Claims (74)
다음 구조식을 갖는 화합물 및 그의 모든 입체이성질체,A compound having the following structural formula and all stereoisomers thereof,
상기식에서 m은 1,2 또는 3이고, n은 0,1,2 또는 3이고, Y1과 Y2는 H 또는 할로겐이고, R2, R3및 R4는 동일하거나 상이하며, 각각 H, 금속 이온 C1내지 C8의 알킬 또는 C3내지 C12는 알케닐이고, X는 O, S, NH, -NCH2R15(식 중, R15는 H 또는 C1내지 C5알킬임)이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 동일하거나 상이하고, 각각이거나 또는 단일 결합이며, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 결합이고, Q2가 결합일 경우 Q3는 결합이고, 여기서 R6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7는 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알킬티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고, R5는, 또는 CH3(CH2)P-〔여기서, P는 2 내지 7의 정수이고, R10과 R11은 동일하거나 상이하고 각각 수소, 저급알킬, 할로알킨, 할로겐 또는 저급 알케닐이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)s(여기서, s는 2 내지 7의 정수임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 동일하거나 상이하고 각각 저급 알킬이고, R16는 H 또는 저급 알킬이고, P는 2 내지 7의 정수임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우 R10, R11은 모두 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, P≤4)가 될 수 없다.Wherein m is 1,2 or 3, n is 0,1,2 or 3, Y 1 and Y 2 are H or halogen, R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each is H, Alkyl of the metal ions C 1 to C 8 or C 3 to C 12 is alkenyl, X is O, S, NH, —NCH 2 R 15 , wherein R 15 is H or C 1 to C 5 alkyl And R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are the same or different, respectively Or is a single bond, provided that when Q 1 is a bond Q 2 and Q 3 are a bond, and when Q 2 is a bond Q 3 is a bond, wherein R 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or lower alkylthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, R 5 is Or CH 3 (CH 2 ) P— wherein P is an integer from 2 to 7, R 10 and R 11 are the same or different and are hydrogen, lower alkyl, haloalkyne, halogen or lower alkenyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) s where s is an integer from 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, and R 13 and R 14 are the same or different And each lower alkyl, R 16 is H or lower alkyl, P is an integer of 2 to 7, provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all bonds, R 10 and R 11 may be H. And R 5 cannot be CH 3 (CH 2 ) p − (where P ≦ 4).
제1항에 있어서, X가 0인 것을 특징으로 하는 화합물.2. A compound according to claim 1 wherein X is zero.
제1항에 있어서, Y1과 Y2가 각각 F인 것을 특징으로 하는 화합물. 2. A compound according to claim 1, wherein Y 1 and Y 2 are each F.
제1항에 있어서, Y1과 Y2가 각각 H인 것을 특징으로 하는 화합물.2. The compound of claim 1, wherein Y 1 and Y 2 are each H. 3 .
제1항에 있어서, m이 1또는 2이고, n이 0또는 1인 것을 특징으로 하는 화합물.2. A compound according to claim 1, wherein m is 1 or 2 and n is 0 or 1.
제1항에 있어서, R1은 R5-Q1-Q2(여기서, Q1,과 Q2는 단일 결합을 제외한 기임)인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 1, wherein R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 , wherein Q 1 , and Q 2 are groups excluding a single bond.
제5항에 있어서, R5은이고, Q1이이고, Q2는 Q1과 동일하거나 상이한 것으로서이고, Q3는 결합인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 5, wherein R 5 is Q 1 is Q 2 is the same as or different from Q 1 And Q 3 is a bond.
제6항에 있어서, X가 0또는 NH인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 6, wherein X is 0 or NH.
제6항에 있어서, X가 0이고, n이 0이고, m이 1이고, Y1과 Y2가 H인 것을 특징으로 하는 화합물.7. A compound according to claim 6, wherein X is 0, n is 0, m is 1, and Y 1 and Y 2 are H.
제1항에 있어서, R5가이고, Q1이이고, Q3인 결합인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 1, wherein R 5 is Q 1 is And Q 3 is a bond.
제1항에 있어서, R5가 CH3(CH2)p-이고, Q1이이고, Q2는 Q1과 동일하거나 상이한 것으로서이고, Q3가 결합인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 1, wherein R 5 is CH 3 (CH 2 ) p − and Q 1 is Q 2 is the same as or different from Q 1 And Q 3 is a bond.
제1항에 있어서, R5가이고, Q1이이고, Q2는 Q1과 동일하거나 상이한 것으로서이고, Q3가 결합인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 1, wherein R 5 is Q 1 is Q 2 is the same as or different from Q 1 And Q 3 is a bond.
제1항에 있어서, R2, R3, 및 R1중 1개 이상이 알칼리 금속염 또는 알킬리 토금속염인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 1, wherein at least one of R 2 , R 3 , and R 1 is an alkali metal salt or an alkyl earth metal salt.
제1항에 있어서, R2, R3, 및 R4가 각각 H인 것을 특징으로 하는 화합물.2. The compound of claim 1, wherein R 2 , R 3 , and R 4 are each H. 3 .
제1항에 있어서, R2, R3, 및 R4중 1개 이상이 저급 알킬 또는 저급 알케닐인 것을 특징으로 하는 화합물.The compound of claim 1, wherein at least one of R 2 , R 3 , and R 4 is lower alkyl or lower alkenyl.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔1-메틸에톡시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카르트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.The compound according to claim 1, wherein (E, E)-[[1-methylethoxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecartrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl Phosphonic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔히드록시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼칼륨염 또는 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Or a tripotassium salt or trisodium salt thereof.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔메톡시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[methoxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecatrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Compounds that are dimethyl esters.
제1항에 있어서,(E)-〔〔〔〔(3,7-디메틸-2,5-옥타디에닐)옥시〕메틸〕에톡시 포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.The compound according to claim 1, which is (E)-[[[[(3,7-dimethyl-2,5-octadienyl) oxy] methyl] ethoxy phosphinyl] methyl] phosphonic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E)-〔〔〔〔(3,7-디메틸-2,6-옥타디에닐)옥시〕메틸〕히드록시 포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.The compound according to claim 1, which is (E)-[[[[(3,7-dimethyl-2,6-octadienyl) oxy] methyl] hydroxy phosphinyl] methyl] phosphonic acid, or a trisodium salt thereof. .
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔에톡시 〔〔(4,8,12-트리메틸-3,7,11-트리데카트리에닐)옥시〕메틸〕-포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.The compound according to claim 1, which is (E, E)-[[ethoxy [[(4,8,12-trimethyl-3,7,11-tridecatrienyl) oxy] methyl] -phosphonic acid, dimethyl ester compound.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔히드록시 〔〔(4,8,12-트리메틸-3,7,11-트리데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼칼륨염인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [[(4,8,12-trimethyl-3,7,11-tridecatrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid according to claim 1 Or a tripotassium salt thereof.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 모노메틸 에스테르, 이칼륨염인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Monomethyl ester, dipotassium salt.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔에톡시 〔〔(5,9,13-트리메틸-4,8,12-테트라데카트리에틸)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[ethoxy [[(5,9,13-trimethyl-4,8,12-tetradecatriethyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Compounds that are dimethyl esters.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔〔(5,9,13-트리메틸-4,8,12-테트라데카트리에틸)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [[(5,9,13-trimethyl-4,8,12-tetradecatriethyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Or a trisodium salt thereof.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 이나트륨인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Or a disodium thereof.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔에톡시 〔2-〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕에틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[ethoxy [2-[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] ethyl] phosphinyl] methyl] force according to claim 1 Phenolic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔2-(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕에틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [2- (3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecatrienyl) oxy] ethyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid Or a trisodium salt thereof.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(7,11-디메틸-6,10-도데카디엔-2-이닐)옥시〕메틸〕(1-메틸에톡시)포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[[((7,11-dimethyl-6,10-dodecadiene-2-ynyl) oxy] methyl] (1-methylethoxy) phosphinyl] methyl according to claim 1 Phosphonic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(7,11-디메틸-6,10-도데카디엔-2-이닐)옥시〕메틸〕히드록시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[[[(7,11-dimethyl-6,10-dodecadiene-2-ynyl) oxy] methyl] hydroxyphosphinyl] methyl] phosphonic acid, or Its trisodium salt.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(3,7-디메틸-2,6-도데카디에닐)옥시〕메틸〕(1-메틸에톡시)포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[[((3,7-dimethyl-2,6-dodecadienyl) oxy] methyl] (1-methylethoxy) phosphinyl] methyl] phosphonic acid according to claim 1 And dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(3,7-디메틸-2,6-도데카디에닐)옥시〕메틸〕히드록시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[[[(3,7-dimethyl-2,6-dodecadienyl) oxy] methyl] hydroxyphosphinyl] methyl] phosphonic acid, or trisodium thereof according to claim 1 Salts.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔(1-메틸에톡시〔(3,7,11-트리메틸-2,6-도데카디에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[(1-methylethoxy [(3,7,11-trimethyl-2,6-dodecadienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid And dimethyl ester.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6-도데카디에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.The method according to claim 1, wherein (E, E)-[[hydroxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6-dodecadienyl) oxy] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, or Trisodium salt.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔메톡시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕디플루오로메틸〕포스폰산, 디에틸 에스테르인 화합물.The compound according to claim 1, wherein (E, E)-[[methoxy [((3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] difluoromethyl] Phosphonic acid, diethyl ester.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕디플루오로메틸〕포스폰산, 모노에틸 에스테르 삼 나트륨염인 화합물.The compound according to claim 1, wherein (E, E)-[[hydroxy] [(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] difluoromethyl] Phosphonic acid, monoethyl ester trisodium salt.
제1항에 있어서, (E,E)-〔〔히드록시 〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕포스피닐〕디플루오로메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼 나트륨염인 화합물.The compound according to claim 1, wherein (E, E)-[[hydroxy] [(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecattrienyl) oxy] methyl] phosphinyl] difluoromethyl] Phosphonic acid, or a trisodium salt thereof.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(7,11-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕(1-메틸에톡시)포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[([(7,11-dimethyl-2,6,10-dodecatenyl) oxy] methyl] (1-methylethoxy) phosphinyl] methyl] Phosphonic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(7,11-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕히드록시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.The method according to claim 1, wherein (E, E)-[[[[(7,11-dimethyl-2,6,10-dodecatenyl) oxy] methyl] hydroxyphosphinyl] methyl] phosphonic acid, or Trisodium salt.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(3-클로로-7,11-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕에톡시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[[[(3-chloro-7,11-dimethyl-2,6,10-dodecatrienyl) oxy] methyl] ethoxyphosphinyl] methyl] force according to claim 1 Phenolic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(3-클로로-7,11-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕히드록시 포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[[((3-chloro-7,11-dimethyl-2,6,10-dodecatenyl) oxy] methyl] hydroxy phosphinyl] methyl] force according to claim 1 Phenolic acid, or trisodium salt thereof.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔에톡시〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)티오〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[ethoxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecatrienyl) thio] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Compounds that are dimethyl esters.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔히드록시〔〔(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐)티오〕메틸〕포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[hydroxy [[(3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecatrienyl) thio] methyl] phosphinyl] methyl] phosphonic acid, Or a trisodium salt thereof.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(3-에틸-7,11-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕(1-메틸에톡시)-포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E, E)-[[[[(3-ethyl-7,11-dimethyl-2,6,10-dodecatenyl) oxy] methyl] (1-methylethoxy)- Phosphinyl] methyl] phosphonic acid and dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E,E)-〔〔〔〔(3-에틸-7,11-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕히드록시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 삼나트륨염인 화합물.(E, E)-[[[[(3-ethyl-7,11-dimethyl-2,6,10-dodecatenyl) oxy] methyl] hydroxyphosphinyl] methyl] force according to claim 1 Compounds that are phonic acid, or trisodium salt.
제1항에 있어서,(2Z,6E)-〔〔〔〔(3-에틸-7,10-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕(1-메틸에톡시)-포스피닐〕메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(2Z, 6E)-[[[(3-ethyl-7,10-dimethyl-2,6,10-dodecatrienyl) oxy] methyl] (1-methylethoxy)- Phosphinyl] methyl] phosphonic acid and dimethyl ester.
제1항에 있어서,(2Z,6E)-〔〔〔〔(3-에틸-7,10-디메틸-2,6,10-도데카트리에닐)옥시〕메틸〕히드록시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 삼나트륨염인 화합물.(2Z, 6E)-[[[[(3-ethyl-7,10-dimethyl-2,6,10-dodecaryrienyl) oxy] methyl] hydroxyphosphinyl] methyl] force according to claim 1 Compounds that are phonic acid, or trisodium salt.
제1항에 있어서,(E)-〔〔〔〔(8,12-디메틸-7,11-트리데카디엔-3-이닐)옥시〕메틸〕(1-메틸에틸)포스피닐〕포스피닐메틸〕포스폰산, 디메틸 에스테르인 화합물.(E)-[[([(8,12-dimethyl-7,11-tridecadiene-3-ynyl) oxy] methyl] (1-methylethyl) phosphinyl] phosphinylmethyl] Phosphonic acid, dimethyl ester.
제1항에 있어서,(E)-〔〔〔〔(8,12-디메틸-7,11-트리데카디엔-3-이닐)옥시〕메틸〕히드록시포스피닐〕메틸〕포스폰산, 또는 그의 삼나트륨인 화합물.(E)-[[[((8,12-dimethyl-7,11-tridecadiene-3-ynyl) oxy] methyl] hydroxyphosphinyl] methyl] phosphonic acid, or three thereof Compound that is sodium.
제1항의 화합물의 과콜레스테롤형증 억제 또는 치료 용도.Use of the compound of claim 1 for inhibiting or treating hypercholesterolemia.
제1항의 화합물의 아테롬성 동맥경화증 억제 또는 치료 용도.Use of the compound of claim 1 for inhibiting or treating atherosclerosis.
유효 성분으로서 제1항의 화합물과 제약상 허용되는 담체를 함유하는 저콜레스테롤혈증성 또는 저지방혈증성 조성물.A low cholesterol or hypolipidemic composition comprising the compound of claim 1 as an active ingredient and a pharmaceutically acceptable carrier.
제1항의 화합물의 콜레스테롤 생합성 억제 용도.Use of the compound of claim 1 to inhibit cholesterol biosynthesis.
다음의 구조식을 갖는 화합물.A compound having the structure
상기식에서, n은 0, 1, 2또는 3이고, m은 1, 2또는 3이고, X1은 0, S또는 N-Pro이고, 여기서 Pro는 질소 보호기이며, X2는 0또는 S이고, R2n는 C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우 Q3는 결합이며, R8은 H, 저급 알킬 할로 또는 할로알킬이고,R<SB<7H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알킬티오이고, R8은 H, 할로겐 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고, R5는, R16-C≡C-CH2- 또는 CH3(CH2)P-〔여기서, P는 2 내지 7이고, R10과 R11은 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 또는 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S(여기서, S는 2 내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임)이며, 다만 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, P≤4)이 될 수 없다.Wherein n is 0, 1, 2 or 3, m is 1, 2 or 3, X 1 is 0, S or N-Pro, where Pro is a nitrogen protecting group, X 2 is 0 or S, R 2n is C 1 -C 8 alkyl or C 3 -C 12 alkenyl, R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are each , , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is a bond, and R 8 is H, lower alkyl halo or haloalkyl, R <SB <7H, halogen, lower alkyl or alkylthio, R 8 is H, halogen trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, R 5 is , R 16 -C≡C-CH 2 -or CH 3 (CH 2 ) P-, wherein P is 2 to 7 and R 10 and R 11 are each hydrogen, lower alkyl, halogen, lower alkenyl or haloalkyl Or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S where S is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, and R 13 and R 14 are Each lower alkyl, R 16 is lower alkyl or H, provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 , R 11 cannot be H and R 5 is CH 3 (CH 2 ) p- (where P≤4) cannot be obtained.
제54항에 있어서, 하기 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 화합물.55. The compound of claim 54, having the structural formula:
상기식에서, m, n, R1, X1및 R2a는 제54항에서 정의한 바와 같다.Wherein m, n, R 1 , X 1 and R 2a are as defined in claim 54.
제54항에 있어서 , X1이 NH 또는 N-Pro인 것을 특징으로 하는 화합물.55. The compound of claim 54, wherein X 1 is NH or N-Pro.
제54항에 있어서, 하기 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 화합물.55. The compound of claim 54, having the structural formula:
상기식에서, m, n, R1, X1및 R2a는 제54항에서 정의한 바와 같다.Wherein m, n, R 1 , X 1 and R 2a are as defined in claim 54.
제54항에 있어서, 하기 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 화합물.55. The compound of claim 54, having the structural formula:
상기식에서, m, n, R1, X1및 R2a는 제54항에서 정의한 바와 같다.Wherein m, n, R 1 , X 1 and R 2a are as defined in claim 54.
제54항에 있어서, 하기 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 화합물.55. The compound of claim 54, having the structural formula:
상기식에서, m, n, R1, X1및 R2a는 제54항에서 정의한 바와 같다.Wherein m, n, R 1 , X 1 and R 2a are as defined in claim 54.
〔〔〔〔(트리플루오로메틸)술로닐〕옥시〕메틸〕포스폰산, 비스(1-메틸에틸 에스테르인 화합물.[[[[(Trifluoromethyl) sulfonyl] oxy] methyl] phosphonic acid, bis (1-methylethyl ester).
학기 일반식(IA)의 디에스테르를 수용성 강염기, 알칼기 금속 시아나이드 또는 알칼리 토금속 할라이드로 처리하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법.A process for producing a compound of formula (I), wherein the diester of general formula (IA) is treated with a water-soluble strong base, an alkali metal cyanide or an alkaline earth metal halide.
상기 각 식에서, n은 0, 1, 2또는 3이고, m은 1, 2또는 3이고, X1은 0, S또는 N-Pro이고, 여기서 Pro는 질소 보호기이며 R2n는 C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우 Q3는 결합이고, 여기서 R6는 H, 저급알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알킬티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R8은 H 또는 저급 알킬이고, R5는,R16-C≡C-CH2- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 서로 동일하거나 상이한 것으로서 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 또는 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, S는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급알킬, 할로겐, 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH2(CH2)p- (단, P≤4)가 될 수 없다.In each formula, n is 0, 1, 2 or 3, m is 1, 2 or 3, X 1 is 0, S or N-Pro, where Pro is a nitrogen protecting group and R 2n is C 1 -C 8 Alkyl or C 3 -C 12 alkenyl, R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are each , -CH 2 -C≡C-CH 2 - or or a bond, however, wherein Q 2 and Q 3 may be combined if Q 1 is a bond, when Q 2 is bonded Q 3 is a bond, in which R 6 Is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkylthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 8 is H or lower alkyl, R 5 is , R 16 -C≡C-CH 2 -or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are the same or different from each other and are hydrogen, lower alkyl, halogen, lower Alkenyl or haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S, wherein S is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen, or lower alkenyl, R 13 and R 14 are each lower alkyl, R 16 is lower alkyl or H], provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 , R 11 cannot be H, and R is 5 cannot be CH 2 (CH 2 ) p − (where P ≦ 4).
불활성 분위기 하에서 2, 4, 6-콜리딘 존재하에 하기 일반식(ⅡA)의 디에스테르를 브로모트리메틸실란 또는 요오드트리메틸실란으로 처리 하고, 이어서, 일반식 R2aOH의 알코올과 디시클로헥실카르보디이미드로 처리하여 모노에스테르를 형성하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅱ)의 모노에스테르 제조 방법.The diester of the following general formula (IIA) was treated with bromotrimethylsilane or iodinetrimethylsilane in the presence of 2, 4, 6-collidine in an inert atmosphere, followed by dicyclohexylcarbodii of alcohol of general formula R 2a OH. The monoester manufacturing method of the following general formula (II) characterized by processing with mid and forming monoester.
상기 각 식에서, n은 0, 1, 2또는 3이고, m은 1, 2또는 3이고, X1은 0 또는 S이고, X2는 0 또는 S이고, R2n는 C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우 Q3는 결합이고, Q6는 H, 저급알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알킬티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고, R5는, R16-C≡C-CH2- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 서로 동일하거나 상이한 것으로서 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, S는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3과 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p4)이 될 수 없다.In each formula, n is 0, 1, 2 or 3, m is 1, 2 or 3, X 1 is 0 or S, X 2 is 0 or S, R 2n is C 1 -C 8 alkyl or C 3 -C 12 alkenyl, R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are each , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is a bond and Q 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkylthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, R 5 Is , R 16 -C≡C-CH 2 -or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are the same or different from each other and are hydrogen, lower alkyl, halogen, lower Alkenyl haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S, wherein S is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, and R 13 And R 14 are each lower alkyl, and R 16 is lower alkyl or H], provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all bonded, R 10 , R 11 may not be H, and R 5 is Cannot be CH 3 (CH 2 ) p − (p 4).
불활성 분위기 하에서 하기 일반식(ⅡA)의 모노에스테르를 N,N-디에틸(트리메틸실릴)아민으로 처리하고, 얻어진 반응 생성물을 염화옥살릴로 처리하여 산 염화물을 형성하고, 산 염화물을 하기 구조식(Ⅰ-1)의 금속 염으로 처리하여 하기 일반식(Ⅲ)의 포스피닐 포스포네이트를 형성하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물의 제조 방법.The monoester of the following general formula (IIA) was treated with N, N-diethyl (trimethylsilyl) amine under an inert atmosphere, and the obtained reaction product was treated with oxalyl chloride to form an acid chloride. A process for producing a compound of the general formula (III) below, characterized by treating with a metal salt of -1) to form phosphinyl phosphonate of the general formula (III).
상기 각 식에서, n은 1, 2 또는 3이고, n은 0, 1, 2또는 3이고, Y1,과 Y2는 H 또는 할로겐이고, R2a, R3a및 R4a는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 C1내지 C8의 알킬 또는 내지 C12의 알케닐이고, X는 0 또는 S이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우 Q3는 반드시 결합이고, Q6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알킬티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고, R5는,, R16-C≡C-CH2- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 서로 동일하거나 상이한 것으로서 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, S는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐, 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p≤4)가 될 수 없으며 M은 Li+, Na+,K+,+MgHal,+ZnHal,+CE(Hal)2또는 Cu+이다.In each formula, n is 1, 2 or 3, n is 0, 1, 2 or 3, Y 1 , and Y 2 are H or halogen, R 2a , R 3a and R 4a are the same as or different from each other. , C 1 to C 8 alkyl or to C 12 alkenyl, X is 0 or S, and R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 is each , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is necessarily a bond, Q 6 Is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkylthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, R 5 is , , R 16 -C≡C-CH 2 -or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are the same or different from each other and are hydrogen, lower alkyl, halogen, lower Alkenyl haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S, wherein S is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen, or lower alkenyl, R 13 and R 14 are each lower alkyl, R 16 is lower alkyl or H] provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 , R 11 may not be H, and R 5 Cannot be CH 3 (CH 2 ) p − (p ≦ 4) and M is Li + , Na +, K + , + MgHal, + ZnHal, + CE (Hal) 2 or Cu + .
하기 일반식(Ⅳ)의 포스피닐 포스포네이트를 탈알킬화제로 처리하고, 이어서 강한 무기 염기로 처리하여 하기 일반식(JVA-1)의 염을 형성하고, 이 염을 강한 산으로 처리하여 대응하는 산을 형성하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식 (IVB) 화합물의 제조방법.Treatment of the phosphinyl phosphonate of the general formula (IV) with a dealkylating agent, followed by treatment with a strong inorganic base to form a salt of the general formula (JVA-1), and treatment of this salt with a strong acid to A process for producing the following general formula (IVB) compound, characterized by forming an acid.
상기 각 식에서, m은 1, 2 또는 3이고 n은 0, 1, 2또는 3이고, Y1, Y2는 H 또는 할로겐이고, R2a, R3a및 R4a는 각각 C1-C8의 알킬 또는 C3-C12의 알케닐이고, X는 0 또는 S이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우, Q3는 반드시 결합이고, Q6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급 알킬이고, R9은 H, 또는 저급 알킬이고, R5는, R16-C≡C-CH- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 서로 동일하거나 상이한 것으로서 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, S는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐, 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p≤4)이 될 수 없고 R2, R3및 R4는 서로 동일하거나 상이하며 각각 H, 금속이온, C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이다.Wherein m is 1, 2 or 3, n is 0, 1, 2 or 3, Y 1 , Y 2 is H or halogen, and R 2a , R 3a and R 4a are each of C 1 -C 8 Alkyl or C 3 -C 12 alkenyl, X is 0 or S, R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are each , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is necessarily a bond, Q 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H, or lower alkyl, R 5 is , R 16 -C≡C-CH- or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are the same or different from each other and are hydrogen, lower alkyl, halogen, lower egg, respectively Is kenyl haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S, wherein S is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen, or lower alkenyl, and R 13 And R 14 are each lower alkyl, R 16 is lower alkyl or H], provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 , R 11 cannot be H and R 5 is Cannot be CH 3 (CH 2 ) p- (where p ≦ 4) and R 2 , R 3 and R 4 are the same or different from each other and are each H, metal ion, C 1 -C 8 alkyl or C 3 -C 12 alkenyl.
피리딘 중의 하기 일반식 (ⅤA)의 모노에스테르 용액을 불활성 분위기하에서 p-니트로페놀, 4-디메틸아미노피리딘 및 디시클로헥실카르보디 이미드로 처리하여 하기 일반식(ⅤB)의 니트로페닐 에스테르를 형성하고, 이 니트로페닐 에스테르를 하기 구조식 (ⅤC)의 금속염을 처리하여 하기 일반식(Ⅴ)의 포스피닐 포스포네이트를 형성하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물의 제조 방법.The monoester solution of the following general formula (VA) in pyridine was treated with p-nitrophenol, 4-dimethylaminopyridine and dicyclohexylcarbodiimide under inert atmosphere to form nitrophenyl ester of the following general formula (VB), The nitrophenyl ester is treated with a metal salt of the following structural formula (VC) to form phosphinyl phosphonate of the following general formula (V), wherein the compound of formula (V) is prepared.
상기 각 식에서, m은 1, 2 또는 3이고 n은 0, 1, 2또는 3이고, Y1, Y2는 H 또는 할로겐이고, R2a, R3a및 R4a는 각각 독립적으로 C1-C8의 알킬 또는 C3-C12의 알케닐이고, X는 0 또는 S또는 N-Pro이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우, Q3는 반드시 결합이고, Q6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알칼티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고, R5는 , R16-C≡C-CH- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 서로 동일하거나 상이한 것으로서 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, S는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10와 R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p≤4)가 될 수 없고, M은 Li+, Na+,K+,+MgHal,+Zn Hal,+Ce(Hal)2또는 Cu+이다.In each of the above formula, m is 1, 2 or 3, n is 0, 1, 2 or 3, Y 1 , Y 2 is H or halogen, and R 2a , R 3a and R 4a are each independently C 1 -C Alkyl of 8 or alkenyl of C 3 -C 12 , X is 0 or S or N-Pro, R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 is each , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is necessarily a bond, Q 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkalthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, R 5 is , R 16 -C≡C-CH- or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are the same or different from each other and are hydrogen, lower alkyl, halogen, lower egg, respectively alkenyl, and haloalkyl, or, or R 10 and R 11 are together (CH 2) S (here, S is 2 to 7 being) formed, and, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, and R 13 R 14 is each lower alkyl, R 16 is lower alkyl or H] provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 and R 11 may not be H and R 5 is CH 3 (CH 2 ) p −, where p ≦ 4, and M is Li + , Na +, K + , + MgHal, + Zn Hal, + Ce (Hal) 2, or Cu + .
하기 일반식(VIA)의 포스피닐 포스포노에이트를 탈알킬화제로 처리하고, 이어서 강한 유기 염기로 처리하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식 (Ⅵ)의 화합물의 제조 방법.A process for producing a compound of formula (VI), characterized in that phosphinyl phosphonoate of formula (VIA) is treated with a dealkylating agent, followed by a strong organic base.
상기 각 식에서, m은 1, 2 또는 3이고 n은 0, 1, 2또는 3이고, Y1, Y2는 H 또는 할로겐이고, R2, R3및 R4는 금속이온이고, X는 NH이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각 ,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우, Q3는 반드시 결합이고, Q6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알칼티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고,, R16-C≡C-CH- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 서로 동일하거나 상이한 것으로서 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알케닐 또는 알케닐 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, S는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p≤4)가 될 수 없고, R2a, R3a및 R4a는 서로 각각 독립적으로 C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이다.Wherein m is 1, 2 or 3, n is 0, 1, 2 or 3, Y 1 , Y 2 is H or halogen, R 2 , R 3 and R 4 are metal ions, X is NH R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are respectively , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is necessarily a bond, Q 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkalthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, , R 16 -C≡C-CH- or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are the same or different from each other and are hydrogen, lower alkyl, halogen, lower egg, respectively Is kenyl or alkenyl haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S, wherein S is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, R 13 and R 14 are each lower alkyl, R 16 is lower alkyl or H], provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 , R 11 cannot be H, and R is 5 cannot be CH 3 (CH 2 ) p-(p ≦ 4), and R 2a , R 3a and R 4a are each independently of each other C 1 -C 8 alkyl or C 3 -C 12 alkenyl .
하기 일반식(VⅡA)의 화합물의 용액을 하기 일반식(VⅡB)의 화합물로 처리하고, 이어서 하기 일반식 (VⅡC)의 디아조포스포네이트로 처리하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(VⅡ)의 화합물의 제조 방법.A compound of formula (VII), wherein a solution of a compound of formula (VIIA) is treated with a compound of formula (VIIB), followed by a diazophosphonate of formula (VIIC). Method of preparation.
상기 각 식에서, n은 1, 2 또는 3이고 m은 0, 1, 2또는 3이고, X1은 0, S또는 N-Pro이고, 여기서 Pro는 질소 보호기이며 R2n는 C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이며, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우, Q3는 반드시 결합이며, Q6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알칼티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고,, R16-C≡C-CH2- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 또는 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, s는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 단 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p≤4)이 될 수 없다.In each formula, n is 1, 2 or 3 and m is 0, 1, 2 or 3, X 1 is 0, S or N-Pro, where Pro is a nitrogen protecting group and R 2n is C 1 -C 8 alkyl Or C 3 -C 12 alkenyl, R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are each , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is necessarily a bond, Q 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkalthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, , R 16 -C≡C-CH 2 -or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are each hydrogen, lower alkyl, halogen, or haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S where s is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, and R 13 and R 14 are each lower alkyl R 16 is lower alkyl or H, provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 and R 11 cannot be H and R 5 is CH 3 (CH 2 ) p. -(P≤4)
불활성 분위기 하에서 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물을 염기로 처리하고, 이어서 하기 일반식(ⅧB)의 포스포네이트로 처리하여 하기 일반식 (Ⅷ)의 디에스테르를 형성하는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(5)의 디에스테르의 제조 방법.The compound of formula (VII) is treated with a base under an inert atmosphere, followed by phosphonate of formula (VIIB) to form a diester of formula (VII). The manufacturing method of the diester of (5).
상기 각 식에서, n은 0, 1, 2 또는 3이고 m은 0, 1, 2또는 3이고, X1은 0, S또는 NH이고, R2a는 C1-C8알킬 또는 C3-C12알케닐이고, R1은 R5-Q1-Q2-Q3이며, 여기서, Q1,Q2및 Q3는 각각 ,-CH2-C≡C-CH2- 이거나 또는 결합이고, 다만, Q1이 결합일 경우 Q2와 Q3는 반드시 결합이고, Q2가 결합일 경우, Q3는 반드시 결합이며, Q6는 H, 저급 알킬, 할로 또는 할로알킬이고, R7은 H, 할로겐, 저급 알킬 또는 알칼티오이고, R8은 H, 할로겐, 트리메틸실릴 또는 저급알킬이고, R9은 H 또는 저급 알킬이고, R5는, R16-C≡C-CH2- 또는 CH3(CH2)p-〔여기서, p는 2 내지 7이고, R10과 R11은 각각 수소, 저급 알킬, 할로겐, 또는 할로알킬이거나, 또는 R10과 R11은 함께 (CH2)S (여기서, s는 2내지 7임)를 형성하고, R12는 수소, 저급 알킬, 할로겐 또는 저급 알케닐이고, R13과 R14는 각각 저급 알킬이고, R16는 저급 알킬 또는 H임〕이며, 다만 Q1, Q2및 Q3가 모두 결합일 경우, R10, R11은 H가 될 수 없고, R5는 CH3(CH2)p- (단, p≤4)이 될 수 없고, Z는 P-CH3C6H4SO3- 또는 CF3SO3-이다.In each formula, n is 0, 1, 2 or 3, m is 0, 1, 2 or 3, X 1 is 0, S or NH, R 2a is C 1 -C 8 alkyl or C 3 -C 12 Alkenyl and R 1 is R 5 -Q 1 -Q 2 -Q 3 , wherein Q 1 , Q 2 and Q 3 are each , -CH 2 -C≡C-CH 2 -or a bond, provided that when Q 1 is a bond, Q 2 and Q 3 are necessarily bonds, and when Q 2 is a bond, Q 3 is necessarily a bond, Q 6 is H, lower alkyl, halo or haloalkyl, R 7 is H, halogen, lower alkyl or alkalthio, R 8 is H, halogen, trimethylsilyl or lower alkyl, R 9 is H or lower alkyl, R 5 is , R 16 -C≡C-CH 2 -or CH 3 (CH 2 ) p-wherein p is 2 to 7 and R 10 and R 11 are each hydrogen, lower alkyl, halogen, or haloalkyl, or R 10 and R 11 together form (CH 2 ) S where s is 2 to 7, R 12 is hydrogen, lower alkyl, halogen or lower alkenyl, and R 13 and R 14 are each lower alkyl R 16 is lower alkyl or H], provided that when Q 1 , Q 2 and Q 3 are all a bond, R 10 and R 11 cannot be H and R 5 is CH 3 (CH 2 ) p. (Where p ≦ 4) and Z is P—CH 3 C 6 H 4 SO 3 — or CF 3 SO 3 —.
m, R2a는 상기 일반식(5)에서 정의한 바와 동일하다.m and R <2a> are the same as what was defined by the said General formula (5).
제68항에 있어서, 상기 염기가 n-부틸리튬, 수소화나트륨 또는 ((CH3)3-Si2)2NLi이고 상기 반응이 약 -78℃내지 약 25℃의 온도 범위에서 실시되고 X1이 0 또는 S인 것을 특징으로 하는 제조 방법.69. The method of claim 68, wherein the base is n-butyllithium, sodium hydride or ((CH 3 ) 3 -Si 2 ) 2 NLi and the reaction is carried out in a temperature range of about -78 ° C to about 25 ° C and X 1 is 0 or S, characterized in that the manufacturing method.
제68항에 있어서, 상기 염기가 트리알킬아민이고, 상기 반응이 약 -20℃내지 약 80℃의 온도 범위에서 실시되고, X가 NH인 것을 특징으로 하는 방법.69. The method of claim 68, wherein the base is trialkylamine, the reaction is carried out in the temperature range of about -20 ° C to about 80 ° C, and X is NH.
제1항의 화합물과 과지방단백질현증 치료제를 함유하는 복합 제제.A complex formulation containing the compound of claim 1 and a therapeutic agent for hyperlipoproteinosis.
제71항에 있어서, 상기 과지방단백질혈증 치료제가 프로부콜, 겔피브로질, 담즙산 제거제, 클로피브레이트, 니코틴산, 네오마이신, P-아미노살리실산, 벤자피브레이트 또는 HNG CoA환원 효소 억제제인 것을 특징으로 하는 복합 제제.72. The method of claim 71, wherein the hyperlipoproteinemia therapeutic agent is probucol, gelfibrozil, bile acid scavenger, clofibrate, nicotinic acid, neomycin, P-aminosalicylic acid, benzafibrate, or HNG CoA reductase inhibitor. Complex formulation.
제72항에 있어서, 담즙산 제거제가 콜레스티라민(cholestyramine), 콜레스티폴(colesripol) 또는 폴리덱시드(poydexide)인 것을 특징으로 하는 복합 제제.73. The combination formulation of claim 72, wherein the bile acid scavenger is cholestyramine, colesripol, or polydexide.
제72항에 있어서, HMG, CoA 환원 효소 억제제가 로바스타틴(lovastatin), 프라바스타틴(Pravastatin) 또는 심바스타틴(Simvastatin)인 것을 특징으로 하는 복합 제제.73. The combination formulation of claim 72, wherein the HMG, CoA reductase inhibitor is lovastatin, pravastatin or simvastatin.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.