KR910007092A - 도포장치 - Google Patents

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KR910007092A
KR910007092A KR1019900006565A KR900006565A KR910007092A KR 910007092 A KR910007092 A KR 910007092A KR 1019900006565 A KR1019900006565 A KR 1019900006565A KR 900006565 A KR900006565 A KR 900006565A KR 910007092 A KR910007092 A KR 910007092A
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South Korea
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displacement
pipe
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KR1019900006565A
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KR0140519B1 (ko
Inventor
히로시 사카이
에이이치 히라카와
지미쓰 야마구치
타쓰시 다케구마
Original Assignee
고다까 토시오
도오교오 에레구토론 가부시끼 가이샤
다카시마 히로시
도오교오 에레구토론 큐우슈우 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

도포장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 1실시예의 레지스트 도포장치의 구성을 나타낸 설명도
제 2 도는 홍채(虹彩) 조리개 기구의 1예를 나타낸 평면도

Claims (8)

  1. 피처리제를 수납하는 컵(1)과, 이 컵(1)에 형성된 배기구(6)와, 이 배기구(6)에 접속된 배기관(7)과, 이 배기관(7)에 접속된 흡인기구(8)와, 이 흡인기구(8)와 상기 컵(1) 사이의 상기 배기관(7)의 내부에 형성된 배기량 조절기(9)와, 이 배기량 조절기(9)와 상기 컵(1)사이의 상기 배기관(7)의 부분으로 분기되고, 한끝단부가 외기에 이 개방된 지류배관(17)과, 이 지류배관(17)에 형성된 유량계(18)와, 이 유랑계(18)로부터의 출력 신호에 따라서 상기 배기량 조절기(9)에 소정의 배기유량조절신호를 공급하는 제어부(20)를 구비하는 도포장치.
  2. 제 1 항에서, 컵(1)에는 피처리체를 얹어놓는대(3)가 형성되고, 또한 이 얹어놓는대(3)를 회전시키는 회전기구(2 )가 형성되어 있는 도포장치.
  3. 제 1 항에서, 제어부(20)는 유량계(18)로부터의 신호에 따라 소정의 지시신호를 회전기구(2)에 공급하여, 피처리제(4)의 처리시간에 따라서 얹어놓는대(3 )의 회전수 및 배기량 조절기(9)에 의한 조절 배기량을 소정치로 설정하는 것인 도포장치.
  4. 제 1 항에서, 배기량 조절기(9)는, 복수매의 소용돌이형의 금속부재(10)의 겹치는 정도를 변화시켜 배기관(7)내의 관경로를 가변시키는 것인 도포장치.
  5. 제 4 항에서, 배기량조절기(9)의 금속부재(10)의 겹치는 정도를 변화시키는 수단에, 펄스 모우터(14)인 도포장치.
  6. 제 2 항에 있어서, 컵(1)에는 얹어놓는대(3)에 대향하여 처리액을 적하하는 노즐(5)이 형성되어 있는 도포장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 피처리체는 반도체 웨이퍼(4)이고, 처리액은 레지스트액인 도포장치.
  8. 제 3 항에 있어서, 얹어놓는대(3)의 회전수와 배기량 조절기(9)에 의한 조절 배기량은 서로 동기하여 증가, 감소하는 것인 도포장치.
    ※ 참고사항 : 최초 출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900006565A 1989-09-25 1990-05-09 도포장치 KR0140519B1 (ko)

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JP25006689 1989-09-25
JP1-250066 1989-09-25

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KR0140519B1 KR0140519B1 (ko) 1998-07-15

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100786455B1 (ko) * 2000-10-10 2007-12-17 동경 엘렉트론 주식회사 도포장치 및 도포방법

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KR0140519B1 (ko) 1998-07-15

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