KR920004634B1 - 칼라 선택 전극 어셈블리 및 칼라 음극선관 제조방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

칼라 선택 전극 어셈블리 및 칼라 음극선관 제조방법

제 1 도는 본 발명을 구체화하는 칼라 음극선관의 주요 부품에 대한 사시적인 부품 분해도.

제 2 도는 제 1 도에서 도시된 음극선관의 부분적으로 어셈블리된 변형의 정면도.

제 3 도는 음극선관의 소자와 박편 위치 맞춤 기구를 상세히 도시하는 제 2 도의 음극선관에서 원형으로 둘러싸인 부분의 확대 단면도.

제 4 도는 제 3 도의 4-4선을 따라 택한 부분 단면도.

제 5 도는 다른 페이스플레이트/샤도우 마스크 위치 맞춤 기구를 도시하는 음극선관의 일부에 대한 확대 단면도.

제 6 도는 본 발명에 따라 음극선관 페이스플레이트에 샤도우 마스크의 구멍 패턴을 스크리닝하기 위한 노광실(lighthouse)을 도시한 개략도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 칼라 선택 전극 어셈블리 12 : 칼라 음극선관

16 : 페이스플레이트 30 : 마운트

46 : 위치 맞춤 수단

본 발명은 일반적으로 칼라 음극선관에 관한 것으로서, 특히 칼라 음극선관내에 사용하기 위한 칼라 선택 전극 어셈블리에 관한 것이다. 동일하게, 본 발명은 전극 어셈블리를 제조하는 방법 및 이 어셈블리를 이용하는 음극선관에 관한 것이다.

일반적으로, 칼라 선택 전극 즉, "샤도우 마스크"는 하나 또는 그 이상의 전자빔이, 칼라 음극선의 타켓 전극을 구성하는 루미네센트 형광 스크린을 횡단하여 소인시키는때 이들 전자빔의 입사 패턴을 제어하기 위해, 형광 스크린에 인접하여 배치되는 장치이다. 샤도우 마스크는, 스크린의 표면을 주사 전자빔으로부터 부분적으로 샤도잉(Shadowing)함에 의해 칼라선택을 행하며, 이들 전자빔이 선택된 기본 형광체 영역으로 입사할 수 있도록 하는 것이다. 칼라 음극선관에서 사용하기 위한 칼라 선택 전극은, 전반적으로 장력이 걸려 있지 않은 전극과 장력이 걸려 있는 전극간의 선택이다. 현재 칼라 텔레비젼 수상기에서 사용되고 있는 가장 일반적인 종류의 칼라 선택 전극은 장력이 걸려 있지 않는 종류의 것이다.

장력이 걸려 있지 않은 샤도우 마스크를 사용하는 칼라 음극선관에 있어서는 매우 높은 휘도의 장면이 도시되는 영역에 있어서의 샤도우 마스크의 대응하는 부분은 "돔(dome)"(국부적인 굽음)을 발생시키는 경향이 있다. 예를들면, 백색이 고도로 집중하는 장면이 오랜시간동안 계속되는 경우, 전자빔이 스크린의 그 부분을 소인하면 각 빔의 전류가 급격히 최고치로 되어, 샤도우 마스크가 국부적으로 가열되어지게 된다. 열이 그와 같이 집중하는 결과로서, 샤도우 마스크의 그 부분이 팽창하고, 본래의 "냉각"위치로부터 기록 전자빔을 적절히 마스킹하지 않은 위치로 변위하게 된다. 또한 "도밍"에 약하기 때문에, "도밍에 대한 강한"장력이 걸려 있는 샤도우 마스크가 처리할 수 있는 전력 밀도를 장력이 걸려 있지 않은 샤도우 마스크는 처리할 수 없다.

칼라 텔레비젼 수상기용으로 제조되는 음극선관에 있어서는 일반적인 실시는, 음극선관의 페이스플레이트 주연부의 주위에 배치되어 있는 미리 선택된 3개의 점으로부터 장력이 걸려 있지 않은 샤도우 마스크를 매달음에 의해, 이 샤도우 마스크를 형광 스크린에 대하여, 할당된 장소에 위치시키는 것이다. 이러한 지지 방법에서는, 바이메탈의 지지 스프링을 설치함에 의해 샤도우 마스크를 본래의 위치로부터 스크린으로 향하여 이동시키는 것에 의해, 샤도우 마스크 전체의 열팽창을 흡수한다. 그런, 이와 같이하여도 샤도우 마스크의 국부적인 영역의 집중 가열에 의해 발생되는 상기 국부적인 "도밍"문제는 해결할 수 없다.

장력이 걸려 있는 칼라 선택 전극을 사용하는 음극선관은, 미합중국 특허 제3,638,063호에 공지되어 있는 원통형 페이스플레이트 CRT에서 사용되어 있는 전극을 사용하는 것으로 공지되어 있다. 이러한 음극선관에 있어서는, 칼라 선택 전극은 단단한 프레임간에 장력이 걸려 있는 다수의 평행도체로 형성된 그리드를 구비한다. 이 그리드는 와이어링빔이 소망의 형광체로 입사하는 것을 마스크한다.

샤도우 마스크 지지프레임에는, 샤도우 마스크를 이것에 부착하기전에 예를들어 이것을 압축하는 것에 대해 기계적으로 스트레스가 제공된다. 압축력이 제거되면, 프레임 내부의 복원력이 샤도우 마스크에 장력을 발생시킨다.

장력이 걸려 있는 샤도우 마스크를 사용하는 장점은 장력이 걸려 있는 샤도우 마스크는 쉽사리 "도밍"을 일으키지 않는다는 것이다. 샤도우 마스크에 입사하는 전자빔에 의해 발생된 열이, 전자빔이 조사되어 있는 샤도우 마스크 영역을, 샤도우 마스크에서 미리 발생된 팽창을 무효로 하기에 충분히 완화시킬 때까지 그 샤도우 마스크는소망의 형태를 갖는다. 그 결과로서 색이 불순하게 된다.

현재 가장 널리 사용되고 있는 칼라 텔레비젼 음극선관은, 커다란 반경의 구면의 일부에 근사한 페이스플레이트를 사용한다. 이와 같은 음극선관의 샤도우 마스크느 물론 페이스플레이트에 합치하도록한 형태로 되어 있다. 현재의 경향은 편평한 페이스플레이트를 사용하는 것이며, 이것에 의해 평편한 샤도우 마스크를 필요로 한다. 현재 사용되고 있는 하나의 방법은, 거의 평편한 페이스플레이트에 관련하여, 장력이 걸려 있지 않은 평편한 금속 샤도우 마스크를 사용하는 것이다. 그러나 평편한 샤도우 마스크는 굴곡된 샤도우 마스크보다 기계적으로 안정하지 않다. 따라서 안정하게 하기 위하여는, 샤도우 마스크를 한층 두껍게 예를들어 10 내지 12밀로 해야한다. 이러한 두께는 종래의 굴곡되어 있는 샤도우 마스크의 두께의 약 2배이다. 그러나 두께나 10 내지 12밀의 샤도우 마스크를 사용하는 것으로하면, 구멍 에칭 처리시에 어려운 문제가 발생하게 된다. 특히 90도 편향관에서 발견된 바와 같은, 샤도우 마스크의 외연부에서 빔이 구멍에 의해 제한되는 것을 방지하기 위하여, 종래 굴곡된 샤도우 마스크의 경우와 같이 샤도우 마스크의 면에 대해 거의 수직으로 구멍을 에칭하는 것이 아니고, 샤도우 마스크의 면에 대해 어떤 각도를 이루고 에칭할 필요가 있다.

칼라 텔레비젼 음극선관에서 사용하는 장력이 걸려 있는 샤도우 마스크의 초기 실시예가 미합중국 특허 제2,625,734에서 기술되어 있다. 상기 특허에 기술되어 있는 장력이 걸려 있는 샤도우 마스크는 "핫 블로킹(hot-blockng)"이라는 방법으로 제조되었다. 이러한 방법에서는, 한쌍의 프레임사이에 편평한 샤도우 마스크를 삽입하여 이들 프레임은 샤도우 마스크를 느슨하게 수용하였다. 2개의 프레임을 연결하고 있는 일련의 탭나사가 다음에 풀려졌을때 샤도우 마스크를 고정하도록 작용한다. 그리고나서 느슨하게 조리된 프레임과 샤도우 마스크를 샤도우 마스크의 근방에 가열된 플라텐(platen)을 위치시킴에 의해 열사이클에 노출되어 샤도우 마스크를 가열하고 팽창시켰다. 그러나 프레임은 실온에서 보유하였다. 샤도우 마스크가 바람직하게 팽창하였을때, 프레임 나사를 단단히 조여 샤도우 마스크를 그 팽창한 상태로 보유하였다. 그리고나서 가열 플라텐을 제거하였다. 실온까지 냉각하여 샤도우 마스크는 프레임에 의해 장력이 걸려진 상태로 유지되었다. 이와 같이하여 얻어진 어셈블리를 음극선관 내부의 형광체 스크린의 근방에 배치하였다.

미합중국 특허 제3,284,655호는, 음극선관의 축에 수직인 평면내에서 지지되는 메쉬축적 타켓을 사용하는 직접표시형 축적 음극선관에 관한 것이다. 이 메쉬타켓은 전하패턴을 보유할 수 있는 축적면을 갖는다. 이 전하패턴은 이것을 통과하는 전자 흐름의 통과를 제어한다. 구조적인 관점에서는 메쉬축적 스크린은, 외피부(envelope)의 개방단부를 횡단하여 배치되어 있는 원주링에 고정된다(상세히 기술되지 않음). 이 링의 한 단부는 외피부의 연부에 접촉한다. 이 외피부의 표면에는 유리 프릿 피복이 부착되다. 프릿이 부착되어 있는 다른 외피부의 단부벽이 링의 다른측에 접촉한 상태로 놓여있기 때문에, 2개의 외피부의 단부벽이 링의 양측에 접촉한다. 그 후에, 이 어셈블리를 프릿으로 밀봉하여, 링과 메쉬 타켓을 음극선관내에 고정한다.

음극선관의 외피부내에 배치되는 전극은, 장력이 걸려 있지 않는 것으로 알려져 있는 메쉬 스크린이다. 또한 이 메쉬스크린은, 기록빔을 서로 발광체의 선택된 기본 영역으로 향하도록 작용하는 칼라 선택 전극은 아니다. 최종으로, 페이스플레이트상의 형광체층과 메쉬 타켓의 위치 맞춤에 대해서는 중요하지 않아 기술되어 있지 않다.

미합중국 특허 제2,813,213호에서는 후단(post) 편향빔 편향력을 제공하기 위해 형광 스크린의 근방에 배치되는 절환용 전극을 사용하는 음극선관이 기술되어 있다. 기본적으로는, 음극선관의 외피부의 벽의 내부에 밀봉되는 토트(taut) 와이어의 그리드를 사용하는 것이 제안되어 있다. 하나의 실시예에서는, 이 토트 그리드에 의해 음극선관의 유리벽에 가해지는 장력을 경감시키기 위해 외부 프레임이 사용된다. 다른 실시예에서는, 내부에 그리드선이 밀봉되는 도너츠형 유리구조체를 이용하는 구조가 일반적으로 제안되어 있지만, 명확하게는 기재되어 있지 않다. 이 도너츠형 어셈블리는 음극선관의 페이스플레이트와, 원추형단면 사이에 삽입되도록 제안하고 있다. 음극선관의 조립에 이어서, 상기 특허에서는, 통상 사진프로세스에 의해 페이스플레이트상에 형광체를 부착하는 것을 개시하고 있다. 기본적인 칼라 형광체 영역을 음극선관의 페이스플레이트에 부착하는 것 자체가 매우 곤란한 작업이므로, 이러한 문제를 발생시키지 않는 미국 특허에 있어서의 경우와 같이, 페이스플레이트를 횡단하는 그리드 구조에 의해 어떻게하여 행할 수 있는 것에 대해 전혀 설명되어 있지 않다.

이러한 일반적인 영역에서의 종래 기술의 다른 실시예는 미합중국 특허 제2,842,696호, 제2,905,845호, 제3,489,966호와 제3,719,848호에 기술되어 있는 바와 같이 음극선관에 있어서 장력이 걸려 있는 그리드형 구조를 이용하는 구조체를 포함한다. 또한 현재의 방법을 나타내는 페이스플레이트와 샤도우 마스크(장력이 걸려 있지 않음) 어셈블리를 기술하는 미합중국 특허 제3,898,508호에 주의해야 한다.

따라서, 본 발명의 전체적인 목적은 종래 기술의 칼라 음극선관에 비해 큰 경제적인 이득을 제공하는 개량된 칼라 선택 전극 구조를 이용하는 칼라 음극선관과, 종래 기술 방법에 비해 큰 경제적인 이득을 제공하는 칼라 음극선관의 제조방법을 제공하는데 있다.

그러므로 본 발명은 밀봉부를 갖는 외피부와, 루미네센트 원색 기본 형광체 영역 패턴이 부착된 타켓 표면 및 상기 외피부의 밀봉부에 기하학적으로 일치하여 상기 타켓 표면을 둘러싸고 있는 밀봉부를 갖는 페이스플레이트와, 주사 전자빔에 의해 상기 형광체 영역의 선택을 행하는 칼라 선택 적극을 구비하며, 상기 페이스플레이트와, 주사 전자빔에 의해 상기 형광체 영역의 선택을 행하는 칼라 선택 전극을 구비하며, 상기 페이스플레이트의 상에는 복수의 정렬 소자가 선택적으로 배향되어 있으며, 상기 칼라 선택 전극은 상기 형광체 영역 패턴에 관련하는 칼라 선택 구멍 패턴을 갖는 장력을 제공하고 있는 평편한 박편과, 이 박편에 기계적으로 조합되며 상기 박편의 구멍과 상기 타켓 표면의 상기 기본 형광체 영역을 정확히 위치 맞춤시키기 위해 상기 페이스플레이트의 상기 정렬 소자와 협동하는 인덱스 수단과, 상기 외피부의 밀봉부와 상기 페이스플레이트의 밀봉부 사이에서 상기 인덱스 수단과 상기 정렬 소자를 영구적으로 합체시키고 상기 외피부의 밀봉부와 상기 페이스플레이트의 밀봉부간에 배치되는 밀봉 수단을 가지며, 상기 박편의 열팽창율은 상기 페이스플레이트의 열팽창율보다도 큰 칼라 음극선관을 제공하는 것이다.

본 발명의 특징을 하나는, 종래 기술의 장력형 전극과 같이 도밍 현상을 발생하지 않고, 종래의 장력형 전극과 같이 취급하는 전력이 제한되는 것이 아닌 장력형 칼라 선택 전극을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 특징은, 종래의 외피부에 의해 고정된 장력이 걸려 있는 칼라 선택 전극 기구의 잇점을 갖으며, 종래의 칼라 음극선관 사진 스크리닝 장치에 적합한 외피부에 의해 고정된 장력이 걸려 있는 칼라 선택 전극 기구를 제공하는 것이다. 샤도우 마스크를 이용하고 있는 현재의 칼라 음극선관에 있어서의 상기 구멍에칭 문제를, 이러한 장착법에 의해 기계적으로 안정하며 얇은 샤도우 마스크에서 제기되는 불리한 구멍 에칭 문제로 성가시지 않을 정도로 충분히 얇고 평편한 장력이 걸려 있는 박편으로 특징된 칼라 선택 전극 어셈블리를 사용하는 것에 의해 해결되는 것이다.

본 발명의 다른 특징과 장점은 첨부된 도면을 참고하여 적합한 실시예에 따라 상세히 기술하기로 한다.

본 발명의 적합한 실시예에 의해 제조된 칼라 선택 전극 어셈블리(10)는 칼라 텔레비젼 음극선관(12)의 일체부분을 형성하여 음극선관(12)에 관련하여 제 1 도에 서 도시되어 있다. 분해사시도로 도시된 음극선관(12)은 본 발명의 개념을 명확히하는데 도움이 된다. 후술하는 바와 같이 전극 어셈블리(10)는, 음극선관(12)의 페이스플레이트(16)를 구성하는 외피부의 타켓 표면(14)상에 루미네센트 원색 기본 형광체 영역의 패턴을 스크리닝하는데 사용하기 위해 스텐슬(stencil)로서 사용할 수 있다.

기술된 실시예에서, 페이스프레이트(16)는 소정의 열팽창율을 갖는 물질로 만들어진 유리 패널로 도시되어 있다. 이 페이스플레이트는 후방으로 연장하는 스커트(18)를 가지며, 이 스커트는 타켓 표면(14)을 둘러싼다. 스커트(18)의 높이는 음극선관(12)의 Q간격, 즉 타켓 표면(14)과 샤도우 마스크간의 거리를 정한다. 후술하는 바와 같이, 샤도우 마스크는 구멍이 뚫린 박편으로 구성된다. 페이스플레이트(16)로부터 원거리에 놓인 스커트(18)의 단면(20)은 밀봉부를 구성한다. 이 밀봉부는 프릿(22)의 비드(bead)를 수용하기 위한 표면이다. 또한, 프릿은 음극선관의 제조에 있어서 사용도는 불투명 유리접착제이다. 되도록이면, 사용하는 프릿은 오웬즈-일리노이 인코포레이티드(Owens-Illinois Inc.)에서 입수가능한 CV-130으로 사용되는 저온 납땜 유리물질이다.

여하튼, 도시된 바와 같이, 전극 어셈블리(10)는 스크리닝 기능을 완료하면 실시자의 선택에 따라 페이스플레이트에 프릿으로 밀봉되어 이 전극 어셈블리가 칼라 음극선관(12)의 구성 부품의 겨우에는, 주사 전자빔에 의해 원색 형광체를 선택적으로 여기할 수 있도록 한다. 이러한 목적을 위해, 페이스플레이트(16)에 위치 맞춤 수단 즉 정렬 소자가 설치되는데, 이 정렬 소자는 다수의 V홈의 형상을 갖는다. 여기서 설명하고 있는 실시예에 있어서는 V홈(24)의 3개의 슬롯을 구성한다. 이들 슬롯은 페이스플레이트의 밀봉부(20)의 표면에 밀(mill)된다. V 홈(24)의 경사벽에 의해 정해지는 각도는 되도록 60°로 하고, 각 V홈의 바닥이 페이스플레이트의 기하학적중심으로부터 방사상으로 연장된 선상에 있도록 V홈을 향한다.

또한 V홈(24)은 밀봉부(20)를 완전히 횡단하여 연장하지 않는 것이 특히 중요하다(제 1a 및 3 도 참조). 페이스플레이트가 전극 어셈블리(10)와 퍼넬(26)에 프릿에 의해 밀봉되면 완전히 진공상태를 보존할 수 있는 페이스플레이트의 스커트(18)를 통해 직접 통하지 않도록 하기위해, 도시된 구조를 사용하는 것이다. 제 1 도에 완전히 알 수 있는 것은 아니지만 퍼넬(26)은 페이스플레이트 밀봉부(20)와 기하적으로 밀착하는 밀봉부(28)를 가지고 있다. 희망한다면, 퍼넬의 밀봉부(28)에 대응하는 다수의 정렬 소자(2개만 도시되어 있음)를 설치할 수 있다. 이들 정렬 소자도 밀봉부(28)에 밀착하는 V자홈(24')의 형태를 가지며 이들 V홈(24')의 페이스플레이트의 V홈(24)에 공간적으로 정렬되어 있다. 퍼넬의 밀봉부(28)를 페이스플레이트의 밀봉부(20)에 정렬시키기 위한 다른 수단은 잘알려져 있으므로 V홈(24')을 사용하는 것은 선택에 달려있다. 실제로, 일반적인 방법은"외부"기준 시스템 즉 퍼넬을 기준완충기에 대해 위치시킴에 의해 퍼넬을 페이스플레이트와 일직선을 이루게 하는 것을 사용하는 것이다. 밀봉을 위해, 퍼넬밀봉부(28)는 프릿의 비드(22')를 수용한다. 최종적으로 페이스플레이트(16)와, 네크(27)를 포함하는 퍼넬(26)은 소정의 열팽창율을 가지고 프릿밀봉 기술에 용이하게 순응할 수 있는 물질 예를들어 유리 또는 세라믹 조성물로 형성되어 있다.

제 1 도에서 도시된 칼라 선택 전극 어셈블리(10)는 서버러블(severable)가능한 보조 마운트(30)를 갖는다. 이 보조 마운트는, 보조 마운트가 페이스플레이트(16)의 주연부를 둘러싸는 것을 가능하도록 하기에 충분한 폭의 중앙 구멍부를 형성한다. 환언하면, 이 보조 마운트의 내부 형상이 페이스플레이트(16)의 연부에 거의 일치한다(제 2 및 3 도 참조). 장방형의 형상을 갖고 있는 보조 마운트(30)는 L형 금속 스트립을 4개 버트(butt) 용접하는 것에 의해 용이하게 형성할 수 있다. 다른 형태의 스트립도 물론 적합하다. 여하튼, 보조 마운트(30)는 외피부(16, 26)의 열팽창율보다 큰 열팽창율을 가진 물질로 형성되어 있다. 따라서 마운트(30)는 본 발명을 실시하는데 적합한 여러금속으로서 냉각압연강, 스테인레스강, 니켈 또는 모넬로 형성될 수 있다.

전극 어셈블리(10)는 이 단계에 있어서 장력이 걸려 있는 평편한 박편(32)을 또한 구비한다. 이 박편(32)은 소정의 구멍 패턴을 갖는다. 이 구멍 패턴은 3개 1조의 작은 원형 구멍의 것도 있으며, 현재 칼라 음극선관에서 양호하게 사용되고 있는 박편의 주축에 수직으로 배치된 다수의 가늘고 긴 슬롯으로 할 수 있다. 박편(32)은 이것을 평편하게 하기 위하여 필요한 최소한도의 장력이 걸려 있는 보조 마운트를 횡단하여 토트하게 당겨지며, 그리고나서 브레이징 또는 용접에 의해 마운트(30)에 고정된다. 후술하는 방법에서, 박편(32)은 음극선관의 구성 부품으로서 구체화하기 위해 채용되고 있는 방법의 실시중에 장력이 걸려 있는 샤도우 마스크로 변환되다. 박편(32)의 열팽창율은 마운트(30)의 열팽창율보다 크지 않고, 되도록 마운트(32)의 열팽창율보다 작게 한다. 따라서 박편(32)은 상기에 기술한 마운트 물질중 어떤것으로 만들어진 마운트에 이용할 수 있는 냉각압연강 또는 인바(invar)로 형성될 수 있다.

바람직하게 박편(32)의 두께는 2밀(0.002인치) 보다 적어야 하는데, 그렇지 않으면 후에 박편에 장력이 걸려 페이스플레이트에 프릿으로 밀봉한때 허용할 수 없는 스트레스가 페이스플레이트의 내부에서 유기되게 된다. 박편의 두께는 되도록 약 1밀(0.001인치) 또는 이하로하는 것이 본 발명을 실시하는데 가장 적합하다. 실제로, 박편을 전기적으로 형성하는 경우에는, 1/2밀(0.005인치)이거나 또는 이하의 박편을 실현할 수 있으며, 본 발명의 실시에 실제로 이용된다.

페이스플레이트이 타켓 표면(14)에 각각에 기본 형광체 영역의 패턴을 스크리닝 할때 박편(32)을 스텐슬로서 이용하기 위해서는, 마운트(30)와 페이스플레이트(16)간에 정확하며, 반복할 수 있는(이것은 중요한 것이다) 기계적인 위치 맞춤이 필수적이다는 것을 알 수 있다.

따라서, 상기 기계적 위치 맞춤을 행하기 위해, 마운트(30)는 다수의 스터드(34)(제 3 도)의 형태로된 인덱스 수단을 가지며, 각 스터드의 일단은 탄성력이 있는 커플링, 예를들면 판스프링(35)에 분리가능하게 고정된다. 판스프링(35)에는 구멍(36)이 뚫려있으며, 일단은 마운트(30)에 고정된다. 판스프링 즉 탄성력있는 커플링(35)의 목적은, 어셈블리가 후에 프릿에 의해 밀봉될때, 외피부의 유리와 마운트의 금속간의 팽창차를 흡수하기위한 것이다. 스터드와 박편이 페이스플레이트와 퍼넬(26)의 사이에 고정되면, 마운트를 스터드에서 용이하게 제거할 수 있도록하여(물론, 박편이 마운트에서 분리된 후) 스터드는 판스프링(35)에서 제거 할 수 있도록하여 판스프링(35)에 고정된다. 이러한 목적을 위해, 각 스터드(34)는 헤드볼트(37)를 갖는다. 이 볼트의 말단부는 버튼 또는 보스(38)형태를 갖을 수 있는 원형 교대에 박혀진다. 이들 버튼 또는 보스는, 외피부의 유리의 열팽창율과 적합하는 열팽창율을 갖는 합금으로 만들어질 수 있다. 이러한 목적에 적합한 유리용해성 금속 합금은 미국 펜실베니아주 리딩 소재의 카펜터 테크놀러지 코포레이션에서 430 TI이라는 명칭으로 입수가능하다. 판스프링(35)의 구멍을 통해 연장하는 볼트(37)의 축은 원통형 스페이서(39)에 의해 에워싸여있는데, 이 스페이서는 판스프링과 버튼(38)간의 간격을 결정한다. 최종으로, 마운트(30)의 판스프링(35)에 인접한 부분에는 볼트(37)를 통하는 구멍(40)이 설치된다.

각 보스의 기능은 페이스플레이트의 스크리닝 작업동안에 할당된 페이스프레이트의 V홈(24)과 협동하며, 또한 박편이 음극선관(12)의 내부에서 최종적으로 일체로 될때 퍼넬(26)의 밀봉부(28)상의 V홈(24')과 협동하는 것이다. 상기 목적을 위해 페이스플레이트의 V홈(24) 및 퍼넬의 V홈(24')의 경사벽에 보스(38)가 설치될때, 페이스플레이트의 밀봉부(20)와 퍼넬의 밀봉부(28)가 소정의 간격된 관계로 유지되도록 보스(38)의 직경이 정해진다(제 3 및 4 도 참조). 이 간격은 약 5 내지 10밀(0.005-0.010인치)정도로 할 수 있다. 이 간격은 일부는 음극선관의 치수에 따라 정해지지만, 후에 밀봉프릿(22)을 부착할 수 있도록하여 정해진다. 이 간격에 관한 한정은, 제 3,4 도에서 도시되어 있는 것은 명확하게 스케일되어 있지않다. 실제로는 이 간격을 확실하게 볼 수 있도록 하기 위해 의도적으로 확대되어 있다. 또한 제 3 도에 도시된 바와 같이, 페이스플레이트와 퍼넬의 밀봉부 사이에 박편(32)을 정확하게 지지할 수 있도록 하기 위해서, 이 구조는 페이스플레이트의 스커트(18)와 관련하여 음극선관의 Q간격을 갖도록 기능한다. 여기서 각 보스는 이것이 수용되는 2점접촉을 행하며, 마운트와 페이스플레이트 사이에서 전체 6점접촉하며, 또한 마운트와 퍼넬사이에서 다른 6점접촉하는 것에 주의해야 한다. 물론 이러한 위치 맞춤방법은 반대로 할 수 있다. 즉 밀봉부에 보스 또는 버튼을 설치하며, 마운트에 이들 보스를 수용하기 위한 홈이 파인 소자를 설치할 수 있다는 것도 알 수 있다.

다른한편으로, 마운트(30)와 페이스플레이트(16)사이에서 6점접촉을 행하기 위한 다른 위치 맞춤 장치는 제 5 도에 도시된 외부 접근 방식을 이용하는 것이다. 상술하자면 위치 맞춤 수단으로써 페이스플레이트에 3개(1개만 도시됨)의 외향으로 향한 이탈핀(46)을 외부에서 설치할 수 있다. 이들 이탈핀은 제 1 도에 도시된 페이스플레이트상의 V홈(24)에 의해 점유되어있는 장소와 기하학적으로 동일한 상대적인 장소를 취한다. 각 핀(46)과 협동하는 인덱스수단은 마운트(30)에 설치된 태브(48)를 포함한다. 태브(48)는 하향으로 연장한 디펜딩핑거(50)를 가지고 있다. 이 핑거의 말단부에는 두갈래 분기부(52)가 설치된다. 따라서 이 실시예에서 기계적인 위치 맞춤을 행하기 위해 상기 분기부(52)가 이것에 할당된 핀상에 지지되도록 하여 마운트(30)가 페이스플레이트상에 지지된다. 마운트가 하강되면, 3개의 핀(46)과 협동하는 분기부(52)의 사이에서 3점 접촉이 행해진다. 프릿에 의한 밀봉전에 행해지는 마운트와 페이스플레이트사이의 이러한 위치 맞춤은 페이스플레이트의 타켓 표면의 스크리닝을 행하고, 프릿에 의한 밀봉을 행하기전의 마운트와 페이스플레이트간의 최종적인 위치 맞춤을 행하기 위해 필요한 회수 만큼 반복하여 행할 수 있다. 퍼넬과 페이스플레이트가 프릿에 의해 밀봉되어, 이들이 대향하고 있는 밀봉부의 사이에 박편(32)을 접합시킨 후에(이 접합 공정에 대해서는 후술하기로 함) 핀(46)을 페이스플레이트에서 제거할 수 있다. 또한, 핀과 분기된 핑거의 물리적인 장소는 역으로 할 수 있으며, 당업자의 지식범위내에 있는 다른 인덱스 구조도 사용할 수 있다는 것을 알 수 있다. 물론, 퍼넬(26)을 마운트에 정렬시키기 위해 희망에 의해서는 동일한 외부 위치 맞춤 장치를 채용할 수 있다.

페이스플레이트(16)의 타켓 표면(14)에 원색 기본 형광체 영역을 스크린하기 위한 스텐슬로써 전극 어셈블리(10)를 이용하는 방법에 대하여 설명하기로 한다. 칼라 형광체 스크린을 준비하는 널리 사용되고 있는 방법은 친숙한 사진 기술로부터 개발된 방법을 이용하고 있다. 상기 목적을 위해, 감광성 유기용해제(pva)중에 떠도는 원색형광체 입자를 다량으로 함유하는 슬러리를 페이스플레이트(16)의 타켓 표면(14)에 피복하여 부착한다. 다음에 스터드보스(38)와 각각에 할당되어있는 페이스플레이트의 V홈(24) 사이의 위치 맞춤을 행함으로써 박편이 설치되어 토트이지만 장력이 걸려 있지 않는 마운트(30)를 페이스플레이트(16)상에 위치시킨다. 제 6 도에서 도시된 바와 같이, 위치 맞춤된 페이스플레이트와 전극 마운트의 어셈블리를 다음에 노광실(41)내로 삽입한다. 이 노광실은 감광성 피복에 대해 화학 작용을 행하는 광원(42)을 갖는다. 어떤 임의의 시각에 광원(42)은 형성해야할 형광체 패턴을 음극선관 완성후에 여하는 전자빔의 발생원의 축선 방향위치에 실제로 대응하는 공간 위치를 점유한다. 사용되는 통상의 방법에서는, 슬러리 피복은 샤도우 마스크의 구멍에 들어가기전에 통상의 빔궤도 보상 렌즈를 통하는 화학 광선에 노출된다. 이렇게하면, 샤도우 마스크를 통한 이 빛은 샤도우 마스크의 구멍 패턴의 잠상을 페이스플레이트의 피복중에 발생한다.

그러나, 후에 명백해지는 이유로부터, 본 발명의 실시에 있어서는 이 종래의 방법은 수정을 할 필요가 있다. 상술하자면, 우선, 현재의 스크리닝 프로세스는 장력이 걸려있지 않은 박편을 이용하고 있는것, 둘째로, 이 장력이 걸려 있지 않은 박편은, 이것이 장력이 걸려있지 않은 상태로 있었던 때에 스텐슬된 패턴화된 형광체 스크리닝을 지정하기 위한 칼라선택 전극으로서 사용되기전에 장력이 걸려있는 박편으로 교체되는 것에 유의해야 한다. 이것의 의미는 장력이 걸려있는 박편의 구멍이, 박편에 장력이 걸려 있지 않을 때에 이들 구멍이 점유하고 있던 공간 위치로부터 방사상 외향으로 변위되어, 이들 구멍의 위치의 이 공간적인 변위를 고려하여 제공하지 않으면, 장력이 걸린 박편은, 전자빔의 입사 위치를 박편이 장력이 걸려 있지 않은 상태시에 스텐슬된 스크리닝의 기본 형광체 영역에 적절히 위치 맞춤을 할 수 없게 되는 것이다.

따라서, 형광체 슬러리를 화학광선에 노출시키는 통상적인 방법을 변화시켜야 한다. 특히, 제 6 도에서, 화학광원(42)에서 나온 광선은 특수 렌즈(44)를 통해, 이 렌즈(44)가 없는 경우에 이 광선이 입사하는 위치로부터 방사상 외향으로 벗어난 위치에 있어서 광선이 형광체 슬러리에 입사하도록, 이 렌즈(44)에 의해 광선을 굴절시킨다. 환언하자면, 슬러리에 입사한때에, 장력이 걸려 있는 박편이 스텐슬로서 사용될때(이 렌즈 없이)발생되는 잠상에 대응하는 잠상을 발생하도록 이 렌즈는 광선을 원래의 광로로부터 변위시키는 것이다.

상기와 같이 종래 스크리닝 기술에서는, 편향된 전자빔의 궤도가 전자빔과 동일 위치에 위치된 광원으로 부터 전자된 광선의 광로와는 다른것을 보상하기 위해 광원과 스텐슬용 샤도의 마스크 사이에 렌즈를 위치시켰다. 따라서 "특수"렌즈라는 것은 상기에 기술한 보정을 하는것 이외에도 장력이 걸려있지 않은 박편에 의해 스크린된 패턴을 장력이 걸려 있는 박편에 의해 나중에 지시할 수 있도록 하기 위한 수정도 행한다. 제 1의 수정으로서, 광의 입사 위치를 방사상 외향으로 이동시키도록 광원을 전방으로 약간 이동시킨다. 제 2의 수정으로서, 광원을 물리적으로 전방으로 이동시킨 때의 오차를 보상하기 위해 설계된 렌즈를 사용하는 것이다.

상기 특수렌즈의 설계에 관하여, 제안된 방법은, 피복되어 있는 기판을 장력이 걸려있지 않은 박편을 통한 광으로 초기에 노광시키고, 그리고나서 패턴을 현상하는 것을 행한다. 이후에, 박편이 프릿으로 밀봉되어, 장력이 걸린때의 박편의 구멍치수 및 장소와 동일한 치수 및 장소의 구멍이 얻어질 때까지 제어된 연구실의 열환경에 이 박편을 위치시킨다. 실험실에서 성장된 박편을 고정하여 장력이 걸려 있지 않은 상태로 보존한다. 이 박편을 사용하여 광패턴을 페이스플레이트(16)의 복제된 다른 기판상에 투사한다. 이 패턴을 장력이 걸려있지 않은 박편에 의해 발생된 패턴과 비교한다. 이 비교에 의해 얻어진 구멍 장소의 상위 즉차를 컴퓨터를 사용하여 처리하여 렌즈를 설계한다. 이 렌즈는, 장력이 걸려 있지 않은 샤도우 마스크와 함께 사용된때는, 렌즈가 없을때에, 장력이 걸려 있는 샤도우 마스크를 통해 형광체 피복에 입사한 것이라는 점에 있어서 형광체 피복에 입사하도록 한 광로에 걸쳐 광선을 전달한다. 실제로는, 이러한 방법으로 몇개의 페이스플레이트가 스크린되며, 그리고나서 음극선에 조립되어 진다. 다음에 스크린을 발광시켜 전자빔의 입사 위치를 조사하며 상위가 있는가 어떤가를 본다. 그리고나서 수정 정보를 렌즈 설계에 피드백(feedback)한다.

잠상점의 필요한 변위는 종래 사용되고 있는 렌즈 설계공식과 노광 기술과 매우한 유사한 렌즈 설계 공식과 노광 기술을 필요로 하므로, 필요한 수정렌즈(44)의 개발과 광원 위치와 노출 기술은 현재의 기술 상태의 범위내에서 충분하다.

따라서, 렌즈(44)를 통해 최초의 노광을 행한후, 마운트(30)와 박편을 제거하고, 기판을 세정한다. 일례로서 포지티브 레지스트 및 포지티브 거드 밴드(guardband) 시스템에서는 이러한 세정에 의해 피복의 노광 부분이 제거된다. 그러나, 본 발명은 네가티브의 레지스트 및 네가티브의 거드밴드 시스템에도 동일하게 이용할 수 있으며, 또한 구식의 도트 더스팅(dot dusting) 시스템에도 동일하게 이용할 수 있다는 것을 알수 있는 것이다. 여하튼 장력이 걸려 있는 박편을 이용하여(특수렌즈 없이)얻어진 구멍 패턴에 대응하는 기본 형광체 영역 패턴을 타켓표면(14)에 형성하기 위해, 노광된 피복을 처리한다.

슬러리피복과, 마운트 위치 맞춤과, 노출 및 세정의 각 공정을, 타켓 표면(14)에 형성할 다른 각 원색 형광체 영역에 대하여 반복한다. 물론, 이 경우에는, 화학 광선은 박편(32)에 대하여 적절히 다른 위치에 배치한다. 이와 같이 하여 얻어진 루미네센트 스크린은, 발생될 수 있는 교대로 혼합된 원색 형광체 영역의 패턴을 갖는다. 실제로는, 박편을 통해 타켓 스크린을 노출하기 전에 연속하여 행해지는 광원의 위치 설정은, 나중에 음극선관에 조립되어지는 전자총으로부터 방출되는 3개의 주사전자 빔의 위치를 효과적으로 모방하도록 한 것이다. 이것에 관련하여, 얻어진 루미네센트 스크린은 광원에 대하여 독특한 기하학적 관계를 가지며, 이것에 의해, 나중에 조립되는 전자총의 전자빔축에 대하여 독특한 기하학적 관계를 갖는 것에 주의해야 한다.

스크린 작업을 마친후에, 스크린에 패턴을 형성하기 위해 사용된 박편을 페이스플레이트에 결합시키는 것이 바람직하다. 상기 작업에서, 페이스플레이트(16)의 상향으로 직면한 밀봉부(20)의 표면과 퍼넬(26)의 하향으로 직면한 밀봉부(28)의 표면에 저온프릿(22)의 비드로 피복한다. 이후에 보스(38)을 V홈(24)내에 삽입함으로써 페이스플레이트(16)를 재위치시킨다. 다음에 V홈(24')에 보스(38)를 삽입하여 퍼넬(26)을 박편에 끼운다.

그리고나서, 이러한 조립체를 가열실 또는 오븐내로 삽입시킨다. 이 가열실의 온도를 약 430℃로 하여 30 내지 45분간 그 온도를 유지한다. 이 온도 및 시간은 상기 오웬즈 일리노이사제의 CV~130 프릿 물질을 불투명시키는데 필요한 파라미터이다. 온도가 상승할때, 폐이스플레이트(16)와 퍼넬(26)은 열팽창율에 의해 결정되는 양만큼 팽창할 것이다. 이것과 동시에, 마운트(30)와 박편(32)도 팽창하지만, 마운트와 박편의 열팽창율이 크기때문에 마운트와 박편은 페이스플레이트와 퍼넬에 비해 더욱 많이 팽찰할 것이다. 이때에는 조립체의 온도는 430℃도에 도달하였고, 프릿이 불투명하게 될때까지 마운트(30)와 박편(32) 및 퍼넬 및 페이스플레이트는 팽창을 마쳐 안정한 상태로 되어있다.

프릿이 불투명하게 되었을때, 박편(32)은 퍼넬(26)과 페이스플레이트(16) 사이에서 프릿에 의해 고정된다. 다음에, 조립체가 실온까지 냉각되고, 각 부품이 원래의 치수로 복귀할때, 페이스플레이트와 퍼넬의 프릿에 의한 접합 보유작용을 위해 박편(32)에 장력이 걸려진다. 따라서 프릿에 의한 밀봉 작업중에 가해진 열에 의해 성장한 샤도우 마스크에는 장력이 걸려지며, 이후에 퍼넬과 페이스플레이트를 접합하는 불투명한 프릿에 의한 장력이 걸려 있는 상태로 보유된다.

박편(32)이 장력이 걸려 있는 상태에 있으므로, 박편의 구멍은, 박편이 원래 장력이 걸려 있지 않은 상태로 있던 때의 구멍의 공간적 위치와는 다른 공간 위치를 점유한다. 그러나, 상기와 같이, 스크린의 형광체 패턴은, 장력이 걸려 있는 박편을 통해 조사되는 광 패턴을 생성하는 렌즈(44)를 사용하여 형성된 것으로, 장력이 걸려 있는 박편은 형광체 패턴에 위치가 맞는다.

페이스플레이트와 박편 및 퍼넬이 프릿에 의해 조립된후, 마운트(30)의 내부주변을 따라 박편을 먼저 분리함으로써 마운트(30)를 보유되어 있는 박편으로부터 제거한다. 다음에 스터드볼트(37)는 불투명한 프릿에 의해 페이스플레이트와 퍼넬의 V홈에 밀봉되어 있는 보스(38)에서 느슨하게 하여, 마운트(30)를 이 조립체에서 제거할 수 있도록 한다(이 마운트는 물론 재사용할 수 있다). 이후에, 전자총 어셈블리를 퍼넬의 네크부 내에 삽입하여 밀봉하고, 새로운 칼라선택 전극을 조립한 칼라 음극선관을 완성한다. 박편은 페이스플레이트와 퍼넬의 접합부의 주변에 가능한 근접하도록 조정한다. 칼라 음극선관을 배기한 후 페이스플레이트와 퍼넬의 집합부를 절연물질층으로 피복하여, 완성한 음극선관에서 이용되는 여기 장치에 의해서 고전위로 유지될 수 있는 박편이 외부와 접촉하지 않도록 한다.

페이스플레이트와 퍼넬의 의해 사용되는 정렬 소자와, 마운트에 사용되는 인덱스 수단은, 상술한 V홈과 보스의 조합에 제한되는 것이 아닌것에 주목해야 한다. 또한 외피부와 마운트 및 박편에 대해 상술한 물질이외의 물질도 이들 물질의 열팽창율이, 초기는 장력이 걸려 있지않은 박편에 장력을 가하기 위해 필요로하는 팽창이 다른것을 발생시키도록 한 열팽창율인 경우 사용가능하다.

Claims (10)

1. 칼라 음극선관(12)의 제조시에 사용되는 관련 페이스플레이트(16)의 내부 표면상에 루미네센트 원색 기본 형광체 영역의 패턴을 스크리닝하는데 이용할 수 있으며, 중앙 구멍부를 형성하는 마운트(30)와 상기 구멍을 횡단하여 상기 마운트상에 고정된 소정의 구멍 패턴을 갖는 평편한 박편(32)을 구비하며, 상기 박편(32)은 상기 마운트(30)의 열팽창율보다 크지않은 열팽창율을 가지며, 상기 마운트(30)는 관련 페이스플레이트(16)상에서 위치 맞춤 수단(46)과 직접 협동하도록 구성된 인덱싱 수단(48)을 포함하여, 칼라 음극선관 제조중에 상기 마운트(30)를 관련 페이스플레이트(16)와 결합함에 의해, 위치 맞춤 수단(46)과 직접 결합하는 마운트 인덱싱 수단(38)은 상기 평편한 박편(32)과 관련 페이스플레이트(16)간의 위치 맞춤을 정확하게 반복으로 행할 수 있으므로 페이스플레이트의 타켓 표면(14)상에 상기 패턴의 스크리닝을 용이하게 하며, 또한 상기 박편(32)을 관련 페이스플레이트(16)에 최종으로 고정하는 동안 상기 박편의 구멍이 상기 패턴의 상기 기본 형광체 영역에 위치 맞춤되어 상기 편평한 박편(32)과 관련 페이스플레이트(16)와의 차후 결합을 용이하게하는 칼라 선택 전극 어셈블리(10)에 있어서, 상기 마운트(30)는 관련 페이스플레이트(16)의 폭보다 큰 폭의 중앙 구멍을 가지며, 인덱싱 수단(48)은 페이스플레이트(16)의 타켓 표면(14)의 외부에서 페이스플레이트(16)상에 배치된 위치 맞춤 수단(46)과 직접 결합하기 위해 상기 마운트(30)상에 배치되며, 페이스플레이트(16)에 상기 박편(32)을 최종으로 고정시킨후 상기 마운트(30)를 상기 평편한 박편(32)에서 제거하는 것을 특징으로 하는 칼라 선택 전극 어셈블리.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 위치 맞춤 수단(46)은 관련 페이스플레이트(16)에서 분리가능하며 상기 인덱싱 수단(48)은 관련 페이스플레이트(16)에서 적어도 상기 위치 맞춤 수단(46)을 제거하도록 구성된 V자홈(24)과 결합한 원형 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 칼라 선택 전극 어셈블리.
3. 제 1 또는 2 항에 있어서, 상기 박편(32)은 용접 수단 또는 브레이즈 수단에 의해 상기 마운트(30)에 고정되어지는 것을 특징으로 하는 칼라 선택 전극 어셈블리.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 마운트(30) 및 상기 박편(32)은 냉간압연강으로 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 선택 전극 어셈블리.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 마운트(30)는 스테인레스강 또는 인바(invar)로 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 선택 전극 어셈블리.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 박편(32)은 1.3 내지 5.1mm(0.0005 내지 0.002인치)의 두께를 갖는 냉간압연강으로 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 선택 전극 어셈블리.
7. 타켓 표면(14) 및 위치 맞춤 수단(46)을 갖는 페이스플레이트(16)와, 중앙 구멍을 형성하는 마운트(30)와, 상기 마운트(30)에 고정된 구멍이 뚫려있는 평편한 박편(32)과, 상기 마운트(30)에 포함되며 상기 페이스플레이트(16)의 위치 맞춤 수단(46)과 직접 협동하는 인덱싱 수단(48)을 포함하는 칼라 선택 전극 어셈블리(10)를 구비하는 칼라 음극선관을 상기 마운트(30)의 상기 구멍을 횡단하여 소정의 구멍 패턴을 가지며 상기 마운트(30)의 열팽창율보다 크지않은 열팽창율을 갖는 평편한 박편(32)을 고정하는 단계와, 상기 마운트(30)의 상기 인덱싱 수단(48)을 상기 페이스플레이트(16)상의 위치 맞춤 수단(46)에 결합함에 의해, 상기 마운트(30)와 상기 페이스플레이트(16)의 상호 위치 맞춤을 유지하면서 상기 박편(32)을 사진 스텐슬로서 사용하는 단계를 1회이상 포함하여 상기 타켓 표면(14)상에 형광체 소자의 패턴을 사진 증착하는 단계를 구비하여 제조하는 방법에 있어서, 페이스프레이트(16)의 외주면상에 상기 위치 맞춤 수단(46)을 제공하는 단계와, 상기 마운트(30)에 상기 페이스플레이트(16)의 타켓 표면(14)을 둘러싸기에 충분한 폭을 갖는 중앙 구멍을 형성하는 단계와, 상기 사진 증착 단계후에, 상기 마운트(30)의 상기 인덱싱 수단(48)과 상기 페이스플레이트(16)의 외주면상의 상기 위치 맞춤 수단(46)의 결합에 의해 상기 마운트(30) 및 상기 페이스 플레이트(16)의 상호 위치 맞춤을 또한 유지하면서 상기 박편(32)의 구멍 패턴이 상기 페이스플레이트(16)의 형광체 소자의 상기 패턴과 위치 정합되도록 상기 박편(32)을 상기 페이스플레이트(16)에 고정시키는 단계와, 그리고나서 상기 페이스플레이트(16)에 고정된 상기 박편(32)의 상기 구멍 패턴을 상기 페이스플레이트(16)의 형광체 소자의 상기 패턴과 일치된 상태로 상기 박편(32)에서 상기 마운트(30)를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관 제조방법.
8. 제 7 항에 있어서, 사진 증착 단계 완료후에, 상기 페이스플레이트(16)의 주변에서 상기 위치 맞춤 수단(46)을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관 제조 방법.
9. 제 7 또는 8 항에 있어서, 상기 페이스플레이트(16)의 상기 타켓 표면(14)을 감광성 물질로 피복하는 단계와, 상기 마운트(30)의 상기 인덱싱 수단(48)과 상기 페이스플레이트(16)의 상기 위치 맞춤 수단(46)을 일시적으로 결합시킴에 의해, 상기 박편이 스텐슬로서 작용을 하도록 상기 마운트(30)와 상기 페이스플레이트(16)를 위치 정합시키는 단계와, 상기 박편(32)의 구멍 패턴을 통해 상기 감광성 피복을 노광시키기 위해 화학 광선의 광원(42)을 선택적으로 배치시키는 단계와, 상기 광원(42)은 차후에 형광체 영역의 상기 패턴을 주사하는데 사용되는 전자빔에 의해 점유되어질 위치와 아주 유사한 위치에 배치되며, 상기 화학 광원(42)과 상기 마운트(30)간에 수정 렌즈 수단(44)을 제공하는 단계와, 이 단계에서, 상기 렌즈(44)가 없는 경우에 상기 광선이 상기 감광성 피복에 입사하는 지점으로부터 변위된 지점에서 상기 감광성 피복에 입사 하도록 상기 광선을 상기 박편 구멍을 통해 전달하며, 상기 마운트(30) 및 상기 박편(32)을 제거하는 단계와, 상기 박편(32)의 구멍 패턴에 상응하는 기본 형광체 영역의 패턴을 형성하기 위해 상기 노광된 피복을 처리하는 단계와, 희망하는 기본 형광체 영역의 각각의 패턴을 형성하기 위해 상기 단계를 반복 실행하는 단계를 포함하는 칼라 음극선관 제조 방법.
10. 제 7 또는 8 항에 있어서, 상기 음극선관은 밀봉부(28)를 갖는 퍼넬(26)과, 상기 타켓 표면(14)을 둘러싸고 있으며 상기 퍼넬(26)과 기하학적으로 결합하고 있는 밀봉부(20)를 갖는 페이스플레이트(16)를 구비하며, 상기 퍼넬(26) 및 상기 페이스플레이트(16)의 밀봉부(20, 28)를 프릿의 비드로 피복하는 단계와, 상기 마운트의 인덱싱 수단(48)이 상기 페이스플레이트의 위치 맞춤 수단(46)과 위치 정합한 상태로 상기 칼라 선택 전극 어셈블리(10)를 상기 페이스플레이트(16)상에 위치시키는 단계와, 상기 퍼넬의 밀봉부(28)가 상기 페이스플레이트의 밀봉부(20)와 위치 정합한 상태로 상기 퍼넬(26)을 상기 칼라 선택 전극 어셈블리(10)상에 위치시키는 단계와, 상기 퍼넬(26), 상기 칼라 선택 전극 어셈블리(10) 및 상기 페이스플레이트(16)의 조립체를 가열실내로 삽입시키는 단계와, 상기 조립체를 노광시키기 위해 상기 가열실의 온도를 프릿 불투명 온도까지 상승시키며, 동시에 상기 페이스플레이트(16), 상기 마운트(30), 상기 박편(32) 및 퍼넬(26)을 이들의 특성 열팽창율로 정해진 양만큼 팽창 시키는 단계와, 상기 퍼넬(26)과 상기 페이스플레이트(16) 간에서 불투명 프릿에 의해 상기 박편(32)이 고정될때까지 상기 조립체를 상기 프릿 불투명 온도로 유지하는 단계와, 상기 고정된 박편(32)에 장력을 걸기위해 상기 조립체를 실온까지 냉각시키는 단계와, 상기 마운트(30)를 제거하기 위해 상기 박편(32)을 상기 마운트(30)에서 분리시키는 단계와, 상기 프릿에 의해 밀봉된 페이스플레이트와 상기 퍼넬의 접합부에서 돌기하고 있는 상기 박편(32)의 부분을 트리밍하는 단계와, 상기 박편(32)의 노광된 엣지부를 절연물질로 피복하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관 제조 방법.

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