KR940007778B1 - Photosensitive resin composition and color filter - Google Patents

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Abstract

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Description

감광성 수지 조성물 및 칼라 필터Photosensitive Resin Composition and Color Filter

[발명의 상세한 설명]Detailed description of the invention

[산업상의 이용분야][Industrial use]

본 발명은 유리등의 투명 기재를 음이온성 염료를 사용하여 임의의 색조로 용이하게 염색하기 위한 감광성 수지 조성물 및 그 수지 조성물을 사용함으로써 수득되는 칼라 필터에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition for easily dyeing a transparent substrate such as glass into an arbitrary color tone using an anionic dye, and a color filter obtained by using the resin composition.

최근, 유리등의 투명 기재를 착색시켜 수득하는 칼라 필터는 각종 디스플레이장치등으로 사용되고 있다. 특히 유리등의 투명 기재를 착색시켜 수득하는 색분해용 필터는, 액정 칼라 TV 셋트, 또는 칼라 TV용 카메라의 칼라화를 위한 목적으로 수요가 증대되고 있다.In recent years, color filters obtained by coloring transparent substrates such as glass have been used in various display devices and the like. In particular, the color separation filter obtained by coloring transparent base materials, such as glass, is increasing demand for the purpose of colorization of a liquid crystal color TV set or a color TV camera.

본 발명은 이러한 수요를 만족시키기 위한 목적으로 수행된 것이며, 유리등의 투명 기재의 염색을 위한 감광성 수지 조성물 및 그 수지 조성물을 사용함으로써 수득되는 칼라 필터에 관한 것이다.The present invention has been carried out for the purpose of satisfying such a demand, and relates to a photosensitive resin composition for dyeing transparent substrates such as glass and a color filter obtained by using the resin composition.

[배경 기술]Background Technology

종래 이 분야에 있어서는 주로 카제인, 젤라틴등 단백질계 천연 고분자 물질이 사용되어 왔다. 이들 물질의 사용에 있어서, 카제인, 젤라틴등을 온수에 용해시켜 수득한 액체에 광경화제로서 중크롬산 칼륨 또는 암모늄을 첨가하고 이것을 유리판에 스핀 코팅법으로 도포한 다음, 마스크를 통하여 활성 광선을 조사하여 유리판에 가염성층의 잠상(潛像)을 형성시키고, 이어 현상함으로써 가염성층이 나타나도록 한다. 다음에 이것을 염료에 의해 염색하는등 천연 고분자 물질이 사용되어진다.In the prior art, protein-based natural polymer materials such as casein and gelatin have been mainly used. In the use of these substances, potassium dichromate or ammonium is added as a photocuring agent to a liquid obtained by dissolving casein, gelatin and the like in warm water, which is applied by spin coating to a glass plate, and then irradiated with active light through a mask to obtain a glass plate. The latent flaw of a salt soluble layer is formed in this, and it develops so that a salt soluble layer may appear. Next, a natural high molecular substance is used, such as dyeing with a dye.

이러한 카제인, 젤라틴등을 사용하는 경우, 이들이 천연물이기 때문에 부패하기 쉽거나, 이들의 품질이 일정하지 않고 원료에 따라 광범위하게 변하기 때문에 색의 재현성이 극히 불량하게 되고, 뜨거운 물중에서 박리되기 쉬우며, 또 열에 의한 물성 악화가 커져 가공 조건이 제약되는 등의 결점이 있다. 또 염색등의 염욕 온도가 제약되기 때문에 진한 색을 얻기가 곤란한 것등 염색상에서의 문제가 존재한다.In the case of using such casein, gelatin, etc., since they are natural products, they are susceptible to decay, or because their quality is not constant and varies widely depending on the raw materials, color reproducibility becomes extremely poor, and they are easily peeled off in hot water. In addition, there are drawbacks such that the deterioration of physical properties due to heat increases and the processing conditions are restricted. In addition, there are problems in dyeing, such as difficulty in obtaining a dark color because dyeing temperatures such as dyeing are restricted.

더욱이, 카제인, 젤라틴등을 사용하는 경우, 광경하제로서 중크롬산 암모늄 또는 중크롬산 칼륨을 함께 사용하므로, 작업 공정 및 폐기시 공해 문제등을 해결해야 하는 필요가 생기고, 또 젤라틴에 함유된 크롬이 완전히 제거되지 못하여 악영향을 미칠 수 있는 문제가 존재한다.Moreover, in case of using casein or gelatin, ammonium bichromate or potassium dichromate is used together as a light curing agent, so there is a need to solve the pollution problem during work process and disposal, and chromium contained in gelatin is not completely removed. There is a problem that can be adversely affected.

본 발명자들은 이러한 문제를 해결하기 위해 합성 고분자의 검토를 실행하였다. 첫째로, 음이온성 염료에 대한 친화성을 갖는 염기성기 또는 제 4 급 암모늄 염기를 갖는 중합체를 사용하여 기재 표면을 염색하는 시험을 행하였으나, 이 경우 이 중합체 자체는 음이온성 염료와 친화성을 갖기 때문에 가염성이지만, 수용성이기 때문에 이것을 유리 기재등에 도포하고 건조시켜 염색을 수행하는 경우, 염색공정에 있어서, 기재 표면으로부터 도막이 염욕중에 박리되며, 또 염색의 목적을 수행하는 것도 염색된 기재를 수득하는 것도 불가능하였다. 더욱이 본 발명자등은, 가염성 중합체에 가교제로서 아지드 화합물을 첨가하여 수득한 감광성 수지 조성물을 유리판등의 기재 표면에 도포, 광선을 조사(照射)한 경우, 막 박리없이 염색성이 양호한 수지막을 제조하는 것이 가능함을 발견하고, 이 발견을 본 발명에서 실제적인 용도에 적용시키고 있다. 그러나 최근에 이르러 고해상도의 품질, 고정의 능률 촉진, 에너지 절약등의 요구로 인하여, 감광성 수지 조성물의 경화에 사용되는 광량을 한층 더 감소시키도록 요구되고 있다. 일반적으로 감광성 수지 조성물에 대하여 광량이 부족하면 막이 약하고 염색시 막이 거칠어지는 현상이 발생하며, 염색막은 불투명해진다. 또 염색성 및 현상성도 불량하다. 더욱이, 또 화상의 치수 안정성도 악화되는 등의 문제가 있다. 감광성 수지 조성물 중의 아지드 화합물의 광반응 속도를 증가시킴으로써 이러한 요구를 만족시키기 위해, 광반응 속도의 증가에 대한 여러가지 공지된 증감재의 부가 효과를 연구하였으나 어떠한 증감재도 만족할만한 효과를 제공하지 못하였다.The present inventors carried out examination of the synthetic polymer to solve this problem. First, a test was used to dye the surface of a substrate using a polymer having a basic group or a quaternary ammonium base having affinity for anionic dyes, in which case the polymer itself has an affinity with anionic dyes. Therefore, in the case of dyeing, the coating film is peeled off from the surface of the substrate in a salt bath, and the purpose of dyeing is obtained. It was also impossible. Furthermore, the present inventors produced a resin film with good dyeability without peeling off the film when the photosensitive resin composition obtained by adding an azide compound as a crosslinking agent to a salty polymer to a surface of a substrate such as a glass plate and irradiated with light. It is found that this is possible, and this finding is applied to practical use in the present invention. However, in recent years, it is required to further reduce the amount of light used for curing the photosensitive resin composition due to demands for high resolution quality, promotion of fixing efficiency, and energy saving. Generally, when the amount of light is insufficient with respect to the photosensitive resin composition, the film is weak and the film becomes rough during dyeing, and the dyeing film becomes opaque. Moreover, dyeing property and developability are also bad. Moreover, there also exists a problem that the dimensional stability of an image also worsens. In order to satisfy this requirement by increasing the photoreaction rate of the azide compound in the photosensitive resin composition, the addition effect of various known sensitizers on the increase of the photoreaction rate was studied, but none of the sensitizers provided a satisfactory effect.

[발명의 개시][Initiation of invention]

본 발명자등은 이러한 문제를 해결하기 위하여 다시 검토를 거듭한 결과, (a) 음이온성 염료 가염성 중합체(A), (b) 아지드 감광성 화합물(B) 및 (c) 동일 분자내에 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물(C)을 함유하는 감광성 수지 조성물(D)을 사용함으로써 목적 달성이 가능함을 알고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The present inventors have reexamined in order to solve such a problem, and as a result, (a) anionic dye-shrinkable polymer (A), (b) azide photosensitive compound (B), and (c) acryloyl group in the same molecule And / or by using the photosensitive resin composition (D) containing the compound (C) which has two or more methacryloyl groups, the objective was achieved and came to complete this invention.

본 발명에 사용되는 감광성 수지 조성물(D)은 아지드 감광성 화합물(B)만을 사용한 경우에 비하여 수분의 1의 광량으로 경화 반응을 수행하여 목적이 달성된다. 일반적으로 화합물(C)는 이것 단독으로 사용될때에 아지드 감광성 화합물(B)의 수배에 해당하는 많은 광량을 필요로 한다. 그런데, 아지드 감광성 화합물(B)과 화합물(C)를 동시에 사용함으로써, 소량의 광량으로 목적을 달성할 수 있다. 이것은 감광성 화합물(B)과 화합물(C)사이에 얼마간의 바람직한 상호 작용이 작용하기 때문에 소량의 광량으로 목적이 달성되는 것으로 추정된다.The photosensitive resin composition (D) used for this invention achieves the objective by performing hardening reaction with the light quantity of 1, compared with the case where only the azide photosensitive compound (B) is used. In general, compound (C), when used alone, requires a large amount of light corresponding to several times the azide photosensitive compound (B). By the way, by using azide photosensitive compound (B) and compound (C) simultaneously, the objective can be achieved with a small amount of light. It is assumed that the object is achieved with a small amount of light because some desirable interactions between the photosensitive compound (B) and the compound (C) work.

본 발명에서 사용되는 음이온성 염료 가염성 중합체(A)는 가염성 단량체(a), 친수성 단량체(b), 소수성 단량체(C)를 구성 성분으로서 갖는 것이 바람직하다. 또 중합체(A)는 종래 공지된 중합 방법을 이용함으로써 제조할 수 있다.It is preferable that the anionic dye salt-containing polymer (A) used by this invention has a salt-containing monomer (a), a hydrophilic monomer (b), and a hydrophobic monomer (C) as a component. Moreover, a polymer (A) can be manufactured by using a conventionally well-known polymerization method.

여기서 가염성 단량체(a)로서는 다음의 것들을 예로들 수 있다.Here, the following can be mentioned as a chlorinated monomer (a).

(N, N-디메틸아미노)에틸 아크릴레이트,(N, N-dimethylamino) ethyl acrylate,

(N, N-디메틸아미노)에틸 메타크릴레이트,(N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate,

(N, N-디메틸아미노)에틸 아크릴레이트,(N, N-dimethylamino) ethyl acrylate,

(N, N-디메틸아미노)에틸 메타크릴레이트,(N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate,

(N, N-디메틸아미노)프로필 아크릴아미드,(N, N-dimethylamino) propyl acrylamide,

(N, N-디메틸아미노)프로필 메타크릴아미드,(N, N-dimethylamino) propyl methacrylamide,

(N, N-디메틸아미노)에틸 비닐에테르,(N, N-dimethylamino) ethyl vinyl ether,

(N, N-디메틸아미노)프로필 아크릴레이트,(N, N-dimethylamino) propyl acrylate,

(N, N-디메틸아미노)프로필 메타크릴레이트(N, N-dimethylamino) propyl methacrylate

4-비닐피리딘, 디아릴아민, 2-히드록시-메타크릴로일옥시프로필트리메틸 암모늄 클라타이드, 및 메타크릴로일옥시에틸트리 메틸암모늄 클로라이드.4-vinylpyridine, diarylamine, 2-hydroxy-methacryloyloxypropyltrimethyl ammonium chloride, and methacryloyloxyethyltri methylammonium chloride.

친수성 단량체(b)로서, 다음의 것들을 예로 들수 있다 :As the hydrophilic monomer (b), the following may be mentioned:

히드록시에틸 아크릴레이트,Hydroxyethyl acrylate,

히드록시에틸 메타크릴레이트,Hydroxyethyl methacrylate,

아크릴아미드, 메타크릴아미드,Acrylamide, methacrylamide,

비닐 피롤리돈,Vinyl pyrrolidone,

디메틸아미노 아크릴아미드,Dimethylamino acrylamide,

메틸아미노 아크릴아미노,Methylamino acrylamino,

소수성 단량체(c)로서, 다음의 것들을 예로 들수 있다:As the hydrophobic monomer (c), the following may be mentioned:

메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,Methyl acrylate, methyl methacrylate,

에틸 아크릴레이트, 스티렌, p-메틸스티렌,Ethyl acrylate, styrene, p-methylstyrene,

부틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트,Butyl acrylate, butyl methacrylate,

2-에틸헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트.2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate.

이러한 가염성 단량체(a), 친수성 단량체(b) 및 소수성 단량체(c)는, 각각에 있어서, 적어도 1종씩의 단량체를 사용하여도 좋고, 또 2종 이상의 단량체를 병용하여도 좋다.Each of such a salty monomer (a), a hydrophilic monomer (b), and a hydrophobic monomer (c) may use at least 1 type of monomer, and may use 2 or more types of monomers together.

이러한 가염성 단량체(a), 친수성 단량체(b) 및 소수성 단량체(c)는 바람직하게는 각각 10 내지 80중량%, 2 내지 60중량% 및 5 내지 50중량%의 비율로 사용된다. 이렇게 하여 제조된 중합체(A)의 분자량은 바람직하게는 5000 내지 200, 000, 특히 바람직하게는 10,000내지 100,000이다.Such salting monomer (a), hydrophilic monomer (b) and hydrophobic monomer (c) are preferably used in proportions of 10 to 80% by weight, 2 to 60% by weight and 5 to 50% by weight, respectively. The molecular weight of the polymer (A) thus prepared is preferably 5000 to 200,000, particularly preferably 10,000 to 100,000.

본 발명에서 사용되는 아지드 감광성 화합물(B)로서는, 다음의 것들을 예로 들수 있다 :Examples of the azide photosensitive compound (B) used in the present invention include the following ones:

4, 4' -디아지도칼콘,4, 4'-diazalcalcon,

2, 6-비스(4'-아지도벤잘)시클로헥산온,2, 6-bis (4'-azidobenzal) cyclohexanone,

2, 6-비스(4'-아지도벤잘)-4-메틸시클로헥산온,2, 6-bis (4'-azidobenzal) -4-methylcyclohexanone,

1, 3-비스(4'-아지도벤잘)-2-프로판온,1, 3-bis (4'-azidobenzal) -2-propanone,

p-아지도벤잘아세트페논,p-azidobenzaacetphenone,

p-아지도벤잘아세톤,p-azidobenzaacetone,

1, 3-비스(4'-아지도벤잘)-2-프로판온-2'-술폰산,1, 3-bis (4'-azidobenzal) -2-propanone-2'-sulfonic acid,

4, 4'-디아지도스틸벤-2, 2'-디술폰산,4, 4'-diazidostilbene-2, 2'-disulfonic acid,

나트륨-4, 4'-디아지도스틸벤-2, 2'-디술포네이트,Sodium-4, 4'-diazidostilbene-2, 2'-disulfonate,

1, 3-비스(4'-아지도-2'-술포벤잘)-2-프로판온,1, 3-bis (4'-azido-2'-sulfobenzal) -2-propanone,

1, 3-비스(4'-아지도-2'-나트륨술포네이토벤잘)-2-프로판온,1, 3-bis (4'-azido-2'-sodium sulfonatobenzal) -2-propanone,

2, 6-비스(4'-아지도-2'-술포벤잘)시클로헥산온,2, 6-bis (4'-azido-2'-sulfobenzal) cyclohexanone,

2, 6-비스(4'-아지도-2'-술포벤잘)메틸시클로헥산온,2, 6-bis (4'-azido-2'-sulfobenzal) methylcyclohexanone,

2, 6-비스(4'-아지도-2'-나트륨술포네이토벤잘)-메틸시클로헥산온, 및2, 6-bis (4'-azido-2'-sodium sulfonatobenzal) -methylcyclohexanone, and

N, N'-디에틸-2, 2' 디술폰아미드-4, 4'-디아지도스틸벤.N, N'-diethyl-2, 2 'disulfonamide-4, 4'-diazidostilbene.

아지드 감광성 화합물(B)로서, 단지 1종의 화합물을 사용하거나, 또는 2종 이상의 화합물을 병용할 수 있다.As an azide photosensitive compound (B), only 1 type of compound can be used or 2 or more types of compound can be used together.

사용되는 아지드 감광성 화합물(B)의 양은 가염성 중합체(A) 100부당 바람직하게는 0.1 내지 20부, 특히 바람직하게는 0.5 내지 10부이다.The amount of the azide photosensitive compound (B) to be used is preferably 0.1 to 20 parts, particularly preferably 0.5 to 10 parts per 100 parts of the saltable polymer (A).

이러한 아지드 감광성 화합물(B) 중에서 술폰기를 갖는 것은 수용성이므로, 현상성이 양호하여, 저온에서 단시간에 현상될 수 있는 이점을 갖는다. 또 본 발명에서 사용되는 화합물(C)로서는, 예를 들어 다음의 것들을 들 수 있다:Among these azide photosensitive compounds (B), those having a sulfone group are water-soluble, and therefore have good developability, and have an advantage that they can be developed at a low temperature for a short time. Moreover, as a compound (C) used by this invention, the following are mentioned, for example:

스피로글리콜 디아크릴레이트[3, 9-비스(2-아크릴로일옥시-1, 1-디메틸)-2, 4, 8, 10-테트라옥사스피로(5.5)운데칸],Spiroglycol diacrylate [3, 9-bis (2-acryloyloxy-1, 1-dimethyl) -2, 4, 8, 10-tetraoxaspiro (5.5) undecane],

시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트,Cyclohexanedimethylol diacrylate,

에틸렌 글리콜 디아크릴레이트,Ethylene glycol diacrylate,

디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트,Diethylene glycol diacrylate,

트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트,Triethylene glycol diacrylate,

폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트,Polyethylene glycol diacrylate,

폴리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트,Polypropylene glycol diacrylate,

부틸렌 글리콜 디아크릴레이트,Butylene glycol diacrylate,

네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트,Neopentyl glycol diacrylate,

1, 4-부탄디올 디아크릴레이트,1, 4-butanediol diacrylate,

1, 6-헥산디올 디아크릴레이트,1, 6-hexanediol diacrylate,

펜타에리트리톨 디아크릴레이트,Pentaerythritol diacrylate,

펜타에리트리톨 트리아크릴레이트,Pentaerythritol triacrylate,

트리메틸올프로판 트리아크릴레이트,Trimethylolpropane triacrylate,

노블락 에폭시 아크릴레이트Noblock Epoxy Acrylate

비스페놀 A 에폭시 아크릴레이트,Bisphenol A epoxy acrylate,

알킬렌 글리콜 디에폭시 아크릴레이트,Alkylene glycol diepoxy acrylate,

글리시딜 에스테르 아크릴레이트,Glycidyl ester acrylate,

폴리에스테르 디아크릴레이트,Polyester diacrylate,

비스페놀 A 디아크릴레이트,Bisphenol A diacrylate,

우레탄 디아크릴레이트,Urethane diacrylate,

메틸렌비스 아크릴아미드,Methylenebis acrylamide,

에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트,Ethylene glycol dimethacrylate,

디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트,Diethylene glycol dimethacrylate,

트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트,Triethylene glycol dimethacrylate,

폴리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트,Polyethylene glycol dimethacrylate,

프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트,Propylene glycol dimethacrylate,

부틸렌 글리콜 디메타크릴레이트,Butylene glycol dimethacrylate,

네오펜틸 글리콜 디메타크릴레이트,Neopentyl glycol dimethacrylate,

1, 4-부탄디올 디메타크릴레이트,1, 4-butanediol dimethacrylate,

1, 6-헥산디올 디메타크릴레이트, 및1, 6-hexanediol dimethacrylate, and

트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트.Trimethylolpropane trimethacrylate.

화합물(C)로서, 단지 하나의 화합물을 사용하거나, 또는 2 또는 그 이상의 화합물을 함께 사용할 수 있다.As compound (C), only one compound may be used, or two or more compounds may be used together.

사용된 화합물(C)의 양은 가염성 중합체(A) 100부당 바람직하게는 0.1 내지 20부, 특히 바람직하게는 0.5 내지 10부이다.The amount of the compound (C) used is preferably 0.1 to 20 parts, particularly preferably 0.5 to 10 parts per 100 parts of the saltable polymer (A).

상기 기술된 조성을 갖는 감광성 수지 조성물은 보통 유기 용매등으로 희석한 후 사용된다. 유기 용매로서, 예를 들어 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 톨루엔, 크실렌, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 에틸 케톤등을 들 수 있다. 이들 용매는 1종 또는 2종 이상의 혼합계로도 양호하게 사용될 수 있다. 가열성 감광성 수지액중의 유기 용매의 비율은 감광성 수지 조성물의 조성에 따라 상이하므로 구체적으로 규정할 수는 없으나, 수지액을 기재 표면에 도포가능한 점도로 되게하는, 유기 용매의 비율을 선택하는 것이 바람직하다.The photosensitive resin composition having the composition described above is usually used after dilution with an organic solvent or the like. As an organic solvent, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, etc. are mentioned, for example. These solvents can be used favorably with one kind or a mixture of two or more kinds. Since the ratio of the organic solvent in the heat-sensitive photosensitive resin liquid is different depending on the composition of the photosensitive resin composition, it cannot be specified in detail, but it is preferable to select the ratio of the organic solvent which makes the resin liquid at a viscosity applicable to the substrate surface. desirable.

더욱이 가염성 수지막과 유리판의 접착성을 좋게 하기 위해 감광성 수지 조성물에 통상 실란 커플링제를 첨가한다. 첨가 비율은 가염성 중합체(A) 100부당 0.1 내지 20부가 바람직하고, 특히 0.5 내지 10부가 바람직하다.Furthermore, in order to improve the adhesiveness of a salty resin film and a glass plate, a silane coupling agent is normally added to the photosensitive resin composition. The addition ratio is preferably 0.1 to 20 parts, more preferably 0.5 to 10 parts per 100 parts of the saltable polymer (A).

이 가염성 수지액을 도포한 유리등의 기재를 통상 마스크를 통하여 자외선등에 노출시킨다. 미노광부는 수용액에 의해 현상된다.Substrate, such as glass which apply | coated this chlorinated resin liquid, is normally exposed to ultraviolet rays through a mask. The unexposed portion is developed by an aqueous solution.

현상은 상온 내지 60℃(예를 들면 10 내지 60℃) 범위에서 수행하는 것이 바람직하다. 이렇게 하여 현상된 수지의 막 두께는 예를 들어 0.2 내지 10μ의 임의의 두께로 제조될 수 있다. 현상된 소정의 패턴을 갖는 유리, 플라스틱등의 기재는 음이온 염료에 의해 염색된다.The development is preferably carried out at room temperature to 60 ℃ (for example 10 to 60 ℃) range. The film thickness of the resin thus developed can be produced, for example, at any thickness of 0.2 to 10 mu. Substrates such as glass and plastic having a predetermined pattern developed are dyed with anionic dyes.

음이온성 염료로서는, 칼라 인덱스(Colour Index, Society of Dyers and Colourists 발행)에 C.I.Acid로서 기재되어 있는 산성 염료, 동일 문헌에 C.I. Direct로서 기재되어 있는 직접 염료 및 동일 문헌에 C.I. Reactive로서 기재되어 있는 반응성 염료등을 들 수 있으나, 특히 산성 염료가 바람직하다. 산성 염료로서는 C.I.Acid Yellow 17, 동 49, 동 67, 동 72, 동 127, 동 110, 동 135, 동 161, C.I.Acid Red 37, 동 50, 동 111, 동 114, 동 257, 동 266, 동 317, C.I. Acid Blue 41, 동 83, 동 90, 동 113, 동 129, 동 182, 동 125, C.I. Acid Orange 7, 동 56, C.I.Acid Green 25, 동 41, C.I.Acid Violet 97, 동 27, 동 28, 동 48등을 들 수 있다.As anionic dyes, acid dyes described as C.I.Acid in the Color Index, published by the Society of Dyers and Colorists, and C.I. Direct dyes described as Direct and C.I. Reactive dyes etc. which are described as Reactive are mentioned, Especially an acid dye is preferable. As the acid dyes, CIAcid Yellow 17, 49, East 67, East 72, East 127, East 110, East 135, East 161, CIAcid Red 37, East 50, East 111, East 114, East 257, East 266, East 317, CI Acid Blue 41, East 83, East 90, East 113, East 129, East 182, East 125, C.I. Acid Orange 7, copper 56, C.I. Acid Green 25, copper 41, C.I. Acid Violet 97, copper 27, copper 28, copper 48 and the like.

이러한 것들을 사용하여 염색하는 방법은 염료 0.01 내지 200중량부를 물 1000중량부에 용해시킨다. 이때 액의 pH는 약 알칼리 내지 산성의 범위에서 양호하다. 이 염료 용액을 사용하여 실온 내지 100℃의 온도 범위에서 염색을 수행하나, 고온에서 염색하면 단시간에 염색물을 수득하는 것이 가능하므로 고온에서 수행하는 것이 바람직하다. 염색 후, 염색물을 거두어 건조시킴으로써, 표면 피막이 염색된 기재(칼라 필터)를 수득한다.The dyeing method using these is dissolved 0.01 to 200 parts by weight of the dye in 1000 parts by weight of water. At this time, the pH of the liquid is good in the range of about alkali to acidic. The dye solution is used to perform dyeing in a temperature range of room temperature to 100 ° C., but dyeing at a high temperature makes it possible to obtain a dye in a short time, so it is preferable to perform at a high temperature. After dyeing, the dyeing material is collected and dried to obtain a substrate (color filter) on which the surface coating is dyed.

[발명을 실시하기 위한 최량의 형태]Best Mode for Carrying Out the Invention

[실시예 1]Example 1

디메틸아미노프로필 아크릴아미드 31부Dimethylaminopropyl acrylamide 31 parts

2-히드록시에틸 메타크릴레이트 14부2-hydroxyethyl methacrylate 14 parts

비닐 피롤리돈 15부Vinyl Pyrrolidone Part 15

메틸 메타크릴레이트 15부Methyl methacrylate 15 parts

메틸 아크릴레이트 13부Methyl acrylate 13 parts

디메틸아미노 아크릴아미드 10부Dimethylamino acrylamide 10 parts

디옥산 200부200 parts Dioxane

Figure kpo00001
,
Figure kpo00002
'-아조비스(이소부티로니트릴) 1부
Figure kpo00001
,
Figure kpo00002
1 part of azobis (isobutyronitrile)

상기 배합의 액체를 사용하여 질소 분위기중 80℃에서 5시간동안 중합 반응을 수행한다. 중합 용액을 다량의 이소프로필 에테르에 투입하고 중합체 성분을 침전시킨 후 이 중합체를 꺼내어 건조시킨다. 이 건조 중합체 15부에 4,4'-디아지도칼콘 0.63부, 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부, 에틸 셀로솔브 88부, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에틸렌 27부 및 실란 커플링제 KBM 603(Shinetsu Chemical Co., Ltd 제품) 0.6부를 혼합 용해시킨 용액을 가염성 감광성 수지액으로 사용한다.The polymerization is carried out for 5 hours at 80 ° C. in a nitrogen atmosphere using the liquid of the above formulation. The polymerization solution is poured into a large amount of isopropyl ether, the polymer component is precipitated and the polymer is taken out and dried. 0.63 parts of 4,4'-diazidocalcon, 0.57 parts of spiroglycol diacrylate, 88 parts of ethyl cellosolve, 27 parts of diethylene glycol dimethyl ethylene and a silane coupling agent KBM 603 (Shinetsu Chemical Co., Ltd)) 0.6 part mixed solution was used as the saltable photosensitive resin liquid.

다음에, 이 가염성 감광성 수지액을 스핀 코팅법에 의해 유리판에 도포하고 80℃에서 30분동안 건조시킨 후, 건조된 수지 코팅에 해상도 테스트용 패턴을 갖는 마스크를 통하여 면조도 8mW/㎠의 UV 조사를 5초동안 행한다. UV-조사된 수지 코팅을 에멀젼(Emulgen) 913(폴리옥시에틸렌 노닐페닐렌 에테르형 비이온성 계면 활성제(카오 소프 코. 리미티드제))를 물 1000부에 대하여 2부 함유하는 60℃의 현상액을 사용하여 교반하에 5분동안 현상함으로써 단지 조사부(照射部)에만 가염막을 갖는 유리 기판을 수득한다. 이 유리판을 다시 160℃에서 30분동안 포스트-베이킹(post baking) 처리한 후의 이 막두께는 0.5μ이었다. 이렇게 처리된 유리판을 블루 43P(칼라 필터용 색소, 니뽕 가야꾸 코., 리미터드제)의 0.2% 수용액을 사용하여 60℃에서 10분동안 염색을 행함으로써 진한 청색의 패턴으로 염색된 유리판을 수득한다. 이 유리판의 패턴의 해상도는 5μ이고, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성이 모두 만족할만 하였다.Next, the chlorinated photosensitive resin solution was applied to a glass plate by spin coating, dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then irradiated with UV light having a surface roughness of 8 mW / cm 2 through a mask having a resolution test pattern on the dried resin coating. For 5 seconds. UV-irradiated resin coating was used a developer at 60 ° C. containing 2 parts of emulsion 913 (polyoxyethylene nonylphenylene ether type nonionic surfactant (manufactured by Caothorco Co., Ltd.)) with respect to 1000 parts of water. By developing for 5 minutes under stirring to obtain a glass substrate having a salt film only in the irradiated portion. After the glass plate was post-baked at 160 DEG C for 30 minutes, the film thickness was 0.5 mu. The glass plate thus treated was dyed at 60 ° C. for 10 minutes using a 0.2% aqueous solution of Blue 43P (color filter dye, Nippon Kayaku Co., Limited) to obtain a glass plate dyed in a dark blue pattern. . The resolution of the pattern of this glass plate was 5 micrometers, and both the transparency of a dyeing film and the dimensional stability of an image were satisfactory.

[실시예 2]Example 2

실시예 1에서 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부 대신 SU-4100(폴리아크릴레이트 올리고머, 머쓰비시 유카 파인 케미컬스 코, 리미티드 제품) 0.59부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 작업을 반복 실시한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 7초이었다.The operation was carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.59 parts of SU-4100 (polyacrylate oligomer, Mercury Yucca Fine Chemicals Co., Limited) was used instead of 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 1. Repeat. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 7 seconds.

[실시예 3]Example 3

실시예 1에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부 대신 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트 0.67부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 5초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.67 parts of cyclohexanedimethylol diacrylate is used instead of 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 1. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 5 seconds.

[실시예 4]Example 4

실시예 1에 사용된 4, 4'-디아지도칼콘 0.63부 대신 1, 3-비스(4'-아지도벤잘)-2-프로판온 0.2부 및 4, 4'-아지도칼콘 0.4부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 5초이었다.0.2 parts of 1,3-bis (4'-azidobenzal) -2-propanone and 0.4 parts of 4,4'-azidocalcon were used instead of 0.63 parts of 4,4'-diazidochalcon used in Example 1. The operation is carried out in the same manner as in Example 1 except that. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 5 seconds.

[실시예 5]Example 5

실시예 1에서 사용된 스피로그리콜 디아크릴레이트 0.57부 대신 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 0.3부 및 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.3부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 5초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.3 parts of ethylene glycol dimethacrylate and 0.3 parts of spiroglycol diacrylate are used instead of 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 1. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 5 seconds.

[실시예 6]Example 6

실시예 1에 사용된 4, 4'-디아지도칼콘 0.63부 대신 p-아지도벤잘아세토페논 0.65부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 5초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.65 parts of p-azidobenzalacetophenone is used instead of 0.63 parts of 4,4'-diazidochalcon used in Example 1. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 5 seconds.

[비교예 1]Comparative Example 1

실시예 1에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부를 부가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 40초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 1 is not added. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 40 seconds.

[비교예 2]Comparative Example 2

실시예 4에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부를 부가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 4와 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 35초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 4 is not added. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 4, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 35 seconds.

[비교예 3]Comparative Example 3

실시예 6에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부를 부가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 6과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 43초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Example 6, except that 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 6 is not added. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 43 seconds.

[실시예 7]Example 7

실시예 1에 사용된 4, 4'-디아지도칼콘 0.63부 대신 나트륨 4, 4'-디아지도스틸벤-2, 2'-디술포네이트 0.68부, 실시예 1에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부 대신 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트 0.67부를 사용하는 것 및 실시예 1에서 60℃의 현상액 내 교반하에 5분간 현상을 행하는 것 대신에 25℃의 현상액 내에서 교반하여 1분간 현상을 행하는 것을 제외하고는 모두 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 5초이었다.0.68 parts of sodium 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonate, instead of 0.63 parts of 4,4'-diazidochalcone used in Example 1, spiroglycol diacrylate used in Example 1 0.67 parts of cyclohexanedimethylol diacrylate was used instead of 0.57 parts, and development was carried out for 1 minute by stirring in a developer at 25 ° C. instead of developing for 5 minutes under stirring in a developer at 60 ° C. in Example 1. And all work in the same manner as in Example 1. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 5 seconds.

[실시예 8]Example 8

실시예 1에 사용된 4, 4'-디아지도칼콘 0.63부 대신 1, 3-비스(4'-아지도벤잘)-2-프로판온-2'-술판산 0.67부, 실시예 1에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부 대신 시클로헥산디메틸올 디아클릴레이트 0.67부를 사용하는 것 및 실시예 1에서 60℃의 현상액내 교반하에 5분간 현상을 행하는 것 대신에 25℃의 현상액 내에서 교반하여 2분간 현상을 행하는 것을 제외하고는 모두 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 20초이었다.0.67 parts of 1,3-bis (4'-azidobenzal) -2-propanone-2'-sulfonic acid instead of 0.63 parts of 4,4'-diazidochalcon used in Example 1, used in Example 1 0.67 parts of cyclohexanedimethylol diacrylate was used instead of 0.57 parts of spiroglycol diacrylate, and in Example 1 was stirred in a developer at 25 ° C. instead of developing for 5 minutes under stirring in a developer at 60 ° C. All of the operations were performed in the same manner as in Example 1 except that development was performed for a minute. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 20 seconds.

[비교예 4][Comparative Example 4]

실시예 7에 사용된 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트 0.67부를 부가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 7과 동일하게 작업을 수행한다. 30초동안 UV 조사를 행한 경우에는 화상 형성은 만족스럽지 못하였고, 또 만족할 만한 결과를 수득하지 못하였다.The operation was carried out in the same manner as in Example 7, except that 0.67 parts of the cyclohexanedimethylol diacrylate used in Example 7 was not added. When UV irradiation was performed for 30 seconds, image formation was not satisfactory, and satisfactory results were not obtained.

[비교예 5][Comparative Example 5]

실시예 8에 사용된 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트 0.67부를 부가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 8과 동일하게 작업을 수행한다. 60초동안 UV 조사를 행한 경우에도 화상 형성은 만족스럽지 못하였고, 또 만족할 만한 결과를 수득하지 못하였다.The operation is carried out in the same manner as in Example 8, except that 0.67 parts of the cyclohexanedimethylol diacrylate used in Example 8 is not added. Even when UV irradiation was performed for 60 seconds, image formation was not satisfactory, and satisfactory results were not obtained.

[실시예 9]Example 9

실시예 1에 사용된 4, 4'-디아지도칼콘 0.63부 대신 나트륨 4, 4'-디아지도스틸벤-2, 2'-디술포네이트 0.15부 및 4, 4'-디아지도칼콘 0.48부, 실시예 1에 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부 대신 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트 0.67부를 사용하는 것 및 실시예 1에서 60℃의 현상액내 교반하에 5분간 현상을 행하는 것 대신에 40℃의 현상액내 교반하에 5분간 현상을 행하는 것을 제외하고는 모두 실시예 1과 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사시간은 8초이었다.0.15 parts of sodium 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonate and 0.48 parts of 4,4'-diazidochalcone instead of 0.63 parts of 4,4'-diazidochalcone used in Example 1, 0.67 parts of cyclohexanedimethylol diacrylate instead of 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Example 1 and a developer at 40 ° C. instead of developing for 5 minutes under stirring in a developer at 60 ° C. in Example 1 All work was carried out in the same manner as in Example 1 except that the development was performed for 5 minutes under stirring. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was 8 seconds.

[비교예 6]Comparative Example 6

실시예 9에 사용된 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트 0.67부를 부가하지 않는 것 이외에는 실시예 9와 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 9에서와 동일한 결과를 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 50초이었다.The operation was carried out in the same manner as in Example 9, except that 0.67 parts of cyclohexanedimethylol diacrylate used in Example 9 was not added. The UV irradiation time required to obtain the same results as in Example 9 was 50 seconds.

[실시예 10 내지 12][Examples 10 to 12]

Figure kpo00003
Figure kpo00003

상기 배합의 액체를 사용하여 중합 반응을 수행하고 수득된 중합체를 실시예 1과 동일한 작업에 의해 건조시켰다. 이렇게 하여 수득된 각 중합체를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 가염성 감광성 수지액을 제조하고, 또 수지액을 실시예 1과 동일한 방법으로 가공 처리한다. 실시예 1과 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 실시예 1과 동일하였다.The polymerization reaction was carried out using the liquid in the above formulation and the polymer obtained was dried by the same operation as in Example 1. A salty photosensitive resin liquid is manufactured by the method similar to Example 1 except using each polymer obtained in this way, and the resin liquid is processed by the method similar to Example 1. The UV irradiation time required to obtain the same resolution as in Example 1, the transparency of the dye film and the dimensional stability of the image was the same as in Example 1.

[비교예 7 내지 9][Comparative Examples 7 to 9]

실시예 10 내지 12에서 사용된 스피로글리콜 디아크릴레이트 0.57부를 부가하지 않는 것 이외에는 실시예 10 내지 12와 동일하게 작업을 수행한다. 실시예 10 내지 12와 동일한 해상도, 염색막의 투명성 및 화상의 치수 안정성을 수득하는데 요구되는 UV 조사 시간은 35초이었다.The operation is carried out in the same manner as in Examples 10 to 12, except that 0.57 parts of spiroglycol diacrylate used in Examples 10 to 12 are not added. The UV irradiation time required to obtain the same resolution, transparency of the dye film and dimensional stability of the image as in Examples 10 to 12 was 35 seconds.

[산업상의 이용 가능성][Industry availability]

본 발명은 종래 천연물인 젤라틴 또는 카제인등, 및 중크롬산염계 감광성 수지에 비하여 부패되기 쉽다든가, 원료에 기인하여 제품 품질에 변화가 크다는 등의 문제가 없다. 또 폐액에서 생기는 6가 크롬 공해 문제도 없다. 더욱이, 본 발명의 가염성 감광성 수지 조성물(D)은, 화합물(C)을 사용하지 않은 경우에 비하여 수분의 1광량으로 수지가 경화되므로, 에너지 절약, 공정의 합리화, 원가 절감에 기여한다.The present invention is free from problems such as gelatin or casein, which are conventional natural products, and a tendency to rot, and a large change in product quality due to raw materials. It also eliminates the problem of hexavalent chromium pollution from waste liquids. Furthermore, since the resin is cured by one light amount of water compared to the case where the compound (C) is not used, the saltable photosensitive resin composition (D) of the present invention contributes to energy saving, rationalization of the process, and cost reduction.

Claims (10)

(a) 음이온성 염료 가염성 중합체, (b) 아지드 감광성 화합물, 및 (c) 동일 분자내에 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물.A photosensitive resin composition containing (a) an anionic dye-salt polymer, (b) an azide photosensitive compound, and (c) a compound having two or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the same molecule. 제 1 항에 있어서, 음이온성 염료 가염성 중합체 100부에 대하여, 아지드 감광성 화합물 0.1 내지 20부, 동일 분자내에 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물 0.1 내지 20부가 사용된 수지 조성물.The compound according to claim 1, wherein 0.1 to 20 parts of an azide photosensitive compound and 0.1 to 20 parts of a compound having two or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the same molecule are used with respect to 100 parts of the anionic dye saltable polymer. Resin composition. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 아지드 감광성 화합물이, 4, 4' -디아지도칼콘, 2, 6-비스(4'-아지도벤잘)시클로헥산온, 2, 6-비스(4'-아지도벤잘)-4-메틸시클로헥산온, 1, 3-비스(4'-아지도벤잘)-2-프로판온, p-아지도벤잘아세토페논, p-아지도벤잘아세톤, 1, 3-비스(4'-아지도벤잘)-2-프로판온-2'-술폰산, 4, 4'-디아지도스틸벤-2, 2'-디술폰산, 나트륨-4, 4'-디아지도스틸벤-2, 2'-디술포네이트, 1, 3-비스(4'-아지도-2'-술포벤잘)-2-프로판온, 1, 3-비스(4'-아지도-2'-나트륨술포네이토벤잘)-2-프로판온, 2, 6-비스(4'-아지도-2'-술포벤잘)시클로헥산온, 2, 6-비스(4'-아지도-2'-술포벤잘)메틸시클로헥산온, 2, 6-비스(4'-아지도-2'-나트륨술포네이토벤잘)-메틸시클로헥산온, 및 N, N'-디에틸-2, 2'- 디술폰아미드-4, 4'-디아지도스틸벤으로 구성된 군에서 선정된 1개 이상의 화합물인 수지 조성물.The azide photosensitive compound according to claim 1 or 2, wherein the azide photosensitive compound is 4, 4'-diazidochalcone, 2, 6-bis (4'-azidobenzal) cyclohexanone, 2, 6-bis (4 '). -Azidobenzal) -4-methylcyclohexanone, 1, 3-bis (4'-azidobenzal) -2-propanone, p-azidobenzal acetophenone, p-azidobenzal acetone, 1, 3 -Bis (4'-azidobenzal) -2-propanone-2'-sulfonic acid, 4,4'-diazidostilben-2, 2'-disulfonic acid, sodium-4, 4'-diazidostilbene -2,2'-disulfonate, 1, 3-bis (4'-azido-2'-sulfobenzal) -2-propanone, 1, 3-bis (4'-azido-2'-sodium Sulfonatobenzal) -2-propanone, 2, 6-bis (4'-azido-2'-sulfobenzal) cyclohexanone, 2, 6-bis (4'-azido-2'-sulfobenzal ) Methylcyclohexanone, 2, 6-bis (4'-azido-2'-sodium sulfonatobenzal) -methylcyclohexanone, and N, N'-diethyl-2, 2'- disulfonamide A resin composition which is at least one compound selected from the group consisting of -4, 4'-diazidostilbene. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 동일 분자내에 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물이, 스피로글리콜 디아크릴레이트(3, 9-비스(2-아크릴로일옥시-1, 1-디메틸)-2, 4, 8, 10-테트라옥사스피로(5.5)운데칸), 시클로헥산디메틸올 디아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 부틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 1, 4-부탄디올 디아크릴레이트, 1, 6-헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 노블락 에폭시 아크릴레이트, 비스페놀 A 에폭시 아크릴레이트, 알킬렌 글리콜 디에폭시 아크릴레이트, 글리시딜 에스테르 아크릴레이트, 폴리에스테르 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 우레탄 디아크릴레이트, 메틸렌비스아크릴아미드, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트, 부틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디메타크릴레이트, 1, 4-부탄디올 디메타크릴레이트, 1, 6-헥산디올 디메타크릴레이트, 및 리메틸올프로판 트리메타크릴레이트로 구성된 군으로부터 선정된 1개 이상의 화합물인 수지 조성물.The compound according to claim 1 or 2, wherein the compound having two or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the same molecule is selected from spiroglycol diacrylate (3, 9-bis (2-acryloyloxy-). 1, 1-dimethyl) -2, 4, 8, 10-tetraoxaspiro (5.5) undecane), cyclohexanedimethylol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol di Acrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, butylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1, 4-butanediol diacrylate, 1, 6-hexanediol diacrylate, penta Erythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, noblock epoxy acrylate, bisphenol A epoxy acrylate, alkylene gly Cold diepoxy acrylate, glycidyl ester acrylate, polyester diacrylate, bisphenol A diacrylate, urethane diacrylate, methylenebisacrylamide, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, butylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1, A resin composition which is at least one compound selected from the group consisting of 6-hexanediol dimethacrylate, and dimethylolpropane trimethacrylate. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 칼라 필터 제조용 수지 조성물.The resin composition for producing a color filter according to claim 1 or 2. 제 3 항에 있어서, 칼라 필터 제조용 수지 조성물.The resin composition for manufacturing a color filter according to claim 3. 제 4 항에 있어서, 칼라 필터 제조용 수지 조성물.The resin composition for producing a color filter according to claim 4. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 수지 조성물을 사용하여 수득된 칼라 필터.The color filter obtained using the resin composition of Claim 1 or 2. 제 3 항에 따른 수지 조성물을 사용하여 수득된 칼라 필터.The color filter obtained using the resin composition of Claim 3. 제 4 항에 따른 수지 조성물을 사용하여 수득된 칼라 필터.The color filter obtained using the resin composition of Claim 4.
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