KR920013188A - 기계로 인쇄된 텍스트 및 필사된 주석을 식별하는 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

기계로 인쇄된 텍스트 및 필사된 주석을 식별하는 방법 및 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1A도는 본 발명을 구체화한 하나의 하드웨어 시스템을 도시한 블럭도, 제1B도 및 C도는 본 발명의 동작을 설명하는 순서도, 제2도는 필클립 마스크롤 형성하는 방법을 도시한 도, 제3도는 기계로 인쇄된 텍스트 시드의 형성을 도시한 도.

Claims (25)

1. 복수의 필사된 및 기계로 인쇄된 문자를 갖는 입력 이메지 영역을 형태학적으로 처리하여 실제로 단지 기계로 인쇄된 텍스트 또는 필사된 주석 면적만을 식별하는 지정 이메지를 발생시키는 단계를 구비하여 디지탈 처리 수단으로 상기 필사된 주석 면적 및 기계로 인쇄된 텍스트를 갖는 상기 입력 이메지의 필사된 주석 면적을 식별하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 처리 단계가 상기 기계로 인쇄된 텍스트 또는 필사된 주석을 선택적으로 식별하여 제1중간 이메지를 발생시키는 SE로 기계로 인쇄된 텍스트 또는 필사된 주석면적을 식별하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 이메지를 형태학적으로 처리하는 상기 단계가 온 필셀에 의해 측면으로 바운드되는 오프 픽셀이 제2영역보다 높은 밀도를 갖는 상기 입력 이메지의 제1영역을 식별하는 단계를 구비하는 필사된 주석면적을 식별하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 필사된 주석 또는 기계로 인쇄된 텍스트의 상기 식별을 토대로 단지 기계로 인쇄된 텍스트 또는 필사된 주석만을 구비하는 출력 이메지를 형성하는 단계를 구비하는 필사된 주석 면적을 식별하는 방법.
5. 제1항에 있어서, 지정 이메지가 실제로 단지 상기 기게로 인쇄된 텍스트 면적 또는 필사된 주석 면적만을 중첩하는 마스크를 구비하는 필사된 주석 면적을 식별하는 방법.
6. 제5항에 있어서, a)실제로 단지 상기 필사된 주석 또는 기계로 인쇄된 텍스트 면적에서 시드 픽셀을 추출하고 b)상기 필사된 주석 면적 및 상기 기계로 인쇄된 면적상에서 실제 온 픽셀 솔리드 영역을 구비하는 클리핑 마스크에 상기 시드 픽셀을 채우는 단계로 형성하는 상기 마스크를 구비하는 필사된 주석 면적을 식별하는 방법.
7. 제5항에 있어서, 상기 입력 이메지를 갖는 상기 마스크는 AND하므로서 제1출력 필사된 주석 이메지 또는 기계로 인쇄된 텍스트 이메지를 형성하는 단계를 추가로 구비하는 필사된 주석 면적을 식별하는 방법.
8. 제7항에 있어서, 상기 입력 이메지를 갖는 상기 제1출력 이메지를 XOR하여 제2출력 이메지를 형성하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
9. 제1항에 있어서, 임계 감소를 이용하여 상기 입력 이메지를 감소시키는 단계를 실행하여 구비하는 방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 감소 단계가 적어도 두개의 임계 감소 즉 적어도 2x의 스케일과 적어도 2의 임계레벨로 상기 입력 이메지를 감소시키는 단계를 구비하는 방법.
11. 제2항에 있어서, 영역을 식별하는 단계가 a)두개의 수평 인접은 픽셀을 갖는 SE로 상기 제1중간 이메지를 클로우징하여 제2중간 이메지를 발생시키고 b)상기 제2중간 이메지는 상기 입력 이메지를 XOR하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
12. 제2항에 있어서, a)적어도 두개의 수직 인접한 온 픽셀을 갖는 SE로 상기 제1중간 이메지로 클로우징하며 b)적어도 두개의 수직 인접한 온 픽셀을 갖는 SE로 상기 제1중간 이메지를 오픈닝하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
13. 제2항에 있어서, 복수의 측면 인접한 온 픽셀을 갖는 SE로 상기 이메지를 클로우징하고 오픈닝하므로서 상기 제1중간 이메지로부터 마스크를 형성하는 제2중간 이메지를 발생시키는 단계를 추가로 구비하는 방법.
14. 제13항에 있어서, a)상기 제2중간 어레이의 임계 감소를 수행하여 b)수평 SE로 단계 a)의 출력을 오픈닝하며, c)수평 SE로 단계 b)의 출력을 딜레이팅하며, d)수직 SE로 단계 c)출력을 클로우징하며, e)수평 SE로 단계 d)의 출력을 딜레이팅하고, f)수직 SE로 단계 e)의 출력을 딜레이팅하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
15. 제6항에 있어서, 상기 클리핑 마스크를 형성하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
16. 제15항에 있어서, 상기 클리핑 마스크 형성 단계가 a)수평 SE로 단계 a)출력을 클로우징하고 b)수평 SE로 단계 b)이 출력을 오픈닝하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
17. 제16항에 있어서, 상기 입력 이메지의 단계를 감소시키는 구비하는 방법.
18. 제16항에 있어서, 상기 클로우즈 및 오픈이 인접한 온 픽셀 세개 이상을 갖는 수평 SE를 이용하는 구비하는 방법.
19. 제6항에 있어서, 시드 픽셀 추출 단계가 온 픽셀옆의 양측상에 측면으로 바운드되는 오프 픽셀을 갖는 상기 이메지의 영역을 식별하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
20. 제6항에 있어서, 시드 픽셀의 추출 단계가 a)상기 입력 이메지를 클로우징하고 b)상기 입력 이메지로 단계 a)의 출력을 XOR하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
21. 제6항에 있어서, 시드 픽셀 추출 단계가 히트-미스 SE로 상기 이메지를 처리하는 단계를 구비하는 방법.
22. 제6항에 있어서, 상기 클로우징 단계가 상기 입력 이메지를 감소시키는 단계를 구비하는 방법.
23. 제6항에 있어서, 상기 시드 픽셀을 클리핑 마스크에 채우는 단계가 a)입력 이메지를 기억시키며, b)상기 입력 이메지를 딜레이팅하며, c)상기 클리핑 마스크로 단계 b)로부터 출력을 AND하며, d)단계 c)의 출력은 단계 a)로부터 나온 기억된 이메지와 비교하고 e)단계 a)로부터 나온 상기 기억된 이메지와단계 c)의 상기 출력이 소정양 이상까지 차이가 있으면, 단계 c)의 상기 출력을 마스크로서 출력하거나 또는 만일 단계 (a로 부터나온 상기 기억된 이메지와 단계 c)의 상기 출력이 소정양 이상까지 차이가 나면, 상기 입력 이메지로서 작용하는 단계 c)의 상기 출력으로 단계 a)를 반복하는 단계를 추가로 구비하는 방법.
24. 제1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,21,22또는 23항에 있어서, 상기 방법을 수행하기 위하여 프로그램되는 디지탈 컴퓨터.
25. 제1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,21,22또는 23항에 있어서, 상기 방법을 의하여 문자 인식하기전 이메지에서 필사된 주석을 제거하기 위하여 프로그램되는 광학 문자 판독기.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.