KR960007992B1

KR960007992B1 - Electro luminescent display device

Info

Publication number: KR960007992B1
Application number: KR1019920026445A
Authority: KR
Inventors: 이춘우; 정성제
Original assignee: 석진철; 오리온전기주식회사
Priority date: 1992-12-30
Filing date: 1992-12-30
Publication date: 1996-06-17
Also published as: KR940017761A

Abstract

The device is for improving contrast and for reducing resistance of a transparent electrode. The ELD comprises a front glass substrate(11) and a transparent electrode(12) placed on back of the glass substrate. A metallic thin film of good conductivity is formed around a part(2') corresponding to each picture element(Pixel) of the transparent electrode.

Description

Electroluminescent Display Device

제1도는 전계발광 디스플레이장치의 일반구조를 보여주는 발췌 단면도.1 is a cross-sectional view showing the general structure of the electroluminescent display device.

제2도는 제1도에서 투명 전극이 설치된 부위의 발췌 평면도.FIG. 2 is an excerpted plan view of a portion where the transparent electrode is installed in FIG. 1.

제3도는 본 발명이 적용된 전계발광 디스플레이장치에 있어서 투명 전극이 설치된 부위의 발췌 평면도.3 is an excerpted plan view of a portion where a transparent electrode is installed in the electroluminescent display device to which the present invention is applied.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 유리기판 2 : 투명 전극1 glass substrate 2 transparent electrode

2' : 화소대응부위 10 : 금속박막2 ': pixel corresponding part 10: metal thin film

본 발명은 전계발광 디스플레이(Electro Luminescent Display)장치의 개선에 관한 것으로, 특히 투명 전극의 저항감소와 콘트라스트의 개선에 주안점을 두어 안출한 전계발광 디스플레이장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in an electroluminescent display device, and more particularly, to an electroluminescent display device focused on reducing resistance and contrast of a transparent electrode.

전계발광 디스플레이장치(이하 ELD로 약칭함)는 전계에 의해 발광되는 얇은 고체 발광층을 그 디스플레이수단으로 사용하기 때문에 가스방전셀들을 가지는 플라즈마방전 디스플레이장치에 비해 현저히 얇은 두께로 용이하게 제작사용할 수 있는 장점이 있다.The electroluminescent display device (hereinafter abbreviated as ELD) uses a thin solid light emitting layer emitted by an electric field as its display means, and thus can be easily manufactured and used with a significantly thinner thickness than a plasma discharge display device having gas discharge cells. There is this.

이러한 ELD의 일반적인 구조는 제1도에서 보는 바와 같이 디스플레이창을 구성하는 전면 유리기판(1) 뒤쪽에 전극(2)들과 제1절연층(3), 전계 발광층(4), 제2절연층(5), 배면 전극(6)들을 차례로 배치한 후 방수용 실리콘 오일(7)을 개입시켜 배면 유리판(8)으로 봉입시켜서 된 구조로 되며, 이러한 ELD에 있어서 전계형성을 위한 상기 전극(2)(6)중 특히 전면 유리기판(1) 바로 뒤쪽에 배치되는 전극(2)은 발광층(4)으로부터의 광통과를 허용토록 투명체로 해주는 것이 필수적이기 때문에 이 ELD 분야에서는 보통 산화주석인듐(ITO)과 같은 재료를 써서 상기 전극(2)을 투명 전극을 형성해 주게 된다.As shown in FIG. 1, the general structure of the ELD includes the electrodes 2, the first insulating layer 3, the EL layer 4, and the second insulating layer behind the front glass substrate 1 constituting the display window. (5), the rear electrodes (6) are arranged in sequence and then sealed by the rear glass plate (8) through the waterproof silicone oil (7), and the electrode (2) for electric field formation in such ELD ( In particular, in this ELD field, indium tin oxide (ITO) and the electrode (2), which are disposed immediately behind the front glass substrate (1), are essential to make the transparent body to allow light transmission from the light emitting layer (4). The same material is used to form the transparent electrode on the electrode 2.

한편, 상기 ELD는 그동안 전장용이나 항공 우주용 디스플레이와 같은 몇몇 용도에 제한적으로 사용되어 왔으나 최근에는 그 활용범위가 크게 넓어져서 보다 대형의 고급기종의 제작이 많이 요구되고 있는 바, 제1도, 제2도에서와 같은 종래의 구조로 대형 ELD를 제작함에 있어서는 기존 투명 전극(2)의 저항이 높아서 전극의 후미부분으로 갈수록 펄스지연현상과 펄스감소현상이 현저히 발생하게 되고, 이는 결국 전극 말단부에 위치한 화소들의 발광지연과 휘도감소의 현상을 초래하여 전체적으로 고른 화질의 ELD를 얻어내기 어려운 문제점이 수반된다.On the other hand, the ELD has been used in a limited number of applications, such as electronic display for aerospace and aerospace, but in recent years, its use range is greatly widened, so that the production of larger and larger models are required. In fabricating a large ELD with the conventional structure as shown in FIG. This results in a phenomenon in which light emission delays and luminance decrease of pixels located are difficult to obtain an ELD of even image quality as a whole.

본 발명은 이러한 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로, 그 구체적인 기술내용과 작용효과를 첨부도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, it will be described in detail based on the specific technical content and effects and effects as follows.

제3도는 본 발명에 따른 ELD의 요부구성을 보여주는 그림인데, 여기에 도시된 바와 같이 본 발명은 전면유리기판(1)과 이 유리기판(1) 이면에 배치되는 투명 전극(2)을 포함하는 전계발광 디스플레이장치에 있어서, 상기 투명 전극(2)의 각 화소에 대응하는 부위(2') 둘레에 도전성이 양호한 금속박막(10)을 형성하여서 된 구성을 특징으로 하는 것이다.3 is a view showing the main structure of the ELD according to the present invention, the present invention includes a front glass substrate 1 and a transparent electrode 2 disposed on the rear surface of the glass substrate (1) The electroluminescent display device is characterized by forming a metal thin film 10 having good conductivity around a portion 2 'corresponding to each pixel of the transparent electrode 2.

상기 금속박막(10)은 이 기술분야에서 널리 알려져 있는 에칭법을 통해 제3도와 같은 패턴으로 형성될 수 있다. 이러한 에칭법을 통한 상기 금속박막(10)의 형성과정을 간략히 설명해 보면, 제2도와 같이 투명전극(2)이 형성된 유기리판(1)상에 도전성이 양호한 금속으로 된 박막을 약 3,000Å 정도의 두께로 균일하게 코팅형성하고, 그 위에 포토레지스트(photo resist)를 도포한 후 이를 노광, 현상공정을 통해 원하는 부위만 잔류시켜 패터닝(patterning)한 후 예컨대 인산 : 질산 : 황산 : 증류수를 85 : 5 : 5 : 5의 비율로 혼합조성하여서 된 에칭물질로 상기 금속박막중 포토레지스트가 코팅되어 있지 않은 부분을 에칭제거함으로써 제3도와 같은 패턴의 금속박막(10)이 얻어질 수 있다.The metal thin film 10 may be formed in a pattern as shown in FIG. 3 through an etching method well known in the art. The process of forming the metal thin film 10 through the etching method will be briefly described. A thin film made of metal having good conductivity on the organic plate 1 having the transparent electrode 2 formed thereon, as shown in FIG. After forming a coating uniformly in thickness, and applying a photoresist thereon, patterning it by remaining only the desired area through exposure and development processes, and then phosphoric acid: nitric acid: sulfuric acid: distilled water. A metal thin film 10 having a pattern as shown in FIG. 3 can be obtained by etching away portions of the metal thin film not coated with a photoresist with an etching material formed by mixing composition in a ratio of 5: 5.

이와 같이 구성된 본 발명의 ELD는 상기 투명 전극(2)에 있어서 광투과기 요구되는 각 화소대응부위(2')를 제외한 부위에 도전성이 양호한 금속박막(10)을 형성토록 하여서 된 특정적인 구성에 의해 화면밝기의 저하를 초래하지 않으면서 상기 투명 전극(2)의 전체 저항감소 및 도전성 향상을 가져올 수가 있으므로 대형 ELD를 제작하는 경우에는 전극(2)의 후미쪽에 위치하는 화소에서의 펄스지연 및 감소현상이 거의 없어 전체적으로 균일한 화질의 ELD를 얻어낼 수 있고, 또 실제의 화소대응부위(2')를 둘러싼 상기 금속박막(10)에 의해 화면의 콘트라스트를 가일층 높여 보다 선명한 화면을 얻어낼 수 있는 효과도 제공하는 신규 유용한 발명인 것이다.The ELD of the present invention configured as described above has a specific configuration in which the conductive thin metal film 10 is formed in the transparent electrode 2 except for the pixel-corresponding regions 2 'required for the light transmitting device. As a result, the overall resistance of the transparent electrode 2 can be reduced and the conductivity can be improved without causing a decrease in screen brightness. Therefore, when a large size ELD is produced, the pulse delay and the decrease in the pixel located at the rear side of the electrode 2 can be obtained. There is almost no phenomenon, and the overall uniform image quality ELD can be obtained, and the contrast of the screen can be further increased by the metal thin film 10 surrounding the actual pixel-corresponding region 2 'to obtain a clearer screen. It is a novel useful invention that also provides effects.

Claims

In an electroluminescent display device comprising a front glass substrate (1) and a transparent electrode (2) disposed on the rear surface of the glass substrate (1), a periphery of a portion (2 ') corresponding to each pixel of the transparent electrode (2). An electroluminescent display device characterized by forming a metal thin film (10) having good conductivity in a structure.