KR920003295Y1 - Electrode assembly - Google Patents
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Abstract
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Description
제1도는 본 고안의 주요부 구성을 예시하는 분해사시도.Figure 1 is an exploded perspective view illustrating the configuration of the main part of the present invention.
제2도는 제1도 구성에 의해 얻어지는 등전위 분포도.2 is an equipotential distribution diagram obtained by the FIG. 1 configuration.
제3도는 본 고안과 종래의 전자총에 의해 얻어지는 스포트 형태를 비교한 챠아트.3 is a chart showing a comparison between the present invention and the spot shape obtained by a conventional electron gun.
제4도는 종래의 인라인형 전자총 구조체의 측단면도.4 is a side cross-sectional view of a conventional inline electron gun structure.
제5도는 제4도 전자총의 제2전극과 제3전극 사이의 등전위 분포를 나타내며, (a)는 종장형 슬로트에 의한 등전위 분포도, (b)는 횡장형 슬로트에 의한 등전위 분포도.5 is an equipotential distribution between the second electrode and the third electrode of the electron gun of FIG. 4, (a) is an equipotential distribution by the longitudinal slot, (b) is an equipotential distribution by the horizontal slot.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 원형공 20 : 제1보조전극체10: circular hole 20: first auxiliary electrode body
30 : 횡장형공 40 : 제2보조전극체30: horizontal hole 40: second auxiliary electrode body
G2 : 제2전극 ø1 : 제2전극의 비임공 직경G2: second electrode ø1: non-pore diameter of second electrode
ø2 : 원형공의 직경ø2: Diameter of the round hole
본 고안은 칼라음극선관에 사용되는 전자총의 전극구조체에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode structure of the electron gun used in the color cathode ray tube.
전자총은 전자를 방사하는 캐소오드와, 방사된 전자를 비임으로 집속하고, 가속시키는 다수의 전극으로 구성된다.The electron gun is composed of a cathode for emitting electrons and a plurality of electrodes for focusing and accelerating the emitted electrons with a beam.
캐소오드에서 전자가 방사될때, 초기의 속도는 비교적 느리지만 전극의 거치면서 가속된다.When electrons are emitted from the cathode, the initial velocity is relatively slow but accelerates through the electrodes.
전자총을 빠져 나온 전자비임은 새도우마스크를 통과하여 형광면상에 충돌됨으로로써 화면 상에 스포트를 이루게 되며, 이 스포트는 직경이 작을 수록 좋다.The electron beam exiting the electron gun passes through the shadow mask and collides on the fluorescent surface to form a spot on the screen. The smaller the spot, the better the diameter.
전자비임이 형광면 상에서 작은 스포트를 이루게 하는 것을 집속이라 한다.It is called focusing that the electron beam forms a small spot on the fluorescent surface.
집속과정은 캐소오드에서 방사된 전자가 제1전극 또는 제2전극의 전계작용에 의해 한 점으로 집속된 다음, 다시 퍼져나가 제4전극과 제5전극 사이에서 다시 집속방향으로 굴절되는 단계로 행해진다.The focusing process is performed in which electrons emitted from the cathode are focused to a point by the electric field action of the first electrode or the second electrode, and then spread again and refracted in the focusing direction again between the fourth electrode and the fifth electrode. All.
제4전극과 제5전극을 거치면서 다시 집속되기 시작한 전자비임은 새도우마스크의 어퍼쳐를 장점으로 모였다가 퍼지면서 형광면에 충돌하여 스포트를 이루게 된다.The electron beam, which has begun to focus again through the fourth electrode and the fifth electrode, collects the advantages of the shadow mask's aperture and spreads, forming a spot by colliding with the fluorescent surface.
여기서 제1전극과 제2전극 사이에 형성되는 전자렌즈를 프리포커스라 하고, 제3전극과 제4전극 사이에 형성되는 전자렌즈를 메인렌즈라 한다.The electron lens formed between the first electrode and the second electrode is called prefocus, and the electron lens formed between the third electrode and the fourth electrode is called a main lens.
전자비임의 접속과정은 이와 같으나, 실제에 있어서 전자총에서 화면 중심까지의 거리와 화면 주변부까지의 거리는 차이가 있기 때문에 화면으로 현출되는 스포트형태는 중앙부가 원형일 때, 주변은 장타원형으로 왜곡되어 주변측 화질이 좋지 않게 되는 문제를 안고 있다.The connection process of the electron beam is the same, but in practice, the distance from the electron gun to the center of the screen and the distance from the screen peripheral part are different. We have problem that side image quality becomes poor.
제4도는 종래의 인라인형 전자총에 관련된 전극의 배치도로서, 캐소오드(1)에서 부터 순차로 제1전극(G1), 제2전극(G2), 제3전극(G3), 제4전극(G4), 제5전극(G5)이 배열되어 있다.4 is a layout view of electrodes related to the conventional inline electron gun, and sequentially from the cathode 1, the first electrode G1, the second electrode G2, the third electrode G3, and the fourth electrode G4. ), The fifth electrode G5 is arranged.
이러한 구조에서 프리포커스렌즈를 형성하는 제1전극(G1)과 제2전극(G2)은 이후의 메인포커스렌즈에서 발생하는 구면수차를 보상하기 위하여, 제1전극(G1)의 비임공을 종장형으로 형성하거나 또는 제2전극(G2)의 비임공을 횡장형으로 형성하고 있다.In this structure, the first electrode G1 and the second electrode G2 forming the prefocus lens have an elongated non-pore shape of the first electrode G1 in order to compensate for spherical aberration occurring in a later main focus lens. Or the non-pores of the second electrode G2 are formed in a horizontal shape.
이와같이 할 경우, 제1전극(G1)과 제2전극(G2)에는 각각 제5a도, 제5b도로 나타낸 바와 같은 등전위 분포가 형성된다.In this case, equipotential distributions as shown in FIGS. 5A and 5B are formed in the first electrode G1 and the second electrode G2, respectively.
제5a도, 제5b도에서 좌측은 제1전극(G1)과 제2전극(G2)의 수직단면을, 그리고 우측은 수평단면을 도시한다.5A and 5B, the left side shows a vertical cross section of the first electrode G1 and the second electrode G2, and the right side shows a horizontal cross section.
제1전극(G1)의 비임공을 종장형으로 형성하면, 집속영역에서 수직쪽의 등전위분포가 수평쪽 보다 완만해져서 전자비임은 수평직경이 짧고 수직직경이 긴 종타원형으로 되고, 이후의 메인렌즈에서 구면수차로 인하여 원형의 스포트를 화면 중심에 형성하게 된다.When the non-pores of the first electrode G1 are formed in the vertical shape, the equipotential distribution on the vertical side becomes smoother than the horizontal side in the focusing region, so that the electron beam becomes a longitudinal oval with a short horizontal diameter and a long vertical diameter. In spherical aberration, the circular spot is formed in the center of the screen.
마찬가지로 제2전극(G2)의 비임공을 횡장형으로 하여도, 발산영역에서 수평쪽의 등전위 분포가 수직쪽 보다 완만해져서 전자비임의 수평쪽 발산이 작게 되어 종타원형으로 발산되고, 이후의 메인렌즈에서 구면수차의 영향과 상쇄되어 원형의 스포트를 화면 중앙에 형성하게 된다.Similarly, even when the non-pores of the second electrode G2 have a horizontal shape, the horizontal equipotential distribution in the diverging region is gentler than that of the vertical, so that the horizontal divergence of the electron beam becomes smaller and diverges in a longitudinal ellipse, and then the main lens. This offsets the influence of spherical aberration, forming a circular spot in the center of the screen.
이상과 같은 종래 방식은 화면의 주변보다 중심측에 좋은 화상이 현출되게 하는 것이나, 전자비임이 편향요크에 의해 화면의 주변부로 편향될 때, 디포커싱을 일으켜서 화면 주변부의 스포트가 플레어(flare)를 포함하는 마름모형으로 되어 화면 주변측의 화상이 좋지 않게 된다.The conventional method as described above causes a better image to appear on the center side than the periphery of the screen, but when the electron beam is deflected to the periphery of the screen by the deflection yoke, defocusing causes spots on the periphery of the screen to flare. It becomes a rhombus included, and the image of the periphery of a screen becomes bad.
그런데, 인간의 눈은 넓은 부분에 뒤섞인 좁은 부분을 잘 인식하지 못하는 성질을 가지고 있으므로, 이 착시현상을 고려한다면 화면의 좁은 부분으로 한정되는 중앙부의 화상보다 비교적 넓게 분포하는 주변부 화상을 좋게 하는 것이 전체 화질이 향상된 것으로 느껴지게 될 것이다.However, since the human eye does not recognize the narrow part mixed with the wide part well, considering the optical illusion, it is better to improve the peripheral image that is distributed relatively wider than the central part limited to the narrow part of the screen. The image quality will feel improved.
본 고안의 목적은 이러한 개념에서 출발하여 화면 중앙부에서는 스포트가 약간 종타원형을 이루더라도, 주변부측에서 원형의 스포트를 형성케하여 전체로서 양질의 화면이 나타나게 할 수 있는 전차총 구조체를 제공함에 있다.It is an object of the present invention to provide a tank gun structure which allows a high quality screen to appear as a whole by forming a circular spot on the peripheral side even if the spot is slightly elliptical in the center of the screen.
이에따라, 본 고안은 제2전극의 캐소오드측에 제2전극의 비임공보다 큰 원형공을 갖는 제1보조전극체를 설치하고, 또 제2전극의 제3전극 측에 횡장형의 비임공을 갖는 제2보조전극체를 설치하여 구성됨을 특징으로 한다.Accordingly, the present invention provides a first auxiliary electrode body having a circular hole larger than the non-hole of the second electrode on the cathode side of the second electrode, and a horizontal non-hole on the third electrode side of the second electrode. It characterized in that it is configured to install a second auxiliary electrode body having.
이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부도면에 따라 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제1도는 본 고안 전자총 구조체의 주요부로 되는 제2전극만을 발췌하여 도시한 분해사시도로서, 제2전극(G2)의 캐소오드 방향에는 전기한 제2전극(G2)의 비임공 직경(ø1)보다 큰 직경(ø2)로 된 원형공(10)을 갖는 제1보조전극체(20)이 설치되고, 또 전기한 제2전극(G2)의 제3전극방향으로는 횡장형공(30)을 갖는 제2보조전극체(40)이 설치된다.FIG. 1 is an exploded perspective view showing only the second electrode serving as a main part of the electron gun structure of the present invention, and in the cathode direction of the second electrode G2, is smaller than the non-pore diameter ø1 of the second electrode G2. The first auxiliary electrode body 20 having a circular hole 10 having a large diameter ø2 is provided, and has a horizontal hole 30 in the direction of the third electrode of the second electrode G2. The second auxiliary electrode body 40 is provided.
이와같이 제2전극(G2)의 전 후측에 각각 제1 및 제2보조전극체(20), (40)을 설치함에 따라, 등전위 분포는 제2도에 도시한 바와 같이 형성된다.As such, the first and second auxiliary electrode bodies 20 and 40 are respectively provided on the front and rear sides of the second electrode G2, so that the equipotential distribution is formed as shown in FIG.
제1전극(G1)과 제2전극(G2) 사이에는 제1보조전극(20)이 개재됨으로 인하여, 전계는 제1보조전극(20)의 원형공(10)의 내측에까지 침투하므로 이 부분에는 발산렌즈가 형성된다.Since the first auxiliary electrode 20 is interposed between the first electrode G1 and the second electrode G2, the electric field penetrates to the inside of the circular hole 10 of the first auxiliary electrode 20. A diverging lens is formed.
이에따라, 전자비임은 프리포커스렌즈의 크로스오버점으로 입사하는 각도가 좁아지게 되며, 그 결과로 다음의 제3전극(G3)에 형성되는 메인포커스렌즈로 입사되는 각도 좁아지게 되어, 구면수차의 영향을 적게 받는 것이다.As a result, the incident angle of the electron beam to the crossover point of the prefocus lens is narrowed, and as a result, the angle of incidence to the main focus lens formed on the next third electrode G3 is narrowed. Will receive less.
한편, 상기한 과정에서 제2전극(G2)를 통과하는 전자비임은 제2보조전극(40)에 이르러서는 횡장형공(30)에 의해 형성되는 비대칭 집속렌즈의 영향을 받게 된다.On the other hand, the electron beam passing through the second electrode (G2) in the above process is affected by the asymmetric focusing lens formed by the horizontal hole 30 to reach the second auxiliary electrode (40).
즉, 횡장형공(30)에 의한 수직과 수평방향의 자계분포차이로 형성되는 비대칭 집속렌즈는 전자비임의 수직성분을 강하게 집속시켜 메인포커스렌즈로의 입사각이 좁아지게 하고, 반대로 수평성분은 약하게 집속시켜 메인커스렌즈로의 입사각을 보다 넓어지게 하여 주므로 화면 중심 상에 나타나는 비임포커스는 종장형으로 나타나게 되는 것이다.That is, the asymmetrical focusing lens formed by the magnetic field distribution difference in the vertical and horizontal directions by the horizontal hole 30 strongly focuses the vertical component of the electron beam to narrow the incident angle to the main focus lens, and conversely, the horizontal component is weak. By focusing, the angle of incidence to the main focus lens is made wider, so the non-focus appearing on the center of the screen appears to be a long shape.
이렇게 화면 중앙에서 종장형으로 나타나는 비임 스포트가 주변부로 이동할 때는 편향요크에 의한 디포커싱을 상쇄하여 원형의 비임을 형성케 되는 까닭에, 본 고안에 의하면 화면 주변 화상을 중심부보다 월등히 향상시킬 수 있게 되는 것이다.When the beam spot, which appears as a vertical shape in the center of the screen, moves to the periphery, the defocusing caused by the deflection yoke is canceled out to form a circular beam. According to the present invention, the image around the screen can be significantly improved than the center. will be.
제3도는 본 고안에 의한 비임스포트변화와 종래의 전자총 구조체에서 얻을 수 있는 비임스포트변화의 차이를 나타내는 챠아트로서, 종래에는 화면의 중심부에서 원형의 스포트가 현출되고, 주변부에는 플레어(flare)를 포함하는 왜곡된 마름모형태로 나타나게 되는 것이나, 본 고안은 면적점유율이 낮은 화면중심부에서 종타원형으로 나타내고, 면적점유율이 높은 화면주변부에서는 편향요크에 의한 디포커싱과 상쇄되어 원형의 스포트를 현출함을 잘 나타내고 있다.3 is a chart showing a difference between a beam spot change according to the present invention and a beam spot change obtained from a conventional electron gun structure. In the past, a circular spot appears in the center of the screen, and a flare is formed in the periphery. It appears to be in the form of a distorted rhombus including, but the present invention is represented by a longitudinal oval in the center of the screen having a low area occupancy, and is offset by the defocusing by the deflection yoke in the screen periphery with a high area occupancy to make a circular spot well. It is shown.
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