KR970022221A - Surface defect detection method and apparatus - Google Patents

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KR970022221A
KR970022221A KR1019950037608A KR19950037608A KR970022221A KR 970022221 A KR970022221 A KR 970022221A KR 1019950037608 A KR1019950037608 A KR 1019950037608A KR 19950037608 A KR19950037608 A KR 19950037608A KR 970022221 A KR970022221 A KR 970022221A
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다카히코 오시게
츠토무 가와무라
유지 마토바
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미요시 슌키치
니홍고오깡 가부시키가이샤
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    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces

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Abstract

(a) 검사되어야할 시료의 피검사면에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)를 구하는 공정과,(b) 편광이 조사된 곳과 동일장소에 광을 조사하여 표면의 반사강도(I)를 구하는 공정 및, (c) 엘립소파라미터(Ψ, △)와 반사강도(I)로부터 표면결함의 등급 및 종류를 판정하는 공정을 포함하는 표면결함의 검출방법.(a) obtaining ellipsoparameters (Ψ, △) of surface reflection light by irradiating polarized light on the surface to be inspected; and (b) reflecting the surface by irradiating light to the same place where the polarized light is irradiated. A method for detecting surface defects, comprising the steps of obtaining the strength (I), and (c) determining the grade and type of the surface defects from the ellipso parameters (Ψ, Δ) and the reflection intensity (I).

(a) 피검사면에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)를 측정하는 수단과, (b) 편광이 조사된 것과 동인 피검사면의 장소에 광을 조사해서 표면의 반사강도(I)를 측정하는 수단 및, (c) 상기 피검사면으로부터 반사광이 속하는 Ψ, △, 1의 3차원 좌표위치를 미리 정해져 있는 범위로 구분하여 출력하는 수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) means for measuring the ellipso parameters (Ψ, △) of the surface reflection light by irradiating polarized light on the surface to be inspected, and (b) reflecting light on the surface of the inspected surface which is the same as that irradiated with polarized light. And (c) means for measuring the three-dimensional coordinate positions of Ψ, Δ, and 1 to which the reflected light belongs from the inspected surface in a predetermined range.

Description

표면결함의 검출방법 및 그 장치Surface defect detection method and apparatus

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음As this is a public information case, the full text was not included.

제6도는 엘립소파라미터의 광학계의 한예를 도시하는 도면이고,6 is a view showing an example of an optical system of ellipsoparameters,

제7도는 본 발명에 의한 광학계의 한실시예를 도시하는 도면이고,7 is a view showing an embodiment of an optical system according to the present invention,

제7도는 본 발명에 의한 신호처리계의 한실시예를 도시하는 도면이고,7 is a diagram showing one embodiment of a signal processing system according to the present invention;

제9도는 본 발명에 의한 맵핑의 한실시예를 도시하는 도면이고,9 is a view showing an embodiment of the mapping according to the present invention,

제10도는 본 발명에 의한 결함 검출장치의 한실시예를 도시하는 도면이고,10 is a view showing an embodiment of a defect detection apparatus according to the present invention,

제11도는 본 발명의 실시예의 광학계를 도시하는 구성도이고,11 is a block diagram showing an optical system of the embodiment of the present invention,

제12도는 제11도에 관한 실시예의 신호처리부를 도시한 블록도이다.FIG. 12 is a block diagram showing a signal processor of the embodiment of FIG.

Claims (18)

(a) 표면결함을 가지는 시료에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)특성을 미리 구하는 공정과; (b) 검사되어야할 시료의 피검사면에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)를 구하는 공정과; (c) 상기 공정(b)에서 구해진 엘립소파라미터(Ψ, △)와 상기 공정(c)에서의 엘립소파라미터(Ψ, △)특성을 비교하는 공정 및, (d) 상기 공정(c)에서 구해진 결과에 기초해서 표면결함의 등급을 판정하는 공정을 포함하는 표면결함의 검출방법.(a) preliminarily obtaining ellipsoparameter (Ψ, Δ) characteristics of the surface reflection light by irradiating polarized light to a sample having surface defects; (b) obtaining ellipsoparameters (Ψ, Δ) of the surface reflection light by irradiating polarized light on the inspected surface of the sample to be inspected; (c) comparing the ellipsoparameters (Ψ, Δ) obtained in the step (b) with the ellipsoparameters (Ψ, Δ) characteristics in the step (c); and (d) in the step (c) A method for detecting surface defects, comprising the step of determining the grade of the surface defects based on the obtained results. (a) 검사되어야할 시료의 피검사면에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)를 구하는 공정과; (b) 상기 공정(a)에서 편광이 조사된 곳과 동일 장소에 광을 조사하여 표면의 반사강도(I)를 구하는 공정 및; (c) 상기 공정(a)에서 구해진 엘립소파라미터(Ψ, △)와 상기 공정(b)에서 구해진 반사강도(I)로부터 표면결함의 등급 및 종류를 판정하는 공정을 포함하는 표면결함의 검출방법.(a) obtaining ellipsoparameters (Ψ, Δ) of surface reflection light by irradiating polarized light on the inspected surface of the sample to be inspected; (b) obtaining a reflection intensity (I) of the surface by irradiating light to the same place where the polarized light is irradiated in the step (a); (c) A method for detecting surface defects comprising the step of determining the grade and type of surface defects from the ellipso parameters (Ψ, Δ) obtained in step (a) and the reflection intensity (I) obtained in step (b). . (a) 표면결함의 엘립소파라미터(Ψ, △)특성을 미리 기억하는 수단과; (b) 피검사면에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘림소파라미터(Ψ, △)를 측정하는 수단 및; (c) 측정된 표면반사장의 엘립소파라미터(Ψ, △)와 기억수단의 엘립소파라미터(Ψ, △)특성을 비교하고, 상기 비교결과를 출력하는 수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) means for storing in advance ellipsoparameter (Ψ, Δ) characteristics of surface defects; (b) means for irradiating the surface under test with polarized light to measure the ellipsoparameters (Ψ, Δ) of the surface reflected light; and (c) means for comparing the measured ellipso parameters (Ψ, Δ) of the surface reflection with the ellipso parameters (Ψ, △) characteristics of the storage means and outputting the comparison result. 제3항에 있어서, 상기 측정수단은, 피검사면에 편광을 조사하는 수단과 표면반사광을 수광하는 수단으로 이루어지고, 상기 수광수단은, 복수의 2차원 촬상소자로 이루어져 동일의 반사점에 상당하는 화소에서 측정치를 이용하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)가 계산되는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.The pixel according to claim 3, wherein the measuring means comprises a means for irradiating polarized light onto the inspection target surface and a means for receiving surface reflection light, and the light receiving means comprises a plurality of two-dimensional imaging elements and corresponds to the same reflection point. And an ellipso parameter (Ψ, △) of the surface reflection light is calculated using the measured value in. 제3항에 있어서, 상기 측정수단은, 피검사면에 편광을 조사하는 수단과 표면반사광을 수광하는 수단으로 이루어지고, 상기 조사수단은, 편광의 광원으로서 단색광원과 피검사면의 소정 범위에 편광을 조사하기 위한 광파이버로 이루어지며, 상기 수광수단은, 복수의 엘립소파라미터로 이루어져 피검사면으로부터의 반사광이 분담되어 수광되는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.The said measuring means consists of a means which irradiates a polarized light to a to-be-tested surface, and a means which receives surface reflection light, The said irradiation means is a light source of polarization, and makes it polarize in the predetermined range of a monochromatic light source and a test surface. And an optical fiber for irradiating, wherein said light receiving means comprises a plurality of ellipso parameters to reflect and receive reflected light from an inspected surface. (a) 피검사면에 편광을 조사하여 표면반사광의 엘릴소파라미터(Ψ, △)를 측정하는 수단과; (b) 편광이 조사된 것과 동일 피검사면의 장소에 광을 조사하여 표면의 반사강도(I)를 측정하는 수단 및; (c) 상기 피검사면으로부터 반사광이 속하는 Ψ, △, I의 3차원 위치좌표를 미리 정해져 있는 범위로 구분하여 출력하는 수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) means for irradiating the surface under test with polarized light to measure the elylsoparameters (Ψ, Δ) of the surface reflected light; (b) means for measuring the reflection intensity (I) of the surface by irradiating light to a place on the inspection surface same as that to which the polarized light is irradiated; and (c) means for outputting the three-dimensional position coordinates of Ψ, Δ, and I to which the reflected light belongs from the inspected surface in a predetermined range. 제6항에 있어서, 상기 측정수단은, 피검사면에 편광을 조사하는 수단과 표면반사광을 수광하는 수단으로 이루어지고, 상기 수광수단은, 복수의 2차원 촬상소자로 이루어져 동일의 반사점에 상당하는 화소에서 측정치를 이용하여 표면반사광의 엘립소파라미터(Ψ, △)와 반사강도를 계산하는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.The pixel means according to claim 6, wherein the measuring means comprises means for irradiating polarized light to the inspection target surface and means for receiving surface reflection light, and the light receiving means comprises a plurality of two-dimensional imaging elements and corresponds to the same reflection point. And an ellipso parameter (Ψ, △) and reflection intensity of the surface reflected light using the measured values in the apparatus for detecting surface defects. 제6항에 있어서, 상기 측정수단은, 피검사면에 편광을 조사하는 수단과 표면반사광을 수광하는 수단으로 이루어지고, 상기 조사수단은, 편광의 광원으로서 단색광원과 피검사면의 소정 범위에 편광을 조사하기 위한 광파이버로 이루어지며, 상기 수광수단은, 복수의 엘립소파라미터로 이루어져 피검사면으로부터의 반사광이 분담되어 수광되는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.The said measuring means consists of a means which irradiates a polarized light to a to-be-tested surface, and a means which receives surface reflection light, The said irradiation means is a light source of polarization, and makes it polarize in the predetermined range of a monochromatic light source and a test surface. And an optical fiber for irradiating, wherein said light receiving means comprises a plurality of ellipso parameters to reflect and receive reflected light from an inspected surface. (a) 피검사면으로 평행광속의 편광을 입사시키는 투광수단과; (b) 피검사면으로부터의 반사광과 다른 광로에 각각 설치되어 피검사면으로부터의 반사광을 입사하여 화상신호로 변환하는 수광수단과; (c) 상기 수광수단은, 각각 다른 방위각을 가지는 3개의 검광자와, 각 검광자를 투과한 광을 수광하는 3개의 리니어 어레이 센서로 이루어지며, (d) 상기 3개의 리니어 어레이 센서로부터의 화상신호를 처리하여 진폭반사율비 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△와 피검사면의 표면반사강도 Io를 연산하고, tanΨ화상, cos△화상과 Io화상을 생성하며, 생성한 tanΨ화상, cos△화상과, Io화상의 각 화소농도로부터 표면의 특성을 평가하는 신호처리 수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) light transmitting means for injecting polarized light of the parallel light beam into the inspection target surface; (b) light-receiving means which are respectively provided in the light path from the surface to be inspected and in a different optical path to inject the reflected light from the surface to be inspected into an image signal; (c) The light receiving means comprises three analyzers having different azimuth angles, and three linear array sensors for receiving light passing through each analyzer, and (d) image signals from the three linear array sensors. Process to calculate cos △ representing amplitude reflectance ratio tanΨ, phase difference △ and surface reflection intensity I o on the surface to be inspected, generate tanΨ images, cos Δ images and I o images, and generate tanΨ images, cos △ images a detection device for surface defects, including signal processing means for evaluating the properties of the surface from the pixel density of the image I o. (a) 피검사면의 축방향 전체에 편광물 입사시키는 투광수단과, (b) 피검사면으로부터의 반사광의 정반사광의 광로에 설치된, 정반사광을 검출하기 위한 수단과; (c) 피검사면으로부터의 반사광의 산란반사광의 광로에 설치된, 산란반사광을 검출하기 위한 수단과; (d) 상기 정반사광을 검출하기 위한 수단과 산란반사광을 검출하기 위한 수단의 적어도 하나는, 입사한 광을 3개의 빔으로 분리하는 광학제와, 분리된 3개의 빔광로에 각각 설치되어 각각 다른 방위각을 가지는 검광자와, 각 검광자를 투과한 광을 수광하는 영상수단을 가지며, (e) 상기 정반사광을 검출하기 위한 수단과 산란반사광을 검출하기 위한 수단으로부터의 화상신호를 비교하고, 또 검광자를 투과한 광을 수광한 상기 3개의 란상수단에서 화상신호를 처리하며, 피검사면의 표면반사광의 엘립소파라미터인 진폭반사율비 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△를 연산하여 정반사광과 산란반사광의 비교결과 및 진폭반사율비 tanΨ와 cos△로부터 피검사면의 표면 특성을 평가하는 신호처리수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) light-transmitting means for causing the polarized material to enter the entire axial direction of the inspected surface, and (b) means for detecting the specularly reflected light provided in the optical path of the specularly reflected light of the reflected light from the inspected surface; (c) means for detecting scattered reflected light provided in an optical path of scattered reflected light of reflected light from an inspected surface; (d) At least one of the means for detecting the specularly reflected light and the means for detecting the scattered light includes an optical agent that separates the incident light into three beams, and is provided in three separate beam beam paths, respectively, An analyzer having an azimuth angle and an image means for receiving the light transmitted through each analyzer, (e) comparing the image signal from the means for detecting the specular reflection light and the means for detecting the scattered reflection light, and detecting The image signal is processed by the three columnar means which receive the light transmitted through the ruler, and the specular light and the scattered light are compared by calculating cos △ representing the amplitude reflectance ratio tanΨ, which is the ellipso parameter of the surface reflection light on the inspection surface, and the phase difference △. And a signal processing means for evaluating the surface characteristics of the inspected surface from the results and the amplitude reflectance ratios tanΨ and cosΔ. 제10항에 있어서, 상기 신호처리수단은 피검사면의 표면반사광의 엘립소파라미터인 진폭반사율비 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△ 및 피검사면의 표면반사강도 Io를 연산하여 정반사광과 산란반사광의 비교결과 진폭반사율비 tanΨ와 cos△ 및 표면반사강도 Io로부터 피검사면의 표면특성을 평가하는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.11. The signal processing means according to claim 10, wherein the signal processing means calculates an amplitude reflection ratio tanΨ, which is an ellipso parameter of the surface reflection light on the surface to be examined, cos Δ representing the phase difference Δ, and the surface reflection intensity I o of the surface to be examined to determine whether the specular light and the scattered light are reflected. And a result of evaluating the surface characteristics of the inspected surface from the amplitude reflectance ratio tanΨ, cosΔ and the surface reflectivity I o . (a) 피검사면의 축방향 전체에 편광을 입사시키는 투광수단과; (b) 피검사면으로부터의 반사광의 산란반사광의 광로에 설치된, 산란반사광을 수광하기 위한 수광수단과; (c) 상기 수광수단은, 입사한 광을 3개의 빔으로 분리하는 광학계와, 분리된 3개의 빔의 광로에 각각 설치되어 각각 다른 방위각을 가지는 검광자와, 각 검광자를 투과한 광을 수광하는 영상수단을 가지며, (d) 각 검광자를 투과한 광을 수광한 3개의 영상수단으로부터의 화상신호를 처리하고 피검사면의 표면반사광의 엘립소파라미터인 진폭반사율이 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△를 연산하여 연산한 진폭반사율비 tanΨ와 cos△로부터 피검사면의 표면특성을 평가하는 신호처리수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) light transmitting means for injecting polarized light into the entire axial direction of the inspected surface; (b) light-receiving means for receiving scattered reflected light provided in an optical path of scattered reflected light of reflected light from an inspection target surface; (c) The light receiving means includes an optical system for separating incident light into three beams, an analyzer having three different azimuth angles respectively installed in the optical paths of the three beams, and a light beam passing through each analyzer. And (d) cos Δ which represents the image signal from the three imaging means which received the light passing through each analyzer, and the amplitude reflectance which is the ellipso parameter of the surface reflection light on the inspection surface is tanΨ and phase difference △. An apparatus for detecting surface defects, comprising signal processing means for evaluating surface characteristics of an inspected surface from the calculated amplitude reflectance ratios tanΨ and cosΔ. 제12항에 있어서, 상기 신호처리수단은, 피검사면의 표면반사광의 엘립소파라미터인 진폭반사율비 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△ 및 피검사면의 표면반사강도 Io를 연산하여 연산한 진폭반사율비 tanΨ, cos△와 표면반사강도 Io로부터 피검사면의 표면특성을 평가하는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.13. The amplitude reflectance ratio according to claim 12, wherein the signal processing means calculates an amplitude reflectance ratio tanΨ, which is an ellipso parameter of the surface reflecting light of the inspected surface, a cos Δ representing a phase difference △, and a surface reflectance intensity I o of the inspected surface. An apparatus for detecting surface defects, characterized by evaluating surface characteristics of an inspection surface from tanΨ, cosΔ and surface reflection strength I o . (a) 피검사면에 편광을 입사시키는 투광수단과; (b) 피검사면으로부터의 반사광을 입사하여 다른 3종류의 편광화상신호를 출력하는 3관식 리니어 어레이 카메라와; (c) 상기 3판식 리니어 어레이 카메라는 입사한 광속을 3개의 빔으로 분리하는 빔스플리터와, 분리된 3개의 빔의 광로에 각각 설치되어 방위각이 0, π/4, -π/4로 배치된 검광자와 각 검장자를 투과한 광을 수광하는 리니어 어레이 센서로 이루어지며, (d) 상기 3판식 리니어 어레이 카메라에서 출력된 편광화상신호를 처리하여 피검사면의 표면반사광의 엘립소파라미터인 진폭반사율이 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△ 및 피검사면의 표면반사강도 Io를 연산하고, 연산한 진폭반사율이 tanΨ, cos△ 및 표면반사강도 Io로부터 피검사면의 표면결함의 유무를 판정하는 신호처리수단을 포함하는 표면결합의 검출장치.(a) light transmitting means for injecting polarized light into the inspected surface; (b) a three-tube linear array camera which inputs the reflected light from the inspected surface and outputs three different kinds of polarized image signals; (c) The three-plate linear array camera is provided with a beam splitter for dividing the incident light beam into three beams, and is installed in the optical paths of the three separate beams so that the azimuth angles are 0, π / 4, and -π / 4. (D) an amplitude reflectance, which is an ellipso parameter of surface reflection light on the surface to be inspected by processing a polarized image signal output from the three-plate linear array camera. A signal processing for calculating the surface reflectance I o of the surface to be inspected and the cos Δ representing the tan Ψ, the phase difference Δ, and determining the presence or absence of surface defects on the inspected surface from the calculated tantalum, cos Δ and surface reflective intensity I o . Apparatus for detecting surface bonding comprising means. (a) 피검사면의 축방향으로 긴 빔의 편광을 피검사면에 입사시키는 투광수단과; (b) 피검사면으로부터 반사광을 입사하여 화상신호로 변환하는 수광수단과; 상기 수광수단은 피검사면으로부터의 반사광의 광로에 설치되어 각각 다른 방위각을 가지는 3개의 검광자와, 각 검광자를 투과한 광을 수광하는 리니어 어레이 센서를 가지며, (c) 각 리니어 어레이 센서에서 출력화상신호를 정규화하여 평탄화하고, 평탄화한 화상신호로부터 엘립소파라미터인 진폭반사율비 tanΨ, 위상차△를 나타내는 cos△ 및 반사광강도 Io의 상대치를 연산하고, 연산된 진폭반사율비 tanΨ와 위상차 cos△ 및 반사광강도 Io의 상대치로부터 표면의 이상유무를 판정하는 신호처리수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) light transmitting means for injecting polarized light of a long beam in the axial direction of the inspected surface into the inspected surface; (b) light-receiving means for injecting reflected light from the inspected surface and converting the light into an image signal; The light receiving means has three analyzers provided in the optical path of the reflected light from the inspected surface, each having a different azimuth angle, and a linear array sensor for receiving light passing through each analyzer, and (c) an output image from each linear array sensor. The signal is normalized and flattened, and the relative values of the amplitude reflectance ratio tanΨ, which are the ellipso parameters, the cosΔ representing the phase difference Δ, and the reflected light intensity I o are calculated from the flattened image signal, and the calculated amplitude reflectance ratio tanΨ, the phase difference cosΔ, and the reflected light are calculated. An apparatus for detecting surface defects, comprising signal processing means for determining the presence or absence of an abnormality on a surface from a relative value of intensity I o . (a) 피검사면에 편광을 입사시키는 투광수단과; (b) 다른 특정각도를 가지는 적어도 3방향의 편광을 수광하는 복수의 수광광학계를 가지며, 피검사면에서 반사한 반사광을 검출하여 화상신호로 변환하는 수광수단 및; (c) 각 수광 광학계로부터 출력된 광강도분포를 미리 정한 기준치로 규격화하고, 규격화한 복수의 광강도분포의 변화극성과 변화량을 미리 정한 패턴과 비교하여 결함종류를 판정하는 신호처리수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) light transmitting means for injecting polarized light into the inspected surface; (b) a light receiving means having a plurality of light receiving optical systems for receiving polarized light in at least three directions having different specific angles, the light receiving means for detecting and converting the reflected light reflected from the inspected surface into an image signal; (c) signal processing means for normalizing the light intensity distribution output from each light receiving optical system to a predetermined reference value, and comparing the change polarity and the amount of change of the standardized light intensity distribution with a predetermined pattern to determine a kind of defect; Device for detecting surface defects. 제16항에 있어서, 상기 신호처리수단은, 각 수광광학계로부터 출력된 광강도분포를 미리 정한 기준치로 규격화하고, 규격화한 복수의 광강도분포의 변화극성과 변화량을 미리 정한 패턴과 비교하여 결함 종류를 판정하며, 각 수광광학계에서 출력된 광강도분포로부터 육안관찰의 광변화량을 연산하고, 연산된 광변화량을 미리 정한 패턴과 비교하여 결함의 등급을 판정하는 것을 특징으로 하는 표면결함의 검출장치.The method according to claim 16, wherein the signal processing means normalizes the light intensity distribution output from each light receiving optical system to a predetermined reference value, and compares the change polarity and the amount of change of the standardized light intensity distribution with a predetermined pattern. And calculating the light change amount of visual observation from the light intensity distribution output from each light receiving optical system, and comparing the calculated light change amount with a predetermined pattern to determine the grade of the defect. (a) 피검사면의 폭방향 전체에 걸쳐 편광광속을 입사시키는 투광수단과; (b) 피검사면으로부터의 반사광을 3개의 빔으로 분리하는 빔스플리터와, 분리된 3개의 빔의 광로에 설치되어 각각 다른 방위각을 가지는 검광자와, 각 검광자를 투과한 광을 수광하는 리니어 어레이 센서를 가지며, 피검사면으로부터의 반사광을 입사하여 화상신호로 변환하는 검출수단과; (c) 3조의 리니어 어레이 센서에서 입력된 편광화상의 농도레벨과 미리 정한 기준농도레벨을 비교하여 측정한 편광화상의 농도레벨이 기준농도레벨의 범위외로 되는 영역을 결함후보영역으로서 추출하는 결함후보영역추출수단과, 추출한 결함후보영역 내에서의 측정 광강도로부터 엘립소파라미터와 표면반사강도를 산출하는 파라미터연산수단과, 산출한 엘립소파라미터와 표면반사강도와 미리 정한 표면결함의 특성을 비교하여 표면결함의 등급과 종류를 판정하는 판정수단으로 이루어진, 상기 검출수단으로부터의 신호를 처리하는 신호처리수단을 포함하는 표면결함의 검출장치.(a) light transmitting means for injecting polarized light beams over the entire width direction of the inspected surface; (b) a beam splitter for splitting the reflected light from the inspected surface into three beams, an analyzer having three different azimuth angles, and a linear array sensor for receiving light passing through each analyzer; Detecting means having incident light and converting the reflected light from the inspected surface into an image signal; (c) The defect candidate which extracts the area | region where the density level of the polarization image measured by comparing the density level of the polarization image input from the three sets of linear array sensors with the predetermined reference concentration level is outside the range of the reference concentration level as a defect candidate area. By comparing the area extraction means, the parameter calculation means for calculating the ellipso parameter and the surface reflection intensity from the measured light intensity in the extracted defect candidate area, the characteristics of the calculated ellipso parameter and the surface reflection intensity and the predetermined surface defects are compared. An apparatus for detecting surface defects, comprising signal processing means for processing a signal from said detecting means, comprising determination means for determining the class and type of surface defects. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100906174B1 (en) * 2000-11-28 2009-07-03 팀버 테크놀로지스, 인코포레이티드 Clustering for data compression

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