KR980011573A - Method of manufacturing a bulb having a panel manufactured by a dry electrophotographic method for manufacturing a cathode ray tube and a photovoltaic film solution - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 판넬의 베이킹공정없이 판넬과 펀넬의 봉착공정에서 전도막, 광전도막과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분을 양호하게 제거할 수 있는 음극선관의 건식 전자사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌브의 제조방법 및 그 스크린 제조용 광전도막용액을 제공한다. 그 광전도막 용액은, 자외선에 반응하는 물질로는 비스 디메틸 페닐 디페닐부타트리엔(bis dimethyl phenyl diphenyl buratriene)과, 트리니트 로플루오리논(trinitro-fluorenone: TNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone: EAQ)중 적어도 한가지이상을 각각 0.01 내지 10중량%과, 고분자바이더(binder)로서 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코폴리머(styrene methyle methacrylate copolymer)의 1 내지 30 중량%을 잔량인 톨루엔(tolyene)이나 크실렌(xylene)에 용해시킨 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 건식전자사진식 스크린 제조방법으로 제조된 판넬의 베이킹공정 없이 판넬과 펀넬의 봉착공정에서 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분을 양호하게 제거할 수 있어 벌브제조에 있어 베이킹공정을 생량할 수 있는 등의 효과가 있다.The present invention relates to a dry electrophotographic manufacturing method of a cathode ray tube capable of satisfactorily removing volatile components such as a conductive film, a photoconductive film and a solvent existing in each phosphor and a lacquer in a process of sealing a panel and a funnel without a baking process of the panel A method for manufacturing a bulb having a panel made of the same, and a photoelectric film solution for the screen production. The photopolymer coating solution may contain bis dimethyl phenyl diphenyl buratriene, trinitro-fluorenone (TNF), ethyl anthraquinone (ethyl anthraquinone) : EAQ) in an amount of 0.01 to 10% by weight each, and 1 to 30% by weight of a styrene methyle methacrylate copolymer as a polymer binder in a residual amount of tolyene or xylene (xylene). Accordingly, in the process of sealing the panel and the funnel without the baking process of the panel manufactured by the dry electrophotographic screen manufacturing method, the volatile components such as the conductive film 32, the photoconductive film 34 and the solvent existing in each phosphor, It is possible to satisfactorily remove the baking process, and the baking process can be produced in the production of the bulb.

Description

음극선관의 건식 전자사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌브의 제조방법 및 그 스크린 제조용 광전도막용액Method of manufacturing a bulb having a panel manufactured by a dry electrophotographic method for manufacturing a cathode ray tube and a photovoltaic film solution

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is a trivial issue, I did not include the contents of the text.

본 발명은 음극선관의 건식 전자사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌브의 제조방법 및 그 스크린 제조용 광전도막용액에 관한 것으로, 특히 판넬의 스크린의 베이킹공정없이 판넬과 펀넬의 봉착공정에서 베이킹을 할 수 있는 음극선관의 건식 전자사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌브의 제조방법 및 그 스크린 제조용 광전도막용액에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a bulb having a panel manufactured by a dry electrophotographic method for manufacturing a cathode ray tube and a photovoltaic coating solution for screen manufacturing thereof, and more particularly, to a method of baking a panel and a funnel in a process of sealing a panel and a funnel, The present invention relates to a method of manufacturing a bulb having a panel manufactured by a dry electrophotographic method for manufacturing a cathode ray tube and a photoelectric film solution for screen manufacture.

일반적으로 음극선관은, 도1에 도시된 바와 같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13) 및 네크(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14)내부에 장착되는 전자총(11)과, 판넬(12)의 측벽에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.In general, the cathode ray tube comprises a vacuum bulb divided into a panel 12, a funnel 13 and a neck 14 as shown in Fig. 1, And a shadow mask 16 mounted on a side wall of the panel 12. The shadow mask 16 is provided on the side wall of the panel 12,

그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속 되고 가속되며, 양극 보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬로트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.A fluorescent screen 20 is formed on the inner surface of the face plate 18 of the panel 12 so that the electron beams 19a and 19b emitted from the electron gun 11 are focused and accelerated by various lens systems, And deflected by the deflection yoke 17 and passed through the aperture or slot 16a of the shadow mask 16 and scanned onto the fluorescent screen 20. [

형광면(20)은 면판(18)의 배면에 형성되는데, 칼라의 경우 도 2에 도시된 바와 같이 일정한 배열구조의 다수의 스트라이프(stripe) 도는 도트(dot)형상의 형광체(R,G,B)와 그 형광체들 사이의 블랙코팅과 같은 빛흡수물질(21)로 형성된다. 또, 그 배면은 전도막층으로서 알루미늄박막층(22)이 형성되어 형광면의 휘도 증대, 형광면이 이온손상방지, 형광면의 전위강하방지 등의 역할을 하게 된다. 또한, 도시되지는 않지만, 그 알루미늄박막층(22)의 평면도 및 반사율을 높이기 위해서 형광면(20)과 광전도막층(34)사이에 라커(lacquer)와 같은 수지가 도포된다.As shown in FIG. 2, a plurality of stripes or dot-shaped phosphors (R, G, B) having a constant arrangement structure may be formed on the rear surface of the face plate 18, And a light absorbing material 21 such as a black coating between the phosphors. In addition, an aluminum thin film layer 22 is formed as a conductive film layer on its back surface to increase the brightness of the fluorescent surface, to prevent ion damage on the fluorescent surface, and to prevent the potential drop of the fluorescent surface. Although not shown, a resin such as a lacquer is applied between the fluorescent screen 20 and the photoconductive film layer 34 in order to increase the flatness and reflectance of the aluminum thin film layer 22.

이러한 형광면(20)이 발색광 인성분과 같은 형광입자들을 포함하는 현택액(slurry) 또는 빛흡수물질을 포함하는 현탄액을 도포하고 건조시켜 형성되는 종래의 습식 사진석판술(photolithographic wet process)은 고화질의 요구를 충족시키지 못할 뿐만 아니라 제조공정 및 제조설비가 복잡하여 제조비용이 크게 소요되며, 또한 대량의 청정수 소모와 폐수발생, 인배출물, 6가 크롬감광체 배출 등 여러가지 문제점들을 안고 있다. 최근에 이러한 습식사진석판술을 개량한 전자사진식(electrophotographicla) 스크린제조방법이 개발되어있는데, 이 전자사진식 제조방법도 습식은 여전히 상술한 문제점들을 안고 있으며, 건식제조방법에 의해서는 상술한 문제점들이 상당히 해소되었다.A conventional photolithographic wet process, in which such a fluorescent screen 20 is formed by applying and drying a slurry containing a fluorescent particle such as a coloring light toughening substance or a current liquid containing a light absorbing material, The manufacturing process and manufacturing facilities are complicated and the manufacturing cost is high. In addition, there are various problems such as consumption of a large amount of clean water, generation of waste water, emission of phosphorus, and discharge of hexavalent chromium photoconductor. Recently, there has been developed an electrophotographic screen manufacturing method of improving such a wet photolithography process. In this electrophotographic manufacturing process, the wet process still has the above-mentioned problems. According to the dry process, Were greatly resolved.

그 일예로, 본출원인이 출원한 음극선관의 스크린 제조방법에 관하여 설명하면 다음과 같다.For example, a screen manufacturing method of a cathode-ray tube applied by the present applicant will be described as follows.

도3(a) 내지 (e)는 상기 제조방법에 따른 각 공정을 개략적으로 도시한다. 도 3a는 면판(18)의 내면에 전도막(132)과 그 위에 광전도막(134)이 형성되는 코팅공정이다. 전도막(132)은 예를 들면, 폴리일렉트로라이트(polyelectrolyte)로서 Calgon사제품인 상품명 Catfloc-c 1-50 중량%와 1-50 중량%의 10% PVA용액의 수용액(나머지는 물)을 종래의 방법으로 도포하여 건조시키므로써 형성된다. 그 위에 자외선에 반응하여 물질을 포함하는 신규한 광전도막도포용액을 도포하여 건소시킨다. 자위선에 반응하는 물질로는 비스 디메틸 페닐 디페닐부타트리엔(bisdimethyl phenyl diphenyl butatriene), 트리니트로플루오리논(trinitor-fluorenone; TNF) 및 에틸안트라퀴논(ethyl anthraquinone : EAQ)중 적어도 한가지이상을 사용하였으며, 그 광전도막도포용액으로는 0.01 내지 10중량%의 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔과 고분자바인더(binder)로서 1내지 30중량%의 폴리스티렌(polystyrene)을 잔량인 톨루엔(tolune)이나 크실렌(xylene)에 용해시켜 사용하였다.Figs. 3 (a) to 3 (e) schematically show each process according to the above-described production method. 3A is a coating process in which a conductive film 132 and a photoconductive film 134 are formed on the inner surface of the face plate 18. The conductive film 132 may be formed of, for example, an aqueous solution of 1-50% by weight of Catfloc-c (trade name, product of Calgon) as a polyelectrolyte and 1-50% by weight of a 10% And then drying it. And a new photopolymer coating solution containing a substance is applied on the substrate in response to ultraviolet rays to be dried. At least one of bisdimethyl phenyl diphenyl butatriene, trinitor-fluorenone (TNF), and ethyl anthraquinone (EAQ) is used as a substance that reacts with the hypothalamus. The photoconductive film coating solution was prepared by adding 0.01 to 10% by weight of bisdimethylphenyldiphenylbutytriene and 1 to 30% by weight of polystyrene as a polymer binder to toluene or xylene xylene).

도 3b는 대전공정을 개략적으로 도시한 것이다. +1K볼트 이하, 바람직하게는 +700볼트이상의 직류전압을 인가하여 코로나방전장치로 대전시켰다. 광전도막(134)이 적어도 파장 450nm 이항의 자외선에 반응하기 때문에 암실작업이 불필요하다.FIG. 3B schematically shows a charging step. A DC voltage of + 1K volts or less, preferably +700 volts or more was applied to the corona discharge device. Since the photoelectric conversion film 134 responds to ultraviolet rays of at least 450 nm in wavelength, dark room operation is unnecessary.

도 3c는 노광공정을 개략적으로 도시한 것으로서, 자위선광원(138)으로부터 파장이 짧고 직진성을 가진 자외선이, 자외선투과렌즈(140)를 통과하여 소망의 입사각으로 새도우마스크(16)에 입사하여, 소망의 배열을 가진 새도우마스크(16)의 애퍼처(aperture) 또는 슬리트(16a)홀을 통과하여 광전도막(134)을 소망의 배열로 노광시킨다. 이때 전도막(132)이 어스되어 있어 그 노광부분의 전하는 그 전도막(132)을 통과하여 방출된다. 그리고, 비노광부분의 전하는 그대로 광전도막(134)에 잔존하게 된다. 이 노광공정도 자외선광원(138)을 사용하기 때문에 암실에서 작업할 필요가 없다.3C schematically shows the exposure process. Ultraviolet rays having a short wavelength and a directivity from the self-luminous source 138 pass through the ultraviolet transmission lens 140 and enter the shadow mask 16 at a desired incident angle, The photoconductive film 134 is exposed in a desired arrangement through an aperture or slit 16a of the shadow mask 16 having the desired arrangement. At this time, the conductive film 132 is grounded, and the electric charges of the exposed portion are discharged through the conductive film 132. Then, the electric charge in the non-exposed portion remains in the photoconductive film 134 as it is. Since this exposure process uses the ultraviolet light source 138, it is not necessary to work in the dark room.

도 3d는 현상공정을 개략적으로 도시한다. 종래에는 이 현상공정에서 캐리어 비드와 형광체 입자 또는 빛흡수물질입자들을 혼합하여 마찰에 의한 정전기를 대전시켰으나, 본 출원인의 발명에 의하면, 형광체 분말 또는 빛흡수물질의 분말과 같은 미세분말을 공기압에 의해 호퍼(148)로부터 벤츄리관(146)을 통해 코로나방전장치와 같은 방전전극(144a)과 노즐(144b)을 통과시켜 분사시키므로써 그 미세 분말을 대전시키고 광전도막(134)의 노광부분과 비노광부분의 어느 하나에 부착시킨다. 방전전극(144a)에 의해 미세분말에 대전되는 정전기의 극성은 상기 노광공정에서의 노광부분과 비노광부분중 어느 부분에 그 미세분말을 부착시킬 것인가에 따라 결정된다. 즉 +전하를 띤 비조광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 -전하로 대전되고, 전하가 방출된 노광부분에 부착 시킬 경우에는 미세분말이 +전하로 대전된다. 현상용기(142)로 분사된, 대전된 미세분말은 전기적 인력과 반발력의 작용에 의하여 소망의 배열로 광전도막(134)의 표면에 강하게 부착된다.FIG. 3D schematically shows the developing process. Conventionally, in this developing process, the carrier beads and the phosphor particles or the light absorbing material particles are mixed to charge the static electricity caused by the friction. However, according to the invention of the present applicant, the fine powder such as the powder of the phosphor or the light- The fine powder is charged by passing the discharge electrode 144a and the nozzle 144b such as a corona discharge device through the venturi pipe 146 from the hopper 148 and discharging the exposed portion of the photoconductive film 134 and the non- Or < / RTI > The polarity of the static electricity charged to the fine powder by the discharge electrode 144a is determined according to which portion of the exposed portion and the non-exposed portion in the above-described exposure process the fine powder is to be attached. In other words, when the fine powder is adhered to the non-opaque portion with a positive charge, the fine powder is charged with the negative charge. When the fine powder is adhered to the exposed portion where the charge is discharged, the fine powder is charged with positive charge. The charged fine powder injected into the developing container 142 is strongly adhered to the surface of the photoconductive film 134 in a desired arrangement by the action of an electric attraction and a repulsive force.

도 3e는 베이퍼 스웰링(vapour swelling)법을 이용한 본 출원인의 발명에 따른 고착(fixing)공정을 개략적으로 도시한다. 이 공정에서는 , 상기 현상공정에서 소망의 미세분말(들)이 소망의 배열로 부착된 광전도막(134)의 표면에 아세톤, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 솔벤트증기를 접속시키므로써, 적어도 광전도막(134)에 포함된 폴리머를 용해시키고, 이 용해된 폴리머의 접착력에 의해 전기력작용에 부착된 미세분말(들)을 고착시킨다.3E schematically shows a fixing process according to the applicant's invention using a vapor swelling method. In this step, solvent vapor such as acetone or methyl isobutyl ketone is connected to the surface of the photoconductive film 134 to which the desired fine powder (s) are adhered in a desired arrangement in the above-described developing process, so that at least the photoconductive film 134 ), And the fine powder (s) attached to the electric force action is fixed by the adhesive force of the dissolved polymer.

도4는 상술한 기본공정들이 칼라음극선관의 R,G,B 형광체 스크린제조에 적용되는 예를 공정도로 도시한 것이다. 여기에 투입되는 판넬(12)은 그 면판(18)의 내면에 종래의 습식 스크린제조방법이나 건식 스크린제조방법 또는 상술한 본 발명의 스크린 제조방법에 의해 소망의 배열로 빛흡수물질(21)이 고착된 것이다. 그러나, 빛흡수물질(21)이 먼저 형성될 필요는 없고 미국 특허 제 5, 240, 798호에서와 같이, 이후 설명하는 형광체들을 고착시킨 후, 빛흡수물질(21)을 소망의 배열로 본 발명으 제조방법을 이용하여 부착 및 고착시킬 수도 있다.FIG. 4 is a process diagram showing an example in which the above-described basic processes are applied to the R, G, and B phosphor screens of a color cathode ray tube. The panel 12 to be introduced therein may be formed with a light absorbing material 21 in a desired arrangement by a conventional wet screen manufacturing method, a dry screen manufacturing method, or a screen manufacturing method of the present invention described above on the inner surface of the face plate 18 It is fixed. However, it is not necessary that the light absorbing material 21 be formed first, and after fixing the phosphors described below, as in U.S. Patent No. 5, 240, 798, the light absorbing material 21 may be arranged in a desired arrangement And may be adhered and fixed by using a manufacturing method.

먼저, 단계 S101은 1차 코팅단계이고, 단계 S102는 2차 코팅단계로서, 도 3a와 관련하여 상술한 바와 같이 전도막(132)위에 자외선에 감응하는 물질을 포함하는 광전도막(134)이 이와같이 코팅된 다음, 제1 형광체를 부착시키기 위하여, 단계 S103에서 광전도막(134)이 코팅된다. 도 5b에서와 같이 대전된다. 그 뒤 단계 S104는 도 3c의 노광공정에 의해 소망의 제1형광체 배열구조가 노광되는 1차 노광단계이며, 이와같이 1차 노광된 광전도막(134)은 단계 S105에서 도 3d의 현상공정에 의해 제1형광체배열을 위한 노광부분만이 현상된다. 이 1차 현상단계인 단계 S105에서 제1형광체가 소망의 배열로 부착되면, 그 부착된 1차 형광체를 고착시킬 필요없이 제2형광체를 위하여 단계 S106인 2차 대전단게에서 제1형광체가 부착된 광전도막(134)을 재대전, 즉 2차 대전시킨다. 그뒤, 제2 형광체를 위한 단계 S107(2차 노광)과 단계 S108(2차현상)을 실시하며, 마찬가지로 제2 형광체를 고착시킬 필요없이 단계 S109에서 3차 대전이 실시된다. 이와같이 3차 대전이 실시된 후, 제3 형광체를 부착시키기 위해 단계 S110(3차노광)와 단계 S111(3차현상)이 실시되며, 그 뒤 단계 112에서 제1 내지 제3형광체들이 제3도(마)의 고착공정에 의해서 광전도막(134)위에 고착된다. 그 뒤, 단계 S113에서 라커수지가 도포되고, 단계 S114에서 알루미늄 필름이 형성된다. 이와같이 알루마이징공정(S114)을 거친, 알루미늄박막이 형성될 판넬(12)을 단계 S115의 베이킹공정에서 대기중에서 약 30분 동안 425℃에서 가열, 건조하므로써 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분이 제거되고 형광체들이 고정되어 원하는 스크린(20)이 얻어진다. 판넬(12)은 그 뒤 새도우마스크-프레임 조립체 및 인너실드가 조립되고 전자총이 조립되고 안더다그가 도포된 판넬(13)과 봉착공정에서 프리트글라스를 개재하여 봉착됨으로써 음극선관의 벌브로 완성된다.First, step S101 is a primary coating step, and step S102 is a secondary coating step, in which a photoconductive film 134 including a substance sensitive to ultraviolet rays is formed on the conductive film 132 as described above with reference to FIG. 3A, Then, in order to attach the first phosphor, the photoconductive film 134 is coated in step S103. And is charged as shown in FIG. 5B. The subsequent step S104 is a primary exposure step in which the desired first phosphor arrangement is exposed by the exposure process of FIG. 3C, and the primary exposed photoconductive film 134 is formed by the developing process of FIG. Lt; RTI ID = 0.0 > 1 < / RTI > phosphor arrangement. If the first phosphor is adhered in a desired arrangement in step S105 as the primary development step, it is not necessary to adhere the attached primary phosphor and the first phosphor is attached in the secondary charging step of step S106 for the second phosphor The photoconductive film 134 is recharged, that is, secondary charged. Thereafter, step S107 (secondary exposure) and step S108 (secondary development) are performed for the second phosphor, and the secondary charging is performed in step S109 without having to fix the second phosphor in the same manner. After the third charging is performed, step S110 (third exposure) and step S111 (third development) are performed in order to attach the third phosphor, and then, in step 112, the first, second, Is fixed on the photo conductive film 134 by a fixing process of (e). Thereafter, a lacquer resin is applied in step S113, and an aluminum film is formed in step S114. The conductive film 32, the photoconductive film 34, and the conductive film 34 are formed by heating and drying the panel 12 on which the aluminum thin film is to be formed through the aluminizing step S114 in the baking step of step S115 at 425 DEG C for about 30 minutes in the atmosphere, And volatile components such as solvents existing in the respective phosphors and lacquers are removed and the phosphors are fixed to obtain the desired screen 20. [ The panel 12 is then sealed with a frit glass in a panel 13, in which a shadow mask-frame assembly and an inner shield are assembled, an electron gun is assembled and an undergarment is applied, and the tube is sealed with a bulb of a cathode ray tube.

이상에서 본 출원인이 출원한 음극선관의 스크린 제조방법이 설명되었는데, 그 공정 중 상술한 단계 S115의 베이킹공정을 생략하고 판넬(12)과 펀넬(13)의 봉착공정에서 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분을 제거하는 데에는 여러가지 문제가 있다. 특히, 상술한 알루미늄박막이 부풀어 오르거나 상술한 광전도막(134)에 포함된 폴리스티렌이 휘발되지 아니하는 등의 문제점이 있었다.In the above, the screen manufacturing method of the cathode ray tube applied by the present applicant has been described. In the process of omitting the baking step of the step S115 described above and the sealing process of the panel 12 and the funnel 13, the conductive film 32, There are various problems in removing the volatile components such as the solvent existing in the coating film 34 and each phosphor and the lacquer. Particularly, there is a problem that the above-mentioned aluminum thin film is swollen or the polystyrene contained in the above-mentioned photo conductive film 134 is not volatilized.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 건식전자사진식 스크린 제조방법으로 제조된 판넬의 베이킹공정없이 판넬과 펀넬의 봉착공정에서 전도막, 광전도막과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분을 양호하게 제거할 수 있는 음극선관의 건식 전가사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌프의 제조방법 및 그 스크린 제조용 광전도막용액을 제공하는 데에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a dry electrophotographic screen, in which a panel and a funnel are sealed, The present invention provides a method for manufacturing a bulb having a panel manufactured by a dry transfer photographic process of a cathode ray tube and a photovoltaic film solution for screen manufacture.

제1도는 칼라음극선관의 부분단면한 개략평면도,1 is a schematic plan view of a part of a color cathode ray tube,

제2도는 도1의 음극선관의 스크린 구성을 나타낸 부분 확대단면도,FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing a screen configuration of the cathode ray tube of FIG. 1,

제3도는 건식전자사진식 스크린 제조방법을 설명하기 위한 개략도,FIG. 3 is a schematic view for explaining a method of manufacturing a dry electrophotographic screen,

제4도는 건식 전자사진식 스크린 제조방법에 의해 칼람음극선관을 제조하는 공정도,FIG. 4 is a process for manufacturing a cathode ray tube using a dry electrophotographic screen manufacturing method,

제5도는 베이킹공정과 봉착공정에서의 시간-온도 곡선그라프.FIG. 5 is a time-temperature curve graph in the baking process and the sealing process.

* 도면에 주요부분에 대한 부호의 설명Description of the Related Art

10 : 음극선관(CRT) 11 : 전자총10: cathode ray tube (CRT) 11: electron gun

12 : 판넬(Panel) 13 : 펀넬(funnel)12: Panel 13: Funnel

14 : 네크(neck) 15 : 양극 보턴14: neck 15: anode button

16 : 새도우마스크 17 : 편향요크16: shadow mask 17: deflection yoke

18 : 판넬면판 19,19a,19b : 전자빔18: panel face plates 19, 19a, 19b: electron beam

20 : 형광면(스크린) 21 : 빛흡수물질20: fluorescent screen (screen) 21: light absorbing material

22 : 라커막 23 : 알루미늄박막층22: Racker film 23: Aluminum thin film layer

36 : 코로나방전장치 132 : 전도막36: corona discharge device 132: conductive film

134 : 광전도막 138 : 광원134: photoelectric conversion film 138: light source

140 : 렌즈 142 : 현상용기140: Lens 142: Developing container

144a : 방전전극 144b : 노즐144a: discharge electrode 144b: nozzle

본 발명은 상기의 목적을 달성하기 위하여, 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 광원으로 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 방전전극에 의해 대전된 제1형광체를 부착, 현상시키며, 제2 및 제3 형광체에 대해서도 각각 소망의 배열로 상기 대전단계, 노광단계 및 현상단계를 반복하고 나서 그 형광체들을 고착시킨 후, 라커수지막과 알루미늄박막이 형성된 판넬에 새도우마스크-프레임 조립체 및 인너실드가 조립된 판넬조립체와,전자총이 조립되고 안너다그가 도포된 펀넬조립체사이에 프리트글라스를 개재하여 봉착로를 통과시킴으로서 봉착되어 완성되는 벌브에 제조방법에 있어서, 상기 판넬이 봉착로를 통과할 때 베이킹되도록 상기 광전도막이 고분자바인더(binder)로서 스티렌 메틸 레타크릴레이트 코폴리머(styrene methyle methacrylate copolymer)의 1 내지 30 중량%을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a method for forming a volatile electroconductive film on a volatile conductive film coated on the inner surface of a panel, charging the electroconductive film with uniform static electricity, And the first phosphor charged by the discharge electrode is adhered to and developed on the exposed portion of the first phosphor, and the charging step, the exposure step, and the developing step are performed in the desired arrangement on the second and third phosphors, respectively After the phosphor is repeatedly fixed, a panel assembly in which a shadow mask-frame assembly and an inner shield are assembled to a panel in which a locker resin film and an aluminum thin film are formed, and a frit glass assembly between an electron gun assembly and an inner dagger- And passing through the sealing furnace through the sealing furnace, wherein the panel is sealed by passing through the sealing furnace, And the photoconductive layer comprises 1 to 30% by weight of a styrene methyle methacrylate copolymer as a polymer binder.

또한, 본 발명은, 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 광원으로 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 방전전극에 의해 대전된 제1 형광체를 부착, 현상시키며, 제2 및 제3 형광체에 대해서도 각각 소망의 배열로 상기 대전단계, 노광단계 및 현상단계를 반복하고 나서 그 형광체들을 고착시킨 후, 라커수지막과 알루미늄막이 형성된 판넬에 새도우마스크-프레임 조립체 및 인너실드가 조립된 판넬조립체와, 전자총이 조립되고 안너다그가 도포된 펀넬조립체사이에 프리트글라스를 개재하여 봉착로를 통과시킴으로써 봉착되어 완성되는 벌브의 판넬 스크린의 건식 전자사진식 제조용 광전도막 용액에 있어서, 자외선에 반응하는 물질로는 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔(bis dimethyl phenyl diphenyl butatriene)과 트리니트로플루오리논(trinitro-fluouenone:TNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone: EAQ)중 적어도 한가지이상을 각각 0.01 내지 10중량%과, 고분자바인더(binder)로서 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코폴리머 (styrene methyle methacrylate copolymer)의 1 내지 30% 중량%을 잔량인 톨루엔(toluene)이나 크실렌(xylene)에 용해시킨 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막용액을 제공한다.The present invention also provides a method for forming a volatile electroconductive film on an inner surface of a panel by forming a volatile electroconductive film on the inner surface of the panel, charging the electroconductive film with uniform static electricity, passing the electroconductive film through a shadow mask as a light source, The charging step, the exposing step and the developing step are repeated in the desired arrangement for the second and third phosphors, respectively. After the charging step, the exposing step and the developing step are repeated in the desired arrangement, A panel assembly in which a shadow mask-frame assembly and an inner shield are assembled to a panel in which a locker resin film and an aluminum film are formed, and a frit glass interposed between the panel assembly and the funnel assembly, In a photovoltaic coating solution for dry electrophotographic production of a panel screen of bulb which is sealed and completed by passing, As the material, at least one of bis dimethyl phenyl diphenyl butatriene, trinitro-fluouenone (TNF) and ethyl anthraquinone (EAQ) is added in an amount of 0.01 to 10 wt. And 1 to 30% by weight of a styrene methyle methacrylate copolymer as a polymer binder is dissolved in a residual amount of toluene or xylene. The present invention provides a photovoltaic coating solution for the production of a dry electrophotographic screen.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명에 의하면, 판넬 내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 휘발성 광전도막을 형성시키며, 그 광전도막에 코로나 방전장치 등에 의해 균일한 정전하를 대전시킨 후, 광원에 의해 선택적으로 상기 광전도막의 정전하를 방출시켜서 정전하로 대전된 형광체 분말입자를 부착시키는 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막 도포용액은, 자외선에 반응하는 물질로는 비스 디에틸 페닐 디페닐 부타트리엔(bis dimethyl phenyl diphenyl butatriene)과, 트리니트로플루오리논(trinitrofluouenone;lTNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone: EAQ)중 적어도 한가지이상을 각각 0.01 내지 10중량%와, 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코폴리머(styrene methyle methacrylate copolymer)의 1 내지 30 중량%을 잔량인 톨루엔이나 크실렌에 용해시켜 구성된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. According to the present invention, a volatile conductive film is formed on the inner surface of a panel, and a volatile photoconductive film is formed thereon. A uniform static charge is charged on the photoconductive film by a corona discharge device or the like, The electrophotographic coating solution for screen production of an electrophotographic cathode ray tube in which the phosphor particles charged with electrostatically charged are discharged by discharging an organic solvent such as bis dimethyl phenyl diphenyl butatriene 0.01 to 10% by weight of at least one or more of trinitrofluorenone (TNTF) and ethyl anthraquinone (EAQ), 1 to 10% by weight of a styrene methyle methacrylate copolymer, To 30% by weight in the remaining amount of toluene or xylene.

도 5에서 종래에는 곡선 S2로 도시된 바와 같이 베이킹공정에서 약 30분 동안 425℃에서 가열, 건조되었으나, 봉착공정은, 곡선 S1으로 도시된 바와 같이 봉착로(프리트로)에서 서서히 가열되어 450℃(프리트온도)부근에서 35내지 40 분간유지시킨 후 노내에서 서냉시킴으로써 프리트글라스에 의해 판넬과 펀넬이 봉착되어 벌브가 완성되기 때문에 종래의 폴리스티렌(polystylene)을 고분자 바인더로 사용하여 그 베이킹공정없이 봉착동정에서 베이킹할 경우에는 상술한 바와 같이 알류미늄박막이 부풀어 오르거나 상술한 광전도막(134)에 포함된 폴리스티렌이 휘발되지 아니하였지만, 상술한 본 발명의 광전도막(134)은 다음과 같이 구서되는 스티렌 메틸메타크릴레이트 코폴리머는 위의 봉착공정에서 알루미늄박막이 부풀어 오르거나 그 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코포리머가 휘발되지 아니하는 문제점이 발생하지 아니하였기 때문에 벌브제조를 위한 전공정에서 볼 때 공정수가 단축된다.In FIG. 5, conventionally, the baking process was heated and dried at 425 DEG C for about 30 minutes in the baking process as shown by the curve S2, but the sealing process was gradually heated in the sealing furnace (fritted furnace) (Frit temperature) for 35 to 40 minutes, and then slowly cooled in a furnace, the panel and the funnel are sealed by the frit glass to complete the bulb. Therefore, conventional polystyrene is used as the polymer binder, The polystyrene contained in the photoconductive layer 134 is not volatilized as described above. However, the photoconductive layer 134 of the present invention described above can be formed by the following steps: The methacrylate copolymer is used in the above sealing process when the aluminum foil is swollen or the styrene methyl methacrylate The number of process steps is shortened in the whole process for manufacturing bulbs because no problem is caused that the volumetric co-polymer does not volatilize.

상기 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코폴리머는, 폴리메틸 메타크릴레이트와 폴리스티렌이 다음과 같이 공중합체를 형성한다. 즉,In the styrene methyl methacrylate copolymer, polymethyl methacrylate and polystyrene form a copolymer as follows. In other words,

폴리메틸 메타크릴레이트인Polymethyl methacrylate Wow

폴리스틸렌인이 일예로, Polystyrene For example,

와 같이 구성된다. 상기 폴리 메틸 메타크릴레이트는 언지핑(unzipping)특성 및 연소특성이 우수하기 때문에 폴리스티렌의 연소시 발생하는 상술한 문제점을 감소시켜 준다.. The polymethylmethacrylate has excellent unzipping characteristics and combustion characteristics, thereby reducing the above-mentioned problems occurring in the combustion of polystyrene.

이와 같이 구성되는 스티렌 메틸 메타클릴레이트 코폴리머을 함유한 본 발명에 따른 광전도막용액은, 도 3a에 관련하여 상술한 바와 같이 면판(18)의 내면에 도포된 전도막(132)위에 광전도막(134)을 형성하기 위해 종래의 스핀코팅과 같은 방법으로 코팅되고 도 3b에서는 그 광전도막(134)이 균일하게 코로나방전장치(36)에 의해 대전되며, 도 3c에서 소정의 배열구조로 노광되어 소정의 배열구조의 전하잠상이 얻어지고 그 전하삼장에, 형광체분말을 공기압에 의해 호퍼(148)로부터 벤츄리관(146)을 통해 코로나방전장치와 같은 방전전극(144A)과 노즐(144b)을 통과시켜 분삭시킴으로써 현상된다. 이와 같이 현상된 판넬은 도 3e에서와 같이 베이퍼 스웰링법을 이용하여 고착된 후(도 4에서는 3색의 형광체에 대해 단계 S101로부터 단계 S112), 단계 S113 및 단계 S114에 서 라커수지막과 알루미늄박막이 형성되고 단계 S115의 베이킹없이 새도우마스크(16) 등이 판넬(12)에 조립되며, 이와 같이 조립된 판넬(12)은 전자총(17) 등이 조립되고 인너다그가 도포된 펀넬(13)과 프리트글라스를 개재하여 픽스쳐에 로딩되고 봉착로를 통과하게 된다. 그 봉착로에서는 그 판넬(12)과 펀넬(13)이 도 5에서 곡선 S1로 도시된 바와 같이 서서히 가열되어 450℃(프리트 온도)부근에서 35 내지 40분간 유지시킨 후 노내에서 서냉시킴으로써 본 발명에 따라 판넬의 스크린상의 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분이 제거되고 완성된 벌브가 제조된다.The photoconductive film solution according to the present invention containing the styrene-methyl methacrylate copolymer thus constituted is formed on the electroconductive film 132 coated on the inner surface of the face plate 18 as described above with reference to FIG. 3B, the photoconductive film 134 is uniformly charged by the corona discharge device 36, and is exposed in a predetermined arrangement structure in FIG. 3C to form a predetermined And the phosphor powder is pneumatically injected from the hopper 148 through the venturi tube 146 and passed through the discharge electrode 144A and the nozzle 144b such as a corona discharge device And is developed by grinding. The thus developed panel is fixed using the Vapor Swelling method as shown in FIG. 3E (step S101 to step S112 for three-color phosphors in FIG. 4), and in steps S113 and S114, the locker resin film and the aluminum thin film And the shadow mask 16 and the like are assembled to the panel 12 without baking in step S115. The panel 12 assembled in this way is assembled with the funnel 13 in which the electron gun 17 and the like are assembled, It is loaded into the fixture through the frit glass and passes through the sealing furnace. In the sealing furnace, the panel 12 and the funnel 13 are gradually heated as shown by a curve S 1 in FIG. 5 and held at about 450 ° C. (fritting temperature) for about 35 to 40 minutes, followed by slow cooling in the furnace. The volatile components such as the conductive film 32 on the screen of the panel, the photoconductive film 34 and the solvent existing in the respective phosphors and the lockers are removed and a finished bulb is produced.

상술한 광전도막 용액에서 상기 비스 디메틸 판넬 디페닐 부타트리엔대신에 메틸 페닐 트리페닐 부타트리엔(methyl phenyl triphenyl butatrie)을 사용할 경우 더욱 상기 톨루엔이나 크실렌에 용해가 잘 되어 그 광전도막 용액을 제조하는 데에 시간이 절감되고 작업성이 향상된다.When methyl phenyl triphenyl butatriene is used in place of the bis dimethylphenyl diphenyl butatriene in the above-mentioned photo-electroconductive film solution, it is more soluble in toluene or xylene to prepare the photopolymer film solution Time is saved and workability is improved.

또한, 상기 트리니트로플루오리논(TNF)은 발암성 물질로 알려져 있기 때문에 안전성문제가 대두된다. 따라서, 그 대신에 2,5-비스(4-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥시디아졸 [2,5-bis(4-diethylaminophenyl)-1,3,4-oxadiazole]을 사용하는 것이 바람직하다.Further, since the above-mentioned trinitrofluoruron (TNF) is known as a carcinogenic substance, a safety problem arises. Thus, instead of using 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole [2,5-bis .

상술한 본 발명에 따른 음극선과의 건식 전자사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌브의 제조방법 및 이에 사용되는 광전도막도포용액의 구성과 그 작용에 의하면, 건식전자사진식 스크린 제조방법으로 제조된 판넬의 베이킹공정없이 판넬과 펀넬의 봉착공정에서 전도막, 광전도막과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분을 양호하게 제거할 수 있어 벌브제조에 있어 베이킹공정을 생략할 수 있는 등의 효과가 있다.According to the manufacturing method of the bulb having the panel manufactured by the dry electrophotographic process with the cathode according to the present invention and the structure and function of the photopolymer coating solution used therefor, Volatile components such as a conductive film, a photoconductive film, and a solvent existing in each phosphor and a lacquer can be satisfactorily removed in the process of sealing the panel and the funnel without the baking process of the panel, thereby omitting the baking process .

이상에서 본 발명의 일예를 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하고, 청구범위 기재사항으로부터 당업자라면 용이하게 여러 가지 응용과 변형이 가능할 것이다.While the present invention has been described in connection with certain exemplary embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible in light of the above teachings.

Claims (3)

판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 광원으로 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 방전전극에 의해 대전되 제 1 형성체를 부착, 현상시키며, 제 2 및 제3 형광체에 대해서도 각각 소망의 배열로 상기 대전단계, 노광단계 및 현상단계를 반복하고 나서 그 형성체들을 고착시킨 후, 라커수지막과 알루미늄박막이 형성된 판넬에 새도우마스크-프레임 조립체 및 인너실드가 조립된 판넬조립체와, 전자총이 조립되고 안너다그가 도포도니 판넬조립체사이에 프리트글라스를 개재하여 봉착로를 통과시킴으로써 봉착되어 완성되는 벌브의 제조방법에 있어서, 상기 판넬이 봉착로를 통과할 때 베이킹되도록 상기 광전도막이 고분자바인더(binder)로서 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코폴리머(styrene methyle methacrylate copolymer)의 1 내지 30 중량%을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 제조방법으로 제조된 판넬을 지니는 벌브의 제조방법.A volatile photoconductive film is formed on the inner surface of the panel and a uniform static charge is charged on the photoconductive film, and the photoconductive film is selectively exposed through a shadow mask as a light source, The charging step, the exposure step, and the developing step are repeated in the desired arrangement for the second and third phosphors, respectively, and then the formed bodies are fixed A panel assembly in which a shadow mask-frame assembly and an inner shield are assembled to a panel in which a locker resin film and an aluminum thin film are formed, a panel assembly in which an electron gun is assembled and an inner guide plate is assembled, The method of manufacturing a bulb according to any one of claims 1 to 3, And 1 to 30% by weight of a styrene methyle methacrylate copolymer as a binder. The method for manufacturing a bulb having a panel made by the dry electrophotographic method of manufacturing a cathode ray tube . 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 광원으로 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 방전전극에 의해 대전된 제 1 형광채를 부착, 현상시키며, 제 2 및 제 3 형광체에 대해서도 각각 소망의 배열로 상기 대전단계, 노광단계 및 현상단계를 반복하고 나서 그 형광체들을 고착시킨 후, 라커수지막과 알루미늄박막이 형성된 판넬에 새도우마스크-프레임 조립체 및 인너실드가 조립된 판넬조립체와 전자총이 조립되고 안너다그가 도포된 펀넬조립체사이에 프리트글라스를 개재하여 봉착로를 통과시킴으로서 봉착되어 완성되는 벌브의 판넬 스크린의 건식 전자사진식 제조용 광전도막 용액에 있어서, 자외선에 반응하는 물질로는 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔(bis dimethyl phenyl dimethyl butatriene)과, 트리니트로플루오리논(trinitro-fluouenone:lTNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone: EAQ)중 적어도 한가지이상을 각각 0.01 내지 10중량%과, 고분자바인더(binder)로서 스티렌 메틸 메타크릴레이트 코폴리머(styrene methyle methacrylate copolymer)의 1 내지 30중량%을 잔량인 톨루엔(toluene)이나 크실렌(xylene)에 용해시킨 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막용액.A volatile photoconductive film is formed on the inner surface of the panel and a uniform static charge is charged on the photoconductive film, and the photoconductive film is selectively exposed through a shadow mask as a light source, And the second and third phosphors are repeatedly subjected to the charging step, the exposure step and the developing step in a desired arrangement, and then the phosphors are fixed, A panel assembly in which a shadow mask-frame assembly and an inner shield are assembled and a panel assembly in which an electron gun is assembled and a funnel assembly on which an inner dag is applied are passed through a frit glass through a sealing furnace, In the photovoltaic coating solution for the dry electrophotographic production of the panel screen of a bulb, 0.01 to 10% by weight of at least one or more of bis dimethyl phenyl dimethyl butatriene, trinitro-fluouenone (lTNF) and ethyl anthraquinone (EAQ) , And a polymer binder in which 1 to 30% by weight of a styrene methyle methacrylate copolymer is dissolved in a residual amount of toluene or xylene, Photopolymer coating solution for photographic screen manufacturing. 제2항에 있어서, 상기 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔 대신에 0.01~10 중량%의 메틸 페닐 트리페닐 부타트리엔(methyl phenyl tiphenyl butatriene)것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막용액.3. The cathode ray tube of claim 2, wherein the photosensitive material is a methyl phenyl phenyl triphenyl butatriene in an amount of 0.01 to 10% by weight instead of the bis dimethyl phenyl diphenyl butadiene. Coating solution. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is disclosed by the contents of the first application.
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