KR970065491A - 헥사플루오로에탄의 제조방법 - Google Patents

헥사플루오로에탄의 제조방법 Download PDF

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데쓰오 나카조
다쓰하루 아라이
도시오 오이
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무라타 하지메
쇼와덴코 가부시키가이샤
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Abstract

하이드로플루오로카본류와 불소 가스로부터 헥사플루오로에탄을 안전하고도 고효율로 제조한다.
분자내에 2개의 탄소원자를 함유하는 하이드로플루오로카본류와 불소 가스를 희석 가스의 존재하에 250내지 500℃에서 기상 반응시킨다.

Description

헥사플루오로에탄의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 분자내에 2개의 탄소원자를 함유하는 하이드로플루오로카본류와 불소 가스를 희석 가스의 존재하에 승온 에서 기상 반응시킴을 특징으로 하는, 헥사플루오로에탄의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 희석 가스가 테트라플루오로메탄, 헥사플루오로에탄, 옥타플루오로프로판 및 불화수소 중의 하나 이상을 하유하는 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 희석 가스가, 불화수소가 풍부한 가스인 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 반응이 250 내지 500℃의 온도에서 수행되는 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 분자내에 2개의 탄소원자를 함유하는 하이드로플루오로카본류가 분소원가를 3개 이상 함유하는 하이드로플루오로카본인 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 분자내에 2개의 탄소원자를 함유하는 하이드로플루오로카본류가 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 ,1,1,2,2,-테트라플루오로에탄 및 펜타플루오로에탄 중의 하나 이상인 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 분자내에 2개의 탄소원자를 함유하는 하이드로플루오로카본류가 1,1,1,2-테트라플루오로에탄인 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 분자내에 2개의 탄소원자를 함유하는 하이드로플루오로카본류의 반응기 입구 농도가 6몰 %이하에서 반응이 수행되는 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 1,1,1,2-테트라플루오로에탄의 반응기 입구 농도가 4몰 %이하인 제조방법.
  10. 제1항에 있어서, 반응이 0내지 3Mpa의 반응 압력에서 수행되는 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960067179A 1996-03-07 1996-12-18 헥사플루오로에탄의 제조방법 KR100283711B1 (ko)

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