KR950002005Y1

KR950002005Y1 - Dome type revision lenz

Info

Publication number: KR950002005Y1
Application number: KR2019890021275U
Authority: KR
Inventors: 조호진; 윤주영
Original assignee: 삼성전관 주식회사; 김정배
Priority date: 1989-12-31
Filing date: 1989-12-31
Publication date: 1995-03-23
Also published as: KR910012953U

Abstract

내용 없음.No content.

Description

Assisted Correction Lens

제1도는 통상적인 노광장치의 구성을 보이는 단면도.1 is a cross-sectional view showing the configuration of a conventional exposure apparatus.

제2도는 종래의 보정렌즈의 작동을 보이는 광로도.2 is an optical path showing the operation of a conventional correction lens.

제3도는 본 고안에 따른 보정렌즈의 구성을 보이는 단면도.3 is a cross-sectional view showing the configuration of the correction lens according to the present invention.

제4도는 본 고안에 따른 보정렌즈의 작동을 보이는 광로도.4 is an optical path showing the operation of the correction lens according to the present invention.

제5도는 본 고안 보정렌즈를 사용한 노광장치의 구성을 보이는 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing the configuration of an exposure apparatus using a subject innovation lens.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

L : (본 고안에 따른) 보정렌즈 1 : 내면(內面)L: Correction lens (according to the present invention) 1: Inner surface

2 : 봉우리부(top portion) 3 : 쇼울더부(shoulder portion)2: top portion 3: shoulder portion

4 : 연장면(延長面)4: extension surface

본 고안은 도움(dome)형 보정렌즈 (補正 lens)에 관한 것으로, 더 상세히는 컬러 브라운관의 패널(panel)에 형광면을 형성하기 위한 사진식각(photo etching) 공정의 노광(露光)에 사용되는 신규한 구성의 도움형 보정렌즈에 관한 것이다.The present invention relates to a dome type correcting lens, and more particularly, a novel method used for exposure of a photo etching process for forming a fluorescent surface on a panel of a color CRT. It relates to an assisted correction lens of one configuration.

통상적으로 사용되고 있는 새도우 마스크(shadowmask)형 컬러 브라운관에 있어서는 패널의 내면에 도트(dot) 또는 스트라이프(stripe)형으로 RㆍGㆍB형광체를 교호적으로 퇴적시킴으로써 형광면을 형성하고, 전자총으로부터 발사된 전자빔(electron beam)을 섀도우 마스크에 의해 소정부분의 형광체에 선택적으로 렌딩(landing)시킴으로써 화상을 표시하게 된다.In shadow mask type color tube, which is commonly used, fluorescent surface is formed by alternately depositing R, G, and B phosphors in a dot or stripe shape on the inner surface of the panel, and is emitted from an electron gun. An image is displayed by selectively landing an electron beam on a phosphor of a predetermined portion by a shadow mask.

여기서 표시되는 화상의 해상도(resolution)는 상술한 형광체의 화소(pixel) 크기에 좌우되는바, 이와 같이 미세한 크기의 형광체 화소를 패널에 형성하는 방법은 통상적으로 감광물질(photo resist)을 이용한 사진식각 방법이며 이때 노광용 마스크로는 통상 섀도우 마스크가 사용된다.The resolution of the displayed image depends on the pixel size of the phosphor described above. Thus, a method of forming a phosphor pixel having a minute size on the panel is generally performed by photo etching using a photoresist. In this case, a shadow mask is usually used as the exposure mask.

제1도에 도시된 것은 상술한 사진식각을 위해 노광을 행하는 노광장치의 일례인바, 이것은 특히 스트라이프형 컬러 브라운관을 제작하는데 사용되는 것이다.Shown in FIG. 1 is an example of an exposure apparatus which performs exposure for the above-described photolithography, which is particularly used for producing a stripe-color CRT.

감광 물질이 그내면에 도포된 패널(P)에는 새도우 마스크(M)가 노광용 마스크로 장차되고, 고압 수은등의 광원(光源 : T) 은 노광될 패널(P)의 기종에 따라 그 발생광을 차폐 제어하는 아아크 시일드(arc shield : A)와 함께 램프하우스(lamp house ; H)내에 수납 구성된다. 한편 이 광원()으로부터의 광빔(光beam)의 발생중심을 브라운관에의 장착시 전자총의 전자빔 발생 중심과 일치시키도록 광로(光路)를 보정하는 보정렌즈(L')와, 새도우마스크(M)의 브리지 (bridge)에 의한 음영 부분을 노광시키기 위해 광원의 이동효과를 발생 시키는 셔터(shutter;S')가 구비된다. 여기서 셔터(S')는 광 통과 경로가 되는 슬릿(slit;s)을 구비하여 좌우로 이동함으로써 새도우 마스크(M)의 브리지 후방을 노광 시키게 되며, 이 슬릿(S)의 폭은 노광 광량의 제어 수단으로서도 가능한다.In the panel P coated with a photosensitive material therein, a shadow mask M is used as an exposure mask, and a light source T of a high-pressure mercury lamp shields the generated light according to the model of the panel P to be exposed. It is housed in a lamp house (H) with an arc shield (A) to control. On the other hand, a correction lens L 'for correcting the optical path so as to coincide with the electron beam generating center of the electron gun when the center of the light beam from the light source is mounted on the CRT and the shadow mask M A shutter S 'is provided for generating a moving effect of the light source to expose the shaded portion by the bridge of the light source. Here, the shutter (S ') has a slit (slit) that is a light passage path to move left and right to expose the rear of the bridge of the shadow mask (M), the width of the slit (S) is controlled to the exposure light amount It is also possible as a means.

이와 같은 종래의 노광장치에 사용되는 보정렌즈(L')의 작동을 제2도를 참조하여 보면, 광원(T)에서 발생된 광빔(B1)의 경로를 변경시킴으로써 패널(P)에 랜딩되는 광빔(B2)이 가상중심(T')으로부터 발산되는 형태로 보정하게 되는데, 이 가상중심(T')의 위치는 브라운관에 있어서 전자빔 발생중심에 일치시키게 된다. 그런데 이와같은 종래의 보정렌즈(L')는 연속 또는 크러스터(cluster) 복합형의 볼록렌즈와 오목렌즈를 조합한 형태로서 볼록렌즈부의 광측(X1)과 오목렌즈부이(X2)은 도시한 바와 같이 상호 거의 평행하게 된다. 이것은 그 중심 부근의 광빔은 집속시키고 주변부의 광빔은 확산시킴으로써 가상중심(T')을 형성하는 것이므로, 광원(T)에서 발생된 광빔(B1)의 광속(光束)이 보정렌즈(L')를 거치고 나면 그 중심 부근에서는 밀(密)하고 주변부에서는 소(疎)해지게 된다.Referring to FIG. 2, the operation of the correction lens L 'used in the conventional exposure apparatus, the light beam landing on the panel P by changing the path of the light beam B1 generated from the light source T (B2) is corrected in the form of diverging from the virtual center T ', and the position of this virtual center T' is matched with the electron beam generating center in the CRT. However, the conventional correction lens L 'is a combination of a convex lens and a concave lens of a continuous or cluster type, and the light side X1 and the concave lens part X2 of the convex lens part are as shown. Almost parallel to each other. This is to form a virtual center T 'by converging the light beam near its center and diffusing the light beam at the periphery, so that the luminous flux of the light beam B1 generated from the light source T causes the correction lens L'. After passing through it, it will be close to the center and small at the periphery.

이것은 환언하면 패널(p)이 중심 부근에서의 노광량이 크고 주변부에의 노광량이 작아지는 것인바, 이와 같은 노광량의 불균일은 패널(P) 주변부이 블랙 매트릭스(black matrix) 및 형광체 스트라이프의 직전성(straightness)을 저하시키므로 화질이 열화되는 문제점이 있었다.In other words, the panel p has a large exposure amount near the center and a small exposure amount at the periphery. This nonuniformity of the exposure amount results in the straightness of the black matrix and the phosphor stripe at the periphery of the panel P. ), There is a problem that the image quality deteriorates.

이와 같은 주변부의 노광량 저하를 방지 하기 위해 종래에는 제1도에 보인 바와같이 보정렌즈(L')상방에 ND 필터(Neutral Density filter)등의 광량 보정필터(F)를 설치 하였는데, 이 광량보정 필터(F)는 중심부의 광투과율이 낮고 주변부로 갈수록 높아지는 구성의 것으로, 그 설계와 제작이 상당히 어려운 것이다.In order to prevent such a decrease in the exposure amount of the peripheral portion, as shown in FIG. 1, a light amount correction filter F such as an ND filter (Neutral Density filter) is provided above the correction lens L '. (F) has a low light transmittance at the center and increases in the periphery, and its design and manufacture are quite difficult.

뿐만 아니라 셔터(S')의 슬릿(S)을 투과한 광빔은 패널(P)의 중심부에서는 직각으로 입사하고 주변부에서는 소정의 경사각을 가지고 입사하게 되므로 이를 보정하기 위해 셔터(S')가 주변부를 노광할때는 그 광빔방향으로 직교에 가깝도록 경사(tilt)시키는 구성을 하였는데, 이러한 좌우이동과 동시에 그 양측에서 반대 방향으로 경사하도록 하는 경사 이동 기구의 구성은 기구상 매우 복잡하여 설계 및 제작상 많은 난점이 있었다.In addition, since the light beam transmitted through the slit S of the shutter S 'is incident at a right angle at the center of the panel P and at a predetermined inclination angle at the periphery, the shutter S' is fixed to the peripheral portion. At the time of exposure, it was configured to tilt close to orthogonal in the direction of the light beam. However, the configuration of the tilt shift mechanism that tilts in the opposite direction at the same time as the left and right movements is very complicated in terms of mechanism, and thus many difficulties in design and manufacturing There was this.

즉 광속을 주변으로 확산시킴으로써 가상 중심을 전자빔 발생 중심과 일치시키는 종래의 보정렌즈를 이용한 노광장치는 광량 보정 필터와 셔터의 경사이동 기구가 거의 필수적이라 할 수 있어서 그 구조가 복잡하여 설계 및 제작이 어렵고 장치의 고장이 잦아 유지보수에 많은 시간을 소용하여 생산성이 낮으면서도 제작된 패널의 품질도 우수하지 못한 여러가지 문제가 있었던 것이다.That is, the exposure apparatus using the conventional correction lens that matches the virtual center with the electron beam generating center by diffusing the light beam to the periphery, the light amount correction filter and the tilt shift mechanism of the shutter are almost essential. Difficult and frequent breakdowns of the equipment used a lot of time for maintenance, low productivity, but the quality of the produced panel had a variety of problems were not good.

본 고안은 상술한 종래의 문제점을 감안하여, 광원에서 발생된 광속을 확산시키지 않으므로 균일한 보정광속을 형성할 수 있어서 별도의 광량 보정 필터나 셔터의 경사이동 기구가 불필요한 도움형 보정렌즈를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention does not diffuse the luminous flux generated from the light source in view of the above-described conventional problems, and thus it is possible to form a uniform correction luminous flux, thereby providing a help type correction lens that does not require a separate light amount correction filter or a tilt shift mechanism of the shutter. For that purpose.

이와 같은 목적을 달성하기 위해 본 고안에 따른 도움형 보정렌즈는 광원에서 발생된 광빔의 발생 중심을 전자빔 발생 중심에 대응하는 가상 중심으로 보정하는 켈러 브라운관 노광용의 보정 렌즈에 있어서, 대략 반구형의 내면(1)을 구비하며, 중심부에 봉우리부(2)와 측부에 쇼올더부(3)가 형성되어 그 사이에 평면 또는 곡면의 연장면(4)이 연장되어 대략 첨두형 도움의 단면형태를 가지는 것을 특징으로 하는 도움형 보정렌즈를 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the assist type correcting lens according to the present invention is a hemispherical inner surface of a correction lens for Keller CRT exposure that corrects the center of generation of a light beam generated from a light source to a virtual center corresponding to the center of electron beam generation. 1), a peak portion 2 and a shoulder portion 3 are formed at a central portion thereof, and a planar or curved extension surface 4 is extended therebetween to have a cross-sectional shape of a rough peak shape. It is characterized by an assisted correction lens.

이하에 첨부된 도면을 참조로 하여 본 고안 보정렌즈의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the subject innovation lens will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제3도에 도시된 본 고안에 따른 도움형 보정렌즈는 거의 반구형의 내면(1)과, 중심부의 봉우리부(2) 및 측부의 쇼울더(shoulder)부(3)를 구비하고 이 봉우리부(2)와 소율더부(3)간에 평면 또는 곡면의 연장면(4)이 연당되어 대략 첨두(尖頭)의 도움형의 단면을 형성하고 있다. 이와 같은 구성에 따라 본 고안 보정렌즈는 중심부가 광축(X1)을 가지는 내면(1)과 봉우리부(2)에 의해 볼록렌즈부를, 주변부가 내면(1)과 연장면(4)에 의해 광축(X2)을 가지는 오목렌즈부를 형성하게 되며, 이 볼록렌즈부의 광축(X1)과 오목렌즈부의 광축(42)은 소정의 경사각을 가지고 형성되는 것이다.The assisted correcting lens according to the present invention shown in FIG. 3 has an almost hemispherical inner surface 1, a centrally peaked portion 2 and a side shouldered portion 3, and the peaked portion 2 ) And the extended surface 4 of a planar or curved surface between the small and the small part 3 per annum, and form the cross section of the shape of a rough peak. According to such a configuration, the correction lens of the present invention has a convex lens portion formed by an inner surface 1 and a peak portion 2 having an optical axis X1 at its central portion, and an optical axis formed by an inner surface 1 and an extension surface 4 at its peripheral portion. The concave lens portion having X2) is formed, and the optical axis X1 of the convex lens portion and the optical axis 42 of the concave lens portion are formed with a predetermined inclination angle.

이와 같은 구성의 본 고안에 따른 도움형 보정렌즈의 작동을 보면 다음과 같다.The operation of the assist type correction lens according to the present invention of such a configuration is as follows.

제4도에서 광원(T)에서 발생된 광빔(B1)은 보정렌즈(L)를 투과하며 광로가 변경되어 패널(P)의 내면에 가상중심(T')으로 부터 발생된 광빔(B3)의 형태로 랜딩된다. 본 고안 보정랜즈(L)에 있어서 보정 광빔의 광속은 거의 균일해지게 되는데, 이것은 오목렌즈부의 광집속 중심축인 광축(X2)이 패널(P)의 주변부를 향해 경사지게 형성되게 때문이다.In FIG. 4, the light beam B1 generated by the light source T passes through the correcting lens L, and the light path is changed so that the light beam B3 generated from the virtual center T 'on the inner surface of the panel P is changed. Landed in form. In the correction lens L of the present invention, the luminous flux of the corrected light beam becomes almost uniform because the optical axis X2, which is the central axis of light condensation of the concave lens portion, is inclined toward the periphery of the panel P.

이에 따라 본 고안에 따른 도움형 보정렌즈를 사용하는 경우에는 광량 보정렌즈나 셔터의 경사 이동장치를 구비하지 않아도 패널의 균일한 노광이 가능해지는 것이다. 즉 제5도에 도시된 것은 이러한 본 고안 보정렌즈(L)를 사용한 노광 장치의 예인바, 섀도우 마스크(M)가 장착된 패널(P)과 광원(T)이 내장된 램프하우스(H)사이에는 본 고안 도움형 보정렌즈(L)와, 단순히 좌우 이동하는 셔터(S)만을 설치하여도 패널(P)의 균일한 노광이 보장되므로 노광장치의 구성이 매우 간단해진다.Accordingly, in the case of using the assist type correcting lens according to the present invention, even if the light amount correcting lens or the inclination moving device of the shutter is not provided, the panel can be uniformly exposed. That is, shown in FIG. 5 is an example of an exposure apparatus using the inventive compensation lens L, between the panel P on which the shadow mask M is mounted and the lamp house H in which the light source T is built. In the present invention, even if only the corrective lens L and the shutter S that move left and right are ensured, the uniform exposure of the panel P is ensured, thereby making the configuration of the exposure apparatus very simple.

이상과 같이 본 고안에 따른 도움형 보정렌즈는 패널에 대한 노광량을 균일화함으로써 주변부의 형광체 스트라이프의 직선섬을 개선 할뿐 아니라 이에 따라 노광장치를 대폭 간소화 할 수 있으므로, 고품질의 컬러 브라운관을 생산성 높게 생산할 수 있는탁월한 효과를 발휘하게 된다.As described above, the assisted correction lens according to the present invention not only improves the linear island of the phosphor stripe at the periphery by uniformizing the exposure amount to the panel, but also greatly simplifies the exposure device, thereby producing high quality color CRTs with high productivity. It can exert an excellent effect.

Claims

In the correction lens for color CRT exposure for correcting the center of generation of the light beam generated by the light source to the virtual center corresponding to the center of electron beam generation, the lens has an approximately hemispherical inner surface (1) and has a peak portion (2) at the center and a show ratio at the side. The assist type correcting lens, characterized in that the upper part (3) is formed so that a flat or curved extension surface (4) extends therebetween to have a cross-sectional shape of approximately a peak shape.