KR980005739A - 웨이퍼 건조 장치 - Google Patents

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KR980005739A
KR980005739A KR1019960023948A KR19960023948A KR980005739A KR 980005739 A KR980005739 A KR 980005739A KR 1019960023948 A KR1019960023948 A KR 1019960023948A KR 19960023948 A KR19960023948 A KR 19960023948A KR 980005739 A KR980005739 A KR 980005739A
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KR
South Korea
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chamber
cleaning liquid
wafer drying
drying apparatus
wafer
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Application number
KR1019960023948A
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English (en)
Inventor
박명준
남재우
윤철주
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 웨이퍼 건조장치는 건조 챔버의 내측 벽에 설치되어 상기 챔버 내에 세정액을 공급하는 복수의 세정액 공급 노즐을 포함한다. 상기 세정액 공급 노즐은 그 단부(端部)에서 챔버 내로 공급되는 세정액을 상기 챔버의 양측 방향 및 하측 방향으로 유도하도록 상기 단부의 하반부에만 형성된 복수의 분사구를 포함한다. 본 발명에 의하면, 웨이퍼 건조 장치 내에서 오염 또는 파티클이 발생하지 않도록 자체적으로 세정하는 것이 가능하므로, 웨이퍼 건조장치 내에서 오염 또는 파티클이 발생되는 것을 억제할 수 있다.

Description

웨이퍼 건조 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 건조장치의 구성을 개략적으로 도시한 것이다.

Claims (2)

  1. 습식 세정을 거친 웨이퍼를 챔버 내에서 건조시키는 웨이퍼 건조장치에 있어서, 상기 챔버의 내측 벽에 설치되어 상기 챔버 내에 세정액을 공급하는 복수의 세정액 공급 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 세정액 공급 노즐은 그 단부(端部)에서 챔버 내로 공급되는 세정액을 상기 챔버의 양측 방향 및 하측 방향으로 유도하도록 상기 단부의 하반부에만 형성된 복수의 분사구를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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