Claims (8)
마스크상의 패턴이 전사되는 감광성 기판의 주변 영역을 노광하는 방법에 있어서, 상기 기판상의 주변 영역내에 얼라이먼트용의 마트를 형성하는 공정과, 상기 패턴이 전사된 기판의 후처리 공정에 따라서 상기 마크를 덮는 감광충의 노광의 필요 여부를 결정하고, 상기 후처리 공정에서 상기 마크를 보호하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.A method of exposing a peripheral region of a photosensitive substrate onto which a pattern on a mask is transferred, the method comprising: forming a mart for alignment in the peripheral region on the substrate, and covering the mark according to a post-treatment process of the substrate on which the pattern is transferred. And determining a need for exposure of the photosensitive insect, and protecting the mark in the post-treatment step.
제1항에 있어서, 상기 기판은 그 기판의 외주에 기판의 방향성을 나타내는 절단면이 없고, 상기 얼라이먼트용의 마크는 상기 절단면이 없는 기판의 방향성을 나타내는 것을 특징으로 하는 노광 방법.The exposure method of Claim 1 in which the said board | substrate does not have the cutting surface which shows the orientation of a board | substrate on the outer periphery of the board | substrate, and the mark for alignment shows the orientation of the board | substrate without the said cutting surface.
감광충으로 덮힌 기판에 마스크상의 패턴을 노광하는 방법에 있어서, 상기 기판의 주변 영역내에 얼라이먼트용의 마크를 형성하는 공정과, 상기 감광충을 거쳐서 상기 마크를 광전 검출하고 상기 기판의 얼라이먼트를 행하는 공정과, 상기 패턴을 노광에 의해 상기 기판에 전사하는 공정과, 상기 노광 이후의 상기 기판의 후처리 공정에 따라서 상기 마크를 덮는 감광충의 노광의 필요 여부를 결정하는 공정과, 상기 노광의 필요 여부에 따라서 상기 기판상의 주변 영역을 노광하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.A method of exposing a pattern on a mask to a substrate covered with a photosensitive insect, the method comprising: forming a mark for alignment in a peripheral region of the substrate; and performing photoelectric detection of the mark through the photosensitive insect and performing alignment of the substrate. And a step of transferring the pattern to the substrate by exposure, a step of determining whether exposure of the photosensitive insect covering the mark is necessary according to a post-treatment process of the substrate after the exposure, and whether the exposure is necessary or not. And exposing a peripheral region on said substrate.
제3항에 있어서, 상기 기판은 그 기판의 외주에 기판의 방향성을 나타내는 절단면이 없고, 상기 얼라이먼트용의 마크는 상기 절단면이 없는 기판의 방향성을 나타내는 것을 특징으로 하는 노광 방법.The exposure method of Claim 3 in which the said board | substrate does not have the cut surface which shows the directivity of a board | substrate on the outer periphery of the board | substrate, and the mark for alignment shows the directivity of the board | substrate without the said cut surface.
주변 영역이 노광되는 외주부에 절단면이 형성되고 있는 않은 감광성의 기판상의 복수의 영역의 각각을 그 기판의 이동 위치를 규정하는 좌표계상의 소정점에 얼라이먼트하는 방법에 있어서, 상기 기판상의 주변 영역내에 얼라이먼트용의 제1마크를 형성하는 공정과, 상기 복수의 영역에 각각 얼라이먼트용의 제2마크를 형성하는 공정과, 상기 제1마크를 광전검출하고 상기 기판의 프리얼라이먼트를 행하는 공정과, 상기 제2마크를 광전 검출하고 상기 영역의 상기 좌표계상에서의 위치를 검출하는 공정과, 상기 검출된 위치를 이용해서 상기 기판을 이동하고 상기 영역을 상기 소정 정점에 얼라이먼트하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 실행 방법.A method of aligning each of a plurality of regions on a photosensitive substrate, on which a cutting surface is not formed in the outer peripheral portion where the peripheral region is exposed, to a predetermined point on a coordinate system that defines the movement position of the substrate, for alignment in the peripheral region on the substrate. Forming a first mark of the second mark, forming a second mark for alignment in the plurality of regions, photodetecting the first mark and prealigning the substrate, and forming the second mark Performing photoelectric detection and detecting a position on the coordinate system of the region; and moving the substrate using the detected position and aligning the region to the predetermined vertex. .
마스크상의 패턴이 전사되는 감광성의 기판의 주변영역을 노광하는 장치에 있어서, 상기 패턴이 전사된 기판의 후처리 공정에 따라서 선택되는 상기 주변 영역내의 얼라이먼트 마크를 덮는 감광충의 노광의 필요 여부에 관한 정보를 기억하는 기억 수단과; 상기 기억된 정보에 의거해서 상기 후처리 공정으로 상기 마크가 보호되게 상기 주변 영역내의 노광 영역 또는 노광량을 조정하는 노광 조정수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.An apparatus for exposing a peripheral region of a photosensitive substrate on which a pattern on a mask is transferred, the information relating to whether or not exposure of a photosensitive insect covering an alignment mark in the peripheral region selected in accordance with a post-treatment process of the substrate on which the pattern is transferred is necessary. Memory means for storing the memory; And an exposure adjusting means for adjusting an exposure area or an exposure amount in the peripheral area so that the mark is protected by the post-processing step based on the stored information.
제6항에 있어서, 상기 노광 조정 수단은 상기 주변 영역에 조사되는 노광광을 차광 또는 감광하는 광학부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.7. A peripheral exposure apparatus according to claim 6, wherein said exposure adjusting means includes an optical member which shields or reduces the exposure light irradiated to said peripheral region.
감광충으로 덮힌 기판에 마스크상의 패턴을 노광하는 장치에 있어서; 상기 기판상의 주변 영역내에 형성된 얼라이먼트용의 마크를 상기 감광충을 거쳐서 광전 검출하고 상기 기판의 프리얼라이먼트를 실행하는 프리얼라이먼트 수단과; 상기 패턴상으로 노광된 기판의 후처리 공정에 따라서 선택되는, 상기 마크를 덮는 감광충의 노광의 필요 여부에 관한 정보를 기억하는 기억수단과; 상기 기억된 정보에 의거해서 상기 후처리 공정으로 상기 마크가 보호되게 상기 주변 영역을 노광하는 주변 노광 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.An apparatus for exposing a pattern on a mask to a substrate covered with a photosensitive insect; Pre-alignment means for photoelectric detection of an alignment mark formed in a peripheral region on said substrate via said photosensitive insect and pre-aligning said substrate; Storage means for storing information on whether or not exposure of the photosensitive insect covering the mark is selected in accordance with a post-processing step of the substrate exposed in the pattern; And peripheral exposure means for exposing the peripheral area so that the mark is protected by the post-processing step based on the stored information.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.