KR930006915B1 - 폴리우레탄계에 사용되는 유기주석촉매 - Google Patents

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Abstract

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Description

폴리우레탄계에 사용되는 유기주석촉매
본 발명은 중합조성물을 경화시키는 촉매조성물에 관한 것이다. 더욱 특히 본 발명은 히드록실 및 이소시아네이트기를 함유하는 중합체조성물의 경화를 촉매화시키는 조성물에 관한 것이다.
제레비테노프반응에 의해 결정되는 것과 같이 유기이소시아네이트를 반응성수소원자를 함유하는 화합물 특히 폴리올과 반응시킴으로써 폴리우레탄 피봇물을 제조하는 방법이 당해 기술분야에 잘 알려져 있다. 이들 반응은 통상적으로 3급 아민촉매 및/또는 유기주석 촉매의 존재하에 수행한다.
중합체 조성물을 경화시키는 하나의 공지방법은 측쇄 히드록실기를 함유하는 중합체를 차단된 작용성 이소시아네이트와 반응시키는 것이다. 이와는 달리, 히드록실과 차단된 이소시아네이트기는 둘 모두 동일 중합체상에 존재할 수 있다. 이소시아네이트기는 이를 활성수소-함유화합물, 예를들어 알콜 또는 페놀과 반응시킴으로서 차단시킬 수 있다. 히드록실 및 차단된 이소시아네이트기를 함유하는 중합체 조성물을 100℃이상으로 가열하는 경우 차단반응은 역전되어 이소시아네이트기를 유리한 다음 히드록시기와 반응하여 가교 결합구조물을 형성시킨다.
히드록실 및 차단된 이소시아네이트기를 함유하는 피복 조성물을 경화시키기 위해 유기 및 무기주석화합물을 사용하는 것은 영국 특허 문헌(GBㆍA 994,348)에 기술되어 있다. 바람직한 주석화합물로는 옥탄산 제1주석, 염화제이주석, 부틸주석트리클로라이드, 디부틸주석디라우레이트, 디(2-에틸헥실)주석옥사이드 및 디부틸주석디부톡사이드가 있다.
특정의 히드록실-함유중합체의 수성분산물로부터 형성된 피복물을 경화시키기 위해 차단된 이소시아네이트를 사용하는 것은 미합중국 특허 제4,031,050호에 기술되어 있다. 상기 중합체는 에폭사이드-함유중합체와 일급 및/또는 이급아민의 반응생성물이다. 이 특허는 우레탄그룹을 형성시키기 위해 이소시아네이트와 히드록실-함유화합물간의 반응에 통상 사용되는 촉매가 차단된 이소시아네이트를 형성하기 위해 사용되는 시약에 따라 필요함을 기술하고 있다.
무기 및 유기주석화합물은 이소시아네이트와 히드록실 화합물, 특히 알콜 및 폴리올의 반응에 가장 유효한 촉매에 속한다. 이러한 목적을 위해 사용되는 주석화합물은 2-에틸헥산 제1주석(옥탄산 제1주석으로 또한 불리운다), 디부틸 주석디라우레이트, 디부틸 주석-비스(도데실메르캅탄) 및 디부틸 산화주석(DBTO)를 포함한다. 우레탄-형성반응에서 촉매 또는 보조촉매로서 사용되는 다른 대표적인 유기주석화합물은 예를들면 미합중국 특허 제3,582,501호, 제3,836,488호, 제4,119,585호에 기술되어 있다. 미합중국 특허 제3,392,128호는 디부틸주석 설폰아미드의 사용을 기술하고 있으며, 미합중국 특허 제3,980,579호는 디알킬주석티오 카복실레이트류를 기술하고 있다.
폴리우레탄 피복물에 널리 사용되는 유기주석화합물이 효과적이라하더라도 여기에는 이들물질의 사용과 관련된 상당한 문제점이 있다. 가장 최근에 사용되는 유기주석화합물은 휘발성이므로 독성물질의 대기방출에 관한 문제점들을 야기한다. 또한 한성분, 수-기본 우레틴에멀젼피복계와 함께 사용 수 있는 가수분해에 안정하고 계에 적합한 촉매의 필요성이 대두되어왔다. 예를들면, 폴리우레탄제제중에 유기주석화합물을 사용함으로써 이들 유기주석화합물이 물의 존재하에 가수분해되며, 따라서 촉매활성 및 계적합성의 감소가 초래된다. 이러한 문제점은 수성피복조성물이 부분 차단된 유기폴리이소시아네이트, 에폭시그룹-함유 수지의 아민부가물 및 우레탄형성용 촉매의 반응생성물을 포함하는 양이온전기중착성(CED) 조성물에서 특히 명백하다(미합중국 특허 제3,922,253호 참조).
산호주석은 흔히 폴리우레탄에멀젼피복물과 함께 사용된다. 그러나, 여기에는 그의 사용과 관련된 동일한 2가지 주요문제점, 즉 에멀젼안정성 및 휘발성이 낮다는 문제점이 있다.
미합중국 특허 제4,286,073호는 유기주석촉매로서 디-또는 트리알킬주석설포네이트를 사용하는 우레탄포움의 제조용 가수분해 안정성 에비혼합조성물을 기술하고 있다.
유럽특허 제059,632B호는 구리 II, 아연 II, 닉켈 Ⅱ, 철 II, 코발트 II 또는 바나듐 II의 염 또는 킬레이트화 배위착화합물인 금속화합물과 주석함유 우레탄촉매를 함유하는 유기분자에 결합된 히드록실기와 차단된 이소시아네이트 기간의 반응을 촉매하는 조성물을 기술하고 있다.
미합중국 특허 제3,980,579호는 할로겐-함유폴리올, 아민촉매 및 황-함유 유기주석화합물을 포함하는 폴리우레탄 포움의 제조에 사용되는 촉매안정화된 폴리올조성물을 기술하고 있다.
미합중국 특허 제4,254,017호는 주석에 또는 주석과 수소에 널리 결합된 적어도 하나의 황원자를 함유하는 유기주석 화합물을 기술하고 있다. 이 화합물은 메르캅토알칸올의 유동체이며, 유리알콜형태로, 폴리카복실산의 에스테르형태로, 특정 비금속원소를 함유하는 산들의 에스테르형태로 또는 특정 금속원소의 알콕시드형태로 존재한다. 이 화합물들은 다양한 반응에 유용한 촉매로서 각기 할로켄-함유수지에 안정성을 부여한다.
미합중국 특허 제4,314,934호는 (1) 유기주석화합물 또는 유기 주석 화합물들의 혼합물 및 (2) 서로에 대해 오르토위치에 메르캅토기 및 히드록시기가 치환된 방향족 고리를 갖고 있는 유기화합물 또는 유기화합물의 혼합물을 함유하는 중합체를 열에 의한 변성작용에 대해 안정화시키는데 유효한 조성물을 기술하고 있다.
미합중국 특허 제4,816,593호에는 폴리비닐클로라이드용 안정제로서 유용한 헤테로시클릭, 모노-유기 주석 화합물이 기술되어 있다.
Polmyer Letters vol 5, pp 57-63(1967)에는 M. Yokoo등이 우레탄 형성용 촉매로서 테트라 알킬 주석옥산을 기술하고 있다.
P.A. Bates등은 Journal of Organometallic Chemistry 325, pp. 129-139(1987)에 2,2-디알킬-1.3,2-옥사티아스타놀란을 기술하고 있다.
본 발명은 폴리우레탄 피복물 및 포옴조성물에서 이소시아네이트 또는 차단된 이소시아네이트 작용기와 반응성 수소-함유 화합물의 반응을 위한 촉매로서 유용한 하기 일반식으로 표시되는 유기 주석화합물을 제공한다 :
R2Sn-[-X-R1-OH]2
상기식에서 R은 C1-8알킬 또는 아릴기이고, R1은 히드록실 치환체를 함유할 수 있는 C2-9이가 히드로 카르빌기이며, X는 -S-또는 -O2C-일 수 있는 연결기이다.
본 발명의 화합물을 사용함으로써 폴리우레탄 피복물 제제내에 포함되어 있는 하나 또는 그 이상의 성분들에 히드록시 작용기를 경유해 화학적 결합이 형성됨으로써 촉매 휘발성 및 에멀젼 안정성의 문제를 해결 할 수 있다.
OH/NCO반응을 효과적으로 촉매하는 것외에, 상기 유기 주석화합물은 가수분해적으로 안정하거나, 피복물 수지 성분에 화학적으로 결합됨으로써 가수분해에 대한 강도가 저하된다.
본 발명의 다른 구체화로는 폴리이소시아네이트, 폴리올 및 상기 일반식의 유기 주석화합물을 함유하는 폴리우레탄 피복물 조성물이 있다.
또다른 구체화는 최소한 부분차단된 폴리이소시아네이트, 에폭시기 함유수지의 아민 부가물 및 본 발명의 유기주석화합물을 함유한 양이온 전기중착성 조성물이다.
본 발명의 또다른 구체화로는 폴리이소시아네이트, 폴리오, 상기 일반식의 유기주석화합물, 임의로는 아민 촉매 및 물 또는 할로카본(클로로플루오로카본)같은 블로잉제를 함유한 폴리우레탄 포옴 조성물이다.
본 발명의 유기주석 촉매는 하기 두가지 일반식중 하나로 표시된다.
R2Sn-[-S-R1-OH]2및 R2Sn-
Figure kpo00001
상기식에서 R은 C1-8알킬기, 바람직하게는 N-부틸 또는 옥틸이거나 아릴기, 바람직하게는 페닐이며, R1은 C2-9이가 히드로카르빌기, 예를들면 알킬렌, 아릴렌 및 알카릴렌, 바람직하게는 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 페닐렌 [-C6H4-], -CH2-C6H4-, -CH2CH2-C6H4- 및 -CH2CH2CH2C6H4-이고, 여기에서 히드로 키르빌기는 또한 히드록실 치환체를 포함할 수 있다.
연결기 X가 -S- 일때, R1은 -CH2-CH-CH(OH)-CH2와 같이 히드록시 치환된 C3-C5알킬렌기가 바람직하다. 연결기 X가 -O2C-일때, R1은 n = 0-3인 -(CH2)n-C6H4-가 바람직하다.
특정 화합물은 다음을 포함한다 :
디부틸 주석 비스-(2,3-디히드록시프로필 메르캅티드)
디부틸 주석 비스-(2-히드록시에틸 메르캅티드)
디부틸 주석 비스-(4-히드록시 페닐 메르캅티드)
디옥틸 주석 비스-(2-히드록시에틸 메르캅티드)
디옥틸 주석 비스-(4-히드록시부틸 메르캅티드)
디부틸 주석 비스-(4-히드록시페닐 아세테이트)
디부틸 주석 비스-[3-(4-히드록시폐닐)프로피오테이트]
디옥틸 주석 비스-(4-히드록시페닐 아세테이트)
디옥틸 주석 비스-(3-히드록시부티레이트)
디페닐 주석 비스-(3-히드록시부티레이트)
디유기주석 비스-카르복실레이트와 디유기주석 비스-메르캅티드를 제조하기 위한 일반적인 방법은 디유기주석 산화물(R2SnO), 적절한 카르복실산(HOR1CO2H) 또는 메르캅탄(HOR1SH) 및 톨루엔 같은 용매의 혼합물을 반응용기에 투입하고, 이 반응 혼합물을 모든 반응 수가 증류 제거될때까지 환류온도로 가열하는 단계로 구성된다. 그후 용기용매는 증발시켜 정량적인 수율의 디유기 주석 비스-카르복실레이트 또는 비스-메르캅티드를 얻었다.
본 발명의 디유기주석 촉매는 폴리이소시아네이트 및 폴리에테르 또는 폴리에스테르 폴리올을 함유한 폴리우레탄 제제중에 촉매적 유효량으로 사용된다. 특히 적절한 촉매량은 폴리우레탄 피복물 또는 포옴 제제중의 폴리올 100중량부당 약 0.1내지 2중량부, 바람직하게는 0.25 내지 1-중량부의 범위이다.
적절한 폴리이소시아네이트의 예로는 헥사멜틸렌 디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트 및 4,4'-디페닐메틴디이소시아네이트가 있다. 특히 적절한 것은 각각 2,4- 및 2-6톨루엔디이소시아네이트이거나, 시판용 혼합물 상태로 함께 사용하는 것이다. 적절한 다른 이소시아네이트 혼합물로는 기타 이성체 및 유사성의 고급 폴리이소시아네이트와 함께 약 60%의 4,4'-디페닐메틴 디이소시아네이트를 함유하는 PAPI로 알려진 "조악한 HDI"로 상업적으로 알려진 것이 있다. 또한 부분적으로 예비반응시킨 폴리이소시아네이트 및 폴리에테르 또는 폴리에스테르 폴리올의 혼합물을 포함하는 폴리이소시아네이트의 "예비중합체"가 적절하다.
본 발명의 디유기주석 화합물에 의해 촉매화된 폴리우레탄 피복물 조성물의 성분으로서 적절한 폴리올의 예는 폴리알킬렌 에테르 및 폴리에스테르 폴리올이 있다. 폴리알킬렌 에테르 폴리올은 폴리(에틸렌 산화물) 및 폴리(프로필렌 산화물)중합체와 디올 및 트리올을 포함한 폴리히드릭 화합물에서 유도된 말단히드록실기와의 공중합체를 포함하며, 그중에서 예를들면 에틸렌 글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-부탄 디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 디에틸렌 클리콜, 디프로필렌 글리콜, 펜타이레트리톨, 글리세롤, 디글리세롤, 트리메티올 프로판, 헥산디올 및 유사 저분자량 폴리올이 있다.
유용한 폴리에스테르 폴리올은 카프복실산과 과량의 디올을 반응시키거나-예를들면 아디프산과 에틸렌 글리콜 또는 부탄디올의 반응-락톤과 과량의 디올을 반응-예를들면 카프로락톤과 프로필렌 글리콜의 반응-시켜 제조되는 것을 포함한다.
폴리우레탄 포옴 조성물중의 다른 일반적인 성분은 물 및/또는 할로카본 같은 블로잉제 및 임의의 세포안정제, 가교결합제 및 아민 촉매를 포함한다.
폴리우레탄 피복물 조성물 중의 다른 일반적인 성분은 유화제, 색소 및 용매를 포함한다.
본 발명의 디유기 주석 화합물을 함유한 일반적인 수기제 폴리우레탄 피복물 제제는 다음을 포함한다 : 폴리올, 차단된 폴리이소시아네이트(TDI 및/또는 MDI), 유기 또는 무기산, 가교결합제, 색소 및 물.
양이온 전기증착성(CED) 폴리우레탄 피복물 조성물은 양이온 수지 및 최소한 부분적으로 차단된 폴리이소시아네이트 화합물의 수성 분산액, 본 발명에 의한 주석 촉매 및 임의로 색소와 복합 용매를 포함한다. 양이온 수지는 바람직하기로는 히드록실 작용기를 포함하는 3급 및 2급 아민인 모노아민과 폴리에폭사이드 수지의 반응 생성물이다. 폴리에폭사이드 수지는 또한 모노아민과 반응전후에 부분차단된 유기 폴리이소시아네이트 및/또는 폴리에스테르 폴리올 또는 폴리에테르 폴리올과 반응할 수 있다.
본 발명의 디유기주석 촉매는 CED폴리우레탄 피복물 조성물중에 촉매유효량으로 사용된다. 적절한 촉매량은 수지 100중량부당 약 0.5 내지 5중량부의 범위이다.
CED조성물중에 사용될 수 있는 폴리에폭사이드는 1 및 바람직하게는 2 이상의 1,2-에폭시 당량을 갖는 중합체이다. 바람직한 폴리에폭사이드는 시클릭 폴리올의 폴리글리시딜 에테르이다. 특히 바람직한 것은 비스-페놀 A같은 폴리히드릭 페놀의 폴리글리시딜 에테르이다. 폴리에폭사이드는 최소200, 바람직하게는 200-2000범위내 특히, 바람직하게는 약 340-2000의 분자량을 갖는다.
적절한 폴리에스테르 폴리올의 예로는 아디프산, 숙신산 또는 안히드라이드 같은 디카르복실산 또는 산안히드라이드를 부탄디올, 헥산디올 또는 폴리에틸렌 글리콜 같은 폴리올과 반응시켜 형성된 것이다. 상업적으로 입수 용이한 제품은 상품명 Mobay E-604로 시판되고 있다.
적절한 폴리에테르 폴리올의 예로는 시클릭 폴리올을 에딜렌 산화물 또는 임의로 에틸렌 산화물과 알킬렌사슬내에 3 내지 4개 탄소원자를 갖는 알킬렌 산화물의 혼합물과 반응시켜 형성된 것이 있다. 사용 가능한 시클리 폴리올의 예는 폴리히드릭 페놀 및 시클로 알리파틱 폴리올이다. 시클릭 폴리올-알킬렌 산화물 축합물은 바람직하게는 이기능성 또는 삼기능성이며, 알킬렌 산화물에 대한 시클릭 폴리올의 당량비는 1 : 3 내지 20의 범위내이어야 한다.
CED조성물을 제조하는데 사용될 수 있는 부분적으로 차단된 유기 폴리이소시아네이트는 이소시아네이트기 일부가 화합물과 반응하여 얻어진 캡핑된 이소시아네이트 부분이 실요에서는 히드록실 또는 아민기에 대해 안정하지만 승온, 통상 약200°와 600°F사이에서는 히드록실 또는 아민기와 반응성인 폴리이소시아네이트이다.
부분차단된 폴리이소시아네이트의 제조에 적절한 유기 폴리이소시아네이트를 사용할 수 있다. 또한, 유기 폴리이소시아네이트는 폴리에테르 폴리올 또는 폴리에스테르 폴리올을 포함한 폴리올로부터 유도된 예비중합체이며, 이는 과량의 폴리이소시아네이트와 반응하여 이소시아네이트-종료된 예비 중합체를 형성한다.
적절한 지방족, 시클로지방족 또는 방향족 알킬 모노알코올이 차단제로 사용될 수 있다.
전기증착성 조성물은 또한 복합용매, 통상적인 유형의 색소조성물, 가소제, 계면활성제 또는 습윤제를 포함한다.
양이온 전기증착성 조성물을 구성하는 성분에 관한 더욱 상세한 내용에 대해서는 이들 성분의 상대적 양 및 그들의 제조방법과 용도가 본 명세서의 참고문헌인 미합중국 특허 제3,922,253호 ; 제4,104,147호 및 제4,419,467호를 참고하라.
[실시예 1]
이 실시예는 디부틸 주석 비스-(4-히드록시페닐 아세테이트)의 제조에 관한 것이다. 24.9g(0.10몰)디부틸 주석 산화물, 30.4g(0.20몰)4-히드록시페닐 초산 및 300ml톨루엔의 혼합물을 교반기, 열전기쌍 또는 교반기와 딘-스타크 워터트랩을 구비한 축합기가 장착된 3구 둥근 바닥 플라스크에 투입하고, 모든 반응수가 상기 트랩내에 수거될 때까지 환류온도에서 가열했다. 톨루엔은 플래시 증발기를 사용해 제거함으로써 121-126℃의 용융점을 갖는 디부틸 주석 비스-(4-히드록시페닐 아세테이트) 53g(99%)이 산출되었다.
[실시예 2]
실시예 1의 과정에 의해 디 부틸 주석 산화물을 33.2g(0.20몰)3-(4-히드록시페닐)프로피온산과 반응시켜 용융점 48-50℃인 백색 결정질의 디부틸주석 비스-[3-(4-히드록시페닐)프로피오네이트]56g을 산출했다.
[실시예 3]
24.9g(0.10몰)의 디부틸주석이산화물, 21.6(0.20몰)의 3-메르캅토-1,2-프로판디올 및 300ml톨루엔의 혼합물을 실시예 1에 설명한 대로 반응시켰다. 톨루엔을 제거한뒤 44.5g(99.5%)의 디부틸 주석 비스-(2,3-디히드록시프로필 메르캅티드),(C4H9)2Sn[SCH2CH(OH)CH2OH]2가 산출되었다. 이 생성물은 담황색의 점성 액체였다.
[실시예 4]
15.6g(0.2몰)의 2-메르캅토에틴올을 사용한 것외에는 실시예 3의 과정을 이용해 디부틸주석 비스-(2-히드록시에틸메르캅티드) (C4H9)2Sn[SCH2CH2OH]238g(98%)을 산출했다. 이 생성물을 밝은 황색 액체였다.
[실시예 5]
55.2g(0.20몰)의 4-메르캅토페놀을 사용한 것외에는 실시예 3의 과정에 의해 46g(95%)의 디부틸주석 비스-(4-히드록시페닐메르캅티드) (C4H9)2Sn[SC6H4OH]2를 산출했다. 이 생성물을 황갈색 액체였다.
[실시예 6]
실시예 1-5의 유기주석 촉매는 하기 겔화 시험에 의해 이소시아네이트-히드록실 반응용 촉매로서 평가되었다. 9g용매(디옥산 또는 메틸 이소부틸 케톤)중의 디알킬주석 화합물(0.5몰%)용액을 제조했다. 이 용액에 159g의 폴리(옥시 알킬렌)트로올(Mobay Hultranol E-9143, OH수 = 35)을 가하고, 완전히 혼합한후, 8.5g 톨루엔 디이소시아네이트(2.4/2.6이성질체 혼합물 80/20비율)를 촉매/트리올 용액에 첨가하고 30초간 혼합했다. 작은 시험용 튜브에 상기 혼합물을 넣고, 밀폐시킨뒤 즉시 항온조(25,50 또는 70℃)에 넣었다. 혼합, 시험용 튜브에 충진, 밀폐 및 항온조내에 방치하는데 필요한 시간을 매시험마다 1분이었다. 겔시간은 튜브가 상기 항온조내에 방치될 때부터 시작하여 튜브를 거꾸로 했을때에도 상기 혼합물이 흐르는 것이 육안으로 관찰되지 않을때가지 시간으로 측정한다. 겔화시간은 혼합물내의 이소시아네이트-히드록실 반응 속도의 측정치로 해석되었다.
표 1은 겔화 시험의 결과를 나타낸 것이다.
[표 1]
Figure kpo00002
*T-1=디부틸주석 디아세테이트
표 1의 자료는 디알킬주석 화합물 1-5 모두 이소시아네이트/히드록실 반응을 촉매함을 나타내 주고 있다.
[실시예 7]
각각의 디알킬주석 화합물 1-5에 대해 가수분해 안정성이 평가되었다. 이 시험조건은 CED배스 같은 수성 폴리우레탄 피복물 재스내의 촉매에 대한 조건과 유사하다.
톨루엔중의 10% 디알킬 주석 화합물 용액 5.0g을 pH 6.5인 20ml의 묽은 초산이 포함된 시험용 튜브에 가했다. 이 내용물들은 두개의 비혼합성 상을 형성하며, 이 튜브를 수차거꾸로하여 혼합하고, 실온에 방치했다. 이 조건하의 가수분해 안정성은 톨루엔-초산 경계면에 침전(두 상내에 불용성인 가수분해 생선물)이 나타나는데 필요한 시간(날)으로 측정했다. 이 가수분해 안정성 시험의 결과는 표 2에 나타나 있다.
[표 2]
Figure kpo00003
상기 가수분해 안정성 자료는 본 발명에 의한 각각의 디알킬 주석 화합물이 T-1촉매에 비해 향상된 가수분해 안정성이 있음을 증명해 주고 있다. 화합물 3-5는 시험 200일 후에도 침전을 형성하지 않았다.
본 발명의 디유기 주석 화합물은 수성 폴리우레탄 피복물 및 포옴 조성물, 특히 양이온 전기증착성 폴리 우레틴 조성물에서 우레탄 촉매로서 유용하다.

Claims (20)

  1. 최소한 부분 차단된 폴리이소시아네이트, 에폭시기 함유수지의 아민 부가물 및 유기주석촉매로 구성되는 양이온 전기증착성 조성물에 있어서, 상기 유기 주석촉매로서 하기 일반식의 화합물을 포함하는 조성물 :
    R2Sn-[-X-R1-OH]2
    (상기식에서 R은 C1-8알킬 또는 아릴기이고 R1은 히드록실기로 치환될 수 있는 C2-9이기 히드로카르빌기이며 X는 -S-또는 -O2C-이다)
  2. 제1항에 있어서, R은 부틸 또는 올릴인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, X는 -S-인 조성물.
  4. 제3하에 있어서, R1은 히드록시치환된 C3-5알킬렌인 조성물.
  5. 제3항에 있어서, R1은 -CH2-CH(OH)-CH2인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, X는 -O2C-인 조성물.
  7. 제6항에 있어서, R1은 n이 0-3인 (CH2)n-C6H4-인 조성물.
  8. 제7항에 있어서, R1은 (CH2)2-C6H4-인 조성물.
  9. 제7항에 있어서, R1은 -CH2-C6H4-인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 완전히 차단된 폴리이소시아네이트를 포함하는 조성물.
  11. 최소한 부분 차단된 폴리이소시아네이트, 에폭시기 함유수지의 아민부가물 및 유기주석 촉매로 구성된 양이온증착성 조성물에 있어서, 상기 유기주석 촉매로서 하기 일반식의 화합물을 포하하는 조성물 :
    R2Sn-[S-R1-OH]2
    (상기식에서 R은 부틸 또는 옥틸이고, R1은 히드록시 치환된 C3-5알킬렌이다)
  12. 제11항에 있어서, R1은 -CH2-CH(OH)-CH2-인 조성물.
  13. 제12항에 있어서, R은 부틸인 조성물.
  14. 제11항에 있어서, 완전히 차단된 폴리이소시아네이트를 포함하는 조성물.
  15. 제13항에 있어서, 완전히 차단된 폴리이소시아네이트를 포함하는 조성물.
  16. 최소한 부분 차단된 폴리이소시아네이트, 에폭시기 함유수지의 아민부가물, 및 유기주석 촉매를 함유하고 있는 양이온 전기증착성 조성물에 있어서, 상기 유기주석촉매로서 하기 일반식의 화합물을 함유하는 조성물.
    R2Sn-[-O2C-R1-OH]2
    (상기식에서 R은 부틸 또는 옥틸이고 R1은 C2-9이가 하이드로카르빌기 이다)
  17. 제16항에 있어서, R1은 n이 0-3인-(CH2)n-C6H4-인 조성물.
  18. 제16항에 있어서, R1은 -CH2C6H4-인 조성물.
  19. 제16항에 있어서, R1은 -CH2CH2C6H4-인 조성물.
  20. 제16항에 있어서, 완전히 차단된 폴리이소시아네이트를 포함하는 조성물.
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