KR960023995A - 플라즈마 리액터용 냉각 가스 분배 시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 리액터 등에 이용되는 전극에 관한 것이다. 전극은 고성능 소형 열교환기 및 전극 내부의 가스 분배 매니폴드와 상호작동한다. 전극은 하부판, 상부판 및 전극 홀더를 포함한다. 하부판은 제1표면에 배치된 환형 개구와 환형 개구 및 제2표면 사이에 배치된 가스 출구 패턴을 구비한 완전한 열전도 재료로 이루어진다. 상부판은 전극을 통해 가스 유동을 조절 가능하게 분배하는 소형 가스 분배 매니폴드를 형성한 가스분배 홈과, 열교환기를 형성한 열교환기 홈과, 가스 분배 매니폴드에 공급되도록 가스를 수용하는 개구를 포함한다. 전극 홀더는 플라즈마 가스를 전극에 공급하기 위한 가스 공급선에 결합되고, 냉각제 입구 및 냉각제 출구는 열교환기로 냉각제를 유동시킨다. 설계는 플라즈마에 의해 발생된 열이 전극을 통해 최소의 온도 구배동안에 효과적으로 제거되도록 전극의 상부에 소형 열교환기를 배치한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 원리에 따른 냉각 가스 분배 시스템 또는 전극의 평면도, 제2도는 제1도의 선 2 - 2를 따라 취한 제1도의 전극의 횡단면도, 제3도는 제1도의 전극 일부의 확대 횡단면도, 제4도는 제1도의 전극의 하부판의 사시도, 제5도는 제4도의 하부판의 평면도.
Claims (6)
- 플라즈마 리액터에 이용되는 전극에 있어서, 제1표면에 배치된 환형 개구를 갖고 이 환형 개구와 하부판의 제2표면 사이에 배치된 가스 출구 패턴을 갖는 고체 열전도 부재를 포함한 하부판과; 상기 전극을 통해 가스 유동을 조절 가능하게 분배하기 위한 가스 분배 매니폴드를 포함한 하부판의 환형 개구에 인접하게 배치된 가스분배 홈의 세트와, 열교환기를 포함한 상부판의 대향 표면에 인접하게 배치된 복수의 열교환기 홈과, 그리고 가스를 가스 분배 매니폴드에 공급하기 위한 수단을 포함한 상부판과; 플라즈마 가스를 전극에 공급하기 위한 플라즈마 가스 공급 수단과, 열교환기를 통해 냉각제를 연결하기 위한 냉각제 입구 및 냉각제 출구를 포함한, 상부판의 가스 분배 홈에 인접하게 배치된 전극 홀더를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극.
- 제1항에 있어서, 환형 개구는 전극의 하부 작업면상의 잔류 재료가 소정의 두께를 갖도록 소정의 두께로 가공된 홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극.
- 제1항에 있어서, 가스 출구 패턴은 다수의 홈으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전극.
- 제1항에 있어서, 가스 출구 패턴은 다수의 구멍으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전극.
- 제1항에 있어서, 가스 출구 형상은 다수의 슬롯으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전극.
- 제1항에 있어서, 가스 출구 패턴은 다수의 환형홈(annuli)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전극.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US34929494A | 1994-12-05 | 1994-12-05 | |
US08/349,294 | 1994-12-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960023995A true KR960023995A (ko) | 1996-07-20 |
Family
ID=23371747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950046339A KR960023995A (ko) | 1994-12-05 | 1995-12-04 | 플라즈마 리액터용 냉각 가스 분배 시스템 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0716440A1 (ko) |
JP (1) | JPH08236295A (ko) |
KR (1) | KR960023995A (ko) |
IL (1) | IL116156A0 (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015083883A1 (ko) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 참엔지니어링㈜ | 기판 처리 장치 |
WO2015083884A1 (ko) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 참엔지니어링㈜ | 기판 처리 장치 |
US9617635B2 (en) | 2012-11-07 | 2017-04-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Vapor deposition apparatus |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102368466B (zh) * | 2011-09-20 | 2013-11-27 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板等离子体刻蚀机的电极 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4209357A (en) * | 1979-05-18 | 1980-06-24 | Tegal Corporation | Plasma reactor apparatus |
US4590042A (en) * | 1984-12-24 | 1986-05-20 | Tegal Corporation | Plasma reactor having slotted manifold |
JPS61208222A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-16 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法及び装置 |
EP0210605B1 (en) * | 1985-07-25 | 1991-02-27 | Texas Instruments Incorporated | Plasma processing method and apparatus |
US5168924A (en) | 1991-06-28 | 1992-12-08 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Low surface distortion monochromator |
US5209291A (en) | 1991-06-28 | 1993-05-11 | Hughes Aircraft Company | Cooling apparatus for optical devices |
US5372674A (en) * | 1993-05-14 | 1994-12-13 | Hughes Aircraft Company | Electrode for use in a plasma assisted chemical etching process |
-
1995
- 1995-11-27 IL IL11615695A patent/IL116156A0/xx unknown
- 1995-11-30 EP EP95118819A patent/EP0716440A1/en not_active Withdrawn
- 1995-12-04 KR KR1019950046339A patent/KR960023995A/ko active IP Right Grant
- 1995-12-05 JP JP7316869A patent/JPH08236295A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9617635B2 (en) | 2012-11-07 | 2017-04-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Vapor deposition apparatus |
WO2015083883A1 (ko) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 참엔지니어링㈜ | 기판 처리 장치 |
WO2015083884A1 (ko) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 참엔지니어링㈜ | 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL116156A0 (en) | 1996-01-31 |
EP0716440A1 (en) | 1996-06-12 |
JPH08236295A (ja) | 1996-09-13 |
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A201 | Request for examination | ||
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