Claims (5)
적외선 빔을 발생시키는 적외선 광원(11)와, 이 광원(11)에서 나오는 적외선 빔을 교호로 양측방향으로 반사시키는 스캐닝 미러(Scanning Mirror)(13)와, 기준가스가 충전되는 기준가스셀(14)과, 측정가스가 유입, 유출되는 측정가스셀(15)과, 상기 적와선 빔이 이들 가스셀(14)(15)을 반복적으로 통과하게 하는 반복 반사경군(16)(17)과, 반복반사경군(16)(17)에서 최종 반사된 적외선 중 특정 파장대의 빔만을 통과시키는 밴드패스필터(18)(19) 및 이 밴드패스필터(18)(19)를 통과한 적외선 빔을 검지하는 적외선 검지기(20)로 구성됨을 특징으로 하는 적외선 가스분석기의 광원계.An infrared light source 11 for generating an infrared beam, a scanning mirror 13 for alternately reflecting the infrared beam from the light source 11 in both directions, and a reference gas cell 14 filled with a reference gas And a measurement gas cell 15 into which the measurement gas flows in and out, a repetitive reflector group 16 and 17 allowing the red beam beam to pass through these gas cells 14 and 15 repeatedly, and a repeating reflection mirror. Band pass filters 18 and 19 for passing only the beams of a specific wavelength band among the infrared rays finally reflected by the groups 16 and 17 and infrared detectors for detecting the infrared beams passing through the band pass filters 18 and 19. Light source system of the infrared gas analyzer, characterized in that consisting of (20).
제1항에 있어서, 상기 광원(11)과 스캐닝 미러(13)의 사이에는 광원(11)에서 나오는 적외선 빔을 평행빔으로 만드는 콜리메이팅 렌즈(12)를 설치한 것을 특징으로 하는 적외선 가스분석기의 광학계.2. The infrared gas analyzer of claim 1, wherein a collimating lens (12) is formed between the light source (11) and the scanning mirror (13) to make parallel beams of the infrared beam from the light source (11). Optical system.
제1항에 있어서, 상기 반복반사경군(16)(17)은 스캐닝 미러(13)에서 반사되어 입사된 평행빔을 기준가스셀(14)과 측정가스셀(15)의 축선방향에 평행한 방향으로 반사시키는 1차반사경(16a)(17a)과, 각 가스셀 (14)(15)의 축선방향에 대하여 45°로 배치되는 2차, 3차, 4차, 5차 및 최종반사경 (16b,16f)(17b,17f)으로 구성됨을 특징으로 하는 적외선 가스분석기의 광학계.The method of claim 1, wherein the repeating reflection group (16, 17) is a parallel beam reflected by the scanning mirror 13 in the direction parallel to the axial direction of the reference gas cell 14 and the measuring gas cell 15 Primary reflecting mirrors 16a and 17a to reflect, and secondary, tertiary, quaternary, fifth and final reflecting mirrors 16b and 16f disposed at 45 ° with respect to the axial direction of each gas cell 14 and 15. Optical system of the infrared gas analyzer, characterized in that consisting of (17b, 17f).
제3항에 있어서, 상기 각 반사경 (16a,16f)(17a,17f)는 그 반사경면의 중심이 편위되며, 최종반사경 (16f)(17f)는 반사경면의 중심이 가스셀(14)(15)의 중심축과 일치하는 상태로 배열된 것을 특징으로 하는 적외선 가스 분석기의 광학계.4. The reflection mirrors 16a, 16f, 17a, 17f have centers of their reflection mirrors, and the final reflection mirrors 16f, 17f have a center of the gas mirrors 14, 15f. Optical system of the infrared gas analyzer, characterized in that arranged in a state coinciding with the central axis.
제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 2차반사경(16b)및 (17b)와 3차 반사경(16c) 및 (17c)사이에는 5차반사경(16e) 및 (17e)에서 최종적으로 반사된 빔이 최종반사경(16f) 및 (17f)에 입사될 수 있도록 하기 위한 간격이 형성된 것을 특징으로 하는 적외선 가스분석기의 광학계.The beam finally reflected by the fifth reflectors 16e and 17e between the second reflectors 16b and 17b and the third reflectors 16c and 17c. An optical system of an infrared gas analyzer, characterized in that a gap is formed so as to be incident on the final reflecting mirrors (16f) and (17f).
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.※ Note: This is to be disclosed by the original application.