KR920003240B1 - 전착도장 장치(電着塗裝裝置) - Google Patents

전착도장 장치(電着塗裝裝置) Download PDF

Info

Publication number
KR920003240B1
KR920003240B1 KR1019900007372A KR900007372A KR920003240B1 KR 920003240 B1 KR920003240 B1 KR 920003240B1 KR 1019900007372 A KR1019900007372 A KR 1019900007372A KR 900007372 A KR900007372 A KR 900007372A KR 920003240 B1 KR920003240 B1 KR 920003240B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
diaphragm
electrodeposition
group
bath
Prior art date
Application number
KR1019900007372A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910004849A (ko
Inventor
아끼도 이노우에
Original Assignee
가부시기가이샤 포리 텍스
아끼도 이노우에
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시기가이샤 포리 텍스, 아끼도 이노우에 filed Critical 가부시기가이샤 포리 텍스
Publication of KR910004849A publication Critical patent/KR910004849A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR920003240B1 publication Critical patent/KR920003240B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/09Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/42Electrodialysis; Electro-osmosis ; Electro-ultrafiltration; Membrane capacitive deionization
    • B01D61/44Ion-selective electrodialysis
    • B01D61/46Apparatus therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B13/00Diaphragms; Spacing elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/22Servicing or operating apparatus or multistep processes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Urology & Nephrology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

전착도장 장치(電着塗裝 裝置)
제1a도는 본 발명의 제1실시예의 구성을 보여주는 설명도.
제2b도는 제1(a)도의 평면도.
제2도는 상기한 실시예에 쓰이는 제1의 격막부를 구비한 일부의 격막전극 장치의 구체적 구조를 보여주는 단면도.
제3도는 제2도의 장치내에서의 물의 유통경로를 보여주는 설명도.
제4도는 제2도의 Ⅳ-Ⅳ선 단면도.
제5도는 본 발명의 제2실시예를 설명하기 위한 평면도.
제6도는 본 발명의 제3실시예를 보여주는 측면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
3, 4 : 격막 전극 장치 9 : 캐티온 교환막
11 : 본체부 12 : 전극부
15, 16 : 절연관 17 : 격막 지지부재
본 발명은 전착 도장 장치에 관한 것으로, 특히, 도막형성물질의 수용액중에 침적된 제1의 전극으로서의 피도포물과, 이것에 대응하여 배설되는 제2의 전극을 구비하고, 이러한 제2의 전극이 전극부재를 포함하여 구성됨과 동시에, 해당전극부재가, 해당전극부재를 상기한 피도포물과 상기한 수용액으로부터 분리하는 격막부를 일체적으로 장비하고 있는 전착도장장치에 관한 것이다.
전착도장에는 대별하여 애니온(anion)(음이온)형 도료를 쓴것과, 캐티온(cationic)(양이온)형 도료를 쓴것이었으나, 그 어느것에서도 피도포물에서의 도막의 균일성 및 밀착성이 우수하며, 또한 공해의 발생이 적은것 때문에, 작금에는 특히 금속도장의 밑도장, 혹은 1코트(coat) 마무리등에 적합한 것으로, 예를 들어 자동차 보디(Body)의 자동도막 처리등에 널리 응용되고 있다.
이와같은 전착도장에 쓰이는 도료중, 앞서말한 애니온형 도료로서는, 예를 들어 분자당 2000의 수지에 칼복실기를 부착시켜, 수용성으로 한것이 사용되고, 또한 상기한 캐티온형 도료로서는 해당도료의 수지성분에 아미노기를 부착시켜서 수용성으로 한 것이 사용되고 있다. 한편, 이들의 수용성 도료이더라도 수중에 용해한 후의 전리도는 미약하다.
이 때문에, 현재에는 애니온형 도료인 경우 예를들어 트리에틸아민등의 알칼리성 중화제를 혼입하고, 또한 캐티온형 도료인 경우에는, 초산(CH3COOH)등의 산성 중화제를 혼입하고, 각각 중화시켜서 수중에서의 전리도의 증대를 도모한것이 사용되고 있다.
이와같이, 각 도료의 수지성분의 성질에 따라, 전리도의 증대를 도모하기 위한 중화제가, 혼입되는데, 한편, 피도포물의 전착처리가 진행되고, 용액중의 도료의 수지성분의 감소하면, 상기한 도료를 외부로부터 순차 보급하여야 함으로, 상기한 용액중에는 중화제로서, 아민(amine) 또는 초산(CH3COOH)이 연속적으로 축적되어, 도면의 재용해 혹은 핀홀(Pin hole)의 발생등의 현상이 생기며, 전착도장의 효과가 현저하게 피해를 입는다는 사태가 생긴다.
이 때문에, 작금에는 예를 들어 일본 특공소 45-22231호 공보에 볼 수 있게 되어 있는 대로, 한쪽의 전극으로서의 피도포물 및 수용액에서 이온 교환막 등에 의하여 다른쪽의 전극을 분리함과 동시에 해당교환막등에 의하여 상기한 수용액중에서 아민 또는 초산(CH3COOH, 이하 같음)을 침투추출하여 해당 수용액중의 중화제의 증가를 방지한다는, 소위 pH 과리가, 시행되어 실효가 도모되고 있다.
여기서, 캐티온형 도료를 쓴 캐티온 전착에 대하여 설명한다. 종전부터, 캐티온 전착에서는 격막으로서 애니온 교환막이 사용되고 있다. 이러한 애니온 교환막은, 통상산제거의 전기효율(산의 쿠론(Coulomb) 제거률)로서, 8-10×10-6(몰/쿠론)(mole/coulomb)의 값을 갖는다. 잔착욕조(tank)내의 전착용 수용액(ED욕도료)에 가해지는 산(중화제)으로서는 전착욕조에 보급되는 도료에 포함되는 량(A)뿐이다.
한편, ED(전착)용 도료에서 외부에 지출되는 산으로서는, ① 전착도장후에 수선액으로서 쓰이는 UF 여과액에 포함되어 자출되는 (A)의 10-20[%], ② 도막에 포함되어 지출되는 (A)의 5-10[%], ③ 격막전극에 의하여 제거되는 (A)의 70-80[%]의 합계의 량(A)이다.
량(A)와 량(B)이 동등하게 되는 것이 이상적이나, 조정이 곤란하기 때문에, 일반적으로는 B>A가 되게하여, 부족한 듯한 산을 외부에서부터 보급하는 경우가 많다. 이러한 이유에서, 전착욕조내에 장비된 전극의 전부를 산추출용의 격막전극으로 한 경우, 극단에 산의 제거가, 과잉하게 되어 중화제인 산의 결핍을 야기하고, 정기적으로 외부로부터 산의 보급이 필요하게 되는 등, ED(전착) 도료중의 중화제 관리가 복잡하게 됨과 동시에, 산의 낭비도 된다. 이때문에, 오늘날에는 일부의 전극을 격막을 갖지않은 소위 나전극(피복없는)으로 구성한 것에 의하여 산제거의 균형을 잡게되어 있다.
상기한 대로, 8-10×10-6[몰/쿠론]의 제거률에서는 산의 제거가 과잉되고, 5-6×10-6[몰/쿠론]에서는 거의 이상적인 산제거의 균형이 되기 때문에, 그러한 산제거률을 갖는 중성막이 사용되는 경우도 있다.
그러나, 상기한 종전에의 나전극을 일부에 사용하는 수법에는 최근의 고품질인 도장의 마무리 용구에 응하는 점에서, 다음과 같은 중대한 결함이 있다. 즉, 나전극의 표면에 석출하는 무기안료를 주성분으로 하는 슬러지(Sludge)가 문제가 되며, 또한 도료중의 유용성분중에 전극(보통 SUS 316이 사용되는 경우가 많음)의 전기침식을 촉진시키는 성분이 포함되는 일이 많으며, 통전에 의하여 급격한 전기침식을 일으킨다.
보통, SUS 316의 전기침식률은 흐르는 전류에 대하여, 2×3×10-6[그램/쿠론]에 달하는 수가 있다. 이와같이 하여, 전기침식에 의하여 극으로부터 용출한 중급속 이온(철, 크롬, 닉켈 등) 등이 도료에 혼입하고, 도장면의 표면 거치름, 방청력저하, 중금속에 의한 착색문제등의 장해가 생겼었다.
또한 상기한 종전예의 중성막사용인 경우에서도, 중성막은, 전기침식을 촉진시키는 성분, 중금속이온등을 통과시키기 위한 같은 모양의 결함이 생겨나 있었다.
본 발명의 목적은 그러한 종전예가 갖는 결함을 개선하고, 특히 도장의 품질을 유지하면서 전착도장내의 산의량을 용이하게 조정할 수가 있는 전착도장장치를 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는, 전착욕조내에 배설된 제1의 전극과, 이러한 제1의 전극에 대응하여 배설된 적어도 2개 이상의 제2의 전극을 구비하고 상기한 제1의 전극과 제2의 전극과의 사이에 상기한 전착욕조내에 수용된 도막형성물질의 수용액을 통함으로서 상기한 도막형성물질을 상기한 제1무리의 전극은 내식성부재로 되어있는 전극부재를 포함하여 구성되고, 해당 각 전극부재가, 그 주위에서 소정 거리의 간격을 두고, 일체적으로 장비되어, 해당전극부재에 흡인되는 수용액중의 이온화한 중화제의 흐름의 대부분을 저지하는 제1의 격막부를 구비하고 있음과 동시에, 제2균의 전극은 전극부재를 포함하여 구성되고, 해당 각 전극부재가, 그 주위에 소정거리 간격을 두고 일체적으로 장비된 상기한 중화제를 침투추출하는 제2의 격막부를 구비하고 있는등의 구성을 채용하고 있다. 이것에 의하여 상기한 목적을 달성하고져 하는 것이다.
이하, 본 발명의 제1실시예를 제1도에서 제4도까지를 기본하여 설명한다.
본 실시예는 도막형성 물질의 수용액으로서 캐티온형 도료를 초산(CH3COOH)으로 중화하여된 수용액(W)을 사용한 캐티온 전착도장에 본 발명의 전착도장 장치를 사용한 경우를 보여준다.
제1도에서, 전착욕조(100)내의 중앙부에, 제1의 전극부로서의 피도장물(1)이 배설되어있다.
또한, 전착욕조(100)내의 측벽부에는 피도장불(1)에 대응하여 제2의 전극이 복수배설되어 있다.
즉, 이러한 제2의 전극은, 제1무리의 전극으로서의 중화제 저지형인, 격막전극장치(3) 3, …과, 제2의 전극으로서의 중화제 추출형의 격막전극장치(4), 4, …와의 2무리의 전극을 가지고 있다.
본 실시에에서는, 이들 각 무리를 각각 구성하는 각 격막 전극장치(3), 4가 제1도에 보여주는 대로, 1개 걸러 교호로 전착욕조(100)의 양측벽부에 따라서 각각 배설되어 있다.
중화제 저지형인 격막전극 장치(3)로서는, 내식성부재(예를들어, 티탄(Titaninum) 합금상에 산화 이리줌(Iridium) 등을 코팅한것, 페라이트(Ferrite) 등의 양질 재료가 쓰인다.)로 된 파이프 모양의 전극부재를 가지며 이러한 전극부재에 흡인되는 수용액(W)중의 이온화한 중화제의 흐름의 대부분을 저지하는 제1의 격막부를 구비한 것이 사용되고 있다.
또한 중화제 추출형의 격막전극장치(4)로서는 스텐리스제의 파이프모양의 전극부재를 갖고, 전착 욕조(100)내에 수용된 전착도장용 수용액(캐티온형 도료의 수용액)(W)중의 중화제를 침투 추출하는 제2의 격막부를 구비하고 있는 것이 사용되고 있다.
여기서, 이들의 격막전극장치(3), (4)의 구성은 전체로서는 거의 같은 모양으로 되어 있다. 제2도에는 격막전극장치(3)의 구체적 구성을 보여준다. 이러한 제2도에서, 격막전극장치(3)는, 본체부(11)와, 전극부(12)와, 이들 양자간에 설정된 통수기구(14)를 구비하고 있다.
이중에서 본체부(11)는, 동축상에 소정간격을 두고 배설된 제1 및 제2의 절연관(15), (16)과, 이들의 각 절연관(15), (16)을 연결하는 비교적 경질의 격막지지부재(17)와, 이러한 격막지지부재(17)의 외주에 감아서 장착된 제1의 격막부로서 캐티온 교환막(9)과, 이러한 교환막(9)의 외면에 또다시 감어서 장착된 외포(18)에 의하여 구성되어 있다.
이러한 외포(18)는, 예를드렁 화학섬유등으로 되고, 또한 장력에 대하여 충분내구성이 있는 통수성을 구비한 것이 사용되어 있다. 격막지지부재(17)는 비도전성의 망상부재, 혹은 통수성이 있는 다공질부재에 의하여 비교적 긴 파이프모양으로 형성되고, 제1 및 제2의 절연관(15), (16)을 그 양끝부의 내경측으로 연결되도록 배설되어 있다.
또한 캐티온 교환막(9)은, 제3도에 보여주는 대로, 각각 원통모양으로 형성됨과 동시에 다음에 설명하는 대로, 격막지지부재(17)의 외주에 감겨 장착되어 있다.
또한 이러한 캐티온 교환막(9)은, 격막지지부재(17)에 감겨져 있기 때문에, 외압에 대하여 기계적 강도가 현저하게 증강된 상태가 되어 있다.
또한 이러한 캐티온 교환막(9)의 외주면에는 그 전역에 걸처 상기한 대로 외포(18)가, 나선모양으로 감겨장착되고, 이것에 의하여 내압에 대하여도 충분한 내압강도가 부가된 것으로 되어 있다.
캐티온 교환막(9) 및 외포(18)가, 감겨 장착된 격막지지부재(17)의 양단부에 외주측에는, 소정간격을 두고 제2도에 보여주는 대로, 제1 및 제2의 틀체(20), (21)가 배설되오, 동시에 이러한 틀체(20), (21)의 내경측에 포팅(potting)재(41)가 충전되어 이것에 의하여 각 절연관(15), (16)과 격막지지부재(17) 및 캐티온 교환막(9), 외포(18)가 동시에, 또한 강고하게 일체화된 구조로 되어 있다.
이런 경우에 상기한 제1의 틀체(20)는 통모양으로 형성되어 있으며, 상기한 포팅재(41)의 충전에 있어서는 해당 고형화전의 포팅재(41)가, 유출하는 것을 방지하기 위하여 링(ring)부재(22)가, 제1의 틀체(20)내에 배설되어 있다.
또한, 제2의 틀체(21)는 유저통모양(밑이 있는)으로 형성되고, 그의 내측에 격막지지부재(17) 및 절연관(16) 등이 끼워 넣어져 있는 상태로 상기한 대로 포팅재(41)가 충전되며, 그 전체가, 동시에 일체적으로 고착된 구조가 되어 있다. 포팅재(41)로서는, 본 실시예에서는 에폭시수지가 사용되어 있으나, 우레탄 수지, 혹은 페놀수지등이여도 좋다.
제1 및 제2의 절연관(15), (16)으로서는, 본 실시에에서는, 경질의 염화비닐관이 사용되어 있다. 이중에서 제1의 절연관(15)에는 제2도에 보여주는 대로 배수부(13)가 마련되며 그 위쪽끝부에는 캡(24)이 착탈자재하게 장착되어 있다. 부호(15A)는 절연관(15)의 상단부 내경측에 고착되어 있는 스페이서(Spacer)를 보여준다.
한편, 전극부(12)는 티탄제의 파이프모양으로 형성되고, 표면에 산화이리줌 등을 코팅하여된, 파이프모양의 전극부재(30)에 의하여 구성되고, 이러한 전극부재(30)에는 제2도에서의 상단부에 장착된 전극 현수게지용의 금속제덥게부재(31)와, 그 덥게부재(31)에 마련된 전원용 접속단자(32) 및 급수부(33)가 마련되어 있다.
이중에서 상기한 전극부재(30)는 그 외경이 상기한 본체부(11)의 제1 및 제2의 각 절연관(15), (16)의 내경보다도 더욱 작게 형성되어 있다. 이때문에, 본체부(11)에 대한 해당전극부재(30)의 착탈이 용이하게 되어 있고, 동시에 해당 본체부(11)와 전극부재(30)와의 사이에 통수기구(14)의 일부가 형성되도록 되어있다.
또한 금속제의 덥게부재(31)는 그의 외주끝 가장자리가, 전극부재(30)에서부터 돌설되어 있고, 이것에 의하여 전극부재(30)가 제2도에 보여주는 대로 제1의 절연관(15)에 계지되도록 되어 있다.
이때문에, 전극부(12)는, 외부로부터 본체부(11)내에 극히 용이하게 끼워넣어 배설되고, 또한 필요에 따라, 극히 용이하게 외부에 이탈시킬 수가 있도록 되어 있다.
통수기구(14)는, 캐티온 교환막(9)과 전극부재(30)와의 사이에 측적되는 초산(CH3COOH) 등을 외부에 배출하기 위한 것으로, 구체적으로는 상기한 전극부(12)와 본체부(11)에 의하여 구성되어 잇다.
즉, 전극부(12)의 급수부(33)에서부터 유입되는 물은, 제3도중의 화살표로 보여주는 대로 전극부재(30)내를 흘러내려, 아래쪽에서부터 전극부재(30)의 외주측에 유동하여가서 동시에 해당전극부재(30)의 외주측을 상승하면서 캐티온 교환막(9)의 내측을 유동하여 불순물과 함께 배출부(13)로부터 외부에 강제적으로 유출되도록 되어 있다. 본체부(11)의 한쪽의 틀체(20) 부분에는, 전착도장에 있어서 욕조에 장착하기 위한 장착용 금속구(11A)가 감어장착된다.
또한 캐티온 교환막(9)의 외면에 감어 장착한 외포(18)는, 꼭 포지형인 것에 한정하는 것은 아니고, 동일 보강기능 및 통수성을 구비한 것이면, 기타부재로 바꿔놓아도 좋다.
또한 캐티온 교환막(9)은, 접합부를 방수하는 것을 전체로 하여 나선모양으로 감어 붙혀도, 또는 바퀴모양으로 자른 형상으로 형성한 것을 장착하여도 좋다.
여기서, 상기한 본체부(11)의 주요부를 이루는 캐티온 교환막(9)의 고정방법에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
우선 , 격막지지부재(17)의 외주에 캐티온 교환막(9)을 감어 장착하고, 그 당접끝부를 겹치거나, 혹은 당접끝 가장자리를 맞붙게 하거나 하여, 제4도에 보여주는 대로 거의 단면원형 모양으로 고착한다.
계속하여 이러한 캐티온 교환막(9)의 외면에, 외포(18)를 나선모양으로 감어붙여, 이것에 의하여 격막지지부재(17)와, 캐티온 교환막(9)과의 일체화가 완료된다.
다음에 이와같이 하여 형성된 원통형 격막부재의 양끝부에 상기한 제1, 제2의 절연관(15), (16)을 제2도에 보여주는 대로 끼워맞추어 동시에 이러한 각 끼워맞춤부의 외측에는 제1 및 제2틀체(20)(21)를 상기한대로 소정간격을 두고 배치한다.
그리하여, 이러한 각 틀체(20), (21)내에 각각 포팅재(41)를 충전하여 고형화시키고, 이것에 의하여 본체부(11)의 일체화가 완료된다.
또한 제1의 틀체(20)의 제2도에서의 하단부 내측에 배설된 링부재(22)는, 상기한 대로 고형화 전의 포팅재(41)의 유출을 방지하기 위한 것으로서 해당 포팅재(41)가 고형화한 후는 떼내도 좋다.
또한, 격막전극장치(4)는 상기한 대로 전체적으로 격막전극장치(3)와 거의 같이 구성되어 있으나, 캐티온 교환막(9)에 교환하여 제2의 격막부로서 애니온 교환막(도시생략)이 사용되며, 전극부재(30) 대신에 통상적 스텐리스제의 파이프형의 전극부재가 사용되어 있다.
기타의 구성은, 상기한 격막전극장치(3)와 같게 되어 있다.
다음에 이러한 실시예의 전체적 동작을 설명한다.
우선, 피도포물(1)을 마이너스극으로 함과 동시에 격막전극장치(3), (3), … 및 격막전극(4), (4), …의 각 전극부재를 플러스극으로 하고, 직류전압을 인가하면, 통상적인 것같이 즉시 전극도장이 개시되며, 수용액 중에서 플러스 전하를 갖는 도료수지 성분과 안료의 콜로이드 분자가 마이너스극의 피도포물(1)에 향하여 이동하고, 피도포물(1)의 표면에 부착하여 방전한 후 도료의고형물이 응집하여 도막이 형성된다.
한편 수용액(W)중에는 마이너스전하를 갖는 초산(CH3COOH)이 축적되는 상태가 되나, 이런 초산은 상기한 전착 도장의 개시와 동시에 간격막전극장치(3), (3)…(4), (4)…이 각 전극부재에 의하여 이동을 개시한다.
여기에서, 각 격막전극장치(4)에서는 마이너스 전하를 구비한 초산분자를 쉽게 통과시키는 애니온 막이 사용되어 있기 때문에, 플러스 전위의 해당격막전극장치(4)의 전극부재에 흡인되는 초산분자는 전자력선에 따라 해당 애니온 교환막을 쉽게 통과하여 전극부재의 주위로부터 해당전극부재에 달하여 방전한다.
이 경우에, 방전한 중화제로 저농도에서는 거의 전량이 전리하여 있기 때문에, 통전중은 플러스극에 끌리고 있음으로 전극부재와 애니온 교환막과의 사이에 집적된다.
그런데, 이런 전극부재와 애니온 교환막과의 사이에는 상기한 대로, 예를들어 순수한 물이 강제적으로 유통되어 있어서, 집적된 초산은 순수아 함께 연속적으로 외부에 배출된다.
이것에 대하여, 각 격막전극장치(3)에서는, 캐티온 교환막(9)이 사용되기 때문에 산의 쿠론 제거효율은 1×10-6[그램/쿠론] 이하로, 대단히 낮고, 수용액(W)중의 중화제인 초산(마이너스 이온)의 흐름은 이런 캐티온 교환막(9)에 의하여 대부분 저지되어서 전극(30)측에 도달할 수가 없고 초산이 전착용 수용액(W)내에 축적된다.
이런 경우에, 수용액(W)측으로부터 전극부재(30)측에는 마이너스(-)의 전하는 이동할 수 없으나, 미리 전극부재(30)와 캐티온 교환막(9)과의 사이에 가득찬 전액중의 산의 전리에 의하여 생긴 수소이온[H+]이, 피도포물(1)에 흡인된 캐티온 교환막(9)을 통과하기 때문에, 이러한 수소이온이 플러스[+]의 전하를 운반하여서 전류가 흐른다.
여기서, 이들 캐티온 교환막(9)에서는 초산을 완전히 저지하는 일은 없기 때문에, 일부가 전극(30)에 도달하여 방전한다. 상기한 경우와 같이, 전극부재(30)와 격막부(9)와의 사이에는 초산이 집적되어, 집적된 초산은 순수와 함께 연속적으로 외부에 배출된다.
격막전극장치(3)이 전극부재(30)는 티탄(Titante)제로 그 표면에 산화 이리듐을 도금한 것을 사용하고 있음으로, 해당전극부재(30)보다 중금속이온이 거의 용출되지 않는다.
이상 설명한 대로 본체 1 실시에에 의하면, 산의 제거률을 억제함과 동시에, 극히 거의 용출하는 일이 없는 격막전극장치(3)와, 산을 유효하게 제거할 수 있음과 동시에 극히 용출에 의한 플러스이온의 흐름을 저지하는 애니온막을 구비한 격막전극장치(4)를 사용하고 있음으로, 종전 문제로 되었던 중화제인 산의 과잉제거를 방지할 수 있음과 동시에, 전착용수용액중의 도료성분(ED 욕도료)중에 극히 용출에 의한 중금속 이온이 혼입하는 것을 거의 완전하게 저지할 수가 있다는 유리한 점이 있다.
또한 이러한 격막전극장치(3)와 격막전극장치(4)를 적당하게 조합시킴으로서, 산의 제거률을 소망한 값으로 설정할 수 가 있다.
또한 상기한 실시예에서는, 격막전극장치(3)의 극액순환계를 격막전극장치(4)의 극액순환계에서부터 분리하면, 격막전극장치(4)의 극액이 격막전극장치(3)에 공급되는 일이 없기 때문에, 거의 완전하게 중금속의 욕도료에로의 혼입을 방지할 수가 있다.
다음에, 본 발명의 상기한 제1실시예 이외의 실시예에 대하여 설명한다.
또한, 이하의 각 실시예의 설명에서는 상기한 제1실시예와 동일한 구성부분에 대하여, 동일부호를 사용하는 것으로 하고, 설명을 생략, 혹은 간략하게 한다.
[제2실시예]
제5도에는 본 발명의 제2실시예가 표시되어 있다. 이러한 제2실시예가 특징으로 하는 것은, 피도포물(1)을 도시안한 이송수단에 의하여, 전착욕조(00)내의 수용액(W)중을 해당전착욕조(100)의 한쪽(제5도에서의 상측)에서부터 다른쪽(제5도에서의 하측)에 이송함과 동시에, 상기 실시에에서의 격막전극장치(3), (3), …을 입욕조촉에 배설함과 동시에, 그 출욕조측에 격막전극장치(4), (4), …을 배설한 것에 있다.
이와같이 제2실시예에서의 작용, 효과는 상기한 제1실시예와 거의 같은 것이나, 본 실시예에 의하면, 입욕조부 일수록 1개본당 전류밀도가 높기 때문에, 한층효율 좋게 산의 과잉제거를 방지할 수가 있다.
[제3실시예]
제6도에는 본 발명의 제3실시예가 표시되어 있다. 이러한 실시예에서는, 상기한 제1실시예에서의 격막전극장치(3), (4), …와 피도포물(1)과의 사이에 인가되는 전압을 조정하는 전압 조정수단(40)이 마련되어 있는 점에 특징을 갖는다. 기타의 구성은 상기한 제1실시에와 동일하게 되어있다. 이와같이 구성하여도, 제1실시예와 동등의 작용, 효가를 얻게되는 전압조정수단(40)의 작용에 의하여, 각 격막전극장치와 피도포물(1)과의 사이에 인가되는 전압을 조정할 수가 있기 때문에 한층쉽게 전착욕조(100)내의 산의 량을 조정할 수 있다는 유리한 점이 있다.
또한, 상기한 실시예에서는 제2의 전극을 이루는 각 전극이, 파이프모양의 전극부재를 포함하여 구성되는 경우를 예시하였는데, 본 발명은 이것에 한정되는 것이 아니라, 상자모양의 전극부재를 포함하여 구성하여도 좋고, 이런 경우에도 전혀 동일한 효과를 내는 것이다.
또한 상기한 실시예에서는, 제1균의 전극으로서 격막전극장치(3)를 구성하는 전극부재를 내식성재료에 의하여 형성하고, 제2의 전극으로서의 격막전극장치(4)를 구성하는 전극부재를 통상적 스텐리스로 형성하는 경우를 예시하였으나, 양자모두 내식성 재료에 의하여 형성하여도 좋다.
본 발명은 이상과 같이 구성되고, 기능을 하기 때문에, 예를들어, 상기한 실시에와 같이, 이것을 캐티온 전착도장에 사용한 경우 제1의 격막부를 구비한 제1군의 제2의 전극작용에 의하여, 수용액중의 중화제인 산의 과잉제거를 억제할 수가 있고, 동시에 제2의 격막부를 구비한 제2군의 제2의 전극의 작용에 의하여 수용액중의 산을 침투추출하여 제거할 수가 있고, 상기한 제1군의 전극을 구성하는 전극부재가 내식성 부재로 형성되어 있음으로, 해당전극이 용출하는 일이 없기 때문에, 중금속 이온드으이 수용액중에 유출하는 일이 없다.
따라서, 전착도장의 품질을 유지하면서, 전착욕조내의 중화제인 산의 량을 쉽게 조정할 수가 있다는 종전에 없던 우수한 전착도장장치를 제공할 수가 있다.

Claims (5)

  1. 전착욕조내에 배설된 제1의 전극과, 이러한 제1의 전극에 대응하여 배설된 적어도 2개 이상의 제2의 전극을 구비하고, 상기한 제1의 전극과 제2의 전극과의 사이에 상기한 전착욕조내에 수용된 도막형성 물질의 수용액을 통하여 전류를 통함으로서, 상기한 도막형성물질을 상기한 제1의 전극에 전착하는 전착도장 장치에서, 상기한 제2의 전극은, 2군의 전극으로 되며, 이중에서 제1군의 전극은 내식성 부재로된 전극부재를 포함하여 구성되고, 해당 각 전극부재가, 그 주위에서 소정거리를 두고 일체적으로 장비되고, 또한 해당전극부재에 흡수되는 수용액중의 이온화한 중화제의 흐름의 대부분을 저지하는 제1의 격막부를 구비하고 있음과 동시에, 제2군의 전극은 전극부재를 포함하여 구성되고, 해당각 전극부재가, 그 주위에 소정거리를 두고 일체적으로 장비된 상기한 중화제를 침투 추출하는 제2의 격막부를 구비한 것을 특징으로 하는 전착도장장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기한 제1군의 전극을 구성하는 전극부재가, 티탄 합금으로 되고, 그 표면에 산화 이리듐 등의 내식성이 우수한 재료를 도금하여 형성된 것을 특징으로 하는 전착도장장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기한 제1군의 전극을 구성하는 전극부재가 페라이트로 형성된 것을 특징으로 하는 전착도장장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기한 제1의 전극이, 상기한 전착욕조내의 상기한 수용액중을 해당전착욕조의 한쪽에서 다른쪽에 향하여 이송됨과 동시에, 상기한 제1군이 전극이, 그 입욕조측에 배치되고, 또한 제2군의 전극이 그 출욕조측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 전착도장장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기한 제2의 전극의 적어도 하나가, 인가전압을 조정하는 전압조정수단에 접속된 것을 특징으로 하는 전착도장장치.
KR1019900007372A 1989-08-09 1990-05-22 전착도장 장치(電着塗裝裝置) KR920003240B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1-93592 1989-08-09
JP9359289 1989-08-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR910004849A KR910004849A (ko) 1991-03-29
KR920003240B1 true KR920003240B1 (ko) 1992-04-25

Family

ID=14086574

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900007372A KR920003240B1 (ko) 1989-08-09 1990-05-22 전착도장 장치(電着塗裝裝置)

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0415577B1 (ko)
KR (1) KR920003240B1 (ko)
CA (1) CA2017736C (ko)
DE (1) DE69006432T2 (ko)
ES (1) ES2049424T3 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6264809B1 (en) 1998-10-30 2001-07-24 Pti Advanced Filtration, Inc. Enhanced membrane electrode devices useful for electrodeposition coating
JP2000144495A (ja) * 1998-11-12 2000-05-26 Poritekkusu:Kk 電着塗装装置
US7422673B2 (en) * 2003-05-22 2008-09-09 Ufs Corporation Membrane electrode assemblies and electropaint systems incorporating same

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2623092B2 (ja) * 1987-07-25 1997-06-25 株式会社 ポリテックス 電着塗装用隔膜電極装置
US4851102A (en) * 1987-08-12 1989-07-25 Poly Techs Inc. Electrodeposition coating system

Also Published As

Publication number Publication date
ES2049424T3 (es) 1994-04-16
DE69006432T2 (de) 1994-05-11
KR910004849A (ko) 1991-03-29
DE69006432D1 (de) 1994-03-17
CA2017736A1 (en) 1991-02-09
EP0415577A3 (en) 1991-03-20
CA2017736C (en) 1999-04-20
EP0415577B1 (en) 1994-02-02
EP0415577A2 (en) 1991-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900007976B1 (ko) 전착(電着)도장용 격막전극장치
KR102202213B1 (ko) 도금 장치 및 도금 방법
US20130032484A1 (en) Electroplating apparatus
US5318683A (en) Electrodeposition system
KR920003239B1 (ko) 전착 도장(electro deposition coating)장치
KR920003240B1 (ko) 전착도장 장치(電着塗裝裝置)
WO2007119824A1 (ja) 電着塗装用膜付き中空電極
US5273637A (en) Electrodeposition coating system
US6436263B1 (en) Electrodeposition painting systems and methods
JP2727231B2 (ja) 電着塗装装置
EP0059481A1 (en) High speed plating apparatus
JP2729277B2 (ja) 電着塗装用隔膜電極装置
JPH05214592A (ja) 電着塗装装置
JPH05195293A (ja) 電着塗装装置
JPH0368119B2 (ko)
JPH0744754U (ja) 電着塗装装置
JPH0310097A (ja) 電着塗装方法
JP2621107B2 (ja) 隔膜電極装置の極液管理方法
JPH05263294A (ja) 電着塗装装置
JP3448837B2 (ja) 鉄電解装置
CA2308737A1 (en) Electro deposition painting systems and methods
JP2002060997A (ja) 電着塗装用隔膜電極装置
JPH0459995A (ja) 電気めっき装置および電気めっき方法
KR20040106880A (ko) 수(水) 처리 장치
JPS6116437B2 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19970213

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee