KR910006181A - 알루미나 입자 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (26)
- 알루미나 함량이 약98.5% 이상이고, 표면적은 약1㎡/g미만이며, 에어 젯트 장치중에서 시험된 내마모도는 약0.3중량%/시간 미만이고, 중간 입자 크기는 약30내지 약 110μ의 범위이고, 탭 밀도는 약 1.9g/cc미만이며, 일반적으로 구형이고, 다공도가 촉매량의 촉매금속을 보유하기에 충분한 취성 입자.
- 제1항에 있어서, 실리카 1.0중량 %이하를 철 및 알칼리금속 각각 약 0.1중량% 이하를 함유하는 입자.
- 제1항에 있어서, 표면적이 약 0.3㎡/g미만인 입자.
- 제1항에 있어서, 입자들의 내마모도가 약 0.2중량 %/시간 미만인 입자.
- 제1항에 있어서, 입자들의 내마모도가 약 0.15중량 %/시간 미만인 입자.
- 제1항에 있어서, 평균 입자크기가 약 40내지 약 70μ인 입자.
- 제1항에 있어서, 탭 밀도가 약 1.3내지 약1.8g/cc인 입자.
- 제1항에 있어서, 탭 밀도가 약 1.75g/cc 미만인 입자.
- 제1항에 있어서, 에어 젯트 마모 시험에서 마모되는 물질의 양이 금속 피복되지 않은 입자들에 비해 약 30%이상 증가되지 않으면서 촉매 금속들을 보유하기에 충분한 다공도를 갖는 입자.
- 제1항에 있어서, 에어 젯트 마모 시험에서 마모되는 물질의 양이 금속 피복되지 않은 입자들에 비해 약 20%이상 증가되지 않으면서 촉매 금속들을 보유하기에 충분한 다공도를 갖는 입자.
- 제1항에 있어서, (i)최종 결정 크기가 약 25μ이상인-325U.S. 메쉬의 고 연소 알루미나 약 85내지 약 99중량% 및(a) 입자 크기가 약 5μ미만인 초미분α 알루미나, (b)점토 및 (c)(a) 및 (b)의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 물질 약 1내지 약 15중량%를 포함하는 고체 약 15내지 약50중량%를 함유하는 수성슬러리를 제조하고; (ⅱ)슬러리를 분무 건조시켜 평균 입자 크기가 약 30내지 약 110μ인 사실상 구형인 입자들을 제조하고; (ⅲ)분무 건조된 입자들을 용융점 미만의 온도에서 열처리하여 표면적이 약 1㎡/g미만이고 내마모도가 에어 젯트 장치중에서 약 0.3중량 %/시간 미만인 알루미나 입자들의 응집물을 제조하고;(ⅳ) 응집물을 분해하여 입자들을 제조하는 단계들을 포함함을 특징으로 하여, 제1항의 입자들을 제조하는 방법.
- 제11항에 있어서, 고 연소 알루미나가 판상 알루미나인 방법.
- 제11항에 있어서,알루미나의 입자 크기가 약 3μ미만인 방법.
- 제11항에 있어서, 점토가 몬모릴로나이트인 방법.
- 제14항에 있어서, 점토가 벤토나이트이며, 이들을 수성 슬러리의 고체의 약2중량 %이하의 양으로 사용하는 방법.
- 제11항에 있어서, 분무 건조된 입자들의 평균입자 크기가 약 40내지 약 70μ인 방법.
- 제11항에 있어서, 약 1540℃ 이하의 온도에서 열처리하는 방법.
- 제11항에 있어서, 수성 슬러리가 추가로 분산제를 함유하는 방법.
- 제18항에 있어서, 분산제가 암모늄 폴리메타크릴레이트인 방법.
- 제11항에 있어서, 약 100℃내지 약 350℃의 온도에서 분무건조시키는 방법.
- (ⅰ)입자크기가 약 35내지 약 150μ인 수화 알루미나 입자들을 가열하여 결합수를 약 90중량% 이상을 제거하고 수화물을 적어도 r 알루미나로 전환시키고, (ⅱ)입자들을 담체 가스중에 포함시키고 이들을 입자들이 적어도 부분적으로 용융되고 특성들을 갖도록 하기에 충분한 온도에서 플라즈마 분무의 고온 영역으로 통과 시킴을 특징으로 하여, 알루미나 함량이 약 99.5중량% 이상인 제1항의 입자들을 제조하는 방법.
- 제21항에 있어서, 수화 알루미나가 깁사이트인 방법.
- 제21항에 있어서, 약 600℃ 이상의 온도에서 가열하는 방법.
- 제21항에 있어서, 약 1100℃이상의 온도에서 가열하여 수화물의 적어도 일부를알루미나로 전환 시키는 방법.
- 제21항에 있어서, 입자 도입 속도가 약4.5내지 약33.75㎏/시간이고, 토치 가스 유동 속도가 약 1,415내지 1,415 SCMH이고, 토치 전력이 약 10KW이상이고, 질소 엔탈피가 약 23,440내지 약 70,320KJ/㎏인 질소 토치 가스를 사용하여 플라즈마 분무를 수행하는 방법.
- 제21항에 있어서, 입자 도입 속도가 약 13.5내지 약 22.5㎏/시간이고, 토치 가스 유동 속도가 약 2.83내지 4.245SCMH이고, 토치 전력이 60KW이고, 질소 엔탈피가 약 23,128내지 약 37,504KJ/㎏인 질소 토치가스를 사용하여 플라즈마 분무를 수행하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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