KR960014650B1 - Liquid crystal display elements - Google Patents

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엘지전자 주식회사
구자홍
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Abstract

The device is for preventing the destruction of an electrode pattern due to the electrostatic electricity generated in the manufacturing process. The circuit prevents the break-down of a transparent conductor by distributing the electrostatic electricity on the entire liquid crystal cell uniformly.

Description

액정표시소자LCD

제1도는 종래 액정표시소자의 단면도.1 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

제2도는 본 발명의 액정표시소자의 단면도.2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of the present invention.

제3도는 본 발명의 액정표시소자의 인접화소간 등가회로도.3 is an equivalent circuit diagram between adjacent pixels of the liquid crystal display device of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

3,3' : 투명도전막 4,4' : 절연막3,3 ': transparent conductive film 4,4': insulating film

9,9' : 정전기 방지용 도전막 5,5' : 배향막9,9 ': Antistatic conductive film 5,5': Alignment film

봄 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 특히 제조공정시에 발생하기 쉬운 정전기로 인한 전극패턴의 파괴를 방지하는 액정표시소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device which prevents breakage of an electrode pattern due to static electricity, which is likely to occur in a manufacturing process.

종래 액정표시소자의 단면도를 제1도에 도시하였다.A cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device is shown in FIG.

참조부호 1 및 1'로 표시된 부분은 각각 상편광판 및 하편광판이고, 2,2'는 유리기판이며, 3,3'은 투명도전막으로 유리기판에 ITO(In2O3)를 피막하고 이를 선택적으로 에칭하여 형성한다.Parts indicated by reference numerals 1 and 1 'are upper polarizing plate and lower polarizing plate, respectively, 2,2' is a glass substrate, and 3,3 'is a transparent conductive film which forms ITO (In 2 O 3 ) on the glass substrate and selectively It forms by etching.

참조부호 4,4'는 절연막으로서 SiO2가 주성분인데 유리기판(2,2')이나 투명도전막(3,3')으로부터 금속이온이 침투하는 것을 방지하는 역할을 한다.Reference numeral 4,4 'is an insulating film and SiO 2 is a main component, and serves to prevent the penetration of metal ions from the glass substrates 2, 2' or the transparent conductive films 3, 3 '.

참조부호 5로 표시된 부분은 배향막으로서 PI가 주성분인 유기막인데 액정분자를 균일하게 배열시키는 역할을 하며, 6은 액정층으로 투명도전막(3)에 전압이 인가되었을때와 전압이 인가되지 않았을 때, 이 액정층의 분자배열이 달라진다.The portion denoted by reference numeral 5 is an alignment layer which is an organic film mainly composed of PI, and serves to arrange liquid crystal molecules uniformly, and 6 is a liquid crystal layer when voltage is applied to the transparent conductive film 3 and when no voltage is applied. The molecular arrangement of this liquid crystal layer is different.

참조부호 7,7'로 표시된 부분은 시일(seal)제로 유리기판(2)과 함께 폐곡면을 이루어 액정을 가두는 역할을 하며, 8,8'은 스페이서로서 유리섬유(Glass fiber)로 되어 있으며 상유리기판(2)과, 하유리기판(2')이 일정한 간격을 유지하도록 하는 역할을 한다.The part indicated by reference numeral 7,7 'forms a closed curved surface together with the glass substrate 2 with a sealant, and serves to trap the liquid crystal, and 8,8' is made of glass fiber as a spacer. The upper glass substrate 2 and the lower glass substrate 2 'serve to maintain a constant gap.

상기한 구조의 액정표시소자의 동작을 살펴보면, 편광이 되지 않은 빛이 상유리기판(2)방향에서 하유리기판(2)방향으로 입사되면 상편광판(1)에 의하여 빛은 직선편광이 되고, 이 빛은 전압이 상,하 투명도전막(3,3')에 인가되지 않았을때는 트위스트된 액정분자층(6)에 의하여 선광이 되어 액정층을 통과하여 나올때는 타원편광이 되어 그 성분중 일부분이 하편광판(1')에 의해 선택투과된다.Looking at the operation of the liquid crystal display device of the above structure, when the non-polarized light is incident from the upper glass substrate 2 direction to the lower glass substrate 2 direction, the light is linearly polarized by the upper polarizing plate 1, and the light is When the silver voltage is not applied to the upper and lower transparent conductive films 3 and 3 ', the light becomes linearly polarized by the twisted liquid crystal molecular layer 6, and when it passes through the liquid crystal layer, it becomes an elliptical polarization and a part of its components is the lower polarizing plate. Selective transmission is performed by 1 '.

전압이 상,하투명도전막(3,3')에 특정전압이상의 전압으로 인가될 경우에는 액정층(6)의 분자배열이 네마틱(nematic)상으로 존재하기 때문에 상편광판(1)에 의하여 선형편광된 빛은 액정층(6)을 지나면서 영향을 받지 않아 그대로 선형편광이 되어 하편광판(1')을 지나게 된다.When the voltage is applied to the upper and lower transparent conductive films 3 and 3 'at a voltage higher than or equal to a specific voltage, since the molecular arrangement of the liquid crystal layer 6 is nematic, the linear polarization plate 1 The polarized light is not affected while passing through the liquid crystal layer 6, and thus becomes linearly polarized light and passes through the lower polarizing plate 1 ′.

액정표시소자는 상기와 같이 전압이 인가되었을때와 인가되지 않았을 때 액정층을 통과하여 나오는 두 빛의 편광상태가 다르다는 것을 이용한 수광소자이다.The liquid crystal display device is a light-receiving device using the fact that the polarization state of the two light emitted through the liquid crystal layer when the voltage is applied and when not applied as described above is different.

상기한 종래 액정표시소자의 제조방법을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the manufacturing method of the conventional liquid crystal display device as follows.

투명도전막(3)이 피막된 유리기판(2)을 세척한후 건조시켜 유리기판위의 수분을 제거한다음 유리기판(2)위에 감광성수지를 피막하고 감광성수지에 선택적으로 빛을 조사하여 투명도전막을 식각하여 원하는 투명도전막 패턴(3)을 형성한다.The glass substrate 2 coated with the transparent conductive film 3 is washed and dried to remove moisture on the glass substrate. Then, the photosensitive resin is coated on the glass substrate 2 and the photosensitive resin is selectively irradiated with light to form a transparent conductive film. By etching, a desired transparent conductive film pattern 3 is formed.

제1도의 상,하투명도전막(3,3')은 서로 90도 어긋나는 매트릭스형이다. 투명도전막 패턴(3)이 형성되면 그위에 SiO2가 주용질로 되어 있는 용액을 롤코팅(Roll coating) 방법을 이용하여 피막한후 건조시켜 용매를 휘발시킴으로써 SiO2막(4)을 약 500Å정도 두께로 형성한다. 이어서 SiO2막(4)위에 다시 롤코팅방법을 이용하여 PI막(5)을 인쇄한다. 이때 스페이서(8)를 PI막에 섞어 인쇄한다. 이어서 러빙(Rubbing)천으로 상기 PI막(5)을 스치게 하여 PI막에 기계적인 스크래치(scratch)를 형성한다. 이어서 시일제(7)를 스크린인쇄하고 상,하유리기판을 가압경화하여 두장의 유리기판을 붙여서 액정셀을 형성한다. 이때 유리기판에는 다수의 액정셀이 형성되므로 각각의 액정셀로 나누기 위해 탄화규소나 다이아몬드 절단기를 이용하여 스크라이브(Scribe)한다음 기계적 충격을 가하여 절단한다. 이어서 단위액정셀과 액정을 진공챔버에 넣고 공기를 빼내면서 액정이 있는 용기에 초음파를 가해 액정이 포함하고 있는 수분이나 기포를 뺀다. 챔버내가 진공상태가되면 액정과 액정셀의 주입구를 접촉시킨후 챔버내로 질소를 주입시키면 액정셀내 기압과 챔버내 기압의 차이 및 모세관 현상에 의하여 액정이 액정셀내로 흡입된다.The upper and lower transparent conductive films 3 and 3 'of FIG. 1 have a matrix form shifted by 90 degrees from each other. When the transparent conductive film pattern 3 is formed, a solution containing SiO 2 as the main solute is coated by using a roll coating method, followed by drying to evaporate the solvent, thereby making the SiO 2 film 4 approximately 500 kPa. Form to thickness. Subsequently, the PI film 5 is printed on the SiO 2 film 4 again using a roll coating method. At this time, the spacer 8 is mixed with the PI film and printed. The PI film 5 is then rubbed with a rubbing cloth to form mechanical scratches on the PI film. Subsequently, the sealing compound 7 is screen printed, and the upper and lower glass substrates are pressure-cured to form two liquid crystal cells by attaching two glass substrates. In this case, since a plurality of liquid crystal cells are formed on the glass substrate, the glass substrate is scribed using silicon carbide or a diamond cutter to be divided into respective liquid crystal cells, and then cut by applying mechanical impact. Subsequently, the unit liquid crystal cell and the liquid crystal are put in a vacuum chamber, and the air is extracted, ultrasonic waves are applied to a container containing liquid crystal to remove moisture or bubbles contained in the liquid crystal. When the chamber is in a vacuum state, the liquid crystal is sucked into the liquid crystal cell due to the difference between the air pressure in the liquid crystal cell and the air pressure in the chamber and the capillary phenomenon.

이와 같이 액정주입이 완료되면 주입구를 광경화성수지로 봉입하여 액정과 공기 및 공기가 포함하고 있는 수분과의 접촉을 막는다. 이어서 액정셀에 묻어있는 사람의 손때나 유기물 등을 제거하여 편광판과 유리기판이 잘 접착되도록 액정셀을 프레온에 약 20초간 세척한 다음 편광판(1,1')을 부착한다.When the liquid crystal injection is completed as described above, the injection hole is sealed with a photocurable resin to prevent contact between the liquid crystal, air, and moisture contained in the air. Subsequently, the liquid crystal cell is washed with a freon for about 20 seconds so that the polarizer and the glass substrate are adhered to each other by removing a human hand or an organic substance from the liquid crystal cell, and then attach the polarizers 1, 1 '.

상기한 종래의 액정표시소자 제조에 있어서, 러빙공정은 러빙천과 배향막인 PI막의 마찰에 의해 행해지는데, 이때 두물질의 정전계수에 의하여 러빙천은 (+)전하를 띠게 되고 PI막은 (-)전하를 띠게된다.In the above-described conventional liquid crystal display device manufacturing, the rubbing process is performed by friction between the rubbing cloth and the PI film, which is an alignment film, whereby the rubbing cloth is charged with positive charge and the PI film is negatively charged by the electrostatic coefficient of the two materials. Will be taken.

PI막(5)의 (-)전하는 확산작용에 의해 절연막(4)을 지나 투명도전막(3)으로 확산된다. 투명도전막(3)으로 확산된 (-)전하는 투명도전막의 각진 부분에 많이 분포하게 되고 이와 같이 각진 부분에 모인 전하는 인접한 투명도전막에 반대전하를 유도하게 된다.The negative charge of the PI film 5 is diffused through the insulating film 4 to the transparent conductive film 3 by the diffusion action. The negative charges diffused into the transparent conductive film 3 are distributed in the angular portions of the transparent conductive film, and the charges collected in the angular portions induce the opposite charges to the adjacent transparent conductive films.

이와 같이 유도된 전하는 순간적으로 수천 V의 정전압을 일으키게 되어 투명도전막이 열화되므로 (break-down) 저항이 급상승하게 되고(1012Ω/㎠에서 104~105Ω/㎠로) 결과적으로 크로스토크(cross-talk)의 원인으로 작용하여 화질을 떨어뜨리는 문제점이 발생한다.This induced charge instantaneously generates a constant voltage of thousands of V, causing the transparent conductive film to break (break-down), resulting in a sharp rise in resistance (from 10 12 Ω / ㎠ to 10 4 to 10 5 Ω / ㎠), resulting in crosstalk. The problem of lowering the picture quality occurs as a cause of cross-talk.

본발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 액정표시소자 제조공정의 러빙공정시 발생하는 정전하를 액정셀 전체에 균등히 배분하여 투명도전막의 열화를 방지하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and its purpose is to distribute the electrostatic charges generated during the rubbing process of the liquid crystal display device manufacturing process evenly to the entire liquid crystal cell to prevent deterioration of the transparent conductive film.

상기 목적을 달성하기 위해 본고안의 액정표시소자는 배향막과 투명도전막사이에 정전기 방지용 도전막이 형성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the liquid crystal display device of the present disclosure is characterized in that an antistatic conductive film is formed between the alignment film and the transparent conductive film.

상기 정전기 방지용 도전막은 SixTiyO2(1-x-y)에 의해 형성된다.The antistatic conductive film is formed of SixTiyO 2 (1-xy).

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the present invention.

제2도는 본 발명에 의한 액정표시소자의 단면도이다. 제2도에서 제1도와 동일한 부분은 동일한 참조부호를 붙이고 그 설명은 생략한다.2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the present invention. In Fig. 2, the same parts as those in Fig. 1 are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

제2도에 도시된 바와 같이 본 발명의 액정표시소자는 배향막인 PI막(5)과 절연막(4)사이에 정전기 방지용 도전막(9,9')이 형성된 구조로 되어 있다.As shown in FIG. 2, the liquid crystal display of the present invention has a structure in which an antistatic conductive film 9, 9 'is formed between the PI film 5 and the insulating film 4, which are alignment films.

상기 도전막(9,9')은 러빙공정시 러빙천과 배향막인 PI막(4)사이에 발생하는 정전하를 액정셀 전체에 균등하게 배분하여 유도성전하의 발생을 억제하는 역할을 한다.The conductive films 9 and 9 'uniformly distribute the electrostatic charge generated between the rubbing cloth and the PI film 4 as the alignment film in the rubbing process to serve to suppress the generation of inductive charges.

제3도는 본 발명에 의한 액정표시소자의 인접화소(x,y)간 등기회로도이다. Vx는 x화소에 인가되는 전압이고, Vy는 y화소에 인가되는 전압이며 R도전막은 상기 도전막의 저항이다. 화소 x,y의 정전용량을 C라 하면 인가전압 Vx,Vy가 독립적으로 화소 x,y에 인가되기 위해서는3 is a registration circuit diagram between adjacent pixels (x, y) of the liquid crystal display device according to the present invention. Vx is the voltage applied to the x pixels, Vy is the voltage applied to the y pixels and the R conductive film is the resistance of the conductive film. If the capacitance of the pixel x, y is C, in order to apply the applied voltage Vx, Vy to the pixel x, y independently

의 조건이 만족되어야 한다.The condition of must be satisfied.

상기 식에서 f는 구동주파수를 나타낸다. 통상적으로 C0.5pF, f=10KHZ이므로 액정의 임피턴스()는 약 107Ω/㎠이 된다. 따라서 제3도의 도전막의 면저항(R도전막)은 109Ω/㎠정도이상이 되어야만 Vx,Vy가 독립적으로 화소 x,y에 인가된다.In the above formula, f represents a driving frequency. Usually C 0.5pF, f = 10KH Z, so the impedance of liquid crystal ) Is about 10 7 Ω / cm 2. Therefore, when the sheet resistance (R conductive film ) of the conductive film of FIG. 3 is about 10 9 Ω / cm 2 or more, Vx and Vy are independently applied to the pixels x and y.

한편, 종래의 절연막은 1013Ω/㎠내외의 면저항을 가지나, 정전기에 대한 유도성 전하의 발생을 효과적으로 억제하지 못하므로 상기의 각각의 화소에 대한 인가전압문제와 정전기 발생문제의 상충된 목적을 효과적으로 달성하기 위해서는 상기 도전막의 면저항은 109Ω/㎠~1011Ω/㎠이 적절하다.On the other hand, the conventional insulating film has a sheet resistance of about 10 13 Ω / ㎠, but because it does not effectively suppress the generation of inductive charges for static electricity, the purpose of the conflict between the applied voltage problem and the static electricity generation problem for each pixel In order to achieve effectively, the sheet resistance of the conductive film is appropriately 10 9 Ω / cm 2 to 10 11 Ω / cm 2.

상기 도전막으로는 SixTiyO2(1-x-y)를 사용하는데, 이는 항상 일정한 분자식으로 구성되는 것이 아니라 비정질(Amorphous)이나 겔(Gel)상태에서 결정화될때는 Si와 Ti가 일정량으로 소결되지 않고 혼합되는 비율에 의해 결정되므로 상기와 같은 분자식으로 표현된다. Si양이 많을수록(95%이상) 면저항은 109Ω/㎠정도가 되는데 본 발명의 정전기 방지용 도전막으로는 Ti에 대한 Si의 혼합비율이 20배 이상인 SixTiyO2(1-x-y)를 사용하는 것이 바람직하다.SixTiyO 2 (1-xy) is used as the conductive film, which is not always composed of a constant molecular formula, but when crystallized in an amorphous or gel state, Si and Ti are mixed without being sintered in a predetermined amount. Since it is determined by the ratio, it is expressed by the above molecular formula. The larger the amount of Si (95% or more), the sheet resistance is about 10 9 Ω / cm 2. As the antistatic conductive film of the present invention, it is preferable to use SixTiyO 2 (1-xy) having a Si-to-Si mixing ratio of 20 times or more. desirable.

상술한 바와 같이 본 발명은 배향막과 절연막사이에 SixTiyO2(1-x-y)로 된 정전기 방지용 도전막이 형성되어 있어 러빙시에 발생하는 정전하에 의한 투명도전막의 파괴를 방지하므로 수율이 높은 액정표시소자를 얻을 수 있다.As described above, the present invention provides a liquid crystal display device having high yield because an antistatic conductive film of SixTiyO 2 (1-xy) is formed between the alignment layer and the insulating layer to prevent breakage of the transparent conductive layer due to the electrostatic charge generated during rubbing. You can get it.

Claims (3)

투명도전막과 배향막사이에 면저항이 109Ω/㎠~1011Ω/㎠인 도전막이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a conductive film having a sheet resistance of 10 9 Ω / cm 2 to 10 11 Ω / cm 2 between the transparent conductive film and the alignment film. 제1항에 있어서, 상기 도전막은 SixTiyO2(1-x-y)로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device of claim 1, wherein the conductive film is formed of SixTiyO 2 (1-xy) . 제2항에 있어서, 상기 SixTiyO2(1-x-y)의 Ti에 대한 Si의 혼합비율이 20배이상인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device according to claim 2, wherein a mixing ratio of Si to Six TiyO 2 (1-xy) to Ti is 20 times or more.
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