KR19990027065A - Method for manufacturing dry electrophotographic screen of cathode ray tube - Google Patents

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KR19990027065A
KR19990027065A KR1019970049437A KR19970049437A KR19990027065A KR 19990027065 A KR19990027065 A KR 19990027065A KR 1019970049437 A KR1019970049437 A KR 1019970049437A KR 19970049437 A KR19970049437 A KR 19970049437A KR 19990027065 A KR19990027065 A KR 19990027065A
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권상봉
강천수
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김영남
오리온전기 주식회사
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

본 발명은, 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method for producing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube.

그 건식 전자사진식 스크린의 제조방법은, (1) 판넬(12)의 내면에 휘발성 전도막(132)을 형성시키고, 그 전도막(132) 위에 휘발성 광전도막(134)을 형성시키는 코팅단계; (2) 그 광전도막(134) 위에 균일한 정전하로 대전시키는 대전단계; (3) 그 광전도막(134)의 정전하를 선택적으로 방출시키기 위해 새도우마스크(16)를 통하여 노광시키는 노광단계; (4) 그 광전도막(134)의 노광부분과 비노광부분 중 어느 하나의 영역에 대전된 제1 내지 제3 형광체중의 하나 내지 빛흡수물질의 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 있어서: 상기 코팅단계에서 판넬(12)의 측벽부(12')의 광전막(134)위에 휘발성 측벽부 전도막(132')을 추가로 형성시키는 것을 특징으로 한다.The method for manufacturing a dry electrophotographic screen includes: (1) a coating step of forming a volatile conductive film 132 on an inner surface of the panel 12 and forming a volatile photoconductive film 134 on the conductive film 132; (2) a charging step of charging the photoconductive film 134 with a uniform electrostatic charge; (3) an exposure step of exposing through the shadow mask 16 to selectively release the electrostatic charge of the photoconductive film 134; (4) a cathode ray tube including a developing step of attaching one of the first to third phosphors to the fine powder of the light absorbing material in one of the exposed portion and the non-exposed portion of the photoconductive film 134. A method for manufacturing a dry electrophotographic screen of claim 1, wherein in the coating step, a volatile sidewall portion conductive film 132 ′ is further formed on the photoelectric film 134 of the sidewall portion 12 ′ of the panel 12. It is done.

이에 따라, 대전단계에서 판넬(12)의 측벽부의 광전도막(134)에는 대전될 수 없게 되어 유효화면부분(E)의 경계부분(A)에서도 형광체들을 균일한 현상밀도로 현상시킬 수 있는 효과가 있다.Accordingly, in the charging step, the photoconductive film 134 of the side wall portion of the panel 12 cannot be charged, so that the phosphors can be developed at a uniform developing density even at the boundary portion A of the effective screen portion E. FIG. have.

Description

음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법Method for manufacturing dry electrophotographic screen of cathode ray tube

본 발명은 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 건식 전자사진식 스크린 제조방법의 현상공정에 있어서, 대전단계에서 판넬의 측벽부의 광전도막에는 대전될 수 없게 되어 유효화면부분의 경계부분에서도 형광체들을 균일한 현상밀도로 현상시킬 수 있는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube, and more particularly, in the developing process of a method for manufacturing a dry electrophotographic screen, the photoelectric film of the side wall portion of the panel cannot be charged in the charging step. The present invention relates to a method for manufacturing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube capable of developing phosphors at a uniform developing density at the boundary of an effective screen portion.

일반적으로 음극선관은, 도1에 도시된 바와 같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13) 및 네크(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14) 내부에 장착되는 전자총(11)과, 판넬(12)의 내측에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.Generally, a cathode ray tube, as shown in FIG. 1, has a vacuum bulb divided into a panel 12, a funnel 13, and a neck 14, and inside the neck 14. And an shadow gun 16 mounted inside the panel 12.

그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속되고 가속되며, 양극 보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬리트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.A fluorescent surface 20 is formed on the inner surface of the face plate 18 of the panel 12, and the electron beams 19a and 19b emitted from the electron gun 11 are focused and accelerated by various lens systems, and the anode button 15 It is greatly accelerated by the high voltage applied through the deflection yoke (17) and deflected by the deflection yoke (17) and passed through the apertures or slits (16a) of the shadow mask (16) to the fluorescent surface (20).

형광면(20)은 면판(18)의 배면에 형성되는데, 칼라의 경우 도2에 도시된 바와 같이 일정한 배열구조의 다수의 스트라이프(stripe) 또는 도트(dot)형상의 형광체(R,G,B)와, 그 각 형광체들사이의 블랙코팅과 같은 빛흡수물질(21)로 형성된다. 또, 그 배면은 전도막층으로서 알루미늄박막층(22)이 형성되어 형광면의 휘도 증대, 형광면의 이온 손상 방지, 형광면의 전위 강하 방지 등의 역할을 하게 된다. 또한, 그 알루미늄박막층(22)의 평면도 및 반사율을 높이기 위해서는 형광면(20)과 전도막층인 알루미늄박막층(22)사이에 라커(lacquer)와 같은 수지로 된 수지필름층(22')이 형성하며, 이 수지필름층(22')은 알루미늄박막층(22)의 형성후에 튜브의 수명을 위해 연소되어 휘발된다.The fluorescent surface 20 is formed on the back surface of the face plate 18. In the case of the color, as shown in FIG. 2, a plurality of stripe or dot-shaped phosphors R, G, and B in a constant arrangement structure are shown. And a light absorbing material 21 such as a black coating between the respective phosphors. In addition, the rear surface of the aluminum thin film layer 22 is formed as a conductive film layer, which serves to increase the luminance of the fluorescent screen, to prevent ion damage of the fluorescent screen, and to prevent the potential drop of the fluorescent screen. In addition, in order to increase the top view and reflectance of the aluminum thin film layer 22, a resin film layer 22 'made of a resin such as lacquer is formed between the fluorescent surface 20 and the aluminum thin film layer 22 which is a conductive film layer. This resin film layer 22 'is combusted and volatilized for the life of the tube after formation of the aluminum thin film layer 22.

이러한 형광면(20)이 발색광 인성분과 같은 형광 입자들을 포함하는 현탁액(slurry) 또는 빛흡수물질을 포함하는 현탁액을 도포하고 건조시켜 형성되는 종래의 습식 사진 석판슬(photolithographic wet process)은, 고화질의 요구를 충족시키지 못할 뿐만 아니라 제조공정 및 제조 설비가 복잡하여 제조 비용이 크게 소요되며, 또한, 대량의 청정수 소모와 폐수 발생, 인배출물, 6가 크름감광체 배출 등 여러가지 문제점들을 알고 있다. 최근에 이러한 습식사진석판술을 개량한 전자사진식(electrophotographical) 스크린 제조방법이 개발되었는데, 이 전자사진식 제조방법도 습식은 여전히 상술한 문제점들을 안고 있으며, 건식 제조방법에 의해서는 상술한 문제점들이 상당히 해소되었다.The conventional photolithographic wet process, in which the fluorescent surface 20 is formed by applying and drying a suspension containing fluorescent particles such as a chromophoric phosphorus component or a suspension containing a light absorbing material, is of high quality. Not only does it not meet the requirements, but the manufacturing process and the manufacturing equipment is complicated, the manufacturing cost is large, and also, there are many problems such as the consumption of large amounts of clean water, wastewater generation, phosphorus emissions, hexavalent crack photoconductor emissions. Recently, an electrophotographic screen manufacturing method has been developed that improves the wet photolithography. The electrophotographic manufacturing method also has the above-mentioned problems. It was considerably resolved.

그 대표적인 건식 전자사진식 스크린 제조방법은 미국 특허 제4,921,767호(1990년 5월 1일 특허됨)에 개시되어 있다. 그러나, 그 특허에서는 광전도막이 가시광선에 반응하는 염료를 포함하고 있어 암실 작업이 불가피하며, 고착공정이 적외선 가열에 의하고 있기 때문에 에너지 소모가 상당하다.A representative method for manufacturing a dry electrophotographic screen is disclosed in US Pat. No. 4,921,767 (patented May 1, 1990). However, in the patent, since the photoconductive film contains dyes reacting with visible light, darkroom operation is inevitable, and energy consumption is considerable because the fixing process is based on infrared heating.

이에, 본 출원인은 광전도막을 자외선에 감응하는 광전도성 용액으로 형성함으로써 상기의 문제점을 해결하였다.Accordingly, the present applicant solved the above problem by forming the photoconductive film into a photoconductive solution sensitive to ultraviolet rays.

그 일예로, 본 출원인이 출원한 음극선관의 스크린 제조방법에 관하여 설명하면 다음과 같다.As an example, the screen of the cathode ray tube manufacturing method filed by the present applicant will be described as follows.

도3a 내지 도3e는 상기 제조방법에 따른 각 공정을 개략적으로 도시한다. 도3a는 면판(18)의 내면에 전도막(132)과 그 위에 광전도막(134)이 형성되는 코팅 공정이다. 전도막(132)은 예를 들면, 폴리일렉트로라이트(polyelectrolyte)로서 Calgon사제품인 상품명 Catfloc-c 1-50 중량%와 1-50 중량%의 10% PVA용액의 수용액(나머지는 물)을 종래의 방법으로 도포하여 건조시키므로써 형성된다. 그 위에 자외선에 반응하는 물질을 포함하는 신규한 광전도막 도포 용액을 도포하여 건조시킨다. 자외선에 반응하는 물질의 일예로는 전자의 도너(doner)로서 0.01 내지 1중량%의 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔(bis-1, 4-dimethyl phenyl (-1, 4-diphenyl (butatriene))) 또는 2 내지 5 중량%의 테트라페닐에틸렌(tetraphenylethylene)과, 액셉터(acceptor)로서 트리니트로플루오리논(trinitro-fluorenone: TNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone: EAQ)중 적어도 1종 이상 각각 0.01 내지 1중량%를 고분자 바인더(binder)로서의 1 내지 30중량%의 폴리스티렌(polystyrene: PS)과 함께 잔량인 톨루엔(toluene)이나 크실렌(xylene)에 용해시켜 사용하였다. 상기 고분자 바인더(binder)로서 상기 폴리스티렌이외에 폴리알파메틸스티렌(poly(α-methylstyrene: PAMS), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate: PMMA) 및 폴리스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymers: PS-OX) 등이 사용될 수 있다.3A to 3E schematically show each process according to the above manufacturing method. 3A is a coating process in which the conductive film 132 and the photoconductive film 134 are formed on the inner surface of the face plate 18. The conductive film 132 is a polyelectrolyte, for example, a conventional solution of 1-50% by weight of Catfloc-c and 1-50% by weight of 10% PVA solution (water remaining) manufactured by Calgon. It is formed by application and drying by a method. A new photoconductive film coating solution containing a substance reacting with ultraviolet rays is applied thereon and dried. An example of a material that reacts to ultraviolet light is bis dimethyl phenyl diphenyl butadiene (bis-1, 4-dimethyl phenyl (-1, 4-diphenyl (butatriene)) in an amount of 0.01 to 1% by weight as an electron donor. Or 2 to 5% by weight of tetraphenylethylene and at least one or more of trinitro-fluorenone (TNF) and ethyl anthraquinone (EAQ) each as an acceptor. To 1% by weight was used by dissolving in 1 to 30% by weight of polystyrene (PS) as a polymer binder in toluene or xylene which is the remaining amount. In addition to the polystyrene as the polymer binder, polyalphamethylstyrene (poly (α-methylstyrene: PAMS), polymethylmethacrylate (PMMA) and polystyrene-oxazoline copolymers (PS-OX) ) May be used.

도3b는 대전 공정을 개략적으로 도시한 것이다. +1K볼트 이하, 바람직하게는 +700볼트 이상의 직류전압을 인가하여 코로나 방전 장치(36)로 대전시켰다. 광전도막(134)이 적어도 파장 450nm 이하의 자외선에 반응하기 때문에 암실 작업이 불필요하다.3B schematically shows a charging process. A DC voltage of + 1K volts or less, preferably +700 volts or more was applied to charge the corona discharge device 36. Since the photoconductive film 134 reacts with ultraviolet rays having a wavelength of at least 450 nm or less, darkroom operation is unnecessary.

도3c는 노광공정을 개략적으로 도시한 것으로서, 자외선광원(138)으로부터 자외선이, 자외선투과렌즈(140)를 통과하여 소망의 입사각으로 새도우마스크(16)에 입사되며, 소망의 배열을 가진 새도우마스크(16)의 애퍼처(aperture) 또는 슬리트(16a)홀을 통과하여 광전도막(134)을 소망의 배열로 노광시킨가. 이 때 전도막(132)이 어스되어 있어 그 노광부분의 전하는 그 전도막(132)을 통과하여 방출된다. 그리고, 비노광부분의 전하는 그대로 광전도막(134)에 잔존하게 된다. 이 노광 공정도 자외선광원(138)을 사용하기 때문에 암실에서 작업할 필요가 없다.FIG. 3C schematically illustrates an exposure process, in which ultraviolet light from the ultraviolet light source 138 passes through the ultraviolet transmission lens 140 and enters the shadow mask 16 at a desired angle of incidence, and has a desired shadow mask. Is the photoconductive film 134 exposed in a desired arrangement through the aperture or the slit 16a hole of (16)? At this time, the conductive film 132 is earthed, and the charge of the exposed portion is discharged through the conductive film 132. The charge in the non-exposed portion remains in the photoconductive film 134 as it is. Since this exposure process also uses the ultraviolet light source 138, it is not necessary to work in a dark room.

도3d는 현상공정을 개략적으로 도시한다. 종래에는 이 현상공정에서 캐리어 비드와 형광체 입자 또는 빛흡수물질 입자들을 혼합하여 마찰에 의한 정전기를 대전시켰으나, 본 출원인의 발명에 의하면, 형광체 분말 또는 빛흡수물질의 분말과 같은 미세분말을 공기압에 의해 호퍼(148)로부터 벤츄리관(146)을 통해 코로나방전 장치와 같은 방전전극(144a)과 노즐(144b)을 통과시켜 분사시키므로써 그 미세분말을 대전시키고 광전도막(134)의 노광부분과 비노광부분의 어느 하나에 부착시킨다. 방전전극(144a)에 의해 미세분말에 대전되는 정전기의 극성은 상기 노광공정에서의 노광부분과 비노광부분중 어느 부분에 그 미세분말을 부착시킬 것인가에 따라 결정된다. 즉 +전하를 띤 비노광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 -전하로 대전되고, 전하가 방출된 노광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 +전하로 대전된다. 현상용기(142)내로 분사된, 대전된 미세분말을 전기적 인력과 반발력의 작용에 의하여 소망의 배열로 광전도막(134)의 표면에 강하게 부착된다.Fig. 3D schematically shows the developing process. Conventionally, in this development step, the carrier beads and the phosphor particles or the light absorbing material particles are mixed to charge static electricity by friction, but according to the present invention, the fine powder such as the powder of the phosphor powder or the light absorbing material is applied by air pressure. From the hopper 148 through the venturi tube 146 through the discharge electrode 144a, such as a corona discharge device and the nozzle 144b, the fine powder is charged and the exposed portion of the photoconductive film 134 and non-exposure. Attach to either part. The polarity of the static electricity charged by the fine electrode by the discharge electrode 144a is determined by whether the fine powder is attached to the exposed portion or the non-exposed portion in the exposure process. In other words, the fine powder is charged to -charge when attached to the non-exposed portion that is positively charged, and the fine powder is charged to + charge when attached to the exposed portion where the charge is released. The charged micropowder injected into the developing container 142 is strongly attached to the surface of the photoconductive film 134 in a desired arrangement by the action of electrical attraction and repulsion.

도3e는 액체 정전 스프레이 건을 이용한 고착(fixing)공정을 개략적으로 도시한다. 이 공정에서는, 상기 현상공정에서 소망의 미세분말(들)이 소망의 배열로 부착된 광전도막(134)의 표면에 석유계 크실렌(xylene), 톨루엔(toluene), TCE, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등의 솔벤트를 스프레이시킴으로써 적어도 광전도막(134)에 포함된 폴리머를 용해시키고, 이 용해된 폴리머의 접착력에 의해 전기력 작용으로 부착된 미세분말(들)을 고착시킨다. 이 고착공정에는 아세톤, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 솔벤트증기를 접촉시켜 현상된 미세분말들을 고착시키는 베이퍼 스웰링(vapour swelling)법이 이용될 수도 있으며, 미국 특허 제4,921,767호에서와 같이 적외선 가열에 의해 수행될 수도 있다.Figure 3e schematically illustrates a fixing process using a liquid electrostatic spray gun. In this step, petroleum-based xylene, toluene, TCE, methyl isobutyl ketone (MIBK) are formed on the surface of the photoconductive film 134 in which the desired fine powder (s) are attached in a desired arrangement in the developing step. By spraying a solvent such as), at least the polymer contained in the photoconductive film 134 is dissolved, and the micropowder (s) attached by the action of electric force by the adhesive force of the dissolved polymer are fixed. In this fixing process, a vapor swelling method of fixing fine powders developed by contacting solvent vapors such as acetone and methyl isobutyl ketone may be used, and by infrared heating as in US Pat. No. 4,921,767. May be performed.

상술한 공정들이 칼라 음극선관의 제조를 위해서는 3종의 형광체에 대해 반복실시된다. 또한, 블랙 매트릭스의 빛흡수물질도 3종의 형광체의 부착 전이나 그후에 상술한 바와 같이 형성될 수 있다.The above-described processes are repeated for three kinds of phosphors for the production of the color cathode ray tube. In addition, the light absorbing material of the black matrix may also be formed as described above before or after the attachment of the three phosphors.

이와 같이 형광체 및 빛흡수물질이 형성된 다음, 라커공정에서 라커막이 종래의 방법으로 형성되고, 알루마이징공정에서 알루미늄박막도 종래의 방법으로 형성되어, 그 뒤, 베이킹(baking)공정으로 투입되어 대기 중에서 약 30분동안 425℃에서 가열 건조됨으로써, 전도막(132), 광전도막(134)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 폴리머 등의 휘발성 성분이 연소되어 제거되고 빛흡수물질(21)과 각 형광체(R,G,B)가 도2에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다.In this way, after the phosphor and the light absorbing material are formed, a lacquer film is formed by a conventional method in a lacquer process, and an aluminum thin film is also formed by a conventional method in an anodizing process, which is then introduced into a baking process and introduced into the atmosphere. By heating and drying at 425 DEG C for about 30 minutes, the volatile components such as the conductive film 132, the photoconductive film 134, and the polymers present in each phosphor and lacquer are burned and removed, and the light absorbing material 21 and each phosphor ( A fluorescent surface 20 is obtained in which R, G, and B are formed as shown in FIG.

그러나, 상기 공정들중 현상공정(도3d)에 있어서는, 도4에 도시된 바와 같이 판넬(12)의 측벽부(12')에 형성되는 광전도막(134)에 대전된 전하들로 인하여 +로 대전된 형광체 입자들이 그 유효화면부분(E)의 경계부분(A)에서는 그 중앙부 내측부분(B)에서보다 더 근 전기적 반발력을 받게 되어 현상되지 못하거나 아주 약하게 현상되는 문제가 이다.However, in the developing process (FIG. 3D) of the above processes, as shown in FIG. 4, due to the charges charged in the photoconductive film 134 formed in the side wall portion 12 'of the panel 12, In the boundary A of the effective screen portion E, the charged phosphor particles are subjected to a more electrical repulsive force than the inner portion B of the central portion thereof, so that they are not developed or are developed very weakly.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 판넬의 측벽부분에서의 대전을 방지시키기 위한 측벽부 전도막을 형성시킴으로써 판넬의 유효화면 부분의 경계부분에서도 균일한 소정의 현상밀도로 형광체 입자들이 현상될 수 있는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention is to solve the above-described problem, by forming a sidewall portion conductive film for preventing charging in the sidewall portion of the panel, the phosphor particles at a predetermined predetermined density even at the boundary of the effective screen portion of the panel It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube that can be developed.

도1은 칼라 음극선관의 부분단면한 개략 평면도,1 is a schematic plan view in partial cross section of a color cathode ray tube;

도2는 도1의 음극선관의 스크린 구성을 나타낸 부분 확대 단면도,2 is a partially enlarged cross-sectional view showing a screen configuration of the cathode ray tube of FIG. 1;

도3a 내지 도 3e는 건식 전자사진식 스크린 제조방법을 설명하기 위한 개략도,3A to 3E are schematic views for explaining a dry electrophotographic screen manufacturing method,

도4는 종래의 현상공정에서의 판넬의 측벽부분에서의 현상 과정을 설명하는 부분단면도,4 is a partial cross-sectional view illustrating a developing process in a side wall portion of a panel in a conventional developing process;

도5는 본 발명의 일실시예에 따라 측벽부의 전하를 방출하기 위한 측벽부 노광단계를 개략적으로 도시한 공정도.5 is a process diagram schematically showing the sidewall portion exposing step for releasing charges in the sidewall portion in accordance with one embodiment of the present invention;

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

10: 음극선관(CRT) 11: 전자총10: cathode ray tube (CRT) 11: electron gun

12: 판넬(panel) 13: 펀넬(funnel)12: panel 13: funnel

14: 네크(neck) 15: 양극 보턴14 neck 15 bipolar button

16: 새도우마스크 17: 편향요크16: shadow mask 17: deflection yoke

18: 판넬면판 19a,19b: 전자빔18: panel face plate 19a, 19b: electron beam

20: 형광면(스크린) 21: 빛흡수물질20: fluorescent screen (screen) 21: light absorbing material

22: 알루미늄박막층 36: 대전장치22: aluminum thin film layer 36: charging device

132: 전도막 134: 광전도막132: conductive film 134: photoconductive film

138: 광원 140: 렌즈138: light source 140: lens

142: 현상용기 142a: 그리드 전극142: developing container 142a: grid electrode

144a: 방전전극 144b: 노즐144a: discharge electrode 144b: nozzle

132': 측벽부 전도막132 ': sidewall conductive film

이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명은, (1) 판넬의 내면에 휘발성 전도막을 형성시키고, 그 전도막 위에 휘발성 광전도막을 형성시키는 코팅단계; (2) 그 광전도막 위에 균일한 정전하로 대전시키는 대전단계; (3) 그 광전도막의 정전하를 선택적으로 방출시키기 위해 새도우마스크를 통하여 노광시키는 노광단계; (4) 그 광전도막의 노광부분과 비노광부분 중 어느 하나의 영역에 대전된 제1 내지 제3 형광체중의 하나 내지 빛흡수물질의 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 있어서: 상기 코팅단계에서 판넬의 측벽부의 광전도막위에 휘발성 전도막을 추가로 형성시키는 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법을 제공한다.In order to achieve this object, the present invention, (1) forming a volatile conductive film on the inner surface of the panel, and forming a volatile photoconductive film on the conductive film; (2) a charging step of charging the photoelectric film with a uniform electrostatic charge; (3) an exposure step of exposing through a shadow mask to selectively release the electrostatic charge of the photoconductive film; (4) dry electrons in a cathode ray tube including a developing step of attaching one of the first to third phosphors, the fine powder of the light absorbing material, to a region of either the exposed portion or the non-exposed portion of the photoconductive film; In the method of manufacturing a photographic screen: The method of manufacturing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube, characterized in that further forming a volatile conductive film on the photoconductive film of the side wall portion of the panel in the coating step.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도5에는 본 발명의 일실시예에 따라 코팅단계를 개략적인 공정도로서 도시된다.5 is a schematic process diagram of a coating step according to an embodiment of the present invention.

도5에 도시된 코팅단계는 도3a에 도시된 바와 같이 면판(18)의 내면에 전도막(132)과 그 위에 광전도막(134)을 형성시킨 뒤에 판넬(12)의 전 내주를 걸쳐 측벽부에 그 광원(150)위의 측벽부 전도막(132')을 형성시킨다.In the coating step shown in FIG. 5, as shown in FIG. 3A, after the conductive film 132 and the photoconductive film 134 are formed on the inner surface of the face plate 18, the sidewalls are formed over the entire inner circumference of the panel 12. The sidewall portion conductive film 132 'on the light source 150 is formed in the.

그 측벽부 전도막(132')은, 도3a와 관련하여 상술한 바와 같이 전도막(132)과 같은 재료로 형성될 수 있다. 예를 들면, 그 측벽부 전도막(132')은, 폴리일렉트로라이트(polyelectrolyte)로서 Calgon사제품인 상품명 Catfloc-c 1-50 중량%와 1-50 중량%의 10% PVA용액의 수용액(나머지는 물)을 종래의 방법으로 도포하여 건조시키므로써 형성된다.The sidewall portion conductive film 132 ′ may be formed of the same material as the conductive film 132 as described above with reference to FIG. 3A. For example, the sidewall portion conductive film 132 'is a polyelectrolyte, which is an aqueous solution of 10% PVA solution of 1-50% by weight and 1-50% by weight of Catfloc-c manufactured by Calgon. Water) is applied by a conventional method and dried.

이와 같은 전도막(132), 광전도막(134) 및 측벽부 전도막(132')이 형성된 판넬(12)을 도3b에서와 같이 코로나 방전 장치(36)로 광원(150)을 대전시키면, 그 유효화면부분(E)에서는 광전도막(134)이 대전되고 측벽부(12)에서는 측벽부 전도막(132')이 대전되게 되지만, 측벽부 전도막(132')에 대전되는 전하들을 그 전도막(132)이 어스된 상태이기 때문에 대전 즉시 방출되게 된다.The panel 12 on which the conductive film 132, the photoconductive film 134, and the sidewall portion conductive film 132 'are formed is charged with the corona discharge device 36 as shown in FIG. 3B. In the effective screen portion E, the photoconductive film 134 is charged and in the sidewall portion 12, the sidewall portion conductive film 132 ′ is charged, but the charges charged in the sidewall portion conductive film 132 ′ are transferred to the conductive film. Since 132 is in an earthed state, it is released immediately after charging.

이와 같이 대전된 판넬(12)은 도3c의 노광단계에서 유효화면부분(E)에서 소정의 잠상전하 배열구조는 새도우마스크(16)를 통해 노광되고, 도3d의 현상단계에서 대전된 형광체(R,G,B) 내지 빛흡수물질(21)의 미세 분말로 현상 된다. 이때, 그 유효화면부분(E)은 소정의 전하잠상을 형성하지만, 측벽부 전도막(132')에서는 전하가 방출된 상태이기 때문에 도4에서와는 달리 그 측벽부(12')가 유효화면부분(E)의 경계부분(A)에 하등의 전기적 영향을 미치지 아니하게 된다.The panel 12 charged as described above is exposed to the shadow screen 16 through the shadow mask 16 at a predetermined latent charge array structure in the effective screen portion E in the exposure step of FIG. 3C, and the charged phosphor R in the developing step of FIG. 3D. , G, B) to develop a fine powder of the light absorbing material (21). At this time, the effective screen portion E forms a predetermined latent charge image, but since the charge is released in the sidewall portion conductive film 132 ', the side wall portion 12' is not the effective screen portion (Fig. 4). There is no electrical influence on the boundary A of E).

이에 따라, 그 경계부분(A)이나 중앙부 내측부분(B)에서 등전위선이 동일하게 형성되게 되어 현상밀도가 균일하게 이루어질 수 있게 된다.As a result, the equipotential lines are formed in the boundary portion A or the inner portion B of the central portion in the same manner, so that the developing density can be made uniform.

그 뒤, 상기 코팅단계에서 투입되는 판넬(12)이 빛흡수물질의 블랙 매트릭스 구조가 형성된 것인 경우, 형광체(R, G, B)중의 나머지 형광체들에 대해서도 상기의 대전단계 내지 현상단계를 반복수행하여 3색의 형광체입자들을 모두 광전도막에 부착시킴으로서 그 3색의 형광체(R,G,B) 모두에 대해 측벽부(12')의 전기적 영향 없이 유효화면부분(E)의 전면적에 걸쳐 균일한 현상밀도를 유지하는 것이 가능하게 된다.Subsequently, when the panel 12 introduced in the coating step has a black matrix structure of a light absorbing material, the charging step and the developing step are repeated for the remaining phosphors in the phosphors R, G, and B. By attaching all three phosphor particles to the photoconductive film so that all three phosphors R, G, and B are uniform over the entire area of the effective screen portion E without electrical influence of the side wall portion 12 '. It is possible to maintain a developing density.

상기 코팅단계에 투입되는 판넬(12)은 종래와 같은 습식 스크린 제조방법으로 빛흡수물질(21)의 블랙 매트릭스 구조가 형성된 것일 수도 있으며, 또는 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 의하여 상술한 바와 같이 빛흡수물질(21)의 미세분말까지 모두 광전도막에 부착시킬 수도 있다.The panel 12 put into the coating step may be a black matrix structure of the light absorbing material 21 formed by a wet screen manufacturing method as in the prior art, or as described above by the method of manufacturing a dry electrophotographic screen. All of the fine powder of the light absorbing material 21 may be attached to the photoconductive film.

그 후, 광전도막(134)에 현상된 3색의 형광체(R, G, B) 내지 빛흡수물질(21)의 미세분말들이 그 광전도막(134)에 견고하게 고착(fixing)시키는 고착단계가 도3e와 관련하여 상술한 바와 같이 실시되며, 상기 3색의 형광체(R, G, B) 내지 빛흡수물질(21)의 미세분말들이 견고하게 고착된 광전도막(134) 위에 수지필름층(22')과 알루미늄박막층(22)을 형성시킨 다음, 그 후 베이킹 시키는 후처리단계를 실시함으로써 전도막(132), 광전도막(134)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 폴리머 등의 휘발성 성분이 연소되어 제거되고 빛흡수물질(21)과 각 형광체(R, G, B)가 도2에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다. 이때, 얻어진 형광면(20)은 유효화면부분(E)의 경계부분(A)에서도 중앙부 내측부분(B)에서와 같이 균일한 밀도로 형광체(R,G,B) 내지 빛흡수물질(21)이 형성되게 된다.Thereafter, a fixing step is performed in which the fine powders of the three color phosphors R, G, and B to the light absorbing material 21 developed on the photoconductive film 134 are firmly fixed to the photoconductive film 134. As described above with reference to FIG. 3E, the resin film layer 22 is formed on the photoconductive film 134 on which the fine powders of the three-color phosphors R, G, and B to the light absorbing material 21 are firmly fixed. ') And the aluminum thin film layer 22 are formed, and then a post-treatment step of baking is performed to burn volatile components such as the conductive film 132, the photoconductive film 134, and polymers present in the phosphors and lacquers. A fluorescent surface 20 is obtained in which the light absorbing material 21 and each phosphor R, G, and B are removed as shown in FIG. At this time, the obtained phosphor surface 20 has the same density as that of the phosphors R, G, B and the light absorbing material 21 at the boundary portion A of the effective screen portion E, as in the inner portion B of the central portion. Will be formed.

한편, 상술한 현상단계는 도3d에서와 같이 스프레이 코터로 분출시키기 직전에 코로나방전에 의해 그 미세분말을 대전시키는 방법이외에도 상술한 미국 특허 제4,921,767호에 개시된 마찰대전방법 또는 형광체 등의 미세분말을 공급하는 과정에서 파이프와의 마찰시켜 대전시키는 방법에 의해 현상된 경우에도 본 발명은 적용될 수 있다.On the other hand, the above-described developing step is a fine powder such as a triboelectric charging method or a fluorescent material disclosed in the above-mentioned US Patent No. 4,921,767, in addition to the method of charging the fine powder by corona discharge immediately before being ejected by the spray coater as shown in Figure 3d The present invention can also be applied even when developed by a method of rubbing and charging with a pipe in the process of supplying.

또한, 도3e의 고착공정은, 본 발명에 따른 혼합된 솔벤트로 액체 정전 스프레이법에 의하여 스프레이시킨 경우 더욱 그 접착력이 강하게 나타나지만, 아세톤, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 솔벤트증기를 접촉시켜 고착시키는 베이퍼 스웰링(vapour swelling)법으로도 가능하다.In addition, the adhesion process of Figure 3e, even when the solvent is sprayed by the liquid electrostatic spray method of the mixed solvent according to the present invention, the adhesion is stronger, but vapor swell to contact and fix the solvent vapor such as acetone, methyl isobutyl ketone It is also possible to use a swelling method.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법의 구성과 작용에 의하면, 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 있어서, 코팅단게에서 측벽부 전도막(132')을 형성시킴으로써 판넬(12)의 유효화면부분(E)의 경계부분(A)에서도 균일한 소정의 현상밀도로 형광체 입자들이 현상될 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the configuration and operation of the method for manufacturing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube according to the present invention, in the method of manufacturing a dry electrophotographic screen of a cathode ray tube, a sidewall portion conductive film ( 132 ′), the phosphor particles can be developed at a predetermined predetermined density even at the boundary A of the effective screen portion E of the panel 12.

Claims (1)

(1) 판넬(12)의 내면에 휘발성 전도막(132)을 형성시키고, 그 전도막(132)위에 휘발성 광전도막(134)을 형성시키는 코팅단계; (2) 그 광전도막(134) 위에 균일한 정전하로 대전시키는 대전단계; (3) 그 광전도막(134)의 정전하를 선택적으로 방출시키기 위해 새도우마스크(16)를 통하여 노광시키는 노광단계; (4) 그 광전도막(134)의 노광부분과 비노광부분 중 어느 하나의 영역에 대전된 제1 내지 제3 형광체중의 하나 내지 빛흡수물질의 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법에 있어서; 상기 코팅단계에서 판넬(12)의 측벽부(12')의 광전도막위(134)에 휘발성 측벽부 전도막(132')을 추가로 형성시키는 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린의 제조방법.(1) a coating step of forming a volatile conductive film 132 on the inner surface of the panel 12 and forming a volatile photoconductive film 134 on the conductive film 132; (2) a charging step of charging the photoconductive film 134 with a uniform electrostatic charge; (3) an exposure step of exposing through the shadow mask 16 to selectively release the electrostatic charge of the photoconductive film 134; (4) a cathode ray tube including a developing step of attaching one of the first to third phosphors to the fine powder of the light absorbing material in one of the exposed portion and the non-exposed portion of the photoconductive film 134. In the method for producing a dry electrophotographic screen of; In the coating step of the dry electrophotographic screen of the cathode ray tube, characterized in that to further form a volatile side wall portion conductive film 132 'on the photoconductive film 134 of the side wall portion 12' of the panel 12. Manufacturing method.
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