Claims (8)
(A)폴리아세탈 수지 100중량부 그리고, (B)아키릴 조절 실리콘과 (b)라디칼중합가능 모노머의 라디칼로 이루어진 저광택 폴리아세탈 수지 조성물공중합에 의하여 제조된 실리콘 그래프트 공중합체 0.1내지 40중량부.0.1 to 40 parts by weight of a silicone graft copolymer prepared by (A) 100 parts by weight of a polyacetal resin and (B) a low gloss polyacetal resin composition copolymerized with radicals of (B) arylyl controlled silicone and (b) a radical polymerizable monomer.
제1항에 있어서, 성분(B)를 구성하는 상기 아크릴 조절실리콘(a)가 다름 일반식(1)로 나타난 실리콘과 일반식(2)로 나타난 아크릴 화합물의 응축 생성물이고,The acrylic control silicone (a) constituting component (B) is a condensation product of silicone represented by formula (1) and acrylic compound represented by formula (2),
여기서 R1과 R2는 1내지 10개 탄소원자를 가지는 지방족 히드로카르빌기, 페닐기 또는 할로겐 히드로카르빌기이고 n는 2이상의 정수,그리고/또는여기서 R3은 수소원자 또는 메틸기; R4는 메틸, 에틸 또는 페닐기; x는 1내지 10개 탄소원자를 지닌 알콕시기, 아세톡시기 또는 염소원자인 저광택 폴리아세탈 수지 조성물.Wherein R 1 and R 2 are aliphatic hydrocarbyl groups, phenyl groups or halogen hydrocarbyl groups having 1 to 10 carbon atoms and n is an integer of 2 or more, And / or R 3 is a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is a methyl, ethyl or phenyl group; x is a low-gloss polyacetal resin composition wherein the alkoxy group, acetoxy group or chlorine atom having 1 to 10 carbon atoms.
제1항 또는 제2항에 있어서, 성분(B)를 구성하는 아크릴 조절 실리콘(a)가 α,ω-디히드록시 폴리디메틸 실록산과 γ-메타 크릴록시 프로필트리 클로로 실란의 응축 생성물인 저광택 폴리아세탈 수지 조성물.The low gloss poly according to claim 1 or 2, wherein the acryl-controlled silicone (a) constituting component (B) is a condensation product of α, ω-dihydroxy polydimethyl siloxane and γ-methacryloxy propyltrichlorosilane. Acetal resin composition.
제1항 또는 제2항에 있어서, 성분 (B)를 구성하는 라티칼 중합가능 모노머(b)가 아크릴, 메타크릴산 산 또는 그것의 에스테르인 저광택 폴리아세탈 수지 조성물.The low gloss polyacetal resin composition according to claim 1 or 2, wherein the radical polymerizable monomer (b) constituting the component (B) is acrylic, methacrylic acid or an ester thereof.
제1항 또는 제2항에 있어서, 폴리아세탈 100중량부당 기후(광)안정제(c)이 0.01내지 5중량부 함유하는 저광택폴리아세탈 수지 조성물.The low gloss polyacetal resin composition according to claim 1 or 2, which contains 0.01 to 5 parts by weight of the climate (light) stabilizer (c) per 100 parts by weight of polyacetal.
제5항에 있어서, 상기 기후(광)안정제 (c)가 벤조트리아졸, 벤조페논, 옥사닐리드, 방향족 벤조에이트, 시아노아크릴레이트 및 방해아민으로 이루어진 기중에서 하나이상 선택된 저광택 폴리아세탈 수지 조성물.6. The low gloss polyacetal resin composition according to claim 5, wherein the climate stabilizer (c) is at least one selected from the group consisting of benzotriazole, benzophenone, oxanilide, aromatic benzoate, cyanoacrylate and hindered amine. .
제6항에 있어서, 상기 기후(광)안정제 (c)가 벤조트리아졸, 벤조페논, 옥사닐리드, 방향족 벤조에이트 및 시아노아크릴레이느와 방해아민중에서 하나 이상 선택 결합되어 이루어진 저광택 폴리아세탈 수지 조성물.7. The low gloss polyacetal resin according to claim 6, wherein the climate stabilizer (c) is one or more selected from benzotriazole, benzophenone, oxanilide, aromatic benzoate and cyanoacrylene and a hindered amine. Composition.
제1항 내지 7항의 조성물을 성형하여 만들어진 저광택 폴리아세탈 수지 성형품.A low gloss polyacetal resin molded article made by molding the composition of claim 1.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.