KR900701164A - 포스포릴아미노페닐-치환된 헤테로사이클 제초제 - Google Patents
포스포릴아미노페닐-치환된 헤테로사이클 제초제Info
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (22)
- 하기 일반식 (I )의 화합물 또는 R"가 하이드록시인 하기 일반식 (I) 화함물외 염기 부가염 :상기식에서,으로부터 선택되고; X 및 Y는 독립적으로 F,Cl, 또는 Br이고: R은 저급 알킬 또는 저급 할로알킬이고: R'은 저급 알킬, 저급 할로알킬, C3내지 C7,의 사이클로 알킬, 저급 알케닐, 저급 할로알케닐, 저급 알키닐, 저급 할로알키닐, 및 벤질(이는 치환되지 않거나 또는 페닐 고리가 할로겐, 저급 알킬, 저급 알록시, 저급 알콕시카보닐, 시아노 및 니트로로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환됨)로부터 선택되고: R2는 독립적으로 -OR1중에서 선택되거나, 또는 하이드록시, 아미노, 저급 알킬아미노, 또는 저급 디알킬아미노이고, R'는 수소, 저급 알킬, 또는 저급 알케닐이다.
- 제1항에 있어서, X 및 Y가 각각 F,C1:Cl,Cl: 또는 F,Br임을 특징으로하는 화합물.
- 제 2항에 있어서, X 및 Y가 각각 F,Cl 또는 C1,C1임을 특징으로 하는 화합물.
- 제3항에 있어서, R2가 하이드록시, 아미노, 저급 알킬아미노, 또는 저급 디알킬아미노임을 특징으로 하는 화합물 : 또는 R2가 하이드록시인 화합물의 염기 부가염.
- 제 4항에 있어서, Rl이 저급 알킬임을 특징으로 하는 화합물.
- 제5항에 있어서, R3가 H 또는 저급 알킬임을 특징으로 하는 화합물.
- 제6항에 있어서,
- 제3항에 있어서 R2가 독립적으로 -OR'중에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제8항에 있어서, Rl이 저급 알킬임을 특징으로하는 화합물.
- 제9항에 있어서, R7가 저급 알콕시이고, -OR1과 동일함을 특징으로하는 화합물.
- 제10항에 있어서, R3가 H 또는 저급 알킬임을 특징으로 하는 화합물.
- 제11항에 있어서, Q가이고, R이 저급 할로 알킬 그룹임을 특징으로 하는 화합물.
- 제12항에 있어서, R이 저급 플루오로알킬 그룹임을 특징으로하는 화합물.
- 재13항에 있어서, R이 -CHF2임을 특징으로 하는 화합물.
- 제11항에 있어서, Q가이고,R이 저급 플루오로알킬 그룹임을 특징으로 하는 화합물.
- 제15항에 있어서, R이 -CH2CH2CH2F임을 특징으로 하는 화합물.
- 제11항에 있어서, Q가임을 특징으로 하는 화합물.
- 제11항에 있어서, Q가이고, R이 저급 알킬 그룹임을 특징으로 하는 화합물.
- 제초 유효량의 제1항의 화합물과 적당한 담체를 혼합하여 함유함을 특징으로 제초제 조성물.
- 바람직하지 않은 식물의 성장을 억제시키고자 하는 서식지에 제초 유효량의 제19항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는, 바람직하지 않은 식물의 성장 억제 방법.
- 바람직하지 않은 식물의 성장을 억제시키고자 하는 서식지에 제초 유효량의 제1항의 화합물을 적용함을 특징으로 하는, 바람직하지 않은 식물의 성장 억제 방법.
- (a) ( 1) 염기의 존재하에 하기 일반식(II)의 화합물을일반식(여기에서, R' 및 R"는 하기 정의한 바와 같고, 각각의 Z1은 독립적으로 선택된 할로겐원자이다)의 화합물로 처리하여 하기 일반식(IIIa) 또는 (IX)외 화합물을 생성하고: (ii) 염기외 존재하에 일반식(III)의 화합물을 R'-OH로 처리하거나 또는 일반식 (IX)의 화합물을 R2-H로 처리하여 일반식 (I) (여기에서, R3은 H이다)의 화합물을 생성하거나: 또는 (b)(1) 염기의 존재하에 일반식(ll)의 화함물율 일반식 POZ3, (여기에서, 각각의 Z'은 독립적으로 선택된 할로겐원자이다)의 화합물로 처리하여 하기 일반식(X)의 화합물을 생성하고: (II) 일반식(X)의 화합물을 최소한 2당량의 R'-OH로 처리하여 일반식(I) (여기에서, R3는 H이고 R2는 OR'과 동일하다)의 화합물을 생성하거나: 또는 (c) 염기의 존재하에 일반식(I) (여기에서, R'는 H이다)의 화합물을 R'-Z(여기에서, Z는 할로겐원자이고, R'는 저급 알킬 또는 알궤닐 피롬이다)외 화할물로 처리하억 일반식(I) (여기에서 R'는 저급 알킬 또는 알케닐 그룹이다)의 화합뭍을 생성하거나: 또는 (d)는 일반식 (I) (여기에서, R3는 OH이다)의 화합물을 염기로 처리하석 상응하는 염기 부가염을 생성함을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 화합물 또는 R2가 하이드록시인 하기 일반식(I) 화합물의 염기 부가염와 제조방법.[상기식에서,Q는으로부터 선택되고: X 및 Y는 독립적으로 F,Cl 또는 Br이고: R은 저급 알킬 또는 저급 할로알킬이고: R1은 저급 알킬, 저급 할로알킬, C3내지 C7,의 사이클로 알킬, 저급 알케닐, 저급 할로알케닐, 저급 알키닐, 저급 할로알키닐, 및 벤질(이는 치환되지 않거나 또는 폐닐 고리가 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 저급 알폭시카 보닐, 시아노, 및 니트로로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환됨)로부터 선택되고: R2는 독립적으로 -OR¹ 중에서 선택되거나, 또는 하이드록시, 아미노, 저급 알킬아미노, 또는 저급 디알킬아미노이고, R3는 수소, 저급 알킬, 또는 저급 알케닐이다].※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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| US?319,842 | 1989-03-07 | ||
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| US?328,820 | 1989-03-17 | ||
| US07/326,450 US4954159A (en) | 1988-10-18 | 1989-03-17 | Phosphorylaminophenyltetrahydrophthalimide herbicides |
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