JPH09178667A - Inspection apparatus for surface - Google Patents

Inspection apparatus for surface

Info

Publication number
JPH09178667A
JPH09178667A JP29789596A JP29789596A JPH09178667A JP H09178667 A JPH09178667 A JP H09178667A JP 29789596 A JP29789596 A JP 29789596A JP 29789596 A JP29789596 A JP 29789596A JP H09178667 A JPH09178667 A JP H09178667A
Authority
JP
Grant status
Application
Patent type
Prior art keywords
flaw
surface
light
parameters
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29789596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Kawamura
Akira Kazama
Yuji Matoba
Takahiko Oshige
貴彦 大重
努 河村
有治 的場
彰 風間
Original Assignee
Nkk Corp
日本鋼管株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an inspection apparatus by which a patternlike flaw or an uneven flaw on a surface is detected continuously in an on-line manner and by which the degree of an abnormality can be judged precisely by a method wherein a flaw feature amount is computed from a computed ellipsometric parameter and the polarity of a surface reflection intensity. SOLUTION: Linear cameras 10a to 10c detect optical intensities I1 to I3 from polarized light reflected on the surface (the face to be inspected) of a steel plate. On the basis of their image signals, a parameter computing part 16 computes ellipsometric parameters (an amplitude reflectance ratio tanΨ and cosΔ indicating a phase difference Δ) and a surface reflection intensity I0 so as to be stored 17a to 17c respectively as image data. Images are corrected 19 regarding a luminance irregularity, binarized 20 and ORed 22 so as to be stored in a binarization memory 23. A flaw-candidate-area extraction part 24 specifies the position of a flaw candidate area on the basis of the density of every pixel in the binarized images which are stored 23. The tanΨ, the cosΔand the I0 in the region are extracted by a feature-amount computing part 25, a peak value or a mean value is computed, and a feature amount is clarified. The degree of an abnormality is judged 26 on the basis of a polarity indicating whether the value is in a + region or a - region from a normal part.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば薄鋼板等の表面疵を光学的に検出する表面検査装置に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention is, for example, relates to a surface inspection apparatus for detecting surface defects such as thin steel optically.

【0002】 [0002]

【従来の技術】例えば鋼板の表面疵を光学的に検出する装置としては、レ−ザ光の散乱又は回折パタ−ンの変化を利用して疵を検出する方法が多く用いられている。 The optically detecting an apparatus for surface flaws of the Related Art For example steel, Le - scattering or diffraction pattern of the laser light - using a change in emission method for detecting flaws is often used. この方法は鋼板の表面に明らかな凹凸を形成している疵を検出する場合には有効な方法である。 This method is effective in the case of detecting a flaw which forms a clear unevenness on the surface of the steel sheet.

【0003】一方、鋼板等の疵には、表面の凹凸はなく、物性値のむら,ミクロな粗さのむら,薄い酸化膜等の局所的な存在あるいはコ−ティング膜の厚さむらといった模様状疵といわれるものがある。 On the other hand, the flaw such as a steel plate, no surface irregularities, unevenness of physical properties, unevenness of microscopic roughness, thin oxide film such as local presence or U - coating thickness nonuniformity such pattern-like flaws on the film there is what is referred to as. このような模様状疵はレ−ザ光の散乱や回折パタ−ンの変化では検出が困難である。 Such a pattern-like flaws Les - The light scattering and diffraction patterns - it is difficult to detect a change in emissions. 例えば正常部で100Å程度の酸化膜が付いている鋼板表面に、局所的に400Å程度の酸化膜が厚く付いている異常部がある場合、このような異常部の領域は表面処理工程において塗装不良が生じるため、疵として検出して除去したい要請がある。 The surface of the steel sheet for example marked with 100Å about oxide film in normal section, locally when there is an abnormal portion of oxide film of about 400Å are attached thick, poor coating in such a region of the abnormal portion is a surface treatment process since occurs, there is a need to be removed are detected as a flaw. しかしながら、異常部と正常部の酸化膜厚の差は鋼板表面の粗さに埋もれてしまい、光の散乱や回折を利用した方法では全く検出が不可能である。 However, the difference between the oxide film thickness of the abnormal portion and the normal portion is buried in the roughness of the steel sheet surface, it is impossible to completely detect the method using scattering and diffraction of light.

【0004】このように光の散乱や回折を利用した方法では検出できない疵を検出するために、偏光を用いた疵検査方法が例えば特開昭52−138183号公報や特開昭58− [0004] In order to detect the flaws can not be detected in such a method using a scattering and diffraction of light, flaw inspection method, for example, JP 52-138183 and JP using polarization 58-
204356号公報等に開示されている。 It disclosed in 204356 Patent Publication. 特開昭52−138183号公報に示された検査方法は被検査体の表面から反射したP偏光とS偏光の比があらかじめ定めた比較レベルより高いか否かによって欠陥の有無を検知するものである。 Inspection method shown in JP-52-138183 discloses intended for detecting the presence or absence of a defect on whether higher than the comparison level the ratio of P polarized light and S-polarized light reflected from the surface of the object to be inspected is predetermined is there.
また、特開昭58−204356号公報に示された検出方法は被検査体の表面に特定角度の入射角で光を照射して、表面欠陥を検出するときのS/N比を向上するようにしたものである。 The detection method shown in JP-A-58-204356 are irradiated with light at an incident angle of a specific angle to the surface of the inspection object, so as to improve the S / N ratio in detecting surface defects it is obtained by the. また、偏光を用いた膜厚あるいは物性値の測定方法が例えば特開昭62−293104号公報に開示されている。 The measuring method of the film thickness or the physical property values ​​using the polarization is disclosed in, for example JP 62-293104 JP. 特開昭62−293104号公報に示された検査方法は、試料から反射した偏光を方位角の異なる3個の検光子を通して受光し、異なる3種類の偏光の光強度から各位置のエリプソパラメ−タすなわち反射光の電気ベクトルのうち入射面方向の成分であるP偏光と入射面に垂直方向の成分であるS偏光との振幅反射率比tanΨと位相差Δを演算して、被検査面上の酸化膜やコ−ティング厚さあるいは物性値を精度良く測定する方法である。 Inspection method shown in JP-62-293104 discloses the polarization reflected from the sample is received through the three analyzers having different azimuth angles, at each position from the light intensity of three different polarization ellipso parameters - data that is, calculates the phase difference and the amplitude reflectance ratio tanΨ the S-polarized light Δ into P-polarized light and the incident surface is a component of the incident plane direction is a vertical direction component of the electric vector of the reflected light, the inspected plane oxide or copolymers of - coating thickness or the physical properties is a method to accurately measure.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】特開昭52−138183号公報や特開昭58−204356号公報に示された検査方法は、偏光を用いて正常部と異常部とを弁別しているが、厳密なエリプソパラメ−タである振幅反射率比tanΨと位相差Δを判定することなしに疵を検出するようにしている。 Inspection method shown in THE INVENTION Problems to be Solved] JP 52-138183 and JP 58-204356 Patent Publication, although discriminate between normal portion and an abnormal portion using a polarizing, strict ellipso parameters - is to detect the flaw without determining the amplitude reflectance ratio tanΨ and the phase difference Δ is data.
鋼板等の表面の疵部は光学的物性が正常部と異なった部分であることが多く、このような部分は複素屈折率が正常部と異なっているといえる。 Scratches of the surface of such steel sheet is often optical properties are different parts and a normal portion, such portions can be said to complex refractive index is different from the normal portion. このような場合、エリプソパラメ−タの振幅反射率比tanΨと位相差Δの両方を考慮しないと、エリプソパラメ−タの変化の一部しか捕らえることができず、例えば検査結果として異常部が検出できたとしても、それが油のしみか、酸化膜のむらか、又は何らかしらの異常な付着物が付着したのであるか等を弁別することができず、異常部の種別と程度を判定することは困難であった。 In such a case, ellipso parameters - Without considering both the amplitude reflectance ratio tanΨ and the phase difference Δ of data, ellipso parameters - can not be captured only a part of the change in the data, for example, the test result as an abnormality portion is detected even possible, it either oil stains, Melaka oxide film, or any can not be abnormal deposits chief to discriminate or whether it was adhered, to determine the extent type and the abnormal portion It was difficult.

【0006】これに対して特開昭62−293104号公報に示された検査方法は、エリプソパラメ−タの振幅反射率比 [0006] inspection method contrast shown in JP-A-62-293104 is ellipso parameters - an amplitude reflectance ratio of the data
tanΨと位相差Δを使用しているから、油のしみや酸化膜のむら,異物の付着を弁別できる可能性がある。 Since using tanΨ and phase difference delta, there is a possibility discrimination unevenness of oil stains and oxide film, adhesion of foreign matter. しかしながら、この方法は基本的に点測定であり、鋼板等の表面全体の検査に適さない。 However, this method is basically a point measurement is not suitable for inspection of the entire surface of the steel plate or the like. 仮に、特開昭62−293104号公報に示されている装置を鋼板の幅方向に多数並べたり、幅方向に高速に移動可能な機構を持った手段によって1台の装置を走査したり、何らかの工夫により全面走査が可能になったとしても、信号処理部は全測定点について偏光強度信号からエリプソパラメ−タの振幅反射率比tanΨと位相差Δを演算し、画像処理装置などを用いて疵種と疵の等級を判定する必要がある。 If, or an array of a number of apparatus shown in JP-A-62-293104 in the width direction of the steel sheet, or by scanning the one device by means having a mechanism capable of moving at high speed in the width direction, some even become possible entirely scanned by devising, the signal processing unit ellipso parameters from the polarization intensity signal for all the measurement points - calculating the amplitude reflectance ratio of the data tanΨ and the phase difference delta, using an image processing apparatus flaws it is necessary to determine the grade of seeds and flaws. しかし、幅方向1ラインで1000点以上の偏光強度信号を処理しなけらばならず、特にエリプソパラメ−タ演算はソフトウェア演算で行った場合、約数10秒の演算時間がかかるため、 However, should eclipsed such processes over 1000 points of polarization intensity signal in the width direction of one line, in particular ellipso parameters - if data operations that were carried out by software operation, it takes calculation time of about several tens of seconds,
例えば毎分数100mの速度で通過する鋼板等のシ−ト状製品の表面をオンラインで連続的に検査することは不可能であった。 For example a steel plate to pass at a rate of a fraction 100m sheet - be continuously inspecting the surface of bets like products online was impossible. このために専用の偏光パラメ−タ等の演算処理装置が必要となり、装置が高価になってしまう。 Polarization parameters dedicated to the - processor such data is required, device becomes expensive.

【0007】しかしながら、この方法は検査手法としては非常に敏感であり、他の種類の疵や汚れ,油むら,スケ−ルなどから相対的に微弱な検出強度した与えない模様状の表面疵の情報のみを弁別して検出することは困難であった。 However, this method is very sensitive as inspection techniques, other types of flaws and stains, oil unevenness, scale - Le like from a relatively not give the weak detection intensity pattern-like surface defect it has been difficult to detect and discriminate only the information. 特に、表面に油膜が塗布されて製造ライン上を移動する鋼板を検査する場合には、その油膜むらと本来検出すべき表面疵の両方を含んだ偏光パラメ−タを検出してしまい、表面疵の情報だけを弁別して検出することはできなかった。 In particular, when the oil film is to inspect the steel sheet to move the production line on the surface thereof is coated, polarization parameters containing both surface flaw to be detected originally its oil film uneven - will detect the data, surface defects could not be detected only by discrimination of information. このため、特に防錆のために表面に油膜が塗布されていることが多い冷延鋼板等の通常の鋼板の表面疵の検出に使える可能性がないと考えられており、鋼板の模様状疵を光学的手段で検出することや表面疵の種類や等級までを判定することは不可能とされていた。 Thus, in particular it is believed that an oil film is not likely to use in the detection of surface defects of the conventional steel, such as cold-rolled steel sheet is often that it is applied to the surface for rust prevention, the pattern-like flaws on the steel that it had been impossible to determine to type and grade it and surface flaws to be detected by optical means.

【0008】また、この方法は膜厚あるいは物性値を測定する方法であり、そのためにはエリプソパラメ−タの振幅反射率比tanΨと位相差Δを測定すれば十分であった、しかしながら、これらのパラメ−タは必ずしも人の目で見た状態と一致するものではなく、人が疵と認識できてもエリプソパラメ−タは変化しない疵については検出することができない。 Further, this method is a method for measuring the thickness or physical properties, in order that the ellipso parameters - was sufficient to measure the amplitude reflectance ratio tanΨ and phase difference data delta, however, these parameters - data is not necessarily intended to match the state as seen by the human eye, human ellipso parameters be able to recognize the flaws - can not be detected for the other does not change flaws.

【0009】この発明はかかる短所を改善するためになされたものであり、簡単な構成でシ−ト状製品の表面にある模様状疵や凹凸状の疵をオンラインで連続的に検出して、その種別や程度を正確に弁別することができる表面検査装置を得ることを目的とするものである。 [0009] The present invention has been made to improve such disadvantages, shea with a simple structure - continuously detect and patterns like flaws and uneven flaws in bets like product surface online, it is an object to obtain a surface inspection apparatus capable of discriminating the type and extent precisely.

【0010】 [0010]

【課題を解決するための手段】この発明に係る表面検査装置は、投光部と受光部と信号処理部とを有し、投光部は被検査面の幅方向全体にわたり偏光光束を入射し、受光部は被検査面からの反射光から異なる3つの偏光成分を抽出して画像信号に変換し、信号処理部はパラメ−タ演算部と特徴量演算部及び疵判定部とを有し、パラメ− Means for Solving the Problems A surface inspection apparatus according to the present invention has a light projecting portion and a light receiving portion and a signal processing unit, the light projecting portion is incident to the polarized light beam across the width direction of the surface to be inspected , the light receiving unit is converted into an image signal by extracting three polarization component different from the reflected light from the inspected surface, the signal processing unit parameters - and a data computation unit and the feature amount calculation unit and the flaw determination unit, parameters -
タ演算部は上記画像信号からエリプソパラメ−タと表面反射強度を算出し、特徴量演算部は疵候補領域内におけるエリプソパラメ−タと表面反射強度の正常部に対する大小を示す極性を算出し、算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算し、疵判定部は演算した疵特徴量から表面疵の種類を判定することを特徴とする。 Data calculation section ellipso parameters from the image signal - calculates the data and surface reflection intensity, feature calculation section ellipso parameters in flaw candidate region - calculating a polarity indicating a magnitude to normal portions of the motor and the surface reflection intensity, calculated ellipso parameters - calculates the flaw feature quantity combination of polarities of the data and the surface reflection intensity, the flaw determination unit and judging the type of surface flaw from flaw feature amount calculated.

【0011】上記特徴量演算部は疵候補領域内におけるエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算するとともに疵候補領域内における異なる偏光画像の光強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算し、疵判定部は演算したエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量と光強度による疵特徴量から表面疵の種類を判定することが望ましい。 By data and surface polarity combinations of the light intensity of the different polarization image in conjunction with flaw candidate region for calculating the flaw feature quantity combination of polarities of the reflection intensity - [0011] ellipso parameters in the feature quantity calculation section flaw candidate region calculates the flaw feature quantity, flaw determination unit computed ellipso parameters - it is desirable to determine the type of surface flaw from data and flaw feature quantity combination of polarities of the surface reflection intensity and flaw feature quantity by the light intensity.

【0012】さらに、上記信号処理部はパラメ−タ演算部と特徴量演算部と疵判定部とともに疵候補領域抽出部を有し、疵候補領域抽出部で上記エリプソパラメ−タと表面反射強度の画像の濃度レベルが地肌レベルに相当する基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補領域として抽出すると良い。 Furthermore, the signal processing unit parameters - have flaw candidate region extraction unit with data computing section and the feature amount calculation unit and the flaw determination unit, in the flaw candidate region extraction unit above ellipso parameters - the motor and the surface reflection intensity a region where the density level of the image is outside the range of the reference density level corresponding to the background level may be extracted as a flaw candidate region.

【0013】また、この発明に係る他の表面検査装置は、投光部と受光部と信号処理部とを有し、投光部は被検査面の幅方向全体にわたり偏光光束を入射し、受光部は被検査面からの反射光から異なる3つの偏光成分を抽出して画像信号に変換し、信号処理部は疵候補領域抽出部とパラメ−タ演算部と特徴量演算部及び疵判定部を有し、疵候補領域抽出部は上記3つの偏光成分の画像信号の画像の濃度レベルが地肌レベルに相当する基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補領域として抽出し、パラメ−タ演算部は疵候補領域内で画像信号からエリプソパラメ−タと表面反射強度を算出し、特徴量演算部は算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度の正常部に対する大小を示す極性を算出し、算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度 Further, another surface inspection apparatus according to the present invention, has a light projecting portion and a light receiving portion and a signal processing unit, the light projecting portion is incident to the polarized light beam across the width of the inspected surface, the light receiving parts are converted into image signals by extracting three polarization component different from the reflected light from the inspected surface, the signal processing section flaw candidate region extraction unit and the parameters - the data calculation unit and a feature calculation section and the flaw determination unit has, flaw candidate region extraction unit extracts a region is outside the range of the reference density level density level of the image of the image signals of the three polarization component corresponds to the background level as flaw candidate region parameters - data calculating unit ellipso parameters from the image signal in flaw candidate region is - calculates the data and surface reflection intensity, feature calculation section calculated ellipso parameters - calculating a polarity indicating a magnitude to normal portions of the motor and the surface reflection intensity, it was calculated ellipso parameters - data and surface reflection intensity 極性の組合せによる疵特徴量を演算し、疵判定部は演算した疵特徴量から表面疵の種類を判定することを特徴とする。 Calculates the flaw feature quantity combination of polarities of, the flaw determination unit and judging the type of surface flaw from flaw feature amount calculated.

【0014】上記受光部は被検査面からの反射光を3本のビ−ムに分離するビ−ムスプリッタと、分離された3 Bi separating the beam - - [0014] three bi reflected light from the light receiving unit is inspected surface and beam splitter, separated 3
本のビ−ムの光路にそれぞれ設けられ、それぞれ異なる方位角を有する検光子と、各検光子を透過した光を受光するリニアアレイセンサとを有すると良い。 This bicycloalkyl - respectively provided in the optical path of the beam, an analyzer having a different azimuth angles respectively, may have a linear array sensor for receiving the light transmitted through the analyzer.

【0015】 [0015]

【発明の実施の形態】この発明においては、表面検査装置を投光部と受光部及び信号処理部で構成する。 In DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention constitutes a surface inspecting apparatus in a light projecting unit receiving section and a signal processing unit. 投光部は被検査面の幅方向全体にわたり一定入射角で光束を入射するように光源が配置され、光源と被検査面の入射面との間に偏光子が設けられ、被検査面に一定偏光角の偏光を入射する。 Light projecting portion is disposed is a light source such that a light beam at a constant angle of incidence throughout the width direction of the inspected surface, the polarizer between the incident surface of the light source and the surface to be inspected is provided, constant inspected surface It enters the polarization of the polarization angle. 受光部は3組のリニアアレイセンサと、 The light receiving unit and the three sets of linear array sensor,
各リニアアレイセンサの受光面の前面に設けられた検光子とで構成し、3組の検光子はそれぞれ異なる方位角、 Each linear array is composed of an analyzer provided on the front surface of the light receiving surface of the sensor, the azimuth angle different from three sets of the analyzer, respectively,
すなわち透過軸が被検査面の入射面となす角が、例えば「0」,「π/4」,「−π/4」になるように配置され、3組のリニアアレイセンサは各検光子を通った偏光を入射して偏光の強度分布を示す画像を信号処理部に出力する。 That incident plane and the angle between transmission axes inspected surface is, for example, "0", "[pi / 4", - is arranged such that "[pi / 4", three sets of linear array sensors each analyzer and it outputs an image showing the intensity distribution of the polarized light incident polarized light passing through the signal processing unit.

【0016】信号処理部にはパラメ−タ演算部と疵候補領域抽出部と特徴量演算部及び疵判定部とが設けられている。 [0016] The signal processing unit parameters - are provided with data computation unit and flaw candidate region extraction unit and the feature amount calculation unit and the flaw determination unit. パラメ−タ演算部は3組のリニアアレイセンサから入力された偏光画像の光強度からエリプソパラメ−タ Parameters - ellipsometry data calculating unit from the optical intensity of the input polarized light image from three sets of linear array sensor parameters - data
tanΨ,cosΔと表面反射強度I 0を算出し、tanΨ画像と tan, calculates cosΔ and surface reflection intensity I 0, and tan image
cosΔ画像及びI 0画像を形成する。 cosΔ to form an image and I 0 image. 疵候補領域抽出部には、被検査面の正常状態を示す基準濃度レベルがあらかじめ格納されているか、もしくは測定したデ−タのピ− The flaw candidate region extraction unit, whether the reference density level indicating the normal state of the inspected surface is stored in advance, or measured de - data of peak -
ク値やバラツキ等から自動的に求めるようになっている。 It is adapted to automatically determined from the click value and variations or the like. そして3組のtanΨ画像とcosΔ画像及びI 0画像の濃度レベルと基準濃度レベルとを比較して、tanΨ画像とcosΔ画像及びI 0画像の濃度レベルが基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補領域として抽出する。 The three sets of tanΨ by comparing the density level and the reference density level of the image and cosΔ image and I 0 image, flaw regions tanΨ image and cosΔ image and I 0 image density level is outside the range of the reference density level It is extracted as a candidate region. この抽出した疵候補領域内の各画素におけるエリプソパラメ−タtanΨとcosΔ及び表面反射強度I 0を特徴量演算部で抽出して最大値又は平均値の正常部に対する大小を示す極性を算出し、算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算する。 Ellipsometry at each pixel of the extracted flaw candidate region parameters - extracts data tanΨ and cosΔ and surface reflection intensity I 0 in the feature calculation unit calculates the polarity indicating a magnitude for normal portion of the maximum value or the average value, calculated ellipso parameters - computing a flaw feature quantity combination of polarities of the data and the surface reflection intensity. 疵判定部は算出したエリプソパラメ−タtanΨとcosΔと表面反射強度I 0の極性の組合せによる疵特徴量から表面疵の種類を判定する。 Flaw determining unit calculated ellipso parameters - determines the type of surface flaw from flaw feature quantity combination of polarities of the data tanΨ and cosΔ and surface reflection intensity I 0.

【0017】このように被検査面の表面特性により敏感に変化するエリプソパラメ−タtanΨとcosΔを検出して、疵の有無を判別するから、散乱光や回折で検出できなかった表面の物性変化をも検出できる。 [0017] Thus ellipso parameter change easily by surface characteristics of the inspected surface - to detect data tanΨ and cos, since it is determined whether the flaw, property changes of the surface can not be detected by the scattered light or diffracted the can also be detected. また疵候補領域を特定してエリプソパラメ−タtanΨとcosΔと表面反射強度I 0の極性の組合せから疵の種類を判別するから簡単に疵の種類を判別することができるとともに疵の検出精度を高める。 The ellipsometry identify the flaw candidate region parameters - the flaw detection accuracy of it is possible to determine the type of easy flaw because determine the data tanΨ and cosΔ and surface reflection intensity type of flaw from the polarity of a combination of I 0 increase.

【0018】また疵の種類を判別するときに疵候補領域内におけるエリプソパラメ−タtanΨとcosΔと表面反射強度I 0の極性変化の組合せと疵部の測定光強度の極性変化により疵を判別することにより、より詳細に疵の種類と等級を判別できる。 Determine the flaw by polarity changes in the measured light intensity combinations and flaw of the polarity change of the data tanΨ and cosΔ and surface reflection intensity I 0 - ellipso parameters in flaw candidate region when determining the type of the [0018] flaw it allows determining the type and grade of flaw in more detail.

【0019】 [0019]

【実施例】図1はこの発明の一実施例の光学系を示す配置図である。 DETAILED DESCRIPTION FIG. 1 is a layout view showing an optical system of an embodiment of the present invention. 図に示すように、光学系1は投光部2と受光部3を有する。 As shown, the optical system 1 includes a light projecting section 2 and the light receiving unit 3. 投光部2は被検査体例えば鋼板4の幅方向全体に一定の入射角で偏光を入射するものであり、 Light projecting section 2 is intended to incident polarized light at a constant angle of incidence throughout the width direction of the inspection object for example steel plates 4,
光源5と、光源5の前面に設けられた光ファイバ束6 A light source 5, the optical fiber bundle 6 arranged in front of the light source 5
と、光ファイバ束6の先端部に設けられたレンズ群7 If, lens provided at the distal end of the optical fiber bundle 6 7
と、レンズ群7の前面に設けられた偏光子8とを有する。 When, and a polarizer 8 provided on the front surface of the lens unit 7. なお、投光部2は光源5として鋼板4の幅方向に伸びた棒状の光源を使用して光ファイバ束6とレンズ群7 Incidentally, the light projecting section 2 uses a rod-like light source extending in the width direction of the steel sheet 4 as a light source 5 optical fiber bundle 6 and the lens 7
を省略するようにしても良い。 It may be omitted. 偏光子8は偏光板もしくは偏光フィルタからなり、図2に示すように、透過軸P Polarizer 8 is made of a polarizing plate or polarizing filter, as shown in FIG. 2, the transmission axis P
が鋼板4の入射面となす角α 1がπ/4になるように配置されている。 There incident plane and the angle alpha 1 of the steel plate 4 is arranged so as to [pi / 4. 受光部3は鋼板4から反射角θの正反射光を受光するものであり、ビ−ムスプリッタ9a,9b The light receiving unit 3 is intended to receive regular reflection of the reflection angle θ from the steel plate 4, bi - beam splitter 9a, 9b
と、例えばCCDからなるリニアアレイカメラ10a, When, for example, a CCD linear array camera 10a,
10b,10cと、リニアアレイカメラ10a,10 10b, and 10c, the linear array camera 10a, 10
b,10cの受光面の前面に設けられた検光子11a, b, the analyzer 11a provided on the front surface of the light receiving surface of 10c,
11b,11cとを有する撮像装置12が鋼板4の幅方向に連設されている。 11b, the imaging device 12 and a 11c are formed continuously in the width direction of the steel sheet 4. 検光子11a,11b,11cは例えば偏光板若しくは偏光フィルタからなり、図2に示すように、検光子11の透過軸が鋼板4の入射面となす角α 2は検光子11aがα 2 =0、検光子11bがα 2 Analyzer 11a, 11b, 11c is made of, for example, a polarizing plate or a polarizing filter, as shown in FIG. 2, the incident surface and the angle alpha 2 is an analyzer 11a is alpha 2 = 0 the transmission axes steel 4 of the analyzer 11 , the analyzer 11b is α 2 =
π/4、検光子11cがα 2 =−π/4になるように配置されている。 [pi / 4, the analyzer 11c is arranged so that α 2 = -π / 4. リニアアレイカメラ10a〜10cは鋼板4からの反射光の光強度I 1 ,I 2 ,I 3を示す画像信号を一定周期で1ライン信号として出力する。 Linear array camera 10a~10c outputs an image signal indicating a light intensity I 1, I 2, I 3 of light reflected from the steel plate 4 as a 1-line signal at a constant period.

【0020】受光部3のリニアアレイカメラ10a,1 The light receiving unit 3 linear array camera 10a, 1
0b,10cは、図3のブロック図に示すように、信号処理部13に接続されている。 0b, 10c, as shown in the block diagram of FIG. 3, it is connected to the signal processing section 13. 信号処理部13は前処理部14a,14b,14cとフレ−ムメモリ15a,1 The signal processing unit 13 pre-processing unit 14a, 14b, 14c and frame - frame memory 15a, 1
5b,15cとパラメ−タ演算部16,メモリ17a, 5b, 15c and parameters - data calculating unit 16, a memory 17a,
17b,17c,エッジ検出部18,輝度むら補正部1 17b, 17c, the edge detection unit 18, the luminance non-uniformity correction section 1
9,2値化処理部20,メモリ21a,21b,21 9,2-value processor 20, a memory 21a, 21b, 21
c,オア処理部22,2値メモリ23,疵候補領域抽出部24,特徴量演算部25及び疵判定部26を有する。 With c, OR processing unit 22, 24, 32 value memory 23, flaw candidate region extraction unit 24, a feature amount calculation unit 25 and the flaw determination unit 26.

【0021】前処理部14a〜14cはリニアアレイカメラ10a〜10cから出力された反射光の光強度I 1 ,I 2 ,I 3を示す画像信号を加算平均するとともに鋼板4のラインの移動量を検出して、鋼板4が信号処理における1ラインの長さだけ移動したら、加算平均した信号を1ラインのデ−タとしてフレ−ムメモリ15a〜 [0021] The pre-processing unit 14a~14c amount of movement of the steel sheet 4 line while averaging the image signal representing the light intensity I 1, I 2, I 3 of the reflected light output from the linear array camera 10a~10c detected and, when moved by 1 line length of the steel sheet 4 in the signal processing, data of one line obtained by adding the average signal - frame as data - frame memory 15a~
15cに送り、ライン速度が変わっても信号処理における1ラインの長さを一定とする。 Sent to 15c, it changes the line speed is constant the length of one line in the signal processing. フレ−ムメモリ15a Frame - frame memory 15a
〜15cは、例えば横1024画素×縦200ラインで構成され、1024画素の1ラインデ−タを同一タイミングでサンプリングして、200ラインに達するまで順次格納して2 ~15c, for example horizontal 1024 consists of pixels × vertical 200 lines, 1 Rainde 1024 pixels - and sampled at the same timing data, it is sequentially stored to reach 200 line 2
次元の偏光画像を形成する。 Forming a polarization image dimensions. パラメ−タ演算部16はフレ−ムメモリ15a〜15cに格納された偏光画像の各画素の光強度I 1 ,I 2 ,I 3を示す画像信号からエリプソパラメ−タすなわち振幅反射率比tanΨと位相差Δを示すcosΔと鋼板4の反射光の表面反射強度I 0を演算して、メモリ17a,17b,17cにそれぞれtanΨ画像デ−タとcosΔ画像デ−タ及びI 0画像デ−タとして格納する。 Parameters - data calculating unit 16 frame - frame memory light intensity of each pixel of the stored polarization image to 15a~15c I 1, I 2, ellipso parameters from an image signal indicating an I 3 - data i.e. amplitude reflectance ratio tanΨ and position and calculates the surface reflection intensity I 0 of the reflected light cosΔ and the steel plate 4 which shows the phase difference delta, the memory 17a, 17b, respectively 17c tan image de - data and cosΔ image de - data and I 0 image de - stored as data to. エッジ検出部18はtanΨ画像とcosΔ画像及びI 0画像における鋼板4のエッジ部を検出する。 Edge detecting unit 18 detects an edge portion of the steel sheet 4 in tanΨ image and cosΔ image and I 0 image. 輝度むら補正部19は光源5の強度むらや鋼板反射率むらによる幅方向の強度むらと、それに伴う感度むらを補正する。 Brightness non-uniformity correction section 19 corrects the intensity unevenness in the width direction due to intensity unevenness or steel reflectance nonuniformity of the light source 5, the sensitivity irregularity associated therewith. 2値化処理部20はtanΨ画像とcosΔ画像及びI 0 Binarization processing unit 20 tanΨ image and cosΔ image and I 0
画像を2値化して、それぞれメモリ21a,21b,2 Image by binarizing the memory 21a, respectively, 21b, 2
1cに格納する。 And stores it in the 1c. オア処理部22はメモリ21a,21 OR processor 22 memory 21a, 21
b,21cに格納されたtanΨ,cosΔ,I 0の2値画像の各画素をオア処理して2値メモリ23に格納する。 b, and stores tanΨ stored in 21c, cos, and OR process each pixel of the binary image of the I 0 in the binary memory 23. 疵候補領域抽出部24は2値メモリ23に格納された2値画像の各画素の濃度から疵候補領域の位置を特定する。 Flaw candidate area extraction unit 24 specifies the position of the flaw candidate area from the density of each pixel of the binary image stored in the binary memory 23.
特徴量演算部25は疵候補領域におけるtanΨ,cosΔ, Feature calculation unit 25 tanΨ in flaw candidate region, cos,
0を抽出して絶対値が最大となる値、すなわちピ−ク値又は平均値を演算し特徴量を明らかにする。 Value absolute value is maximized by extracting the I 0, i.e. peak - characterize amount calculating a click or average value. 疵判定部26は疵候補領域におけるtanΨ,cosΔ,I 0のピ−ク値又は平均値が正常部よりプラス領域かマイナス領域かを示す極性から異常の程度を判定する。 Flaw determining unit 26 tanΨ in flaw candidate region, cos, peak of I 0 - determining the degree of abnormality from the polarity indicating whether the positive region or negative region than click or average value is the normal portion.

【0022】上記のように構成された表面検査装置の動作を説明するに当たり、3個のリニアアレイカメラ10 [0022] In describing the operation of the configured surface inspection apparatus as described above, three linear array camera 10
a,10b,10cで検出した光強度から振幅反射率比 a, 10b, the amplitude reflectance ratio from the light intensity detected by 10c
tanΨとcosΔと鋼板4の反射光の表面反射強度I 0を演算する原理を説明する。 explaining the principle of calculating the surface reflection intensity I 0 of the reflected light tanΨ and cosΔ and the steel plate 4.

【0023】図2に示すように偏光子8の透過軸Pと検光子11の透過軸Aが鋼板4の入射面となす角をα 1 The transmission axis transmission axis A is alpha 1 to the incident surface and the angle of the steel plate 4 of P and the analyzer 11 of the polarizer 8, as shown in FIG. 2,
α 2とすると、任意の入射角θで鋼板4に入射して反射したp偏光成分とs偏光成分が検光子11を通って合成されたときの光強度I(α 1 ,α 2 )は、p成分とs成分の振幅反射率をr p ,r sとすると次式で表せる。 When alpha 2, the light intensity I (α 1, α 2) when the p-polarized light component is reflected and enters the steel plate 4 at any angle of incidence θ and s-polarized light component is synthesized through the analyzer 11, the amplitude reflectance of the p and s components r p, When r s expressed by the following equation.

【0024】 [0024]

【数1】 [Number 1]

【0025】ここでα 1 =π/4にしたとき、α 2 =0の検光子11aを通った光強度I 1は、I 1 =I 0 ρ 2となり、α 2 =π/4の検光子11bを通った光強度I 2は、 [0025] when Here, α 1 = π / 4, the light intensity I 1 passing through the analyzer 11a of the alpha 2 = 0 is, I 1 = I 0 ρ 2 becomes, α 2 = π / 4 of the analyzer the light intensity I 2 passing through the 11b is
2 =I 0 (1+ρ 2 +2ρcosΔ)/2、α 2 =−π/4の検光子11cを通った光強度I 3は、I 3 =I 0 (1+ρ 2 I 2 = I 0 (1 + ρ 2 + 2ρcosΔ) / 2, the light intensity I 3 passing through the analyzer 11c of α 2 = -π / 4 is, I 3 = I 0 (1 + ρ 2
−2ρcosΔ)/2となる。 -2ρcosΔ) / 2 to become. この光強度I 1 ,I 2 ,I 3からtanΨとcosΔ及び表面反射強度I 0は次式で得られる。 The light intensity I 1, I 2, tanΨ from I 3 and cosΔ and surface reflection intensity I 0 is obtained by the following equation.

【0026】 [0026]

【数2】 [Number 2]

【0027】但し、光強度I 1 ,I 2 ,I 3はカメラのアンプゲインなどの選び方によって定数倍される場合もある。 [0027] However, the light intensity I 1, I 2, I 3 is also be constant multiple by selection of an amplifier gain of the camera.

【0028】次に、上記原理を使用した表面検査装置の動作を説明する。 [0028] Next, the operation of the surface inspection apparatus using the above principle. 投光部2から出射されて移動している鋼板4の表面で反射した偏光はビ−ムスプリッタ9a, Polarized light reflected by the surface of the steel sheet 4 that is moving is emitted from the light emitting unit 2 is bi - beam splitter 9a,
9bで分離され、検光子11a,11b,11cを通ってリニアアレイカメラ10a,10b,10cに入射する。 Separated by 9b, the analyzer 11a, 11b, the linear array camera 10a through 11c, 10b, is incident on 10c. このリニアアレイカメラ10a,10b,10cで反射光の光強度を検出するときに、リニアアレイカメラ10aの前面にはα 2 =0の検光子11aが設けられているから、リニアアレイカメラ10aは前記光強度I 1 The linear array camera 10a, 10b, when detecting the light intensity of the reflected light at 10c, because the analyzer 11a of the alpha 2 = 0 in front of the linear array camera 10a is provided, the linear array camera 10a is the the light intensity I 1
を検出し、リニアアレイカメラ10bの前面にはα 2 It detects, in front of the linear array camera 10b alpha 2 =
π/4の検光子11bが設けられているから、リニアアレイカメラ10bは前記光強度I 2を検出し、リニアアレイカメラ10cの前面にはα 2 =−π/4の検光子1 Since the analyzer 11b of the [pi / 4 are provided, the linear array camera 10b detects the light intensity I 2, the analyzer 1 of the front of the linear array camera 10c α 2 = -π / 4
1cが設けられているから、リニアアレイカメラ10c Since 1c are provided, the linear array camera 10c
は前記光強度I 3を検出する。 Detects the light intensity I 3. リニアアレイカメラ10 Linear array camera 10
a,10b,10cで検出した光強度I 1 ,I 2 ,I 3を示す画像信号がそれぞれ前処理部14a〜14bで前処理がされてフレ−ムメモリ15a〜15cに展開され、 a, 10b, the light intensity I 1 detected at 10c, I 2, an image signal indicating an I 3 is the preprocessed by the preprocessing section 14a~14b each frame - is expanded in frame memory 15a to 15c,
図4の画像説明図の(a)に示すように、I 1偏光画像26aとI 2偏光画像26bとI 3偏光画像26cを形成する。 As shown in (a) of an image illustration of FIG. 4, to form the I 1 polarization image 26a and I 2 polarized images 26b and I 3 polarization image 26c. ここでリニアアレイカメラ10a,10b,10 Here linear array camera 10a, 10b, 10
cは光学的に位置,角度を調整して同じ視野となっており、同じタイミングで検出した光強度I 1 ,I 2 ,I 3は鋼板4の同一位置で反射した光の光強度になっている。 c is optically positioned, by adjusting the angle has a same field, the light intensity was detected at the same timing I 1, I 2, I 3 is turned to the light intensity of the light reflected at the same position of the steel sheet 4 there.
なお、リニアアレイカメラ10a,10b,10cで同一位置の反射光を同じタイミングで検出できない場合は、リニアアレイカメラ10a,10b,10cの出力端に遅延回路等を設けて、検出位置とタイミングを合わせるようにしても良い。 Incidentally, the linear array camera 10a, 10b, if unable to detect the reflected light at the same position at the same timing at 10c, the linear array camera 10a, 10b, and a delay circuit or the like to the output terminal of the 10c, matching the detected position and timing it may be so.

【0029】パラメ−タ演算部16はフレ−ムメモリ1 [0029] parameters - data calculation unit 16 frame - frame memory 1
5a〜15cに格納された偏光画像31a〜31cの各画素の光強度I 1 ,I 2 ,I 3を示す画像信号からエリプソパラメ−タすなわち振幅反射率比tanΨと位相差Δを示すcosΔと鋼板4の反射光の表面反射強度I 0を演算して、メモリ17a〜17cにtanΨ画像デ−タとcosΔ画像デ−タ及びI 0画像デ−タとして格納する。 Light intensity of each pixel of the polarization image 31a~31c stored in 5a~15c I 1, I 2, ellipso parameters from an image signal indicating an I 3 - data i.e. cosΔ and the steel plate showing the amplitude reflectance ratio tanΨ and phase difference Δ the surface reflection intensity I 0 of the reflected light 4 calculates, tan image de in the memory 17a to 17c - data and cosΔ image de - data and I 0 image de - stored as data. エッジ検出部18はメモリ17a〜17cに展開されたtanΨ画像,cosΔ画像,I 0画像の鋼板4の領域では、図5に示すように、信号レベルが高く、鋼板4ではない背景領域では信号レベルが小さくなることから信号レベルが急激に変わっている点を鋼板4のエッジ部として特定して信号処理領域を定める。 Edge detecting unit 18 tanΨ image developed in the memory 17a to 17c, cos image, in the region of the I 0 image steel 4, as shown in FIG. 5, a high signal level, the signal level in the background region is not a steel plate 4 identify and the point where the signal level has changed rapidly since the smaller as the edge portion of the steel plate 4 defines a signal processing area. この信号処理領域におけるtan tan in this signal processing region
Ψ,cosΔ,I 0の1ラインの信号強度は、例えば図6 [Psi, cos, signal strength of one line of I 0, for example FIG. 6
(a)に示すように、幅方向に大きなむらがある。 (A), the there is a large non-uniformity in the width direction. そこで輝度むら補正部19は1ラインの信号を幅方向に基準点を中心に左右の数10点で移動平均して、図6(b)に示すように、移動平均した信号tanΨm,cosΔm,I 0 So the luminance non-uniformity correction section 19 and the moving average a few 10-point of the left and right around the reference point one line of the signal in the width direction, as shown in FIG. 6 (b), the moving average signal tanΨm, cosΔm, I 0
mを作成する。 To create a m. そして、図6(c)に示すように、移動平均前の信号tanΨ,cosΔ,I 0と移動平均した信号tan Then, as shown in FIG. 6 (c), the moving average signal before tan, cos, signal tan was moving average I 0
Ψm,cosΔm,I 0 m及び地肌である正常部を示す基準レベルCから次式により各画素毎の補正信号tanΨc,c Ψm, cosΔm, I 0 m from the reference level C indicating the normal portion is ground by the following equation for each pixel, and the correction signal tanΨc, c
osΔc,I 0 cを算出する。 Osderutashi, and calculates the I 0 c. なお、次式においてAは定数である。 Incidentally, A is a constant in the following equation.

【0030】 [0030]

【数3】 [Number 3]

【0031】この輝度むら補正した信号において、図6 [0031] In this luminance unevenness corrected signal, FIG. 6
(c)に示すように、鋼板4の地肌である正常部に対して明るく見える疵33aの信号レベルは正常部34の基準レベルCより高く、正常部に対して暗く見える疵33 (C), the signal level of the bright visible scratches 33a on the normal portion as a background of the steel sheet 4 is higher than the reference level C of the normal portion 34 appears dark relative to the normal portion the flaw 33
bの信号レベルは基準レベルCより低くなる。 b signal level is lower than the reference level C. この補正された画像を2値化処理部20で2値化して、tanΨ The corrected image is binarized by binarization processing unit 20, tan
c,cosΔc,I 0 cの2値化画像をぞれぞれメモリ21 c, cosΔc, I 0, respectively, respectively binarized image c memory 21
a〜21cに格納する。 And stores it in the a~21c. この2値化するときの2値化レベルは鋼板4の表面粗さや表面の塗油状態に応じて定められているが、測定したデ−タのピ−ク値やバラツキ等から自動的に求めてノイズレベルに設定しても良い。 While binarization level is determined according to oiled state of the surface roughness and the surface of the steel sheet 4 at the time of the binarization, measured de - automatically determined from the click value and variations in - data of Pi Te may be set to the noise level. また、疵は種類によって正常部のレベルに対して高いレベルになる場合と低いレベルになる場合があるため、図7 Further, since flaws that may be when a low level to become higher level relative to the level of the normal portion on the type, FIG. 7
に示すように正常レベルに対してプラス,マイナス両方の2値化レベル35a,35bを設定して2値化し、信号レベルがプラスの2値化レベル35aとマイナスの2 Plus to normal levels as shown in, binarization level 35a of the negative both, set 35b binarizes, 2 signal level of the binarization level 35a and negative positive
値化レベル35b以外の範囲を白、2値化レベル35 White range of non-binary level 35b, 2-valued level 35
a,35bの範囲内を黒として正常部とする。 a, the normal portion of the range of 35b as black.

【0032】この2値化画像はtanΨc,cosΔc,I 0 [0032] The binary image is tanΨc, cosΔc, I 0
cの3画像があり、例えば図4(b)に示すように、疵33a,33bが3画像に共通して異常値として検出されるとは限らない。 There are 3 images of c, for example, as shown in FIG. 4 (b), not necessarily the flaw 33a, 33b are detected as an outlier in common with 3 image. そこでオア処理部22はメモリ21 Therefore OR processor 22 memory 21
に格納されたtanΨc,cosΔc,I 0 cの2値画像を各画素毎にオア処理して、オア処理画像36を2値メモリ23に格納する。 Stored in the tanΨc, cosΔc, by ORing the binary image I 0 c for each pixel, and stores the OR process image 36 to a binary memory 23. 疵候補領域抽出部24は2値メモリ2 Flaw candidate region extraction unit 24 binary memory 2
3に格納されたオア処理画像36の疵部33a,33b Flaw portion 33a of the OR processing image 36 stored in the 3, 33b
を示す白い部分の位置を求め、図4(d)に示すように、白い部分に外接する長方形の領域を疵候補領域37 Obtain the position of the white portion indicating, FIG. 4 (d), the flaw candidate region 37 a rectangular region circumscribing the white part
a,37bとして抽出し、疵候補領域37a,37bの2点例えば右上のP 1 ,P 3点と左下のP 2 ,P 4点の座標から疵候補領域37a,37bを特定して特徴量演算部25に送る。 a, extracted as 37b, flaw candidate region 37a, P 1 two points e.g. the upper right of 37b, P 3 points and lower left P 2, flaws from the coordinates of P 4-point candidate area 37a, to identify 37b by the feature calculation and it sends it to the part 25. 特徴量演算部25は疵候補領域37a,3 Feature calculation unit 25 is flaw candidate region 37a, 3
7bにおける各画素のtanΨc,cosΔc,I 0 cのピ− Of each pixel in 7b tanΨc, cosΔc, I 0 c of the peak -
ク値又は平均値を求め、疵候補領域37a,37bにおけるtanΨc,cosΔc,I 0 cのピ−ク値又は平均値が正常部の基準レベルよりプラス領域かマイナス領域かを示す極性を求め、極性パタ−ン等の疵特徴量Eppを例えば、Epp=9Δp+3Ψp+Ipで演算する。 Obtains a click or average value, tanΨc, cosΔc, I 0 c of the peak in the flaw candidate areas 37a, 37b - seeking polarity indicating whether positive region or negative region than click or average value of the reference level of the normal portion, the polarity pattern - the flaw feature quantity Epp of such emissions for example, be calculated by Epp = 9Δp + 3Ψp + Ip. ここでΨpはtanΨcの極性、ΔpはcosΔcの極性、IpはI 0 cの極性を示し、例えばプラス極性のときは「2」、正常部と同じときは「1」、マイナス極性のときは「0」と数値化して表す。 Here Ψp the polarity Tanpusaishi, Delta] p is polarity Cosderutashi, Ip indicates the polarity of the I 0 c, for example when the positive polarity "2", the same time as the normal portion "1", when the negative polarity " 0 "and represented by digitizing.

【0033】また、疵特微量Eppと同様に、疵候補領域37a,37bにおける各画素I1,I2,I3のピ−ク値又は平均値を求め、疵候補領域37a,37bにおける各画素I1,I2,I3のピ−ク値又は平均値が正常部の基準レベルよりプラス領域かマイナス領域かを示す極性を求め、極性パタ−ンの疵特微量Ippを例えばIpp=9I1p+3I2p+I3pで演算する。 Further, as with Kizutoku trace Epp, flaw candidate region 37a, peak of each pixel I1, I2, I3 in 37b - seek click or average value, each pixel in the defect candidate regions 37a, 37b I1, I2 , I3 of peak - seeking polarity indicating whether positive region or negative region than click or average value of the normal portion reference level, the polarity pattern - calculating a Kizutoku trace Ipp of emissions for example, Ipp = 9I1p + 3I2p + I3p. ここでI1pはI1の極性、I2pはI2の極性、I3p Here I1p the polarity of I1, I2p the polarity of I2, I3p
はI3の極性を示し、例えばプラス極性のときは「2」、正常部と同じときは「1」、マイナス極性のときは「0」と数値化して表す。 It indicates the polarity of I3, for example, when the positive polarity "2", the same time as the normal portion is "1", when the negative polarity expressed numerically as "0". さらに、特徴量演算部2 Further, the feature calculation unit 2
5は疵候補領域抽出部24で算出した疵候補領域の座標から疵の長さと幅を求める。 5 determine the length and width of the flaw from the coordinates of the flaw candidate areas calculated in flaw candidate area extraction unit 24.

【0034】疵判定部26は送られた疵候補領域37 The flaw determination unit 26 flaw candidate area 37 is sent
a,37bの疵特徴量Eppを使って疵の種類を判定する。 a, it determines the type of flaw by using the flaw feature quantity Epp of 37b. 例えば冷延鋼板における異なる疵種S,T,U, For example different flaw types in the cold-rolled steel sheet S, T, U,
V,W,Xに対するtanΨc,cosΔc,I 0 cの極性変化を調べた結果と疵特徴量Eppは図8に示すようになり、鍍金鋼板における異なる疵種S,X,Y,Z,Wに対するtanΨc,cosΔc,I 0 cの極性変化を調べた結果と疵特徴量Eppは図9に示すようになった。 V, W, Tanpusaishi for X, cosΔc, I 0 results flaw feature quantity Epp of examining the change in polarity c is as shown in FIG. 8, different flaw types S in plated steel sheet, X, Y, Z, for the W tanΨc, cosΔc, results and flaw feature quantity Epp of examining the change in polarity I 0 c are as shown in FIG. そこで疵判定部26はこの各疵種の疵特徴量Eppと特徴量演算部25で算出した疵特徴量Eppから疵種を判別する。 Therefore flaw determination unit 26 determines flaw species from the flaw feature quantity Epp calculated in flaw feature quantity Epp and feature calculation portion 25 of each flaw types. すなわち、tanΨc,cosΔc,I 0 cの極性の1又は2つの組合せでは、図8,図9に示すように疵種を判別することはできないが、tanΨc,cosΔc,I 0 cの3つの極性を組み合わせることにより疵種を明確に区分けすることができる。 That, tanΨc, cosΔc, in one or a combination of the two polarities of I 0 c, 8, it is not possible to determine the flaw type as shown in FIG. 9, tanΨc, cosΔc, three polarity I 0 c it can be clearly divided flaws species by combining. そこで例えば冷延鋼板の場合には、疵特徴量Eppが「0」のときは疵種Tと判定し、 Therefore, for example, in the case of cold-rolled steel sheet, flaw feature quantity Epp is determined to flaw type T when the "0",
疵特徴量Eppが「1」のときは疵種Vと判定し、疵特徴量Eppが「12」のときは疵種Wと判定し、疵特徴量Eppが「18」のときは疵種Sか疵種Xと判定し、疵特徴量Eppが「24」のときは疵種Uと判定する。 When flaw feature quantity Epp is "1" determines that flaw species V, flaw feature quantity Epp is determined to flaw type W when the "12", flaw species S when a flaw feature quantity Epp is "18" or determines that the flaw species X, when flaw feature quantity Epp of "24" determines that the flaw type U.

【0035】上記のように冷延鋼板の疵種Sと疵種Xのように疵特微量Eppだけでは区分できない場合もある。 The only Kizutoku trace Epp as flaw species S and flaws species X of cold-rolled steel sheet as described above may not be classified. このような場合には、さらに疵候補領域37a,3 In such a case, further flaw candidate region 37a, 3
7bの疵特微量Ippも使う。 Kizutoku trace Ipp of 7b also use. 冷延鋼板における異なる疵種S,T,U,V,W,Xに対するI1,I2,I3 I1 different flaw types S in cold-rolled steel sheet, T, U, V, W, for the X, I2, I3
の極性変化を調べた結果と疵特微量Ippは図10に示すようになり、鍍金鋼板における異なる疵種S,X, The result of examining the change in polarity and Kizutoku trace Ipp becomes as shown in FIG. 10, different flaw types S in plated steel sheet, X,
Y,Z,Wに対するI1,I2,I3の極性変化を調べた結果と疵特微量Ippは図11に示すようになった。 Y, Z, I1 for W, I2, results of examining the change in polarity I3 and Kizutoku trace Ipp were as shown in FIG. 11.
冷延鋼板の疵種Sと疵種Xについては疵特微量Eppが同じであるため区分ができなかったが、疵特微量Ipp But for the flaw species S and flaws species X of cold-rolled steel sheet could not be classified for Kizutoku trace Epp are the same, Kizutoku trace Ipp
が異なるので、疵特微量Ippにより明確に区分することができる。 So is different, it can be clearly distinguished by Kizutoku trace Ipp. また、疵の等級はtanΨ,cosΔ,I 0のピ−ク値や平均値、疵の長さ、幅も使い判定する。 Also, the grade of flaws tan, cos, peak of I 0 - click value or average value, of flaw length, also used determines the width.

【0036】なお、上記実施例は偏光画像から直ちにta [0036] It should be noted that the embodiments described immediately ta a polarizing image
nΨ,cosΔ,I 0を演算した場合について説明したが、 nΨ, cosΔ, a case has been described in which to calculate the I 0,
1 ,I 2 ,I 3の偏光画像から疵候補領域を検出してから疵候補領域内だけtanΨ,cosΔ,I 0を演算したり、 I 1, I 2, I 3 of polarization from the detection of the flaw candidate region from the image only flaw candidate region tan, cos, or calculates the I 0,
1 ,I 2 ,I 3の偏光画像から検出した疵候補領域内の測定光強度の代表値例えばピ−ク値や平均値からtan I 1, I 2, the representative value, for example peak of the measurement light intensity of the flaw candidate region detected from the polarized image of I 3 - tan from click value and the average value
Ψ,cosΔ,I 0を演算するようにしても良い。 [Psi, cos, may be computed to I 0.

【0037】また、上記実施例は鋼板4からの反射光から異なる3つの偏光成分を抽出するためにビ−ムスプリッタ9a,9bを用いた場合について説明したが、図1 Further, the examples of the bicycloalkyl to extract three polarization component different from the reflected light from the steel plate 4 - beam splitter 9a, it has been described with 9b, Fig 1
2に示すように鋼板4の移動方向に距離L毎にずれた位置を検出するリニアアレイカメラ10a〜10cを用い、設置位置のずれを考慮してメモリ上から偏光画像を読み出してエリプソパラメ−タと表面反射強度を演算するようにしても良い。 Using a linear array camera 10a~10c for detecting a position shifted in the moving direction of the steel sheet 4 for each of the range L as shown in 2, ellipsometry parameters in considering the displacement of the installation position reads the polarization image from memory - data the surface reflection intensity may be calculated as.

【0038】なお、上記実施例は受光部3に1次元のリニアアレイカメラ10a〜10cを使用して鋼板4からの反射光を検出した場合について説明したが、2次元カメラを使用して鋼板4からの反射光を検出しても良い。 [0038] The above embodiments have been explained as detecting the reflected light from the steel plate 4 by using the one-dimensional linear array camera 10a~10c the light receiving unit 3, the steel plate 4 by using the two-dimensional camera may be detected light reflected from.

【0039】また、上記実施例は光学系1の受光部3に3組のリニアアレイカメラ10a〜10cを設けた場合について説明したが、図13に示すように、受光部3に3板式偏光リニアアレイカメラ31を使用しても良い。 Further, the above embodiment has been described the case of providing three sets of linear array camera 10a~10c the light receiving unit 3 of the optical system 1, as shown in FIG. 13, the light receiving unit 3 three-plate type polarization linear You may be using an array camera 31.
図13に示す光学系1は投光部2と3板式偏光リニアアレイカメラ31を有する。 Optical system 1 shown in FIG. 13 has a light projecting portion 2 and the three-plate type polarization linear array camera 31. 投光部2は被検査体例えば鋼板4の表面に一定の入射角で偏光を入射するものであり、光源5と光源5の前面に設けられた偏光子8とを有する。 The light projecting portion 2 is intended to incident polarized light at a certain incidence angle to the surface of the inspection object for example steel plates 4, and a polarizer 8 disposed in front of the light source 5 and the light source 5. 光源5は鋼板4の幅方向に伸びた棒状発光装置からなり、鋼板4の幅方向全体に一定間隔で光を照射する。 Light source 5 consists of rod-shaped light emitting device extending in the width direction of the steel sheet 4 is irradiated with light at regular intervals in the entire width direction of the steel sheet 4. また、場合によっては光源5と偏光子8の間にシリンドリカルレンズを設けて、光源5からの光を鋼板4の表面に集光しても良い。 In some cases the light source 5 is provided with a cylindrical lens between the polarizer 8, it may focus the light from the light source 5 on the surface of the steel sheet 4. 偏光子8は例えば1/4波長板からなり、図14の配置説明図に示すように、透過軸P Polarizer 8 is made of, for example, quarter-wave plate, as shown in arrangement diagram of Figure 14, the transmission axis P
が鋼板4の入射面となす角α 1がπ/4になるように配置されている。 There incident plane and the angle alpha 1 of the steel plate 4 is arranged so as to [pi / 4. 3板式偏光リニアアレイカメラ31は、 3-plate type polarization linear array camera 31,
図15の構成図に示すように、ビ−ムスプリッタ32と3個の検光子33a,33b,33cと3個のリニアアレイセンサ34a,34b,34cとを有する。 As shown in the diagram of FIG. 15, bi - having beam splitter 32 and three analyzers 33a, 33b, 33c and three linear array sensors 34a, 34b, and 34c. ビ−ムスプリッタ32は3個のプリズムからなり、入射面に誘電体多層膜を蒸着した半透過性を有する反射面が2面設けられ、鋼板4からの反射光を入射する第1の反射面3 Bi - beam splitter 32 is composed of three prisms, reflecting surface having a semipermeable formed by depositing a dielectric multilayer film is provided two surfaces on the incident surface, a first reflecting surface for incident light reflected from the steel sheet 4 3
2aは透過率と反射率が2対1の割合になっており、第1の反射面32aを透過した光を入射する第2の反射面32bは透過率と反射率が1対1の割合になっており、 2a the transmittance and reflectance has become a ratio of 2 to 1, the second percentage reflectance of 1-to-1 and the reflecting surface 32b transmittance of incident light transmitted through the first reflecting surface 32a We have been,
鋼板4からの反射光を同じ光量の3本のビ−ムに分離する。 Three bi of the same amount of light reflected from the steel plate 4 - separating the beam. また、ビ−ムスプリッタ32の入射面から分離した3本のビ−ムの出射面までの光路長は同じにしてある。 Further, bi - three bi separated from the incident surface of the beam splitter 32 - the optical path length to the exit surface of the beam is are the same.
検光子33aは第2の反射面32bの透過光の光路に設けられ、図14に示すように、方位角すなわち透過軸が鋼板4の入射面となす角α 2が0度になるように配置され、検光子33bは第2の反射面32bの反射光の光路に設けられ、方位角α 2がπ/4度になるように配置され、検光子33cは第1の反射面32aの反射光の光路に設けられ、方位角α 2が−π/4になるように配置されている。 Analyzer 33a is provided on the optical path of the transmitted light of the second reflecting surface 32b, as shown in FIG. 14, the azimuth angle or transmission axes arranged such that the incident surface and the angle alpha 2 of the steel plate 4 is 0 degrees is, the analyzer 33b is provided on the optical path of the reflected light of the second reflecting surface 32b, are arranged so as azimuth angle alpha 2 is [pi / 4 degrees, the analyzer 33c is reflected light of the first reflecting surface 32a provided in the optical path, the azimuth angle alpha 2 is arranged so as to - [pi] / 4. リニアアレイセンサ34a,34b,34cは例えばCCDセンサからなり、それぞれ検光子33a, Linear array sensors 34a, 34b, 34c is a CCD sensor, for example, each analyzer 33a,
33b,33cの後段に配置されている。 33b, it is disposed downstream of 33c. また、ビ−ムスプリッタ32と検光子33a,33b,33cの間にはビ−ムスプリッタ32内の多重反射光や不必要な散乱光をカットするスリット35a,35b,35cが設けられ、ビ−ムスプリッタ32の前段にはレンズ群36が設けられている。 Further, bi - beam splitter 32 and the analyzer 33a, 33b, between 33c bi - slits 35a to cut the multiple reflected light and unnecessary scattered light in the beam splitter 32, 35b, 35c are provided, bi - lens group 36 is provided in front of the beam splitter 32. また、リニアアレイセンサ34a,3 The linear array sensor 34a, 3
4b,34cは同じ光強度の光が入射したときに同じ信号を出力するように利得が調整してある。 4b, 34c are are gain adjusted to output the same signal when light of the same light intensity is incident.

【0040】このように入射した光を分離した3本のビ−ムの光路に検光子33a〜33cとリニアアレイセンサ34a〜34cが一体化して設けられているから、リニアアレイセンサ34a〜34c等を鋼板4の搬送路近傍に設置して鋼板4からの反射光を検出するときに、リニアアレイセンサ34a〜34c等の位置調整を必要としないとともに、鋼板4の同じ位置からの反射光を同じタイミングで検出することができる。 [0040] Thus incident three bi where the light is separated - from the analyzer 33a~33c a linear array sensor 34a~34c the optical path of the beam are provided integrally, the linear array sensor 34a~34c etc. when detecting reflected light from the installed steel sheet 4 to the conveying path near the steel plate 4, with no need of positional adjustment, such as a linear array sensor 34 a - 34 c, the same reflected light from the same position of the steel sheet 4 it can be detected at the timing. また、3板式偏光リニアアレイカメラ31内に3組のリニアアレイセンサ34a〜34cがまとまって収納されて小型化しているから、3板式偏光リニアアレイカメラ31を鋼板4の反射光の光路に簡単に配置することができるとともに、配置位置を任意に選択することができ、光学系1の配置の自由度を向上することができる。 Further, 3 because plate type polarization linear array camera 31 three sets of linear array sensor 34a~34c in is accommodated together with being compact, easy to three-plate type polarization linear array camera 31 in the optical path of the reflected light of the steel plate 4 it is possible to place, position optionally can choose, it is possible to improve the degree of freedom of arrangement of the optical system 1.

【0041】また、上記実施例は受光部3が鋼板4からの正反射光を受光するように配置されている場合について説明したが、検出する疵種によっては鋼板4からの散乱反射光を受光するようにしても良い。 Further, the above embodiment has been described which is arranged so as the light receiving unit 3 receives the regular reflection light from the steel plate 4, receiving scattered light reflected from the steel plate 4 by flaws species detected it may be.

【0042】 [0042]

【発明の効果】この発明は以上説明したように、異なる3種類の偏光画像から疵候補領域を抽出し、疵候補領域の各画素におけるエリプソパラメ−タtanΨとcosΔ及び表面反射強度I 0のピ−ク値又は平均値の正常部に対する大小を示す極性を算出し、算出したエリプソパラメ− Effects of the Invention The present invention as described above, three different types of polarized images to extract the flaw candidate region from ellipsometry in each pixel of the flaw candidate region parameters - data tanΨ and cosΔ and peak surface reflection intensity I 0 - calculating a polarity indicating a magnitude to normal portions of the click or average value, calculated ellipso parameters -
タtanΨとcosΔと表面反射強度I 0の極性変化の組合せを示す疵特徴量から疵の種類を判定するようにしたから、散乱光や回折では検出できなかった表面の物性変化をも検出することができ、疵の検出精度を高めることができる。 Because it was from flaw feature quantity indicating a combination of a change in polarity data tanΨ and cosΔ and surface reflection intensity I 0 to determine the type of flaw, detecting even a change in physical properties could not be detected surface with scattered light or diffracted can be, it is possible to improve the detection accuracy of the flaw.

【0043】また、疵の種類を判別するときに疵候補領域内におけるエリプソパラメ−タtanΨとcosΔと表面反射強度I 0の極性変化の組合せに加えて疵部の3種類の測定光強度の極性変化の組合せによる疵を判別することにより、より詳細に疵の種類と等級を判別することができる。 [0043] Further, ellipso parameters in flaw candidate region when determining the type of flaws - polarity three measuring light intensity of the flaw portion in addition to the combination of the polarity change of the data tanΨ and cosΔ and surface reflection intensity I 0 by determining the flaw by the combination of the change, it is possible to determine the type and grade of flaw in more detail.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】この発明の実施例の光学系を示す配置図である。 1 is a layout view showing an optical system of the embodiment of the present invention.

【図2】上記実施例の配置を示す説明図である。 FIG. 2 is an explanatory view showing an arrangement of the above embodiment.

【図3】上記実施例の信号処理部を示すブロック図である。 3 is a block diagram showing a signal processing unit of the embodiment.

【図4】上記実施例の動作を示す画像説明図である。 Figure 4 is an image diagram showing the operation of the above-described embodiment.

【図5】エッジ検出動作を示す信号強度分布図である。 5 is a signal intensity distribution diagram showing an edge detection operation.

【図6】輝度むら補正動作を示す説明図である。 6 is an explanatory diagram showing a luminance nonuniformity correction operation.

【図7】2値化レベルを示す濃度特性図である。 7 is a density characteristic diagram showing the binarization level.

【図8】冷延鋼板における疵種の極性特性図である。 8 is a polar characteristic diagram of flaw species in cold-rolled steel sheet.

【図9】鍍金鋼板における疵種の極性特性図である。 9 is a polar characteristic diagram of flaw species in plated steel sheet.

【図10】冷延鋼板における疵種の他の極性特性図である。 Figure 10 is another polar characteristic diagram of flaw species in cold-rolled steel sheet.

【図11】鍍金鋼板における疵種の他の極性特性図である。 11 is another polar characteristic diagram of flaw species in plated steel sheet.

【図12】他の光学系を示す配置図である。 12 is a layout view showing another optical system.

【図13】第3の光学系を示す配置図である。 13 is a layout diagram showing a third optical system.

【図14】第3の光学系の動作を示す配置説明図である。 14 is a layout diagram depicting operation of the third optical system.

【図15】第3の光学系の3板式偏光リニアカメラの構成図である。 FIG. 15 is a configuration diagram of a three-plate type polarization linear camera of the third optical system.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 光学系 2 投光部 3 受光部 4 鋼板 8 偏光子 9 ビ−ムスプリッタ 10 リニアアレイカメラ 11 検光子 13 信号処理部 14 前処理部 15 フレ−ムメモリ 16 パラメ−タ演算部 18 エッジ検出部 19 輝度むら補正部 20 2値化処理部 22 オア処理部 24 疵候補領域抽出部 25 特徴量演算部 26 疵判定部 1 optical system 2 light transmitting unit 3 receiving portion 4 steel 8 polarizer 9 bi - beam splitter 10 linear array camera 11 analyzer 13 signal processing unit 14 pre-processing unit 15 frame - frame memory 16 parameters - data calculating unit 18 the edge detector 19 brightness non-uniformity correction section 20 binarization section 22 OR processing unit 24 flaw candidate area extraction unit 25 the feature calculation unit 26 flaw determining unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大重 貴彦 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Takahiko Oshige Marunouchi, Chiyoda-ku, tokyo chome No. 1 No. 2 Date. this steel pipe in the Corporation

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 投光部と受光部と信号処理部とを有し、 投光部は被検査面の幅方向全体にわたり偏光光束を入射し、 受光部は被検査面からの反射光から異なる3つの偏光成分を抽出して画像信号に変換し、 信号処理部はパラメ−タ演算部と特徴量演算部及び疵判定部とを有し、パラメ−タ演算部は上記画像信号からエリプソパラメ−タと表面反射強度を算出し、特徴量演算部は疵候補領域内におけるエリプソパラメ−タと表面反射強度の正常部に対する大小を示す極性を算出し、算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算し、疵判定部は演算した疵特徴量から表面疵の種類を判定することを特徴とする表面検査装置。 Have a 1. A light projecting section and a light receiving portion and a signal processing unit, the light projecting portion is incident to the polarized light beam across the width of the inspected surface, the light receiving portion is different from the reflected light from the inspected surface extracted three polarization component is converted into an image signal, the signal processing unit parameters - and a data computation unit and the feature amount calculation unit and the flaw determination unit, parameter - data calculating unit ellipso parameters from the image signal - calculates the data and surface reflection intensity, feature calculation section ellipso parameters in flaw candidate region - calculating a polarity indicating a magnitude to normal portions of the motor and the surface reflection intensity, calculated ellipso parameters - the motor and the surface reflection intensity calculates the flaw feature quantity combination of polarities of, flaw determination unit surface inspection apparatus characterized by determining the type of surface flaw from flaw feature amount calculated.
  2. 【請求項2】 上記特徴量演算部は疵候補領域内におけるエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算するとともに疵候補領域内における異なる偏光画像の光強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算し、疵判定部は演算したエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量と光強度による疵特徴量から表面疵の種類を判定する請求項1記載の表面検査装置。 Wherein ellipso parameters in the feature quantity calculation section flaw candidate region - the light intensity of the different polarization image in flaw candidate region as well as calculating the flaw feature quantity combination of polarities of the data and the surface reflection intensity polarity calculates the flaw feature amount by combining, flaw determination unit ellipso parameters computed - data and flaw feature quantity combination of polarities of the surface reflection intensity of the claims 1, wherein determining the type of surface flaw from flaw feature quantity by the light intensity surface inspection apparatus.
  3. 【請求項3】 上記信号処理部はパラメ−タ演算部と特徴量演算部と疵判定部とともに疵候補領域抽出部を有し、 疵候補領域抽出部は上記エリプソパラメ−タと表面反射強度の画像の濃度レベルが地肌レベルに相当する基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補領域として抽出する請求項1又は2記載の表面検査装置。 Wherein said signal processing unit parameters - have flaw candidate region extraction unit with data computing section and the feature amount calculation unit and the flaw determination unit, flaw candidate region extraction unit above ellipso parameters - the motor and the surface reflection intensity concentration level surface inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein extracting the regions to be outside the range of the reference density level corresponding to a background level as a flaw candidate region of the image.
  4. 【請求項4】 投光部と受光部と信号処理部とを有し、 投光部は被検査面の幅方向全体にわたり偏光光束を入射し、 受光部は被検査面からの反射光から異なる3つの偏光成分を抽出して画像信号に変換し、 信号処理部は疵候補領域抽出部とパラメ−タ演算部と特徴量演算部及び疵判定部を有し、疵候補領域抽出部は上記3つの偏光成分の画像信号の画像の濃度レベルが地肌レベルに相当する基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補領域として抽出し、パラメ−タ演算部は疵候補領域内で画像信号からエリプソパラメ−タと表面反射強度を算出し、特徴量演算部は算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度の正常部に対する大小を示す極性を算出し、算出したエリプソパラメ−タと表面反射強度の極性の組合せによる疵特徴量を演算し、 Has a 4. A light projector and a light receiver and a signal processing unit, the light projecting portion is incident to the polarized light beam across the width of the inspected surface, the light receiving portion is different from the reflected light from the inspected surface extracted three polarization component is converted into an image signal, the signal processing section flaw candidate region extraction unit and the parameters - have data calculation unit and the feature amount calculation unit and the flaw determination unit, flaw candidate area extraction unit above 3 One of density level of the image of the image signal of the polarized light component is extracted an area outside the range of the reference density level corresponding to a background level as a flaw candidate region parameters - ellipso parameters from the image signal data calculating unit in the flaw candidate region - calculating the motor and the surface reflection intensity, feature calculation section calculated ellipso parameters - calculating a polarity indicating a magnitude to normal portions of the motor and the surface reflection intensity, calculated ellipso parameters - the motor and the surface reflection intensity polarity It calculates the flaw feature quantity by the combination, 疵判定部は演算した疵特徴量から表面疵の種類を判定することを特徴とする表面検査装置。 Flaw determining unit surface inspection apparatus characterized by determining the type of surface flaw from flaw feature amount calculated.
  5. 【請求項5】 上記受光部は被検査面からの反射光を3 5. 3 The light reflected from the light receiving portion surface to be inspected
    本のビ−ムに分離するビ−ムスプリッタと、分離された3本のビ−ムの光路にそれぞれ設けられ、それぞれ異なる方位角を有する検光子と、各検光子を透過した光を受光するリニアアレイセンサとを有する請求項1,2,3 This bicycloalkyl - bi separating the beam - and beam splitter, three bi separated - respectively provided in the optical path of the beam, for receiving the analyzer having different azimuth angles respectively, the light transmitted through the analyzer claim and a linear array sensor 1, 2, 3
    又は4記載の表面検査装置。 Or 4 surface inspection apparatus according.
JP29789596A 1995-10-24 1996-10-23 Inspection apparatus for surface Granted JPH09178667A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7-298834 1995-10-24
JP29883495 1995-10-24
JP29789596A JPH09178667A (en) 1995-10-24 1996-10-23 Inspection apparatus for surface

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29789596A JPH09178667A (en) 1995-10-24 1996-10-23 Inspection apparatus for surface

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09178667A true true JPH09178667A (en) 1997-07-11

Family

ID=26561286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29789596A Granted JPH09178667A (en) 1995-10-24 1996-10-23 Inspection apparatus for surface

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09178667A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000055605A1 (en) * 1999-03-18 2000-09-21 Nkk Corporation Defect marking method and device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000055605A1 (en) * 1999-03-18 2000-09-21 Nkk Corporation Defect marking method and device
US7248366B2 (en) 1999-03-18 2007-07-24 Nkk Corporation Method for marking defect and device therefor
US7423744B2 (en) 1999-03-18 2008-09-09 Nkk Corporation Method for marking defect and device therefor
US7599052B2 (en) 1999-03-18 2009-10-06 Nkk Corporation Method for marking defect and device therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6597448B1 (en) Apparatus and method of inspecting foreign particle or defect on a sample
US6166393A (en) Method and apparatus for automatic inspection of moving surfaces
US5436464A (en) Foreign particle inspecting method and apparatus with correction for pellicle transmittance
US5076692A (en) Particle detection on a patterned or bare wafer surface
US6940604B2 (en) Thin-film inspection method and device
US5333052A (en) Method and apparatus for automatic optical inspection
US4974261A (en) Optical surface inspection method
US5125741A (en) Method and apparatus for inspecting surface conditions
US6768543B1 (en) Wafer inspection apparatus with unique illumination methodology and method of operation
US5212390A (en) Lead inspection method using a plane of light for producing reflected lead images
US5737074A (en) Surface inspection method and apparatus
US7068363B2 (en) Systems for inspection of patterned or unpatterned wafers and other specimen
US6222624B1 (en) Defect inspecting apparatus and method
US20030081201A1 (en) Method and apparatus for inspecting defects
US6122047A (en) Methods and apparatus for identifying the material of a particle occurring on the surface of a substrate
US4845374A (en) Method and apparatus for detecting the deposition of an adhesive on a travelling web
US20040125375A1 (en) Method and system for optical inspection of an object
US6064478A (en) Method of and apparatus for automatic detection of three-dimensional defects in moving surfaces by means of color vision systems
WO1999038002A1 (en) Optical inspection method and apparatus
US5699153A (en) Method and apparatus for optical inspection
US5835220A (en) Method and apparatus for detecting surface flaws
US20060273263A1 (en) Apparatus and method for enhanced critical dimension scatterometry
US20050018183A1 (en) Method and apparatus for determining surface layer thickness using continuous multi-wavelength surface scanning
US7551274B1 (en) Defect detection lighting system and methods for large glass sheets
JPH10325711A (en) Method and apparatus for inspection as well as manufacture of semiconductor substrate

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees