KR920007683A - 액체 화학물에 기포를 제공하는 기포관 장치 - Google Patents
액체 화학물에 기포를 제공하는 기포관 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR920007683A KR920007683A KR1019910018592A KR910018592A KR920007683A KR 920007683 A KR920007683 A KR 920007683A KR 1019910018592 A KR1019910018592 A KR 1019910018592A KR 910018592 A KR910018592 A KR 910018592A KR 920007683 A KR920007683 A KR 920007683A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- bubble tube
- bubble
- tube chamber
- liquid chemical
- liquid
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J10/00—Chemical processes in general for reacting liquid with gaseous media other than in the presence of solid particles, or apparatus specially adapted therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/10—Mixing gases with gases
- B01F23/12—Mixing gases with gases with vaporisation of a liquid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 기포관 챔버의 평면도
제2도는 제1도의 선2-2를 따라서 취한 단면도
제3도는 본 발명에 기포관 챔버의 다른 평면도.
Claims (13)
- 액체 화합물을 통해 운반가스를 기포화시킴으로써 액체 화학물을 증발시키는 기포관 장치로서, 액체 화학물을 보유하는 내부 체적을 제공하기 위해서 원통형 측벽, 상단벽 및 하단벽 구성된 중공 원통형 몸체로 형성되어 있으며 가스켓이 설치되어 있지 않은 원통형 기포관챔버, 상기 기포관 챔버에 액체 화학물을 공급하도록 상기 기포관 챔버와 연결되어 있는 액체 화학물 유입관, 상기 기포관 챔버에 운반가스를 공급하도록 상기 기포관 챔버와 연결되어 있는 운반가스 유입관, 상기 기포관 챔버의 하단벽에 인접하게 위치되어 상기 운반가스 유입관에 연결되어 있으며, 액체 화학물 안으로 다수의 운반가스 흐름을 제공하도록 서로 이격되어 있는 다수의 배출구멍이 형성되어 있어서, 상기 운반가스가 상기 액체 화학물을 통과하며서 기포를형성하면 상기 액체 화학물이 증발하여 상기 운반가스 안으로 발산되면서 전체적으로 균일한 온도를 유지하며 혼합되도록 구성되어 있는 스파이저관, 상기 운반가스및 증발된 액체 화학물을 상기 기포관 챔버 밖으로 배출 시키도록 상기 기포관 챔버에 연결된 증기 유출관, 및 상기 기포관 챔버의 벽 보다 두꺼운 몇개의 판으로 제조되어서 상기 스테린레스강으로 제조된 기포관 챔버의 외부면 전체를 둘러싸고 있는 열전도성 밀폐부분과, 상기 열전도성 밀폐부분의 외부면을 둘러싸고 있는 단열층과, 그리고 상기 열전도성 밀폐부분에 연결되어서 상기 기포관 챔버 내에 있는 액체 화학물의 온도를 소정의 온도로 유지시키는 수단과를 포함하고 있어서, 상기 액체 화학물 전체로 균일한 온도를 제공하는 수단,을 포함하고 있는 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기포관 챔버의 벽들이 스테인레스강으로 제조된 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기포관 챔버가 용접 연결된 구조로 제조된 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 스파아저관이 상기 기포관 챔버의 하단벽에 인접하게 수평 방향으로 연장하여 있는 기포관장치.
- 제4항에 있어서, 상기 스파아저관의 제1측면을 따라서 수평하게 위치된 다수의 제1배출구멍이 상기 스파아저관에 포함되어 있는 기포관 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 스파아저관의 제1측면의 반대쪽 측면을 따라서 수평하게 위치된 다수의 제2배출구멍이 상기 스파이저관에 포함되어 있는 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 열전도성 밀폐부분이 알루미늄판으로 제조된 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기포관 챔버와 상기 열전도성 밀페부분 사이를 열적으로 연결시키는 열전도 수단을 더 포함하는 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 다수의 기포관 장치를 보유하는 단열 용기를 더 포함하는 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기포관 챔버 내에 있는 액체 화학물의 온도를 유지시키는 상기 수단이 상기 열전도성 밀폐부분을 가열시키는 수단을 포함하고 있는 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기포관 챔버 내에 있는 액체 화학물의 온도를 유지시키는 상기 수단이 상기 열전도성 밀폐부분을 냉각시키는 수단을 포함하고 있는 기포관 장치.
- 제1항에있어서, 레이저 액체상태 감지장치에 의해서 상기 기포관 챔버의 하단벽 내면으로부터 제공되는 빛의 반사를 방지하도록 상기 하단벽에 형성된 볼록한 부분을 더 포함하는 기포관 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 액체 화학물 유입관을 통해 상기 기포관 챔버의 역류가 용이하게 이루어지도록, 상기 액체 화학물 유입관이 그 유입단 부근에 인접하게 상기 하단벽 상에 형성된 오목한 부분 내에서 종결되어 있는 기포관 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/601,270 US5078922A (en) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | Liquid source bubbler |
US07/601,270 | 1990-10-22 | ||
US7/601,270 | 1990-10-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR920007683A true KR920007683A (ko) | 1992-05-27 |
KR100191851B1 KR100191851B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=24406863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910018592A KR100191851B1 (ko) | 1990-10-22 | 1991-10-22 | 액체 화학제품을 통해 운반가스를 기포화시켜서 액체 화학제품을 증발시키기 위한 기포관 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5078922A (ko) |
EP (1) | EP0482878A3 (ko) |
JP (1) | JPH0661453B2 (ko) |
KR (1) | KR100191851B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100302458B1 (ko) * | 1999-07-09 | 2001-09-22 | 박호군 | Cfc 또는 hcfc의 합성반응에서 불화수소의 공급 방법 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06196419A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Canon Inc | 化学気相堆積装置及びそれによる半導体装置の製造方法 |
US5413671A (en) * | 1993-08-09 | 1995-05-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Apparatus and method for removing deposits from an APCVD system |
IT1272670B (it) * | 1993-09-24 | 1997-06-26 | Lindberg Ind Srl | Metodo e dispositivo per la formazione e l'erogazione controllata di un'atmosfera gassosa ad almeno due componenti ed applicazione di impianti di trattamento termico o di combustibile |
US5620524A (en) * | 1995-02-27 | 1997-04-15 | Fan; Chiko | Apparatus for fluid delivery in chemical vapor deposition systems |
US6086711A (en) * | 1997-10-06 | 2000-07-11 | Nisene Technology Group | Vapor generation system and process |
US6135433A (en) * | 1998-02-27 | 2000-10-24 | Air Liquide America Corporation | Continuous gas saturation system and method |
US6123765A (en) * | 1998-03-27 | 2000-09-26 | Mitsubishi Silicon America | Continuously fed single bubbler for epitaxial deposition of silicon |
GB9929279D0 (en) * | 1999-12-11 | 2000-02-02 | Epichem Ltd | An improved method of and apparatus for the delivery of precursors in the vapour phase to a plurality of epitaxial reactor sites |
US6561498B2 (en) * | 2001-04-09 | 2003-05-13 | Lorex Industries, Inc. | Bubbler for use in vapor generation systems |
TW200300701A (en) | 2001-11-30 | 2003-06-16 | Asml Us Inc | High flow rate bubbler system and method |
US7077388B2 (en) * | 2002-07-19 | 2006-07-18 | Asm America, Inc. | Bubbler for substrate processing |
KR100511936B1 (ko) * | 2003-01-15 | 2005-09-02 | 엘에스전선 주식회사 | 수정화학기상증착용 광섬유 모재 제조장치 |
KR100523935B1 (ko) * | 2003-12-15 | 2005-10-26 | 한국표준과학연구원 | 화학 기상 증착공정을 위한 전구체의 기화장치 |
GB2432371B (en) * | 2005-11-17 | 2011-06-15 | Epichem Ltd | Improved bubbler for the transportation of substances by a carrier gas |
WO2007062242A2 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Msp Corporation | High stability and high capacity precursor vapor generation for thin film deposition |
US7562672B2 (en) * | 2006-03-30 | 2009-07-21 | Applied Materials, Inc. | Chemical delivery apparatus for CVD or ALD |
US8951478B2 (en) * | 2006-03-30 | 2015-02-10 | Applied Materials, Inc. | Ampoule with a thermally conductive coating |
US20070254100A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-11-01 | Applied Materials, Inc. | MOCVD reactor without metalorganic-source temperature control |
US20070254093A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-11-01 | Applied Materials, Inc. | MOCVD reactor with concentration-monitor feedback |
US20100242835A1 (en) * | 2006-06-09 | 2010-09-30 | S.O.I.T.E.C. Silicon On Insulator Technologies | High volume delivery system for gallium trichloride |
WO2010122972A1 (ja) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | 株式会社堀場エステック | 液体原料気化装置 |
US9117773B2 (en) * | 2009-08-26 | 2015-08-25 | Asm America, Inc. | High concentration water pulses for atomic layer deposition |
EP2496733B1 (en) | 2009-11-02 | 2021-08-04 | Sigma-Aldrich Co. LLC | Method for evaporation |
US8555809B2 (en) * | 2010-01-14 | 2013-10-15 | Rohm And Haas Electronic Materials, Llc | Method for constant concentration evaporation and a device using the same |
JP5852774B2 (ja) * | 2010-07-14 | 2016-02-03 | 株式会社堀場エステック | 液体試料加熱気化装置 |
KR20140096113A (ko) * | 2011-11-10 | 2014-08-04 | 쌩-고벵 크리스톡스 에 드테끄퇴르 | 반도체 결정 물질의 형성에 사용하기 위한 시스템 |
US9018108B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-04-28 | Applied Materials, Inc. | Low shrinkage dielectric films |
DE102013103603A1 (de) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zum Versorgen eines Prozesses mit einem angereicherten Trägergas |
US9957612B2 (en) * | 2014-01-17 | 2018-05-01 | Ceres Technologies, Inc. | Delivery device, methods of manufacture thereof and articles comprising the same |
US10023831B2 (en) | 2014-03-17 | 2018-07-17 | Biogen Ma Inc. | Gas delivery devices and associated systems and methods |
US10443128B2 (en) | 2015-04-18 | 2019-10-15 | Versum Materials Us, Llc | Vessel and method for delivery of precursor materials |
US10480070B2 (en) * | 2016-05-12 | 2019-11-19 | Versum Materials Us, Llc | Delivery container with flow distributor |
KR102517907B1 (ko) * | 2016-12-12 | 2023-04-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 전구체 제어 시스템 및 프로세스 |
WO2020124263A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Nanorial Technologies Ltd. | Apparatus, methods, and systems for mixing, dispersing substances |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2610839A (en) * | 1949-08-26 | 1952-09-16 | U S Gas Generator Corp | Gas-liquid admixing apparatus |
US2650808A (en) * | 1950-11-09 | 1953-09-01 | Abraham J Cohen | Carbonator cooler |
US3539165A (en) * | 1969-06-16 | 1970-11-10 | Glenn R Ingels | Apparatus for treating metallic and nonmetallic materials |
US3659604A (en) * | 1970-03-30 | 1972-05-02 | Fisher & Paykel | Humidifying means |
US3987133A (en) * | 1975-09-05 | 1976-10-19 | Fisher Scientific Company | Humidifier |
US4134514A (en) * | 1976-12-02 | 1979-01-16 | J C Schumacher Co. | Liquid source material container and method of use for semiconductor device manufacturing |
DE3116951C2 (de) * | 1981-04-29 | 1984-12-20 | Drägerwerk AG, 2400 Lübeck | Vorrichtung zur Beimischung flüssiger Narkosemittel in das dem Patienten zuzuführende Atemgas |
US4482509A (en) * | 1983-03-04 | 1984-11-13 | Gerlach Industries, Inc. | Carbonating apparatus |
US4597917A (en) * | 1983-04-19 | 1986-07-01 | Lunsford Kevin S | Portable medical gas warming system |
US4859375A (en) * | 1986-12-29 | 1989-08-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Chemical refill system |
DE3708967A1 (de) * | 1987-03-19 | 1988-10-06 | Merck Patent Gmbh | Vorrichtung zur erzeugung eines gasgemisches nach dem saettigungsverfahren |
-
1990
- 1990-10-22 US US07/601,270 patent/US5078922A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-10-22 EP EP19910309736 patent/EP0482878A3/en not_active Ceased
- 1991-10-22 JP JP3274069A patent/JPH0661453B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-22 KR KR1019910018592A patent/KR100191851B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100302458B1 (ko) * | 1999-07-09 | 2001-09-22 | 박호군 | Cfc 또는 hcfc의 합성반응에서 불화수소의 공급 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5078922A (en) | 1992-01-07 |
EP0482878A2 (en) | 1992-04-29 |
JPH0661453B2 (ja) | 1994-08-17 |
JPH05138008A (ja) | 1993-06-01 |
KR100191851B1 (ko) | 1999-06-15 |
EP0482878A3 (en) | 1993-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR920007683A (ko) | 액체 화학물에 기포를 제공하는 기포관 장치 | |
JPH07505703A (ja) | 板状熱交換器 | |
KR960034936A (ko) | 냉각된 액체 및 가열된 액체의 분배 장치 | |
KR940018630A (ko) | 흡수식 냉온수기의 고온재생기 및 흡수식 냉온수기 | |
DK1634031T3 (da) | Pladepakke | |
KR20230127232A (ko) | 인라인 히터 | |
US3321927A (en) | Spiral liquid cooled baffle for shielding diffusion pumps | |
KR960705186A (ko) | 저온 액체용 증발기(low-temperature liquid evaporator) | |
US3681938A (en) | Absorption refrigeration apparatus of the inert gas type | |
KR880013795A (ko) | 온도제어 탱크 켄테이너 | |
US3304731A (en) | High vacuum cold trap | |
KR950704659A (ko) | 처리가스용 가스가열기(gas heater for processing gases) | |
KR200215784Y1 (ko) | 폐온수를 이용한 보일러용 열 교환장치 | |
RU1815583C (ru) | Вертикальный теплообменный аппарат | |
SU883686A1 (ru) | Гидродинамическа ударна труба | |
SU742694A1 (ru) | Теплова труба | |
SU1575251A1 (ru) | Устройство дл охлаждени приборов | |
KR100213960B1 (ko) | 하향식 액막 증발 장치 | |
SU1259091A1 (ru) | Теплообменна поверхность | |
KR200328913Y1 (ko) | 블록형 냉각시스템 | |
KR830000742Y1 (ko) | 폐열 회수 가열기 | |
JP2584047B2 (ja) | 熱交換器 | |
SU1006856A1 (ru) | Криогенный резервуар | |
RU2034224C1 (ru) | Теплопередающее устройство | |
SU535451A1 (ru) | Теплова труба |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20040119 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |