KR960037130A - 정온 샤워 헤드 - Google Patents

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KR960037130A
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

본 발명은 외부로부터 소스개스를 공급받는 소스개스 주입수단(22); 소스개스를 통과시키면서 샤워링하는 다수의 미세관(25a)과, 상기 다수의 미세관이 서로서로 일정간격을 가지도록 지지하는 지지대(25b)를 구비하여, 공급받는 소스개스를 예정된 온도로 일정하게시키면서 샤워링하는 제1샤워링수단(25); 및 상기 미세관들간에 형성되는 통로를 통하여 온도조절 매개체가 흐르도록 구성되어 상기 제1샤워링수단의 온도를 일정하게 조절하는 온도조절수단(26)을 구비하는 것을 특징으로 하는 정온 샤워 헤드에 관한 것으로, 샤워링되는 소스개스의 온도분포를 일정하게 조절할 수 있어 웨이퍼나 기판의 상부에 양질의 박막을 형성할 수 있으며, 이에 따라 제품의 제품수율을 향상시키는 특유의 효과가 있다.

Description

정온 샤워 헤드
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 정온 샤워 헤드의 단면도, 제2A도 및 제2B는 본 발명에 따른 정온 샤워 헤드의 단면도 및 평면도, 제3A는 2차 샤워링부의 평면도, 제3B도는 제3A도의 A-A 단면도, 제4도는 제3B도의 상세도, 제 5A도 및 제5B도는 온도조절부의 단면도 및 평면도.

Claims (4)

  1. 외부로부터 소스개스를 공급받는 소스개스 주입수단; 소스개스를 통과시키면서 샤워링하는 다수의 미세관과, 상기 다수의 미세관이 서로서로 일정간격을 가지도록 지지하는 지지대를 구비하여, 공급받는 소스개스를 예정된 온도로 일정하게 시키면서 샤워링하는 제1샤워링수단; 및 상기 미세관들간에 형성되는 통로를 통하여 온도조절 매개체가 흐르도록 구성되어 상기 제1샤워링수단의 온도를 일정하게 조절하는 온도조절수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 정온 샤워 헤드.
  2. 제1항에 있어서, 상기 소스개스 주입수단을 통하여 공급되는 소스개스를 샤워링하는 제2샤워링수단; 상기 제2샤워링수단을 통하여 샤워링되는 소스개스에 반응성개스를 혼합하여 상기 제1샤워링수단에 공급하도록 구성된 혼합수단; 및 상기 혼합수단으로 소정의 반응성개스를 주입시키도록 구성된 반응성개스 주입수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 정온 샤워 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 온도조절수단은 상기 제1샤워링수단을 장착하는 장착부; 상기 온도조절 매개체를 상기 제1샤워링수단의 미세관들간에 형성되는 통로로 주입시키도록 구성된 주입부; 및 상기 제1샤워링수단의 미세관들간에 형성되는 통로를 통과한 온도조절 매개체를 배출시키도록 구성된 유출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 정온 샤워 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제1샤워링수단은 상기 온도조절부에 장착될 때 미세관들간에 형성되는 통로로 유입되거나 유출되는 온도조절 매개체의 유압분포를 일정하게 하기 위한 버퍼부가 온도조절 매개체가 주입되는 곳과 유출되는 곳에 각각 하나씩 형성되도록 구성된 돌출편을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 소스 개스의 정온 샤워링 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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