KR910009636B1 - Electrode for electron gun of colon brown tube - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 본 발명의 실시예인 제2그리드 전극의 전자비임통과 구멍부분을 도시한 것으로서, (a)도는 확대 정면도, (b)도는 단면도.1 shows an electron beam passage and a hole portion of a second grid electrode according to an embodiment of the present invention, (a) is an enlarged front view, (b) is a sectional view.
제2a,b도는 제1도의 제2그리드 전극의 성형방법의 일실시예를 도시한 단면도.2A and 2B are cross-sectional views showing one embodiment of a method for forming the second grid electrode of FIG.
제3도는 종래의 제2그리드 전극을 도시한 것으로서, (a)도는 정면도, (b)도는 단면도.3 is a view showing a conventional second grid electrode, (a) is a front view, (b) is a cross-sectional view.
제4도 및 제5도는 종래예의 제2그리드 전극의 성형방법을 도시한 것으로서, 각각 (a)도는 확대 정면도, (b)도는 단면도.4 and 5 show a method of forming a second grid electrode of the prior art, in which (a) is an enlarged front view and (b) is a sectional view.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
120 : 제2그리드 전극 121 : 전자비임통과구멍120: second grid electrode 121: electron non-passing hole
122 : 오목부 123 : 돌기부122: recess 123: protrusion
124 : 과잉용착금속흡수용 구멍 125 : 다이124: hole for absorbing excessive weld metal 125: die
126,127 : 안내부재 128 : 펀치126,127: guide member 128: punch
본 발명은 인라인형 컬러브라운관의 전자총용 전극에 관한 것으로서, 특히 화면주변의 포커스의 개선을 도모하는데 적합한 전극에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode for an electron gun of an inline type brown tube, and more particularly to an electrode suitable for improving the focus around a screen.
종래, 컬러브라운관의 화면주변의 포커스의 개선을 목적으로 한 전자총으로서, 예를 들면 일본국 특개소 59-157936호 공보에 개시된 것이 알려져 있다. 이 구조는 제3도에 도시한 바와 같이, 제2그리드 전극의 전자비임통과 구멍(2)의 주변부에 슬릿형상의 오목부(3)를 형성하고, 상기 구멍주변부의 판두께를 수직편향 방향(y방향)으로 두껍게, 수평편향 방향(x방향)으로 얇게해서 이루어졌으며, 이에 의해서 전자비임의 발산각을 수직편향 방향(y방향)으로 작게 하고 있다. 도면중, (4)는 링형상의 돌기부를 나타낸다.Background Art Conventionally, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-157936 as an electron gun for the purpose of improving the focus around the screen of a color CRT. In this structure, as shown in FIG. 3, the slit-shaped recesses 3 are formed in the periphery of the electron beam passages and the holes 2 of the second grid electrode, and the plate thickness of the periphery of the holes is changed in the vertical deflection direction ( thick in the y direction) and thin in the horizontal deflection direction (x direction), thereby reducing the divergence angle of the electron beam in the vertical deflection direction (y direction). In the figure, (4) shows a ring-shaped protrusion.
또, 제3a,b도에 도시한 바와 같이, 상기 오목부(3)와 같은 오목부를 형성하기 위해서는, 일반적으로 프레스에 의한 압인가공이 사용되고 있다. 예를 들면, 일본국 특허 공고 소화 40-4550호 공보를 들 수 있다.Moreover, as shown in FIG. 3A, FIG. 3, in order to form the recessed part like the said recessed part 3, the pressing process by a press is generally used. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 40-4550 can be given.
제3a,b도에 도시한 전극(1)을 형성할 경우, 일본국 특허공고 소화 40-4550호 공보에 개시되어 있는 바와 같이, 압인가공력 저감의 목적에서, 먼저, 제4a,b도에 도시한 바와 같이, 전자비임통과 구멍(2)의 해당부에 과잉용착금속 흡수용 구멍(5)을 형성하고 있다.In the case of forming the electrode 1 shown in Figs. 3A and 3B, as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 40-4550, for the purpose of reducing the applied force, first, in Figs. As shown in the figure, the hole 5 for absorbing excessive weld metal is formed in the corresponding portion of the electron beam passing hole 2.
다음에 제5a,b도에 도시한 바와 같이, 압인가공에 의해 과잉용착금속 흡수용구멍(5)의 주변부의 오목부형성면(6)에 오목부(3)를 형성한다. 이에 의해 상기 과잉용착금속 흡수용 구멍(5)은 번호(7)로 나타낸 바와 같이 작아진다. 그후 이 구멍(7)의 부분을 소정의 전자비임통과 구멍(2)으로 형성한다.Next, as shown in Figs. 5A and 5B, the concave portion 3 is formed on the concave portion forming surface 6 of the periphery of the excessively welded metal absorption hole 5 by pressing. As a result, the excessively welded metal absorption hole 5 becomes smaller as indicated by the number 7. Then, the part of this hole 7 is formed into the predetermined electron beam passage hole 2.
상기 종래기술은, 제5도에 도시한 바와 같이, 오목부(3)의 압인가공에 의해 필연적으로 생기는 과잉용착금속은, 구멍(5)의 축소방향으로의 유동(8)과 돌기부(4) 방향으로의 유동(9)의 각각의 방향으로 유동한다. 이때, 돌기부(4) 방향으로의 유동(9)은 파선(10)으로 표시한 바와 같은 변형으로 흡수되나, 이 유동(9) 때문에 오목부(3)의 개구부(11)에는 주위에 걸쳐서 불규칙적인 원형, 소위 싱크 마아크(sink mark)를 발생시키는 원인이 된다. 싱크마아크는 오목부(3) 주위에서 그 크기가 불규칙하게 되어, 오목부의 형상 정밀도가 불균일하게 되어 버린다. 제3도에 도시한 전자비임통과 구멍(2) 근처의 오목부(3)의 단차(單差)를 내기 위하여, 구멍(2) 근처의 수직편향 방향(y방향)의 형상이 중요하다.In the conventional art, as shown in FIG. 5, the excessive welding metal inevitably generated by the pressing process of the concave portion 3 includes the flow 8 and the projection 4 in the shrinking direction of the hole 5. Flow in each direction of flow 9 in the direction. At this time, the flow 9 in the direction of the projection 4 is absorbed by the deformation as indicated by the broken line 10, but because of the flow 9, the opening 11 of the recess 3 is irregular over the circumference. It causes a circular, so-called sink mark. The sink arc becomes irregular in size around the recess 3, and the shape precision of the recess becomes uneven. The shape of the vertical deflection direction (y direction) near the hole 2 is important in order to make a step of the recess 3 near the hole 2 and the electron beam passage shown in FIG.
상기한 바와 같이, 종래에는 수직편향 방향(y방향)의 오목부의 형상 정밀도의 불균일을 초래하므로, 컬러브라운관의 포커스에 있어서도 균일한 성능을 얻을 수 없다고 하는 문제가 있었다.As described above, conventionally, since the shape accuracy of the concave portion in the vertical deflection direction (y direction) is caused, there is a problem that uniform performance cannot be obtained even in the focus of the color brown tube.
본 발명의 목적은, 싱크마아크 발생을 방지하고, 오목부의 형상 정밀도에 있어서 균일성이 높은 컬러브라운관의 전자총용 전극을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to prevent the occurrence of sink arcs, and to provide an electrode for electron gun of a color brown tube with high uniformity in shape accuracy of the recess.
상기의 목적은, 전자비임통과 구멍 주위에 일반적으로 갖춘 링형상 반원단면으로 이루어진 돌기부를, 환형상 수직단면으로 이루어지는 돌기부 및 홈부로 바꾸는 것에 의해서 달성된다.The above object is achieved by replacing the projections, which consist of a ring-shaped semicircular section, generally provided around the electron beam passage and the holes, with the projections and grooves, which consist of annular vertical sections.
환형상 수직단면으로 이루어진 돌기부 및 홈부는, 오목부를 압인가공할때에 발생하는 싱크마아크의 발생원인이 되는 돌기방향으로의 과잉용착금속의 유동을 제한하는 것에 대해서 유효하게 작용한다. 이에 의해서 과잉용착금속의 유동은 과잉용착금속 흡수용 구멍의 축소방향으로 집중하기 때문에, 종래 오목부의 개구부 주위를 발생하고 있던 불규칙적인 원형은 발생하지 않게 되고, 오목부의 형상정밀도는 균일하고도 높은 것으로 형성할 수 있다.The projections and grooves formed of annular vertical cross-sections are effective for restricting the flow of excess weld metal in the projection direction, which is a cause of the generation of sink arcs generated when the recess is pressed. As a result, the flow of the excessively welded metal concentrates in the shrinking direction of the hole for absorbing the excessively welded metal, so that an irregular circular shape that has occurred around the opening of the recess in the past does not occur, and the shape precision of the recess is uniform and high. Can be formed.
이하, 본 발명의 실시예를 제1도에 의해 설명한다. 제2그리드 전극(120)은, 전자비임통과 구멍(121)의 주변부에 슬릿형상의 오목부(122)를 가지며, 이에 의해서 전자비임통과 구멍(121)의 주변부의 판두께는, 수평편향 방향(x방향)으로 얇고, 수직편향 방향(y방향)으로 두껍게 되어 있다. 또 오목부(122)의 주위에는 반전단(半剪斷)가공에 의해 환형상의 수직 단면으로 이루어진 돌기부(123)가 형성되어 있다.An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. The second grid electrode 120 has a slit-shaped recess 122 at the periphery of the electron beam through hole 121, whereby the plate thickness of the periphery of the electron beam through hole 121 is in the horizontal deflection direction ( thin in the x direction) and thick in the vertical deflection direction (y direction). Moreover, the projection part 123 which consists of an annular vertical cross section is formed in the circumference | surroundings of the recessed part 122 by the reverse end process.
이러한 형상으로 이루어진 제2그리드 전극(120)은 제2도에 도시한 공정에 의해서 제작된다. 먼저 동도면 제2a도에 도시한 바와 같이, 반전단 가공으로 환형상 수직단면으로 이루어지는 돌기부(123)를 형성한다. 또 전자비임통과 구멍(121)의 해당부에 과잉용착금속 흡수용구멍(124)을 형성한다. 다음에 동도면 제2b도에 도시한 바와 같이, 상기 반제품을 다이(125) 및 안내부재(126)상에 재치하고, 윗쪽에서부터 안내부재(127)를 하강시켜서 돌기부(123)을 구속시킨다. 이 상태에서 펀치(128)를 하강시켜서 오목부(122)를 압인가공한다. 이에 의해서, 상기 과잉용착금속 흡수용구멍(124)은 (129)와 같이 작게 변형된다. 최후에 소정의 전자비임통과 구멍(121)을 형성하면, 제1도에 도시한 제2그리드 전극(120)을 얻게 된다.The second grid electrode 120 having such a shape is manufactured by the process shown in FIG. First, as shown in FIG. 2A of the same figure, the projection part 123 which consists of an annular vertical cross section is formed by an inverting end process. In addition, an excessive weld metal absorption hole 124 is formed in the corresponding portion of the electron beam passage hole 121. Next, as shown in FIG. 2B, the semi-finished product is placed on the die 125 and the guide member 126, and the guide member 127 is lowered from above to restrain the protrusion 123. In this state, the punch 128 is lowered to apply pressure to the recess 122. As a result, the excessively welded metal absorption hole 124 is deformed small as shown in 129. Finally, when the predetermined electron beam passage hole 121 is formed, the second grid electrode 120 shown in FIG. 1 is obtained.
이와 같이, 돌기부(123)를 수직단면 형상으로 형성하면, 오목부(122)의 압인가공시, 돌기부(123)의 돌기부(1231)과 홈부쪽(1232)을 전체둘레에 걸쳐 구속하는 일이 용이하게 되어, 오목부(122)의 개구부(1231)에 종래 발생하고 있던 싱크마아크 발생의 원인이 되는 돌기부(123) 방향으로의 과잉용착금속의 유동을 제한할 수 있으며, 과잉용착금속 흡수용 구멍(124),(129)의 축소방향으로의 유동으로 집중한다. 이 결과, 오목부의 형상 정밀도는 균일하고 높은 정밀도로 형성된다.In this way, when the protrusion 123 is formed in a vertical cross-sectional shape, it is easy to constrain the protrusion 1231 and the groove portion 1232 of the protrusion 123 over the entire circumference at the time of the pressing operation of the recess 122. Thus, the flow of the excess weld metal in the direction of the protrusion 123, which causes sink arc generation, which has conventionally occurred in the opening 1231 of the recess 122, can be restricted, and the excess weld metal absorption hole ( 124), 129 concentrates in the flow in the reduction direction. As a result, the shape precision of a recessed part is formed uniformly and with high precision.
본 발명에 의하면, 오목부 주위에 반전단 가공으로 형성한 환형상 수직단면으로 이루어진 돌기부 및 홈부를 형성하므로, 싱크마아크 발생방향의 과잉용착금속 유동을 제한할 수 있으며, 오목부의 형상 정밀도가 향상하고, 컬러브라운관의 포커스 품질도 균일성이 높은 것으로 된다.According to the present invention, since the projections and the grooves formed of the annular vertical section formed by the inverted end processing are formed around the recesses, the excess weld metal flow in the direction of sink arc generation can be restricted, and the shape precision of the recesses is improved. The quality of the focus of the color CRT is also high.
이상 본 발명의 바람직한 일실시예에 대해서 설명하였으나, 본 발명을 이것으로 한정되지 않고, 다양한 변형을 할 수 있으며, 본 발명의 정신과 범위에서 벗어나지 않는 한 그러한 모든 변형을 이하의 청구범위에 포함시키고자 한다.While a preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made, and all such modifications are intended to be included in the following claims without departing from the spirit and scope of the present invention. do.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900018029A KR910009636B1 (en) | 1987-01-26 | 1990-11-08 | Electrode for electron gun of colon brown tube |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-14022 | 1987-01-26 | ||
JP62014021A JP2672502B2 (en) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | Method for manufacturing electrode for color cathode ray tube electron gun |
JP62-14021 | 1987-01-26 | ||
JP62063797A JP2672505B2 (en) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | Method for forming electrode for color CRT electron gun |
JP62-63797 | 1987-03-20 | ||
KR1019880000535A KR910001511B1 (en) | 1987-01-26 | 1988-01-25 | Electrode for electron gun |
KR1019900018029A KR910009636B1 (en) | 1987-01-26 | 1990-11-08 | Electrode for electron gun of colon brown tube |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019880000535A Division KR910001511B1 (en) | 1987-01-26 | 1988-01-25 | Electrode for electron gun |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910009636B1 true KR910009636B1 (en) | 1991-11-23 |
Family
ID=27456119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900018029A KR910009636B1 (en) | 1987-01-26 | 1990-11-08 | Electrode for electron gun of colon brown tube |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR910009636B1 (en) |
-
1990
- 1990-11-08 KR KR1019900018029A patent/KR910009636B1/en not_active IP Right Cessation
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