KR970008565B1 - 전자총 - Google Patents

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KR970008565B1
KR970008565B1 KR1019940005459A KR19940005459A KR970008565B1 KR 970008565 B1 KR970008565 B1 KR 970008565B1 KR 1019940005459 A KR1019940005459 A KR 1019940005459A KR 19940005459 A KR19940005459 A KR 19940005459A KR 970008565 B1 KR970008565 B1 KR 970008565B1
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히사까즈 야마네
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미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤
기따오까 다까시
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/50Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube

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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

내용없음.

Description

전자총
제1도는 종래의 인라인형 전자총이 마련된 음극선관의 3극부의 모식도.
제2도는 제1도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제3도는 제1도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제4도는 제1도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제5도는 본 발명에 따른 인라인형 전자총의 주요부를 도시한 도면.
제6도는 제5도의 제2그리드의 모식적 단면도.
제7도는 제1그리드측에서 본 제5도의 제2그리드의 측면도.
제8도는 스크린측에서 본 제5도의 제2그리드의 측면도.
제9도는 제5도의 제3그리드의 사시도.
제10도는 제5도의 제3그리드의 정면도.
제11도는 제5도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제12도는 제5도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제13도는 제5도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제14도는 제5도의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도.
제15도는 본 발명의 다른 실시예에 있어서의 제1 및 제2그리드의 모식도.
제16도는 본 발명의 또 다른 실시예에 있어서의 제1 및 제2그리드의 모식도.
본 발명은 예를들면, 3개의 전자빔을 하나의 평면상에 방사하는 인라인형 전자총에 관한 것이다.
제1도는 종래의 인라인형 전자총이 구비된 음극선관의 3극부의 모식도이다. 도면에는 1개의 전자빔만을 도시하고 있다.
제1도의 음극선관에 있어서, 원형의 캐소드(1), 제1그리드(12), 제2그리드(13), 포커스전극(제3그리드)(14) 및 고압전극(제4그리드)(15)의 순서로 마련되어 있다. 원형의 통과구멍(12a)는 캐소드(1)에서 방사되는 전자빔을 통과시키기 위해 제1그리드(12)에 형성된다. 마찬가지로, 원형의 통과구멍(13a)는 제2그리드(13)의 제1그리드(12)측에 형성되고, 원형의 통과구멍(13a)와 반대측에 수직방향보다 수평방향으로 긴 구형의 통과구멍(13b)이 형성되어 있다. 포커스전극(14)는 제2그리드(13)과 함께 프리포커스렌즈를 구성하고, 고압전극(15)는 포커스전극(14)와 함께 주포커스렌즈를 구성한다. 음극선관의 정면의 스크린(16)은 집속된 전자빔이 표면에 충돌할때 발광하는 형광면을 갖는다.
제1그리드(12)에는 캐소드(1) 보다는 낮은 전압이 인가된다.
캐소드(1)과 제1그리드(12) 사이의 전위차로 전자량을 제어하여 전자빔을 방사한다. 그리고, 정전압을 제2그리드(13)에 인가하는 것에 의해, 제1그리드(12)의 통과구멍(12a)을 통과한 전자빔은 제2그리드(13)에 흡인된다. 또, 제2그리드(13)을 통과한 전자빔은 제3 및 제4그리드(14) 및 (15)에 인가되는 정전압에 의해 가속되고 집속되어 소정의 속도로 스크린(16)에 도달한다.
제2도는 상술한 구성의 전자총에 있어서의 전자빔의 궤도의 설명도이다. 캐소드표면에서 방사되어 주포커스렌즈를 통과하는 전자빔은 스크린(16)의 각 점을 주사하기 위해, 음극선관 외부에 구비된, 예를들면 편향요크(도시하지 않음)에 의해 편향된다. 제2도에 있어서, V는 수직방향으로의 전자빔의 최외궤도이고, H는 수평방향으로의 전자빔의 최외궤도이다. 여기서 수평방향이라 함은 스크린상의 전자빔의 주주사방향을 나타내고, 수직방향이라 함은 전자빔의 부주사방향을 나타낸다.
일반적으로, 종래의 음극선관에 있어서의 전자빔의 편향시스템은 스크린상에서 3개의 전자빔을 자동적으로 집중시키는 것에 의해, 다이나믹 컨버젼스 회로를 불필요하게 하는 것이다. 이를 위해, 편향시스템에서는 수평편향자계 및 수직편향자계를 각각 핀쿠션(pin cus hion) 및 배럴형상으로 불균일하게 편향시키는 셀프 컨버젼스 시스템을 채용하였다. 이 셀프컨버젼스 시스템은 조정이 용이하고 가격이 저렴하며, 또한 컨버젼스의 효율에 있어서의 시간의 경과에 따른 변화도 적다는 등의 이점이 있으므로, 현재 이 시스템이 광범위하게 사용되고 있다.
제3도는 주포커스렌즈와 스크린(16) 사이의 전자빔의 궤도를 도시하고 있다. 주포커스렌즈에서의 전자빔의 지름크기 DSM(Diameter Size Main Len)의 수직방향의 지름 DSMv이 크면, 전자빔은 편향수차의 영향을 받기 쉽다. 또, 스크린(16)상에 있어서의 전자빔 스포트의 지름크기 DS(Diameter Size)의 수직방향의 지름 DSv가 크면, 스크린 중앙에 있어서의 해상도가 저하한다. 종래에서는 상기 셀프 컨버젼스 시스템의 편향요크에 의한 불균일자계에 의해 생긴 4극 자계성분이 편향된 전자빔의 비점수차의 원인으로 되었다.
이 때문에, 전자빔은 수직방향에서의 집속작용 즉, 편향수차(왜곡)를 받는다. 그 결과, 편향된 빔스포트는 수직방향으로 오버포커스되고, 스크린의 주변부에서 상하방향으로 연장된 헤일로우(halo)를 발생하여 수직 방향에 있어서의 해상도를 저하시킨다. 포커스전압(포커스전극에 인가된 전압) 등을 보정하는 것에 의해 전자빔이 수직방향으로 적절하게 집속되도록 조정하면, 수평방향으로 최적의 포커스가 유지되어도 전자빔 스포트는 수평방향으로 언더포커스로 되므로 수평방향에 있어서도 해상도를 저하시킨다.
상술한 문제점을 해결하기 위해, 종래의 인라인형 전자총에 있어서는 프리포커스렌즈가 전자빔을 제안하는데 강하게 작용하도록 조정되고, 편향자계내의 전자빔의 지름을 작게 유지하여 전지빔이 편향수차의 영향을 거의 받지 않도록 하고 있었다. 제3도에 도시한 바와 같이, 전자빔의 지름은 특히 수직방향에 있어서의 편향수차를 저감하기 위해 주포커스렌즈내에서의 수직방향보다 수평방향으로 길게 형성된다. 즉, 제2그리드(13)의 통과구멍(13b)을 수직방향보다 수평방향으로 긴 사각형의 슬릿으로 제3그리드(14)와 함께 4극렌즈로서 작용하도록 한다.
그러나, 상기한 바와 같이 프로포커스렌즈가 강하게 되어 전자빔이 저감되면, 프리포커스렌즈의 배율이 증가하고, 가상물점(a suppositional object point)까지의 거리가 확대되어 전자빔 스포트의 지름이 바람직하지 않게 증가한다. 따라서, 스크린 주변의 편향수차가 제거되더라도 제3도에 도시된 바와 같이 스크린중앙의 전자빔 스포트의 수직방향의 지름 DSv가 증가되어 스크린중앙부의 해상도가 저하된다.
제1도에 도시한 바와 같은 직사각형의 통과구멍(13b)를 사용하고, 그 후의 프리포커스렌즈 등의 4극렌즈의 작용만으로 전자빔이 수직방향으로도 길게되도록 하는 경우에는 캐소드(1)로부터 방사된 전자빔이 원형이기 때문에, 이 방법은 한계가 있다.
전자빔이 편향중심에서 수직방향보다 수평방향으로 길게되면, 제4도에 도시한 바와 같이, 스크린중앙에서 원형의 빔스포트(최적의 포커스)를 얻을 수가 없다. 따라서, 종래의 기술에 있어서는 스크린 전체에 대한 해상도를 향상시키는 것이 곤란하였다.
본 발명의 목적은 상기의 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로, 전자빔의 편향수차에 의한 왜곡을 저감할 수 있는 전자총을 제공하는 것이다.
본 발명에 의한 전자총은 제1그리드에 형성되며, 또한 제2그리드의 적어도 제1그리드측에 수직방향보다는 수평방향으로 긴 형상으로 되는 통과구멍을 갖는다. 본 발명의 전자총에는 수평방향의 물점을 수직방향의 물점보다 주포커스렌즈에서 먼 위치에 형성하는 제1 및 제2그리드가 마련되어 있다. 또, 본 발명의 전자총은 수직방향의 에미턴스(emittance)를 수평방향의 애미턴스보다 작게 하는 제1 및 제2그리드가 마련되어 있는 것을 특징으로 한다.
제1 및 제2그리드의 상기 통과구멍은 제1그리드의 캐소드측 및 제2그리드측에 각각 4극렌즈를 구성한다. 캐소드측의 4극렌즈는 전자빔의 질에 영향을 미치고, 제2그리드측의 4극렌즈는 전자빔의 접속, 즉 물점의 위치에 영향을 미친다. 그러므로, 상술한 형상으로 형성된 통과구멍에 의해, 제1 및 제2그리드로 구성된 3극부의 수평방향의 물점은 수직방향의 물점보다 주포커스렌즈에서 먼위치에 형성된다. 따라서, 편향중심에 있어서의 수직방향의 전자빔의 직경은 감소하여 전자빔이 편향수차의 영향을 받기 어렵게 한다. 또, 3극부의 수직방향의 에미턴스가 수평방향의 에미턴스보다 작으므로, 종래 기술에서 검출된 수직방향의 해상도의 저하는 억제된다.
본 발명의 다른 목적은 스크린중앙부에 있어서, 높은 해상도를 얻을 수 있는 인라인형 전자총을 제공하는 것이다.
본 발명의 전자총은 상술한 제1 및 제2그리드에 부가해서 수평방향의 초점길이를 수직방향의 초점길이와 같거나 그 이상으로 하는 주포커스렌즈부를 형성하는 전극을 구비하고 있다. 본 발명의 전자총은 상기 제1 및 제2그리드에 부가해서, 여러개의 전자빔중의 중앙의 전자빔을 통과시키기 위해 수평방향보다도 수직방향으로 긴 통과구멍과, 양측의 전자빔을 통과시키기 위해 다른 형상의 타원형상의 통과구멍이 편향중심에 형성된 전극을 갖는 주포커스렌즈부가 마련되어 있다.
상기한 전극에 의해, 주포커스렌즈부의 비점수차(수평방향의 포커스 전압-수직방향의 포커스전압)이 0~-300V로 되므로, 수직방향 및 수평방향의 물점의 위치차를 보정할 수 있다. 주포커스렌즈부에서는 수직방향의 지름이 수평방향보다 작은 전극빔이 스크린상에서는 거의 원형에 가까운 빔스포트(최적의 포커스)로 되므로, 스크린 중앙부의 해상도가 향상된다.
본 발명의 상기 및 그밖의 목적과 새로운 특징은 첨부 도면 및 상세한 설명으로 더욱 명확하게 될 것이다.
이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조해서 상세하게 설명한다.
제5도는 본 방명에 의한 인라인형 전자총(이하, 본 발명의 장치라 한다)의 3극부 및 주포커스렌즈부의 구성을 도시한 도면이다. 인라인으로 배열된 3개의 원주형의 캐소드(1),(1),(1), 캐소드(1),(1),(1)에서 방사된 전자빔을 가속하고 통과시키는 3개의 직사각형의 통과구멍(2a),(2a),(2a)가 마련된 제1그리드(2),제1그리드(2)측에 3개의 직사각형의 통과구멍(3a),(3a),(3a)가 마련되고, 이 3개의 구멍(3a),(3a),(3a)의 반대측에 3개의 원형의 통과구멍(3a),(3a),(3a)가 마련된 제2그리드(3), 제2그리드(3)측에 3개의 원형의 통과구멍(4d),(4d),(4d)가 마련되고, 그 반대측에 다음에 기술하는 형상의 통과구멍(4a),(4a),(4a)가 마련된 트랙형상의 전극인 제3그리드(4), 제3그리드(4)측에 통과구멍(4a),(4b),(4c)를 갖는 트랙형상의 전극인 제4그리드(5)를 갖는 본 발명의 장치는 이 순서대로 전자빔을 방사한다. 또, 제2그리드(3)의 제3그리드(4)측과 제3그리드(4)의 제2그리드(3)측으로 프리포커스렌즈를 형성하고, 제3그리드(4)의 제4그리드(5)측과 제4그리드(5)의 제3그리드(4)측으로 주포커스렌즈를 형성하고 있다. 음극선관 정면의 스크린(6)은 주포커스렌즈에 의해 집속되는 전자빔에 의해 발광하는 형광면을 갖는다.
제6도, 제7도 및 제8도는 제2그리드(3)를 도시한 도면으로서 제6도는 단면도, 제7도는 제1그리드(2)측에서 본 측면도, 제8도는 스크린(6) 측에서 본 측면도이다. 제2그리드(3)은 제1그리드(2)측의 측면에서 수직방향보다 수평방향으로 긴 직사각형의 통과구멍(3a)을 갖고 있으며, 스크린(6)측에는 통과구멍(3a) 보다 지름이 작은 원형의 통과구멍(3b)을 갖고 있다. 따라서, 상기 제1 및 제2그리드(2) 및 (3)의 구성에 의해, 제1그리드(2)의 제2그리드(3)측과 캐소드(1)측의 각각에 4극렌즈가 얻어진다.
제9도, 제11도는 주포커스렌즈를 형성하는 제3그리드(4)(또는 제4그리드(5)의 모식도이다. 제9도는 사시도, 제10도는 표면의 정면도이다. 제3그리드(4)는 3개의 통과구멍(4a), (4b), (4c)을 갖는 타원형의 플레이트(41)를 갖는다. 타원형의 플레이트(41)은 플레이트(41)와 동일한 형상의 열림구멍부를 형성하는 높이 Hv의 트랙형상의 전극(42)의 중앙에서 제3그리드(4)의 일측에 더 가까운 위치에 고정된다. 플레이트(41)의 중앙에 있는 통과구멍(4b)는 장축 Cv와 단축 Ch(Cv>Ch)를 갖는 타원형이다. 한편, 통과구멍(4b)의 양측의 통과구멍(4a),(4c)는 선대칭의 동일형상이다. 통과구멍(4b)의 측면에 있는 각 통과구멍(4a),(4c)의 절반은 장축 Cv 및 단축 Ch를 갖는 타원호를 규정한다.
각 통과구멍의 나머지 절반은 반경 Sr(Cv/2>Sr>Ch/2)를 갖는 원호이다. 제4그리드(5)의 한측은 제3그리드(4)의 상기 표면과 동일한 형상을 이루고 있다. 제3 및 제4그리드(4) 및 (5)는 대응하는 통과구멍(4a),(4b),(4c) 사이를 축방향으로 소정거리 분리하도록 플레이트(41)를 거쳐 서로 대향해서 배치되는 것에 의해 주포커스렌즈를 형성한다.
트랙형상의 전극(42)에 대향하는 제3그리드(4)의 다른 측에는 3개의 원형의 통과구멍(4d),(4d),(4d)를 갖는 플레이트가 고정되어 있다. 제4그리드(5)의 트랙형상의 전극(42)에 대향하는 다른 측은 열려져 있다.
주포커스렌즈의 바라는 포커스특징(비점수차)는 각 통과구멍(4a),(4b),(4c)의 형상과 크기 및 트랙형상의 전극(42)의 형상과 깊이를 변화시키는 것에 의해 얻을 수가 있다. 이 실시예에서는 주포커스렌즈가 0~-300V를 얻도록 설정되어 있다.
상기 구성의 본 발명의 장치에 있어서, 캐소드(1)에서 방상되는 전자빔은 제1그리드(2)의 통과구멍을 통과하고, 제2그리드(3)에 의해 흡착되고 가속되며, 또 주포커스렌즈 및 프리 포커스렌즈에 의해 가속되고 집속되어 소정의 속도로 스크린(6)에 도달한다.
제11도는 본 발명의 장치에 있어서의 전자빔의 궤도를 도시한 것으로, V는 수직방향의 최외궤도이고, H는 수평방향의 최외궤도이다. 제12도, 제13도는 캐소드(1)에서 포커스렌즈까지의 전자빔의 궤도와 주포커스 렌즈에서 스크린까지의 궤도를 각각 도시한 것이다.
또, 제14도의 빔크로스부를 사용해서 궤도를 나타낸다. 이 실시예와 같이 제1그리드(2), 제2그리드(3) 및 주포커스렌즈를 조합하고 있으므로, DSWv가 종래보다 작게 되어 수평방향으로 전자빔이 길어져서 편향수차에 영향을 받기 어렵게 된다. 따라서, 스크린의 주변부 및 중앙부의 해상도는 향상한다. 또한, DSv가 감소하므로, 스크린 중앙부의 빔스포트는 원형에 가깝게 되어 스크린 중앙부의 해상도가 더욱 향상한다. 따라서, 스크린 전역에 있어서 고해상도가 얻어진다.
제15도는 및 제16도는 다른 실시예에 의한 제1 및 제2그리드(2),(3)의 통과구멍의 모식도이다. 제15도의 실시예에 있어서, 제1 및 제2그리드(2),(3)의 통과구멍을 모두 수직방향보다 수평방향으로 규칙적으로, 길게 형성한다. 그리고, 제16도에 있어서는 제1 및 제2그리드(2),(3)의 통과구멍 모두 수직방향보다 수평방향으로 긴 타원형으로 형성하고 있다. 예를들면, 제1그리드(2) 및 제2그리드(3)의 적어도 제1그리드(2)측의 통과구멍을 수직방향보다 수평방향으로 긴 형상, 예를들면 직사각형, 타원형 또는 계란형상의 타원형으로 하며, 상기 실시예와 마찬가지의 효과가 얻어진다.
또한, 상기 실시예에서는 바이포텐셜 전자총의 경우에 대해서 설명했지만, 본 발명은 다단 접속형 전자총 또는 그 밖의 전자총에도 적용할 수 있는 것은 말할 것도 없다.
이상과 같이, 본 발명의 전자총에 있어서는 3극부의 수평방향의 물점을 수직방향의 물점보다 주포커스렌즈에서 먼 위치에 형성한다.
따라서, 편향 중심에 있어서의 수직방향으로의 전자빔의 지름이 작게되어 편향수차를 제거할 수 있으므로, 스크린 주변부의 해상도가 향상된다. 이와 동시에, 수직방향에 있어서의 3극부의 방사를 수평방향보다 작게 하므로, 수직방향의 해상도는 저하되지 않는다.
또, 수평방향의 주포커스렌즈의 집속거리가 수직방향의 집속거리와 같거나 그 이상이므로, 편향중심에서 수직지름이 작은 전자빔의 빔스포크의 수직방향의 지름이 스크린에 감소되는 것에 의해, 스크린중앙부의 해상도는 향상한다. 따라서, 본 발명은 스크린 전역에서 양호한 해상도를 얻는 등의 우수한 효과가 있다.
이상 본 발명자에 의해 이루어진 발명을 상기 실시예에 따라 구체적으로 설명했지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러가지로 변경 가능한 것은 물론이다.

Claims (11)

  1. 방사된 전자빔을 스크린상으로 조사하는 전자총에 있어서, 하나의 평면상에 여러개의 전자빔을 방사하는 캐소드, 상기 스크린측에서 상기 캐소드의 정면에 마련되어, 상기 캐소드에서 방사된 상기 여러개의 전자빔을 통과시키도록 수직방향보다 수평방향으로 긴 형상의 통과구멍을 갖는 제1그리드, 상기 스크린측에서 상기 제1그리드의 정면에 마련되어, 상기 제1그리드를 통과하는 상기 여러개의 전자빔을 가속하고 통과시키도록 적어도 상기 제1그리드측에 형성된 수직방향보다도 수평방향으로 긴 형상의 통과구멍을 갖는 제2그리드와 상기 제2그리드를 통과한 상기 여러개의 전자빔을 상기 스크린상에 집속시키는 주포커스렌즈부를 포함하는 전자총.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2그리드의 통과구멍은 직사각형인 전자총.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2그리드의 통과구멍은 타원형인 전자총.
  4. 방사된 전자빔을 스크린상에 조사하는 전자총에 있어서, 여러개의 전자빔을 하나의 평면상에 방사하는 캐소드, 상기 여러개의 전자빔을 상기 스크린상에 접속시키는 주포커스렌즈부와 상기 캐소드와 상기 주포커스렌즈부 사이에 마련되어 수평방향의 물점을 수직방향의 물점보다 상기 주포커스렌즈부에서 먼 위치에 형성하는 제1 및 제2그리드를 포함하는 전자총.
  5. 방사된 전자빔을 스크린상에 조사하는 전자총에 있어서, 여러개의 전자빔을 하나의 평면상에 방사하는 캐소드, 상기 여러개의 전자빔을 상기 스크린상에 집속시키는 주포커스렌즈부와 상기 캐소드와 상기 주포커스렌즈부 사이에 마련되어 수직방향의 애미턴스를 수평방향의 애미턴스보다 작게 하는 제1그리드 및 제2그리드를 포함하는 전자총.
  6. 방사된 전자빔을 스크린상에 조사하는 전자총에 있어서, 여러개의 전자빔을 하나의 평면상에 방사하는 캐소드, 상기 스크린측에서 상기 제1그리드의 정면에 마련되어, 상기 캐소드에서 방사된 상기 여러개의 전자빔을 통과시키도록 수직방향보다 수평방향으로 긴 형상의 통과구멍을 갖는 제1그리드, 상기 스크린측에서 상기 제1그리드의 정면에 마련되어, 상기 제1그리드를 통과하는 여러개의 전자빔을 가속하고 통과시키도록 적어도 상기 제1그리드측에 형성된 수직방향보다도 수평방향으로 긴 형상의 통과구멍을 갖는 제2그리드와 상기 제2그리드를 통과하는 상기 여러개의 전자빔의 수평방향의 집속길이를 수직방향의 집속길이와 같거나 그 이상으로 해서 상기 전자빔을 상기 스크린상에 집속시키는 전극이 마련되어 있는 주포커스렌즈부를 포함하는 전자총.
  7. 제6항에 있어서, 상기 전극은 편향중심에, 상기 여러개의 전자빔중의 중앙의 전자빔을 통과시키도록 수평방향보다 수직방향으로 긴 형상의 통과구멍과 상기 중앙의 전자빔의 양측의 전자빔을 통과시키도록 다른 형태의 타원형상의 통과구멍과를 갖는 전자총.
  8. 방사된 전자빔을 스크린상에 조사하는 전자총에 있어서, 여러개의 전자빔을 하나의 평면상에 방사하는 캐소드, 수평방향의 상기 여러개의 전자빔의 집속길이를 수평방향의 집속길이와 같거나 그 이상으로 해서 상기 전자빔을 상기 스크린상에 집속시키는 전극이 마련되어 있는 주포커스렌즈부와 상기 캐소드와 상기 주포커스렌즈부 사이에 마련되어 수평방향의 물점을 수직방향의 물점보다 상기 주포커스렌즈부에서 먼 위치에 형성하는 제1 및 제2그리드를 포함하는 전자총.
  9. 제8항에 있어서, 상기 전극은 그의 편향중심에, 상기 여러개의 전자빔중의 중앙의 전자빔을 통과시키도록 수평방향보다 수직방향으로 긴 형상의 통과구멍과 상기 중앙의 전자빔의 양측의 전자빔을 통과시키도록 다른 형태의 타원형상의 통과구멍과를 갖는 전자총.
  10. 방사된 전자빔을 스크린상에 조사하는 전자총에 있어서, 여러개의 전자빔을 하나의 평면상에 방사하는 캐소드, 수평방향의 상기 여러개의 전자빔의 집속길이를 수직방향의 집속길이와 같거나 그 이상으로 해서 상기 전자빔을 상기 스크린상에 집속시키는 전극이 마련되어 있는 주포커스렌즈부와 상기 캐소드와 상기 주포커스렌즈부 사이에 마련되어 수직방향의 애미턴스를 수평방향의 애미턴스보다 작게하는 제1그리드 및 제2그리드를 포함하는 전자총.
  11. 제10항에 있어서, 상기 전극은 그의 편향 중심에, 상기 여러개의 전자빔중의 중앙의 전자빔을 통과시키도록 수평방향보다 수직방향으로 긴 형상의 통과구멍과 상기 중앙의 전자빔의 양측의 전자빔을 통과시키도록 다른 형태의 타원형상의 통과구멍을 갖는 전자총.
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