KR920005237B1

KR920005237B1 - 초고속 2차원 좌표 변환 프로세서 및 이의 변환 방법

Info

Publication number: KR920005237B1
Application number: KR1019890014392A
Authority: KR
Inventors: 패트릭 에프. 카스텔라즈
Original assignee: 휴우즈 에어크라프트 캄파니; 앤 데 게나로
Priority date: 1988-10-07
Filing date: 1989-10-05
Publication date: 1992-06-29
Also published as: CA1326559C; KR900006877A; IL91882A0; JP2513860B2; EP0362877A3; IL91882A; JPH02199531A; AU4259789A; AU622713B2; EP0362877A2; US4920506A

Abstract

내용 없음.

Description

초고속 2차원 좌표 변환 프로세서 및 이의 변환 방법

제1도는 (R,θ)-(x, y) 경우에 대한 본 발명의 좌표 변환 문제 및 개념을 도시한 도면.

제2도는 임의 변환 경우에 대한 본 발명의 좌표 변환 문제 및 개념을 도시한 도면.

제3도는 본 발명에 따른 좌표 변환 프로세서의 프로세싱을 도시한 플로우챠트.

제4도는 본 발명에 따른 전도성 라인을 도시한 여러가지 기판층의 도면.

제5도는 본 발명의 양호한 실시예의 전도성 패드를 도시한 도면.

제6도는 본 발명에 따른 좌표 변환 프로세서의 기판 배치도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 좌표 변환 프로세서 24 : 전도성 패드

26 : 독립 억세스 라인 28,30 : 드라인버/감지기

32 : 접속 회로 34 : 제어 회로

본 발명은 정보 프로세서에 관한 것으로, 더욱 상세히 말하면 인접한 전도성층들 사이에 관련 결합시키는데 이용되는 고속(high speed)좌표 변환 프로세서에 관한 것이다.

좌표계(coordinate system)는 소정의 기준 프레임에 관련하여 지정된 다수의 양(quantity)에 의해 소정공간(space)내의 지점(point)을 위치 설정하도록 구성되어 있다. 공통적인 좌표계로는 Cartesian 좌표계, Polar 좌표계, Spherical 좌표계 및 Cylindrical 좌표계를 포함한다. 좌표계내의 정보는 다른 좌표계내의 소정의 지점 함수로서 좌표계내의 각 지점을 나타내는 방정식계에 의해 또 다른 좌표계로 변환된다. 예를들어, 카디션(cartesian) 좌표에서 극(polar)좌표로의 변환은 다수의 응용이 필요하다.

신속 좌표 변환을 수행하기 위한 종래의 방법은 전형적으로 범용(general purpose) 컴퓨터상의 소프트웨어의 변환 방정식을 푸는 것이 포함된다. 소프트웨어 방법에 대한 결점은 소정의 실시간(real-time) 또는 근접 실시간 문제(problem)에 대한 속도가 빠르지 않다는 것이다. 이것은 변환 방정식을 푸는데 시간이 걸리기 때문이다. 소프트웨어 방법에 대한 대안은 좌표 변환을 수행하기 위해 CORDIC 알고리즘(algorithm)의 하드-와이어드(hard-wired) 실시방법을 사용하기 위한 것이다.

이것은 소프트웨어 해법(solution)보다 빠르게 실시할 수 있지만, 좌표 변환을 수행하기 위해서는 거의μSec대의 시간이 필요하다. 더욱이, 하드와이어드 CORDIC 알고리즘 방법은 삼각 및 초월(transcendental) 변환에 제한된다. 결과적으로, 이것은 2차원 좌표 벡터의 고속 선형 및/또는 비선형 양방향 변환을 수행할 수 없다.

디지탈 스캔(scan) 변환기에 사용된 것과 같은 다른 방법은 좌표 변환용의 메모리 조사 테이블(lookup table)기술내에서 다수의 능동(active) RAM 부품을 사용한다. 이 장치들은 RAM 부품들이 다량 필요하기 때문에 비교적 고가이면서 부피가 크다는 결점을 갖고 있다. 또한, 이러한 시스템은 소정의 응용에 적합한 속도를 달성하지 못하였다.

따라서, 이것은 현재 이용가능한 프로세서보다 빠른 속도로 좌표 변환을 수행할 수 있는 프로세서를 제공하는 것이 요구된다. 이것은 고속 프로세싱을 달성하기 위해 좌표 변환을 수행할때 변환 방정식을 풀 필요성이 없는 프로세서를 제공하는 것이 요구된다. 또한, 이것은 이것의 프로세싱 능력이 비교적 저렴하면서 좁은 공간에서 여러번 반복될 수 있도록 저렴하면서 소형인 좌표 변환 프로세서를 제공하는 것이 요구된다.

본 발명에 따르면, 좌표 변환 프로세서는 좌표 변환을 신속하게 풀수 있는 것이 제공된다. 본 발명은 다층(multi-layer)으로 구성되는데, 각각의 층은 신호를 전도하는 기하학적(geometric)패턴을 갖고 있다.이 기하학적 패턴은 변환되는 유사한 좌표계이다. 출력 벡터로의 입력 벡터의 변환은 인접층상의 기하학적 패턴의 기능으로서 기판층들사이의 상호작용 결합에 의해 수행된다.

더욱 상세히 말하면, 제1좌표계 내의 좌표 라인들에 대응하는 기하학적 패턴을 갖고 있는 제1셋트의 층은 제2자표계내의 좌표라인들에 대응하는 기하학적 패턴을 갖고 있는 제2셋트의 연속층들사이에 배치된다. 이때, 신호는 제1죄료계의 한 지점을 나타내는 지점에서 교차하는 제1셋트의 층내의 라인에 인가된다. 이 신호는 제2셋트의 층내의 인접층에 결합된다. 이때, 결합된 신호는 감지되고, 신호가 제1셋트의 층내에 유입되는 지점 가장 가까운 제2셋트의 층내의 교차점이 결정된다. 이 결정은 제2셋트의 층내의 교차점에서 유도된 신호 강도를 비교하고, 강하게 유도된 신호를 갖고 있는 교차점은 선택함으로써 행해질 수 있다. 제2셋트의 층내의 선택 지점은 제1좌표계내의 등가 변환 지점인 제2좌표계내의 지점을 나타낸다. 상기 프로세서는 제2좌표계내의 한 지점을 제1좌표계내의 한 지점으로 변환시키는 것을 반대로 행할 수도있다. 최종 좌표 변환 프로세서는 고속변환을 수행하고, 생산비가 저렴하며, 가능한 n-폴드(fold)를 증가시키기 위해 n배 반복된다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 여러가지 장점에 대하여 상세하게 설명하겠다.

제1도를 참조하면, 좌표 변환 문제의 설명이 극 좌표와 커티션 좌표사이의 변환의 경우가 도시되어 있다. 더욱 상세히 말하면, 제1도에는 극좌표로 나타낸 2차원 공간(A×B)내의 한 지점(R,θ)가 도시되어 있다. 여기서, A는 Y방향으로의 최대 거리이고, B는 X방향으로의 최대 거리이다. R은 하부 좌측의 최대 지점으로부터의 범위(range) 또는 거리를 나타낸다. θ는 360°원주상의 개시 기준점으로부터의 각(angle)을 나타낸다. 문제는 지점(R, θ)에 대응하는 카티션 좌표내의 저점(x, y)를 발견하기 위한 것이다. 선택적으로, 카티션 좌표로 나타낸 2차원 공간(A×B)내에 도시된 소정의 지점(x, y)는 극 좌표(R, θ) 상의 한지점으로 변환될 수 있다.

문제를 관찰하는 한 방식은 제1도의 우측에 도시된 바와같이 좌표변환 프로세서(10)내에는 카티션 좌표의 상부에 극 좌표를 겹쳐놓는 방식이다. 최종 공간(A×B)는 최종적으로 겹쳐진 좌표의 전체 공간을 나타내고, 극좌표 및 카티션 좌표에 의해 덮혀진 공간(A×B)와 동일하다. 변환 방정식을 사용하지 않고 좌표변환을 수행하기 위해서, 본 발명에 따른 개념은 지점(R, θ)를 자극하여, 가장 가까이 겹쳐진 좌표(x, y)에서 감소된 신호를 검출하기 위한 것이다. 이때, 이(x, y)는 (R, θ)지점의 변환 좌표를 나타내다. 선택적으로, 지점(x, y)는 자극될 수 있고 가장 가까운 지점(R, θ)에서 유도된 신호는 (x, y)지점에서 변환될 수 있다.

이와 마찬가지로, 제2도에는 임의 공간에 대한 변환문제가 도시되어 있다. 더욱 상세히 말하면, 소정 지점(a, b)는 제1좌표계내의 공간(A×B)를 나타낸다. 이것은 동일기간(A×B)를 나타내는 제2좌표계내의 대응 지점(c, d)를 발견하는데 필요하다. 선택적으로, 제2좌표계내의 소정 지점(c, d), 즉 문제는 제1좌표계내의 대응지점(a, b)를 발견하기 위한 것이다. 제2도에 도시된 바와같이, 제1 및 제2의 임의 좌표계는 좌표 변환 프로세서(10)내의 동일(A×B)공간내에 서로 겹쳐질 수 있다. 제1좌표계상의 한 지점을 자극하는 신호는 제2좌표계내의 신호를 유도할 수 있다. 이 유도된 신호는 제1좌표계내의 자극된 지점의 정보를 나타내는 지점에서 가장 강하다.

제3도를 참조하면, 본 발명의 양호한 실시예에 따른 제어/프로세싱 알고리즘에 대한 플로우챠트가 도시되어 있다. 이 알고리즘은 제1좌표계상의 한 지점(a, b)를 제2좌표계상의 지점(c, d)로 변환시킬 수 있다. 처음에, 좌표 변환 프로세서(10)은 입력으로서 좌표(a, b)를 억셉트시킨다. 예를들어, 이 입력은 좌표(a, b)의 디지탈 표시치(소정의 임의 확도)일 수 있다(스텝 12). 이때, 제1좌표계내의 라인("a")가 자극을 받는다(스텝 14). 이 라인은 상세하게 후술한 바와같이 전도성 트레이스(trace)일 수 있고, 자극은 인가된 전기신호에 의해 행해질 수 있다. "b"라인이 거의 동시에 자극을 받게된다(스텝 16).

그 다음에, 감지기는 제2좌표게내의 모든 (c, d)교차점을 스캔한다(스텝 18). 예를들어, 이것은 각 (c, d)트레이스내의 전압 또는 전류를 직렬 또는 병렬로 측정함으로써 행해질 수 있다. 이때, 최대 응답 능력을 갖고 있는 (c, d)교차점이 판정된다(스텝 20). 이 판정은 감지기 역치(threshold)를 사용함으로써 달성될수 있다. 더욱이, 역치는 좌표 변환 프로세서(10)의 속도를 더욱 증가시키기에 적합하다. 이때, 이 최대(c, d)교차점은 출력으로 좌표 변환프로세서(10)으로부터 제공된다(스텝 22). 예를들어, 이 출력은 좌표(c, d)의 디지탈 표시치(임의 확도)일 수 있다.

소정의 요구된 확도에 대한 리솔루션(resolution)은 점점 작아지는 공지된 리솔루션을 갖고 있는 소정의 입력 좌표를 재프로세싱함으로써 얻을 수 있다는 것을 주지해야 한다. 이 방식으로, 작은 공간은 각각 반복시킴으로써 덮혀질 수 있다. 그러므로, 출력의 확도는 입력의 확도에 의해서만 제한된다.

제4도내에는 본 발명에 따른 좌표 변환 프로세서(10)의 제1실시예에 대한 기판 배치도가 도시되어 있다. 좌표변환 프로세서(10)은 10개의 층으로 구성된다. 각각의 층은 상술한 기하학적 패턴 다음에 신호 전도 패치(patch)들을 갖고 있다. 이 전도 패치들은 인쇄 회로 기판상에 구리 전도체로 구성할 수 있다. 층내에는 1개, 5개 및 6개의 X라인이 있고, 층내에는 3개 및 9개의 X-Y 좌표계의 Y라인이 있다. 층내에는 2개 및 8개의 θ라인이 있고, 층내에는 4개, 6개 및 10개의 R, θ좌표계내에 R라인이 있다. 각각의 층은 임의 박막(thin)층이고, 임의 박막 유전체에 의해 모든 인접층으로부터 분리된다. 한 좌표계내의 각 트레이스 형태의 최소한 한개의 층은 다른 좌표계내의 상이한 형태의 층들간에 삽입된다. 동일한 패턴의 층들이 모든 트레이스 간에 최대로 결합하도록 반복된다. 이것은 원하지 않는 전자기 간섭으로부터 프로세서(10)을 차폐하기 위해 접지면에 의해 좌표 변환 프로세서(10)을 상하로 덮기 위한 것이다.

제5도내에는 본 발명에 따른 좌표 변환 프로세서(10)의 제2실시예가 되시되어 있다. 제2실시예는 각각의 트레이스 라인을 따라 각각의 (x, y)교차점 및 각각의 (r, θ)교차점에서 전도성 패드를 사용하는 것이 제1실시예와 상이한 점이다. 그러므로, 이 실시예내에서, 이것은 연속 전도성 라인이 아니라 제4도에 도시되고 상술한 기하학 패턴 다음에 전도성 패드의 어레이가 있다.

제1실시예는 별도의 전도성 패드(24)가 사용되지는 않지만, 보다 민감한 감지기 회로를 필요로 하기 때문에 비용이 적게 된다. 제2실시예내에서, 전도성 패드(24)는 층들간의 개량된 결합 상태를 제공한다. 제5도의 좌측에는 전도성 패드(24)의 (x, y)기하학적 패턴만이 도시되어 있다. (r,θ)라인에 대한 전도성 패드(24)는 도시하지 않았다. 부수적으로, 각각의 전도성 패드(24)는 독립 억세스 라인(26)을 통해 독립적으로 억세스시킬 수 있다. 제5도의 우측에는, 좌표 변환프로세서(10)의 10개의 층이 도시되어 있다. 각각의 전도성 패드(24)를 접속시키는 억세스 라인(26)도 도시되어 있다. 그러나, 제5도의 좌측에 도시된 일단의 개별 억세스 라인들은 제5도의 좌측에 도시된 단 한개의 라인(26)을 나타낸다. 또한 억세스 라인용으로 필요한 추가 라인은 도시되어 있지 않다.

제6도를 참조하면, 좌표 변환 프로세서(10)의 전체 기판 배치도가 도시되어 있다. X-Y 드라인버/감지기(28)은 억세스 라인(26)을 통해 제1실시예의 X-Y 층내의 트레이스에, 또는 제2실시예의 각각의 개별전도성 패드(24)에 접속된다. 이와 마찬가지로, (R,θ)드라인버/감지기(30)은 억세스 라인(26)을 통해 (r-θ)층내의 트레이스 또는 전도성 패드(24)에 접속된다. 드라인버/감지기(28 과 30)은 트레이스를 시키는 기능을 수행한다. 이 스텝은 제3도의 스텝(14 및 16)을 나타낸다. 또한 드라인브/감지기(28과 30)은 제3도의 스텝(18 및 20)시에 기술한 바와같이 최대 응답 능력을 갖고 있는 교차점을 스캐닝 및 검출하는 기능을 수행한다.

전체적으로, 좌표 변환 프로세서(10)에 수행된 프로세싱은 다음과 같다. 제1좌표계내의 지점(a, b)를 나타내는 초기 입력은 제6도에 도시된 접속 회로(34)로의 호스트(host) 프로세서(도시하지 않음)에 의해 좌표변환 프로세서(10)에 제공된다. 이때, 이 정보(a, b)는 접속 회로(32)에서 제어회로(34)로 제공된다. 제어회로(34)는 (a, b) 신호를 X-Y 드라인버/감지기(28) 또는 (R,θ) 드라인버/감지기30)일 수 있는 적합한 드라인버, 감지기에 제공한다. 이때, 드라인버/감지기는 지점(a, b)에 대응하는 트레이스 또는 패드(24)를 자극시킨다.

상기 프로세싱은 제어회로(34)와 드라인버/감지기(28 및 30)의 조합 장치를 사용하여 여러가지 방식으로 달성될 수 있다. 예를들어, 프로세싱은 단 한개의 펄스가 신호를 적합한 트레이스에 제공하기 위해 역치레벨에 의해 적절하게 타임 및 감지되는 진폭 영역(domain) 내에서 행해질 수 있다. 선택적으로, 프로세싱은 적합한 주파수 내용의 신호가 적합한 필터를 사용하여 감지된 조합장치가 사용 및 국한되는 주파수 영역내에서 행해질 수 있다. 예를들어, (a, b) 트레이스가 X-Y 드라인버/감지기(28)에 의해 자극될 때, (R, θ)드라인버/감지기(30)은 최대 응답 능력을 갖고 있는 (r, θ)교차점을 스캔 및 감지한다. 이 응답 능력은 (x, y)교차점으로부터의 신호를 가장 가까운(r, θ)교차점에 결합시킴으로써 발생된다. 예를들어, 양호한 실시예내에서, 전기 신호가 트레이스를 통과하고 있는 경우에, 인접층들 사이의 결합상태는 용량성이다. 그러나, 결합시키는 다른 수다은 연속층들사이를 자기적으로나 광학적으로 결합시킬 수 있다. 예를들어, 광학 실시예내에서, 좌표 변환 프로세서(10)의 몇몇 또는 모든 기능들이 광학 부품으로 충족될 수 있다. 어떤 결합모드라도, 이것은 결합속도가 고속이고, 결합 강도가 자극된 교차점(a, b)에서 멀리 떨어져서 감소하는 중요한 결합특성이 있다. 이 방식으로(a, b)에 밀접한 한 교차점(c, d)는 소정의 다른(c, d)지점보다 가하게 유도된 신호를 갖고 있다.

이때, (r, θ)교차점내에서 유도된 신호는 (R, θ) 드라인버/감지기(30)에 의해 검출될 수 있다. 상술한 바와같이, 진폭 또는 주파수 영역내에서 감지가 행해질 수 있다. 지지회로, 특히 드라인버/감지기(28 및 30),제어회로(34), 및 접속회로(32)는 트레이스를 포함하는 10개의 층과 동일한 회로 기판상에 존재할 필요성은 없다.

상술한 좌표 변환 프로세서(10)은 종래의 인쇄 회로 기판 기술을 사용하여 생산비가 적게 든다. 또한 이것은 간단한 지지회로만이 필요하다. 더욱이, 이것은 좌표 변환을 초고속으로 수행한다. 진폭 프로세싱 영역내에서, 예를들어 1nSec의 펄스가 초단 10억번의(X-Y)-(R, θ) 또는 (R, θ)-(x, y)좌표 변환을 수행하는데 사용될 수 있다. 이것은 출원인이 알고 있는 이용가능한 좌표 변환 프로세서보다 최소한 3등급이나 빠르다. 고속으로 처리될지라도, 다층 인쇄 회로 기판 자체내의 지지회로 또는 밀리메터파에 의해서만 제한되는 것이 효과적이다. 좌표의 리솔루션은 인쇄 회로 기판 또는 장치 제조 기술에 의해서만 임의로 발견 및 제한된다. 본 분야에서 숙련된 기술자라면 명세서, 도면 및 첨부된 특허 청구의 범위를 연구한 후에 본 발명의 진정한 의도를 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 변경시킬 수 있다.

Claims

좌표 변환을 수행하기 위한 프로세서에 있어서, 제1좌표계내의 좌표 라인을 나타내는 신호 전도라인을 각각 갖고 있는 평면 부재의 제1셋트의 층, 제2좌표계내의 좌표라인을 나타내는 신호 전도라인을 각각 갖고 있는 평면 부재의 제2셋트의 층, 제1셋트의 각각의 층이 제2셋트의 연속층들간에 배치되도록 제2셋트의 층에 인접 배치되는 제1셋트의 층, 제1셋트의 층내의 신호 전도 라인들 중 선택된 라인에 신호를 인가시키기 위한 수단, 제2셋트의 층 내의 라인내에 있고, 제1셋트의 층내의 제1교차점에 인가된 신호에의해 유도되는 신호를 검출하기 위한 수단, 및 제2셋트의 층내의 여러개의 교차점에서 검출된 신호를 비교하기 위한 수단을 포함하고: 선택된 라인이 제1좌표계내의 한 지점을 나타내는 지점에서 교차하고, 제1셋트의 층내의 제1교차점에 가장 가까운 교차점이 검출된 신호의 강도에 의해 결정될 수 있는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제1항에 있어서, 신호 전도 라인이 전기적으로 전도성이고, 신호가 전기 신호인 것을 특징으로 하는 프로세서.
제2항에 있어서, 인가된 전기 신호가 용량성 결합에 의해 제2셋트의 층내의 신호전도 라인내에서 유도되는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제1항에 있어서, 제1및 제2 좌표계가 2차원카티션 및 극 좌표계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제1항에 있어서, 신호를 인가시키기 위한 수단 및 신호를 검출하기 위한 수단이 제1 및 제2셋트의 층으로부터 각각 인접층에 배치되고, 라인의 교차점들중 한 교차점에 각각 인접 배치되는 전도성 패드의 다수의 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제1항에 있어서, 좌표 라인들중 한 라인에 신호를 인가시키기 위한 수단이 선택된 진폭을 갖고 있는 신호를 발생시키기 위한 수단, 및 신호 진폭에 따라서 좌표 라인들중 선택된 한 라인에 신호를 제공하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제1항에 있어서, 좌표 라인들중 선택된 한 라인에 신호를 인가시키기 위한 수단이 선택된 주파수를갖고 있는 신호를 발생시키기 위한 수단, 및 신호 주파수에 따라서 좌표 라인들중 선택된 라인에 신호를 제공하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제1항에 있어서, 각각의 층들이 인접한 유전물질층에 의해 분리되는 것을 특징으로 하는 프로세서
제1항에 있어서, 층들이 좌표계내의(x, y) 및 (R, θ)좌표 라인들을 포함하고 ; 제1층이 X라인을 포함하고, 제2층도 X라인을 포함하며, 제3층이 Y라인을 포함하고, 제4층이 R라인을 포함하며, 제5층이 X라인을 포함하고, 제6층이 R라인을 포함하며, 제7층이 X라인을 포함하고, 제8층이 θ라인을 포함하며, 제9층이 Y라인을 포함하고, 제10층이 R라인을 포함하도록 배열되는 것을 특징으로 하는 프로세서.
좌표 변환을 수행하기 위한 프로세서에 있어서, 제1좌표계내의 좌표 라인을 나타내는 신호 전도 라인을 각각 갖고 있는 평면 부재의 제1셋트의 층, 제2좌표계내의 좌표라인을 나타내는 신호 전도 라인을 각각 갖고 있는 평면 부재의 제2셋트의 층, 제1셋트의 각각의 층이 제2셋트의 연속층들간에 배치되도록 제2셋트의 층에 인접 배치되는 제1셋트의 층, 제1셋트의 층내의 신호 전도 라인들 중 선택된 라인에 신호를 인가시키기 위한 수단, 제2셋트의 층 내의 라인내에 있고 제1셋트의, 층내의 제1교차점에 인가된 신호에 의해 유되는 신호를 검출하기 위한 수단, 및 제2셋트의 층내의 여러개의 교차점에서 검출된 신호를 비교하기 위한 수단을 포함하고 ; 선택된 라인이 제1좌표계내의 한 지점을 나타내는 지점에서 교차하고, 제1셋트의 층내의 제1교차점에 가장 가까운 교차점이 검출된 신호의 강도에 의해 결정될 수 있는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제10항에 있어서, 신호 전도 라인 전기적으로 전도성이고, 신호가 전기 신호인 것을 특징으로 하는 프로세서.
제11항에 있어서, 인가된 전기 신호가 용량성 결합에 의해 제2셋트의 층내의 신호 전도 라인 내에서 유도되는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제10항에 있어서, 제1 및 제2좌표계가 2차원 키티션 및 극 좌표계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제10항에 있어서, 신호를 인가시키기 위한 수단 및 신호를 검출하기 위한 수단이 제1 및 제2셋트의 층으로부터 각각 인접층에 배치되고, 라인의 교차점들중 한교차점에 각각 인접 배치되는 전도성 패드의 다수의 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제10항에 있어서, 좌표 라인들중 한 라인에 신호를 인가시키기 위한 수단이 선택된 진폭을 갖고 있는 신호를 발생시키기 위한 수단, 및 신호 진폭에 따라서 좌표 라인들 중 선택된 한 라인에 신호를 제공하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제10항에 있어서, 좌표라인들중 선택된 한 라인에 신호를 인가시키기 위한 수단이 선택된 주파수를 갖고 있는 신호를 발생시키기 위한 수단, 및 신호 주파수에 따라서 좌표 라인들중 선택된 라인에 신호를 제공하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세서.
제10항에 있어서, 각각의 층들이 인접한 유전 물질층에 의해 분리되는 것을 특징으로 하는 프로세서
제10항에 있어서, 층들이 좌표계내의(x, y) 및 (R, θ) 좌표 라인들을 포함하고 ; 제1층이 X라인을 포함하고, 제2층도 X라인을 포함하며, 제3층이 Y라인을 포함하고, 제4층이 R라인을 포함하며, 제5층이 X라인을 포함하고, 제6층이 R라인을 포함하며, 제7층이 X라인을 포함하고, 제8층이 θ라인을 포함하며, 제9층이 Y라인을 포함하고, 제10층이 R라인을 포함하도록 배열되는 것을 특징으로 하는 프로세서
한 좌표계로부터의 데이타를 다른 좌표계로 변환시키기 위한 방법에 있어서, 평면 부재의 제1셋트의 층이 평면 부재의 제2셋트의 층에 인접 배치되고, 제1셋트의 각각의 층이 제2셋트의 층으로부터 연속층사이에 배치되도록 평면 부재의 층들을 배치하고, 제2셋트의 층내에 있고, 제1좌표계내의 한 지점을 나타내는 지점에서 교차하는 선택된 라인에 신호를 인가하며, 제1좌표계내의 제1교차점에 가장 가까운 교차점이 검출된 신호의 강도에 의해 결정될 수 있는 제2셋트의 층내의 여러개의 교차점에서 검출된 신호를 비교하고 ; 제1셋트의 층이 제1좌표계내의 좌표 라인들을 나타내는 신호 전도 라인을 갖고 있고, 제2셋트의 층이 제2좌표계내의 좌표 라인들을 나타내는 신호 전도성 라인을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 방법.