el camino 485. Si una válvula se encuentra en la posición de ENCENDIDO o APAGADO depende de un solenoide que se aplica a la presión de gas de manera alternativa a ya sea el puerto de activación A o el puerto de adivadón B. La Figura 5 ilustra de manera general la operación de un solenoide. El solenoide 500 induye un puerto de línea común 510, un puerto de salida 520 que corresponde al puerto de activación a, el puerto de salida 530 que corresponde al puerto de activadón B, el puerto de liberación 525 para el puerto de salida A o el puerto de salida B, y guías de control 540. El entubado 550 se conecta a cada uno de los puertos de línea comunes 510, y los puertos de salida 520 y 530. Los puertos de salida A y B se conectan a puertos de activación A y B en la Figura 4, respectivamente. El puerto de línea común 510 se conecta a un gas bajo presión. La presión de gas aplicada a ya sea al controlador de puerto de activación A o al controlador de puerto de activación B ya sea que la válvula correspondiente se encuentre en una posición de ENCENDIDO o APAGADO. Las señales de control eléctrico de los guías 540 controlan ya sea que la línea común 510 esté conectada al puerto de salida A o puerto de salida B, y por lo tanto ya sea que se aplique una presión de gas a un puerto de activación A o puerto de activadón B. Alguna variación a los particulares de este diseño puede ser posible mientras aún permanezca dentro de las enseñanzas de la invención. La Figura 6 muestra una vista explotada de una caracterización del bloque multi-válvula 600 incluyendo un área abierta 605, una placa base 610 con espigas asodadas para alinear componentes, un diafragma de actuador inferior 620, una placa de pistón inferior 630 con pistones largos asodados 635, un diafragma de actuador superior 640, una placa de pistón superior 650 con pistones cortos asociados 655, un diafragma de cojinete 660, un diafragma de sellado 665 y una placa primaria 670. Cada pistón induye una porción de base inferior con un polo que se extiende de ahí. Los sets de orifidos 680 y 690 son adecuados para dos pares de TCDs. El primer set de tornillos 615 para su inserción a través de la placa base 610, la placa de pistón inferior y la placa de pistón superior se muestran al igual que un segundo set de tornillos 675 para su inserción a través de la placa primaria 670, la placa de pistón superior 650 y la placa de pistón inferior 630. Además, ya que existen cinco válvulas, dnco solenoides (no mostrados) están presentes, cada uno controlando una válvula diferente. Como se puede ver, el dispositivo de multi-válvula 600 incluye 5 válvulas, con cada válvula teniendo 6 puertos. Al integrar múltiples válvulas en un solo bloque de multi-válvula, un dispositivo compacto se logra ei cual puede separar una muestra de gas en un gran número de columnas como se discutió anteriormente. Esto fadlita un análisis más rápido y más predso de los gases contenidos en la muestra de gas. Los costos de fabricadón también se pueden reducir. Las enseñanzas de este documento se pueden utilizar para integrar más o menos de 5 válvulas en una sola unidad, y más o menos puertos de válvula por válvula. Por ejemplo, si se desea un numero mayor de válvulas, se pueden localizar hasta 7 válvulas en la caracterización mostrada en la Figura 6. Una manera en la que la caracterizadón de la Figura 6 hace más rápido y predso el análisis de la muestra de gas es la reducción de lo que se conoce como "volumen muerto". El aumento del volumen muerto se da cuando los componentes de un cromatógrafo de gas están ampliamente espadados y ocurre una mezcla excesiva del fluido. La mezcla de la muestra de gas o fluido resulta en una "ampliación de banda". La ampliación de banda es indeseable porque el área de una banda de un ^ análisis corresponde a la concentración y estas bandas no se deben traslapar. Por consiguiente, una serie de bandas amplias resultan en un análisis mucho más lento de lo que es posible con una serie de bandas compactas cortas. Por lo tanto, un diseño compacto integrado es deseable particularmente desde una perspectiva de desempeño.

Además, la geometría ilustrada proporciona un área suficiente para un primer y segundo set de TCDs. Mientras que estos TCDs se pueden localizar fuera del bloque mutti- válvula si se desea (por ejemplo, para integrar un número mayor de válvulas en un bloque de multi-válvula), la inclusión de los TCDs en un bloque multi-válvula ayuda i posteriormente a miniaturizar el dispositivo y hacerlo más compacto. 20 Las Figuras 7A y 7B muestran vistas superior e inferior respectivamente de la placa de pistón superior de la Figura 6. Con respecto a la vista superior de la Figura 7A, se muestran las locaciones 701-705 para 5 válvulas. Orifidos de tornillos, por lo general en 720, también se muestran para aceptar tornillos para apretar la placa primaria con otras placas. Los orificios 750 son para tomillos de la parte inferior para apretar las placas, mientras que los orifidos 760 son espigas frontales para posidonar las válvulas. Regresando a la vista inferior de la placa de pistón superior mostrada en la Figura 7B, las locaciones 701-707 se muestran de manera similar. Cada válvula incluye suficiente espacio 730, 735 para 3 bases de pistón y 3 polos de pistón. También se muestran las orillas incrementadas 740 alrededor del perímetro de cada locación de válvula. Las superficies incrementadas definidas por las orillas incrementadas existen en ambos lados de las placas de pistón superior e inferior. Por ejemplo, se puede utilizar una orilla incrementada de 0.032 pulgadas. Estas orillas incrementadas 740 reducen el área de superfide sobre la que los tornillos 615 y 675 proveen fuerza y de ese modo reducen la posibilidad de fuga. Con respecto a la Figura 6, se puede apreciar que dos sets de tornillos se muestran correspondientes a los orificios 720 y 750, Estos dos sets de tornillos que sobresalen a través de los orificios 720 y 750 simplifican el mantenimiento de la invención. Un set inferior de tomillos 615 se extiende a través de la placa base 610, la placa de pistón inferior 630 y la piaca de pistón superior 650. Los tomillos 615 juntan a estas placas. Un set superior de tornillos 675 se extiende a través de la placa primaria y la placa de pistón superior para asir mantener esas placas juntas. Este acercamiento de set de tornillos duales simplifica el mantenimiento porque el afloje y retiro de los tornillos 675 permite el acceso y reemplazo del diafragma de sellado 665 y diafragma de cojinete 660 sin desensamblar una gran cantidad de placas más que las necesarias. Es diafragma de sellado es el que se contamina más por el gas sudo que fluye a través de la multi-váivula. Se ha descubierto que una cupla relativamente baja de aprox. 10 ft/lbs es aceptable para estos sets de tornillos mientras que la remoción de estos tomillos se hace tan fádl como sea posible. La configuradón de multi-válvula también simplifica el mantenimiento, ya que, mediante las múltiples válvulas en una unidad integrada, el reemplazo de sólo un diafragma es necesario en lugar de múltiples diafragmas que de otra forma serían necesarios para múltiples válvulas.

Las Figuras 8A y 8B muestran la placa de pistón inferior de la Figura 6. Las Figuras 8A y 8B son las vistas superior e inferior respectivamente de la placa de pistón inferior. Con referencia a la Figura 8A, una vez más, las locadones 801-805 están provistas por las cinco válvulas, además a un área para dos sets de TCDs. Los orificios 820 y orificios 825 aceptan tornillos de fijación. También se muestran nco ranuras triangulares 830 y orificios acompañantes 840 dentro de cada ranura. El gas de los solenoides viaja a través de los orificios de actuación (impulso) 840 a las ranuras 830. Estas ranuras 830 proporcionan un pasaje para el gas de actuación que eleva a los pistones cortos. Debido a que las válvulas de la caracterizadón ilustrada tienen seis puertos, y por lo tanto tres pistones cortos por válvula, una forma triangular es conveniente (pero no necesaria) para actuar (impulsar) todos los tres pistones cortos de manera simultánea. En relación con la vista inferior de la Figura 8B, ahí se muestran ias locadones 801-807. También por lo general se muestran en 840 los orifidos conectados a un puerto de actuador a través del cual el gas ejerce presión. Estos orifidos 840 corresponden a las ranuras 830 de la Figura 8A. Como se puede apredar, el espacio 830 se proporciona para la base de los pistones largos 635. Las Figuras 9A y 9B muestran las vistas superior e inferior respectivamente de la placa base. Con respecto a la Figura 9A, similar a la Figura 8A, se muestran una pluralidad de ranuras 930, con cada ranura que abarca un orifido 940 para gas de actuador. Además, se muestran de manera adicional los orificios de actuador 945 que viajan hasta la placa de pistón inferior. La Figura 9B ilustra la vista inferior de la placa base. Se ilustran la ranura 960 y los orifidos 970, 980 y 990. La ranura 960 está presente porque ésta simplifica la remoción de diafragmas en el desensamblaje. En particular, después de que se ha ensamblado una válvula, los diafragmas tienden a adherirse a una superfide de contacto, y las ranuras propordonan un área donde los diafragmas se pueden asir con fadlidad. El orificio 970 es una línea común de puerto A y B que conecta al puerto A y B en solenoides mediante un entubado. Los orificios 980 y 990 son orificios de tomillos. La figura 9B también muestra líneas de perforación transversal 962 y 964 que representan áreas perforadas para la inserdón de un entubado de transportación y muestra de gas. También se muestran orificios en la entrada de cada área de inserción. El transportador y la muestra de gas se calientan con rapidez y confiabilidad en las áreas de inserdón definidas por las líneas de perforación transversal 962 y 964 del calor en el bloque multi-válvula. Las Figuras 10A y 10 B muestran la vista superior e inferior de una placa primaria de la Figura 6. Ahora, con respecto a la Figura 10A se muestran orificios TCD 1052-1053 y orificios de entubado asociados 1060-1063. También se muestra un orificio 1070 adecuado para un sensor de calor RTD. La Figura 10B muestra una vista inferior de la placa primaria. Se induyen orifidos 1010 para aceptar tornillos y 1020 para aceptar espigas. Las Figuras 11-13 ilustran los diafragmas de la Figura 6. La Figura 1 muestra el diafragma de sellado de la Figura 6. El diafragma de sellado está preferentemente hecho de Kapton™ de 2mil de ancho hecho por DuPont con un recubrimiento de teflón de 0.5mil en cada lado. La Figura 12 muestra el diagrama de cojinete de la Figura 6. El diafragma de cojinete es de preferencia de un grosor aproximado de 0.002" y está hecho de papel Nomax por DuPont. Las Figuras 13A u 13B ilustran los diafragmas de actuador superior e inferior. Ambos diagramas de actuador se hacen de preferencia con Kapton™ de 3mm de grosor hecho por DuPont. La Figura 14 ilustra un bloque multi-válvula 1400 induyendo un carrete 1410 con áreas para un primer RTD (Detector Térmico de Resistencia) y dos pares de TCD 1425, una superficie exterior 1430 al bloque multi-válvula 1400, un calentador de banda 1440 afuera de la superficie exterior 1430, un entubado de transportación de precalentamiento de gas 1450 localizado entre la superficie exterior 1430 y el calentador de banda 1450 y una placa base 610 como parte del bloque multi-válvula. El carrete 1410 contiene uno o más calentadores de cartucho 1460 y un segundo RTD 1465. Con respecto a la Figura 6, un orifido o área abierta 605 se encuentra presente en medio dei bloque multi-válvula. El área abierta 605 acomoda el carrete 1410 que sobresale de la placa base 610. Las columnas 1470 se envuelven alrededor del carrete 1410. También se muestran solenoides 1480 conectados mediante un entubado 1485 a la placa base en su extremo inferior 1490. El calentador de banda 1440 es un calentador de banda AC de aproximadamente 200 Watts de poder. Durante la operación, una muestra de gas fluye a través del entubado o conductos 315 (no mostrados en ia Figura 14) en el bloque multi-válvula antes de fluir a través de los ductos de las columnas 1470. En contraste, el gas de transportación fluye a través del entubado de pre-calentamiento de gas de transportación 1450 antes de fluir a través de las columnas 1470. El entubado de pre-calentamiento de gas de transportación se puede localizar en diferentes posiciones para calentar el gas de transportadón a una temperatura predeterminada. El entubado de pre-calentamiento de gas de transportación puede estar justo dentro del calentador de banda como se muestra en la Figura 14, o puede ocupar de preferencia las áreas de inserdón en el bloque multi-válvula, como se explica en referenda a la Figura 9. Por lo tanto, antes de calentarse mediante el carrete, el gas de transportación y la muestra de gas son calentados a aproximadamente la temperatura del bloque multi-válvula. Por lo tanto, este arreglo está provisto para dos zonas de calentamiento. El área aproximada al carrete 1410 define una segunda zona de calentamiento. Una primera zona de calentamiento es definida por la temperatura del remanente del bloque multi-válvula. El primer RTD localizado en el bloque multi-válvula en 1420 mide la temperatura de la primera zona de calentamiento. El segundo RTD localizado en 1465 dentro del carrete 1410 mide la temperatura de la segunda zona de calentamiento. Dos zonas de calentamiento separadas son importantes porque el gas que fluye a través de las columnas 1470 deberían ser idealmente de aprox. 3 - 5°C más alta que la temperatura de cada TCD (la temperatura de la primera zona de calentamiento). Además, los TCDs en la primera zona de calentamiento se deben de mantener dentro de aprox. 0.1 °C de una temperatura predeterminada para un análisis preciso. La variación de temperatura en la segunda zona de calentamiento se debe de mantener dentro de una toleranda de aprox. 0.1 °C. Se pueden agregar más zonas de calentamiento cuando se desee realizar el análisis de muestras complejas. Con el propósito de estabilizar las temperaturas en las zonas de calentamiento, se crea un "horno" a partir de un material de aislamiento térmico. Este horno es esencialmente un manguito cilindrico que rodea al resto del dispositivo multi-válvula y mantiene su temperatura estable, a excepción de los solenoides, los cuales se deben mantener fuera del calor dentro del horno. Con respecto a la Figura 15, se muestra una parte inferior ilustrativa 1500 de este cilindro o manguito de aislamiento. Como se puede observar, éste contiene un número de orifidos 1510, a través del cual se extiende el entubado para los solenoides y los pies de la base. La Figura 16 ilustra el aislamiento 1610 para el "horno" incluyendo el fondo 1500 del cilindro de aislamiento. Como parte del bloque multi-válvula 1400, la placa base 610 se encuentra adyacente al fondo del cilindro de aislamiento 1500. Los pies 1600 para crear una distancia están hechos de Teflón™ 1605. También se muestra el entubado 1485 que se extiende a través de la pieza del fondo 1500 a la superfide inferior 1490 del bloque multi-válvula 1400. Una segunda caracterización de la invención fue desarrollada después de la caracterización antes mencionada y se muestra en las Figuras 17-30. Se cree que esta caracterizadón de la invención tiene mejoras en un número de aspectos de la primera caracterizadón. La Figura 17 muestra una vista explotada de una segunda caracterización para un bloque multi-válvula 1700 en una configuración invertida. Dicha configuración invertida es preferible para simplificar el ensamble. La Figura 17 incluye un distribuidor Ultem™ 1780 con un enchufe Ultem™ asociado 1782. También se muestra un diafragma de sellado inferior 1765, placa base 1710 con áreas de inserción de rollo pre-calentado de gas de transportadón, diafragma de actuador inferior 1720, placa de pistón inferior 1730 con pistones largos asociados 1735, diafragmas de actuador superior 1740, placa de pistón superior 1750 con pistones cortos asodados 1755, diafragma de cojinete 1760, diafragma de sellado 1775 y placa primaria 1770 con clavijas guía asociadas 1172. También se muestra un área abierta 1705 en el centro del bloque multi-válvula, tornillos de torsión 1790 y arandelas Belleville. Los enchufes de aislamiento 1704 se insertan después de que se han apretado los tornillos de torsión 1790 a través del distribuidor 1780. También se muestran los tomillos 1795 Las Figuras 18A y 18B muestran la vista superior e inferior de una placa primaria de la Figura 17. Con respecto a fa Figura 18A, se muestran cinco válvulas 1801-1805 con 6 puertos 1810, al igual que orificios TCD 1850-1853 y orificios de entubado asociados 1860-1863. Un orifido 1870 es adecuado para un sensor de calor RTD, y se fija mediante tornillos de fijadón en un orificio 1875. Los orificios 1820 son para tornillos de fijadón. El orifido 1835 es para un soporte de montaje de un bloque terminal TCD. En contraste con el orifido para el sensor de calor RTD de la Figura 10, el orifido de sensor de calor RTD 1870 se localiza en el mismo círculo radial que los orificios TCD 1850-1853. Como se puede apredar, debido a que la temperatura en el TCD es muy importante para la medidón predsa de la muestra de gas, un sensor de temperatura (RTD) se debe colocar lo más cerca posible del TCD. El orifido de sensor de calor RTD 1870 logra este objetivo. Pero además, debido a la masa de un bloque multi-válvula, los gradientes de temperatura a través del bloque pueden ser importantes. La colocación de un orifido de sensor de calor RTD 1870 en el mismo drculo radial como los orifidos TCD minimiza el error de cualquier gradiente de temperatura a través del bloque multi-válvuta. La Figura 18B muestra una vista inferior de la placa primaria. Se incluyen orificios 1810 correspondientes a los puertos de válvula de la Figura 18A, y los orifidos 1820 para los tornillos de sujedón. También se muestra la ranura 1870 para simplificar el mantenimiento y los orificios de espiga 1880. Las Figuras 19A y 19B muestran vistas superior e inferior de la placa de pistón superior de ia Figura 17. Con respecto a la vista superior de la Figura 19A, se muestran las locadones 1901-1905 para 5 válvulas. Los orifidos de tornillos, por lo general en 1920, se muestran para tomillos de aceptación para apretar el bloque multi-válvula. Los orificios 1940 son para tornillos del fondo para apretar el bloque de válvula. Como se explicó con respecto a la primera caracterizadón, los sets de tornillos duales de esta caracterización simplifican de manera considerable el mantenimiento de esta caracterización comparada con las válvulas del arte anterior. Regresando a la vista inferior de la placa de pistón superior como se muestra en la Figura 19B, las ranuras 1960 simplifican el mantenimiento como se explicó de forma general anteriormente con respecto a la primera caracterizadón. Las locadones 1901-1905 son para las anco válvulas. Cada locación de válvula 1901-1905 induye sufidente espacio 1930, 1935 para 3 bases de pistón y 3 polos de pistón. A diferencia de la placa de pistón superior de la primera caracterizadón como se muestra en la Figura 7, la segunda caracterizadón no incluye orillas incrementadas para reducir la posibilidad de fuga. Las orillas incrementadas 740 de la primera caracterización no eran deseables porque se requerían costos de fabricación significantes para obtener dicha orilla. En cambio, se busco otra manera de reducir la posibilidad de fuga. La segunda caracterización reduce la posibilidad de fuga sin orillas incrementadas mediante la colocadón de orifidos de sujedón 1920 dentro de los confines de cada válvula. En particular, los orifia'os de sujedón 1920 están localizados al centro de cada válvula. Esto da como resultado en un ajuste libre de fugas para el bloque multi-válvula sin el gasto adicional de orillas incrementadas. Las Figuras 20A y 20B muestran la placa de pistón inferior de la Figura 17. Las Figuras 20A y 20B son las vistas superior e inferior respectivamente de la placa de pistón inferior. En referencia a la Figura 20A, una vez más, las locaciones 2001-2005 están provistas para las cinco válvulas. Los orificios 2080 son orifidos de tornillos, mientras que los tornillos 2085 son orifidos de espiga. También se muestran cinco ranuras triangulares 2030 y orifidos acompañantes 2040, al igual que orificios 2020 para aceptar tomillos de sujeción en el centro de cada ranura 2030. El gas de los puertos de actuación (impulso) fluye a través de los orifidos 2040. Las ranuras 2030 ^ proporcionan un pasaje para el gas de actuación, lo que resulta en una eleva ón y actuación simultánea de los pistones cortos. Debido a que las válvulas de la caraderizadón ilustrada tienen seis puertos, y por lo tanto tres pistones cortos por válvula, una forma triangular es conveniente (pero no necesaria) para actuar (impulsar) todos los tres pistones cortos de manera simultánea. Las ranuras triangulares de la segunda caracterización son de erta forma más largas que las la primera como se muestra en la Figura 8, para acomodar los orificios de sujedón 2020 en sus centros.

Regresando a la vista inferior de la Figura 20B, se muestran las locadones para las fe válvulas, además de las ranuras 2060. Como se puede observar, la Figura 20B también induye un espado 2030 para la base de los pistones largos 635, los orificios de tornillos de sujeción 2020 y otras características explicadas con referencia a otras Figuras de este documento. Las Figuras 21 A y 21 B muestran las vistas superior e inferior respectivamente de la placa base 1710. Con respecto a la Figura 21A, se mencionan los orifidos 2160 y una pluralidad de ranuras triangulares 2130, con cada ranura abarcando un orificio 2140 para gas de actuador. También se muestran los orifidos adidonales 2145 que forman un pasaje para el gas de actuador para elevar los pistones cortos. La línea 2150 indica una orilla de elevación hada un área 2152. El área 2152 es un espacio de aire cuya fundón se explica posteriormente. Otras características también se muestran las cuales se han explicado con referencia a otras Figuras. La Figura 21 B ilustra la vista inferior de la placa base 1710. Se muestran pasajes de gas de actuador 2155, al igual que orifidos de tornillos 2170 y 2180. también se muestran orificios de clavijas 2185 y siluetas de formas 2190. Las siluetas de formas 2190 indican las locaciones para las áreas de inserción de rollo de pre-calentamiento. El gas transportador en estos rollos de precalentamiento es entonces calentado mediante el bloque multi-válvula. Los orifidos 2170 y 2180 son orificios de tornillos. Los orificios 2185 son orificios de espiga. Las Figuras 22-26 ilustran los diafragmas de la segunda caracterizadón. Este diafragma es de preferencia una hoja de Teflón de 5mil y asegura un ajuste libre de fugas entre el distribuidor y la placa base. No existe un diafragma correspondiente en la primera caracterización. La Figura 23 ilustra un diafragma de actuador inferior de la segunda caracterización. La Figura 24 ilustra un diafragma de actuador superior de la segunda caracterización. La Figura 25 ¡lustra un diafragma de cojinete de la segunda caracterización. La Figura 26 ilustra un diafragma de sellado superior de la segunda caracterizadón. Cada diafragma incluye orificios cuyo propósito se explica con respecto a las otras Figuras. Estos diafragmas están de preferencia hechos del mismo material como los diafragmas correspondientes a la primera caracterizadón. Ahora con respecto a la Figura 27, la segunda caracterización induye un distribuidor de aislamiento 1780 en lugar de la pieza de aislamiento base de la primera caraderización. También se muestran los solenoides 2980, el bloque multi-válvula, una copa de columna 2920, soporte de columna 2727 y una cubierta de columna 2745. Para simplificar la vista del ensamble de la multi-válvula, no mostrada en la Figura 27 se encuentra el remanente del aislamiento del horno que rodea al ensamble multi-válvula.

Como se puede observar, una ventaja del distribuidor 1780 es que los solenoides se adjuntan directamente a su superficie inferior y entonces se elimina el entubado entre los solenoides y el btoque multi-válvula. Esta eliminación del entubado entre los solenoides y el bloque multi-válvula resulta no sólo en ahorros sustanciales, sin que también propordona una respuesta rápida de tiempo durante el análisis. Las Figuras 28A y 28B son vistas superior e inferior del distribuidor 1780. La Figura 28A muestra un orificio de línea común universal 2800 y un pasaje de gas de línea común 2810 del orificio de línea común 2800 a una ranura central 2820. También se extienden de la ranura central 2820 una pluralidad de pasajes de actuación (impulso) de solenoides 2831-2835, uno para cada solenoide (no mostrado). La Figura 28B ilustra muchos de los mismos elementos como la Figura 28A.

Ahora con respedo a las Figuras 28A y 28B, durante la operadón, un solo tubo que transporta al gas de aduador se coneda un orifido de línea común universal 2800. De ahí, el gas de actuador viaja a través del pasaje de gas de línea común 2810 a la ranura central 2820. El gas de aduador entonces viaja a cada solenoide individual vía los pasajes de solenoides 2831-2835. En ese tiempo, el gas de aduador ingresa cada solenoide (no mostrado), los solenoides se adjuntan con firmeza al fondo del distribuidor mediante et uso de orificios de tomillos 2850. El gas de aduador viaja a través de ios solenoides y sale a través de los orifidos de gas de aduador 2850 o 2855 para colocar las válvulas ya sea en una configuradón de ENCENDIDO o APAGADO. La Figura 29 muestra el ensamble multi-válvula de la segunda caraderización durante la operadón. Para simplificar la vista, no se muestra el horno para el ensamble multi-válvula. El bloque multi-válvula 2900 induye áreas para un primer RTD en el mismo plano radial que el orifido para los dos pares de TCD 2925, una superfide exterior 2030, rollo de pre-calentamiento de gas de transportación y una placa base 1710. El carrete 2910 contiene un calentador de cartucho 2960 y un segundo RTD 2965. A diferencia de a primera caraderizadón, una copa de aislamiento térmico 2920 y un espacio de aire 2925 separa el carrete y la placa base. Las columnas 2970 se envuelven alrededor del carrete 2910. Se adjunta un distribuidor ULTEM 2990. También se muestran solenoides 2980 conedaos al distribuidor 2990 en su extremo inferior. En relación con la Figura 17, un orifido u área abierta 1705 está presente en medio del bloque multi-válvula. Esta área abierta acomoda al carrete 2910. La copa de aislamiento 2920 y el espado de aire 2925 aislan al carrete de la placa base. La copa de aislamiento térmico 2920 está de preferenda hecha de nylon. La copa de aislamiento térmico y el espacio de aire son caraderísticas importantes de la segunda caraderización porque, como se explicó, el ensamble multi-válvula define dos zonas de calentamiento, cada una de las cuales se debe monitorear y dar mantenimiento con cuidado. El diseño de la segunda caraderizadón separa estas dos zonas de calentamiento por medio de la copa de aislamiento térmico y el espacio de aire y por lo tanto ayuda a lograr estabilidad de temperatura en cada una. El entubado de pre-calentamiento de gas de transportación 2950 es enrollado en los orifidos formados en el cuerpo del bloque multi-válvula 2900, y el gas de transportación es entonces calentado por el calor en el bloque multi-válvula. El calentador de banda 2940 es un calentador de banda DC de aproximadamente 30 Watts de poder. La sustitución de este calentador de banda DC en lugar del calentador de banda AC de la primera caraderizadón mejora ei desempeño del ensamble multi-válvula al pulir las fluduaciones de temperatura y eliminar el ruido elédrico, y es otra mejora sobre la primera caraderizadón. La Figura 30 ilustra un ensamble multi-válvula induyendo aislamiento de homo. El ensamble multi-válvula induye un bloque multi-válvula 3000 incluyendo una placa base 3010 y distribuidor 3040. También se muestran tornillos de torsión 3020 con enchufes de aislamiento asodados 1704, "standoffs" (pulso) 3060, aislamiento de homo 3050 y soienoide 3080. Como se puede observar, el solenoide 3080 es inmediatamente adyacente al distribuidor 3040. El gas de aduador 3030 fluye a través del distribuidor hacia el solenoide y después fluye de regreso a través del distribuidor para aduar (impulsar) los pistones adecuados. El aislamiento del horno 3050 de la segunda d caracterización es por lo general del mismo material que el de la primera caraderización, pero está cubierto con acero inoxidable alrededor de su exterior 3055 para propor onar un refuerzo. Además la eliminación de la necesidad de entubar a partir de ios solenoides hacia el ensamble multi-válvula, el distribuidor 3040 ofrece un número de ventajas sobre 0 una pieza inferior del aislamiento. El distribuidor tiene buenas propiedades de asilamiento. Se ha descubierto que ULTEM tiene las caraderísticas de fuerza y aislamiento mecánicas que se requieren y trabaja muy bien para dicha aplicación, pese a que no es prindpalmente el único material adecuado. El ULTEM™ está hecho por Commerdal Plastics, Inc. Como una caraderística adidonal, en lugar de retirarse del 5 bloque multi-válvula, el diseño de distribuidor permite la colocación de los solenoides de manera adyacente al distribuidor y entonces se aproxima a la placa base. Esto hace a todo el ensamble más compado y también aumenta el tiempo de respuesta. El material de aislamiento también se ha modificado al colocar acero alrededor de su exterior. Esto da como resultado un aumento en resistencia para envolver al igual 0 que un aumento en fa durabilidad y resistencia. Las enseñanzas de este documento se pueden adaptar a una variedad de ambientes. La Figura 31 muestra un ensamble multi-válvula 3100 adecuado para utilizarse en un ambiente de refinerías. Un bloque multi-válvula 3110 incluyendo un área de columna 3115, un TCD 3120, un horno de columna auxiliar 3130 y un ambiente que 5 lo rodea, por lo general en 3140. Con este arreglo, el bloque multi-válvula 3110 tiene espado para un mayor número de válvulas porque el TCD 3120 se localiza afuera del bloque multi-válvula. Esto es una caraderística deseable cuando se analizan muestras de refinería complejas. También se muestra un horno auxiliar que puede estar ya sea más caliente o frío que el bloque multi-válvula. Este horno auxiliar proporciona para un número mayor de zonas de calentamiento para columnas de cromatografía un aumento ™5 correspondiente en la flexibilidad de análisis. Además, debido a que el ambiente de refinería en el que este arreglo se puede utilizar, al mover el analizador de muestras de gas (en este caso un TCD afuera del bloque multi-válvula), se logra una temperatura más estable alrededor del TCD 3120. El calentador en esta caraderización puede ser de preferencia un horno de baño de aire. Esto además aumenta la exactitud del sistema. Por lo tanto, mientras que las caraderiza ones preferendales de esta invención se han mostrado y descrito, los expertos en el arte pueden hacer modrficadones en éstas sin apartarse dei espíritu o de la enseñanza de esta invendón. Las caraderizaciones descritas en este documento son sólo ejemplos y no son limitantes.

Son posibles muchas variaciones y modificadones del sistema y aparato y están dentro de la visión de la invendón. Por consiguiente, la visión de protección no se limita a las caraderizaciones descritas en este documento, sino que sólo se limitan por las reivindicaciones que siguen, la visión de éstas incluirán todos los equivalentes del i presente asunto de las reivindicaa'ones.

Claims (20)

1. CAPITULO REIVINDICATORÍO Habiendo descrito la invendón, se considera como una novedad y, por lo tanto, se redama lo contenido en las siguientes:
2. REIVINDICACIONES 1. Un ensamble multi-válvula que comprende: una pluralidad de placas y diafragmas adjuntos para formar una pluralidad de válvulas, cada válvula es capaz de adivarse de manera individual mediante la presión de aduadón (impulso), en donde una de las mencionadas pluralidad de placas es un distribuidor, y dicho distribuidor incluye un primer pasaje de línea común para llevar un fluido de aduación que aplica dicha presión de aduadón; una pluralidad de pasajes de aduación, donde existen tantos dichos pasajes de aduación como número de dichas válvulas; dicha primera línea común que coneda al menos uno de la pluralidad de los men onados pasajes de aduadón. 2. El ensamble de multi-válvula de la reivindicadón 1 , además comprende: una pluralidad de solenoides adjuntos a dicho distribuidor.
3. 3. El ensamble de multi-válvula de la reivindicación 2, en donde dicha pluralidad de solenoides están adjuntos diredamente a un fondo de dicho distribuidor, dicho fondo se define con respedo al remanente de las mencionadas pluralidad de placas.
4. 4. El ensamble de multi-válvula de la reivindicadón 1, en donde dicho pasaje de línea común se coneda a cada uno de dicha pluralidad de los pasajes de aduadón mediante una ranura en el mendonado distribuidor.
5. 5. El ensamble de multi-válvula de la reivindicación 1 , en donde dicho distribuidor está hecho de un material aislante.
6. 6. El ensamble de multi-válvula de la reivindicadón 5, en donde dicho distribuidor forma una por ón de un horno de aislamiento que encapsula el remanente de las placas mendonadas.
7. 7. El ensamble de multi-válvula de la reivindicadón 5, que además comprende al menos una de dichas válvulas adjuntas a una longitud del entubado que mantiene un fluido. dicho entubado se inserta en los orificios de inserdón en al menos una de dichas placas, lo que resulta en una transferencia de calor eficiente entre dicha placa y dicho entubado.
8. 8. El ensamble de multi-válvula de la reivindicación 5, que además comprende: un set de tomillos de fijadón en donde cada una de dichas válvulas define una región de válvula y ai menos uno de dichos sets de tornillos de fijación se inserta a través de cada una de dichas regiones de válvulas.
9. 9. Un dispositivo multi-válvula, que comprende: al menos dos válvulas integradas en una primera región, dicha primera región también induye un primer calentador, un detedor de propiedad de corriente de gas y un primer sensor de calor; un segundo calentador y un segundo sensor de temperatura integrados en una segunda región; dicho primer sensor de temperatura y dicho detedor de propiedad de comente de gas que yace en la misma curva de radian con respedo al punto que se sitúa en dicha segunda región.
10. 10. El dispositivo multi-válvula de la reivindicación 9, que además comprende: un aislamiento térmico; dicha primera región y dicha segunda región que son separadas por dicho aislamiento térmico.
11. 11. El dispositivo multi-válvula de la reivindicadón 10, que además comprende: un espacio de aire, dicho espacio de aire también separa la mencionada primera región y la mencionada segunda región.
12. 12. El dispositivo multi-válvula de la reivindicación 9, en donde dicho primer calentador yace a lo largo de la periferia exterior de la dicha primera región y dicha segunda región se sitúa dentro de dicha primera región.
13. 13. El dispositivo multi-válvula de la reivindicación 12, en donde dicho calentador es un calentador de banda DC.
14. 14. El dispositivo multi-válvula de la reivindicadón 9, que además comprende: un set de tornillos, en donde uno de dicho set de tornillos se localiza a través del centro de cada una de las mendonadas válvulas.
15. 15. El dispositivo multi-válvula de la reivindicadón 9, que además comprende: un distribuidor con solenoides adjuntos diredamente, dicho distribuidor proporciona un pasaje para el fluido de aduación utilizado por dichos solenoides, mediante el cuai dicho fluido de aduación pasa del mena'onad o distribuidor a dicho solenoide y después a través del mencionado distribuidor.
16. 16. El dispositivo multi-válvula de la reivindicación 9, que además comprende: áreas de inserción en dicho dispositivo multi-válvula, dichas áreas de inserción son adecuadas para asir el entubado enrollado.
17. 17. El dispositivo multi-válvula de la reivindicación 9, incluyendo al menos cinco válvulas.
18. 18. Un bloque multi-válvula, que comprende: medios para detedar un flujo de gas entre una pluralidad de pasajes; medios para detedar propiedades para dicho flujo de gas.
19. 19. El bloque multi-válvula de la reivindicación 18, que además comprende: medios para calentar al menos una por ón de dicho bloque multi-válvula para una temperatura predeterminada; medios para detedar una temperatura próxima a dichos medios para calentamiento.
20. 20. El bloque multi-válvula de la reivindicadón 18, que además comprende: medios para asegurar que dichos pasajes están libres de fugas, dichos medios para asegurar también son medios para desensamblar parcialmente dicho bloque multi-váivula.