Claims (5)
폴리에스터 수지 100중량부, 폴리옥시알킬렌 글리콜 수지 0.05∼10중량부, 유기 설폰산의 금속염화물 0.1∼10중량부, 리튬염화합물 0.05∼5중량부로 구성된 것을 특징으로 하는 제전성 폴리에스터 수지 조성물.Antistatic polyester resin composition comprising 100 parts by weight of polyester resin, 0.05 to 10 parts by weight of polyoxyalkylene glycol resin, 0.1 to 10 parts by weight of metal chloride of organic sulfonic acid, and 0.05 to 5 parts by weight of lithium salt compound .
제1항에 있어서, 폴리에스터 수지가 다음 식(Ⅰ)로 표시되는 반복단위를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 제전성 폴리에스터 수지 조성물.The antistatic polyester resin composition according to claim 1, wherein the polyester resin contains a repeating unit represented by the following formula (I) as a main component.
-(-OC-Ph-COO(CH2)n-0-)- (Ⅰ)-(-OC-Ph-COO (CH 2 ) n -0-)-(I)
상기 식에서 Ph는 페닐, n은 2∼6의 정수를 나타낸다.In the above formula, Ph is phenyl and n is an integer of 2-6.
제1항에 있어서, 폴리옥시알킬렌 글리콜 수지가 폴리에틸렌 글리콜 또는 옥시에틸렌 반복단위를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 제전성 폴리에스터 수지 조성물.The antistatic polyester resin composition according to claim 1, wherein the polyoxyalkylene glycol resin has a polyethylene glycol or an oxyethylene repeating unit as a main component.
제1항에 있어서, 유기설폰산 금속염이 다음 식(Ⅱ)로 표시되는 화합물임을 특징으로 하는 제전성 폴리에스터 수지 조성물.The antistatic polyester resin composition according to claim 1, wherein the organosulfonic acid metal salt is a compound represented by the following formula (II).
RSO3M (Ⅱ)RSO 3 M (Ⅱ)
상기 식에서 R은 탄소수 8 이상의 알킬기 또는 알킬 방향족기이고, M은 알카리금속을 나타낸다.In the above formula, R is an alkyl group having 8 or more carbon atoms or an alkyl aromatic group, and M represents an alkali metal.
제1항에 있어서, 리튬염 화합물이 다음 식(Ⅲ)으로 표시되는 화합물임을 특징으로 하는 제전성 폴리에스터 수지 조성물.The antistatic polyester resin composition according to claim 1, wherein the lithium salt compound is a compound represented by the following formula (III).
LiX (Ⅲ)LiX (Ⅲ)
상기 식애서 X는 불소, 염소, 브롬, 요오드와 같은 할로겐 원소 또는 유기카본산, 황산, 질산, 유기황산과 같은 음이온 형태의 원자 또는 분자를 나타낸다.Wherein X represents an atom or molecule in the form of a halogen element such as fluorine, chlorine, bromine or iodine or an anion form such as organic carbonic acid, sulfuric acid, nitric acid or organic sulfuric acid.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.