KR900003955B1 - 유기주석 화합물의 분리제조법 - Google Patents

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유기주석 화합물의 분리제조법

본 발명은 공업적으로 유용한 일-, 이- 또는 삼유기주석 산화물의 제조방법에 관한 것이다.

일- 및 이 유기주석 산화물이 공업적으로 매우 유용하고 폴리비닐 클로라이드 수지용 안정제의 생산을 위한 원료, 유기 합성용 촉매, 양이온성 전착 피복용 촉매로서 대량으로 이용되는 반면에, 삼유기주석 산화물은 농학 화학물질 및 방염 페인트의 분야에서 중요한 위치를 차지한다.

지금까지는 이들 유기주석 산화물은 일반적으로 유기주석 할로겐화물을 유기용매의 존재하에 수용액 형태의 알칼리 금속 수산화믈 또는 알칼리 토금속 수산화물, 또는 수산화암모늄 같은 강염기성 물질을 이용하여 가수분해시키고, 여과 또는 원심분리 같은 기계적 방법을 이용하여 반응 혼합물로 부터 유기주석 산화물 생성물을 회수함으로써 생산되어 왔다.

그러나, 이러한 제조방법은 고순도 또는 고품질의 목적 화합물을 고수율로 생산하는데 실패하였고 오히려 후술하는 것처럼 직업 안전성 및 건강의 관점에서 볼 때 심각한 문제점을 갖는다. 즉, 출발 물질인 유기주석 할로겐화물은 일반적으로 약 10중량%에 달하는 불필요한 다른 유기주석 할로겐화물을 함유한다. 예를들면, 삼유기주석 할로겐화물은 이유기주석 이할로겐화물 및/ 또는 일유기주석 삼할로겐화물을 함유하고, 이유기주석 이할로겐화물은 일유기주석 삼할로겐화물 및/또는 삼유기주석 할로겐화물을 함유한다, 그러므로, 가수분해 생성물을 필연적으로 목적 생성물 이외에 다른 유기주석 산화물을 함유한다. 예를 들면, 삼유기주석 산화물이 목적 생성물인 경우에는, 대응 이유기주석 산화물 및/또는 일유기주석 산화물이 부산물로 형성된다. 이유기주석 산화물이 목적 생성물인 경우에는 대응 삼유기주석 산화물 및/ 또는 일유기주석 산화물이 부산물로 형성된다.

이들 부산물을 제거하기 위해서는 여과 또는 원심분리 같은 분리방법이 요구된다. 그러나, 삼유기주석 산화물의 제조에 있어서는, 대응 이유기주석 산화물이 액체삼유기주석 산화물에 현탁되어 있는 매우 미세한 입자의 형태로 부산물로서 형성된다. 그러므로 상술한 이유기주석 산화물 미세입자를 제거하기 위해서 산클레이 같은 여과 보조제의 이용이 요구되고, 동시에 전체로서의 생산 풀랜트의 공간이 상당히 증가하게 되는데 이는 비경제적이다. 덧붙여, 이러한 여과 공정 조차도 부산물인 이유기주석 산화물을 거의 완전하게 제거하지 못한다. 따라서, 고품질 삼유기주석 산화물을 얻는 것이 매우 어려웠었다. 그외에, 여과 보조제와의 혼합물로 분리된 유기주석 산화물은 더 이상 재사용할수 없다. 이런 혼합물을 산업 폐기물로서 처분하는것은 어렵다. 또한 가수분해 단계에서 형성된 일유기주석 산화물- 함유 수층을 삼유기 주석 산화물 층으로부터 분리하는 것이 어렵기 때문에 현탁된 미세입자 형태의 유기주석 화합물을 유기 용매로 추출하고, 잔류액을 활성탄으로 처리하고 이것을 방출하기 전에 더 처리하여 위험하지 않게 해야만 할 필요가 있다. 덧붙여, 직업 안전성 및 건강의 측면에서도, 사람에 대한 삼유기주석 산화물의 영향이 항상 무시해도 좋을 만큼 약한 것이 아니기 때문에 인체와 삼유기주석 산화물 사이의 접촉은 가능한한 피하는 것이 바람직하다.

공지 방법에서는, 근로자는 적절한 보호복과 안전장치를 착용하고 배기가스를 활성탄 같은 흡착제로 처리하기 위한 장치가 구비되어 있는 밀폐된 작업실에서 일해야만 했다. 그러나, 이러한 처치를 행하여도, 안전관리 측면에서 심각한 문제점을 갖는 유기 화합물과의 접촉을 피하기는 어렵다.

이- 또는 일유기주석 산화물의 경우에는, 공지의 제조방법은 원칙적으로 상술한 삼유기주석 산화물에서와 동일한 어려움을 가지며, 덧붙여 고체를 대량으로 가공하기 때문에 상황이 삼유기주석 산화물의 경우보다 더 복잡해진다. 보다 상세히 설명하면, 이유기주석 이할로겐화물의 가수분해는 불가피하게 부산물인 대응삼- 및/또는 일유기주석 산화물의 형성을 수반한다. 이들 부산물을 제거하기 위해서는 반응 생성물을 다량의 유기용매 및 다량의 물로 세척하고, 매회마다 여과 또는 원심분리 같은 방법으로 분리하는 것이 필요하다. 덧붙여, 물 난용성 유기 용매를 가하여 가수분해를 행하는 경우에는 반응 혼합물이 두 층, 즉 일유기주석 산화물- 함유 수층 및 삼- 및 이유기주석 산화물- 함유 유기층으로 구성된다.

부산물인 삼유기주석 산화물은, 원심분리, 여과 또는 그와 비슷한 방법에 의해 유기층으로 부터 조형태의 이유기주석 산화물을 분리하고, 이렇게 얻어진 이유기주석 산화물을 세척하기 위해 용매에 현탁시킨 후에, 이것을 여과 또는 원심분리에 의해 회수하고 이 현탁 및 회수 공정을 수회 반복함으로써 목적 이유기주석산화물로부터 제거할 수 있다. 그러나, 한편으론 부산물 일유기주석 산화물의 염 및 알칼리금속염 또는 가수분해에 사용된 염기성 물질을 완전히 제거하기 위해서는, 이러한 방법으로 얻은 이유기주석 산화물을 물에 현탁시킴으로써 다량의 물로 수회 세척하고, 매 세척후에는 여과 또는 원심분리 같은 기계적 방법에 의해 분리할 필요가 있다.

가수분해를 수용성 유기 용매의 존재하에 행하는 경우에는, 대부분의 이유기주석 산화물이 결정으로 반응혼합물 중에 침전되는 반면에 다른 부산물은 완전히 용해된 상태로 모액층에 남아 있는다.

이 반응 혼합물을 여과 또는 원심분리 같은 기계적 방법에 의해 분리한다. 원료물질에서 유래된 일유기주석 산화물 및/또는 삼유기주석 산화물의 알칼리 금속염을 결정으로 부터 완전히 제거하기 위해서는, 결정을 용매에 현탁시킴으로써 결정을 다량의 용매로 수회 세척하고, 매회마다 여과 또는 원심분리 같은 방법으로 분리해야만 한다. 덧붙여, 부산물염 및 가수분해에 이용된 염기성 물질을 완전히 제거하기 위해 결정을 다시 물에 용해시킴으로써 결정을 다량의 물로 수회 세척하고, 매회마다 여과 또는 원심분리 같은 방법으로 분리하는 것이 필요하다.

종래의 기술에서 부딪치는 상술한 모든 난점을 극복하기 위한 시도로 이루어진 수년간의 광범위한 연구의 결과로서, 본 발명자들은 유기주석 할로겐화물의 가수분해로 부터 생성된 반응 혼합물을 세층으로 분리하고 그럼으로써 실질적으로 대응 일- 및/또는 이유기주석 산화물을 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유층, 일유기주석 산화물-함유 수층(일반적으로 일유기주석 산화물은 일유기주석산(monoorganic stannoic acid)으로도 불리우며 일유기주석산의 알칼리 금속염의 형태로 물에 용해된다. 이러한 수층은 특허 청구의 범위를 포함한 명세서 전반에 걸쳐 "일유기주석 산화물-함유 수층" 으로 표기된다) 또는 실질적으로 대응 일-및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 유체상태의 이유기주석 산화물-함유층으로서 목적 유기주석산화물-함유층을 얻는 방법을 확립하는데 성공하였다.

본 발명의 기본적인 특징은 (1) 가수분해 반응 혼합물을 세층으로 분리시키고,(2) 가수분해 반응 혼합물을 물, 염기성 물질, 염 및 물 난용성 유기용매로 구성된 군의 적어도 하나를 가하여 상기 반응 혼합물이 세층으로 분리 되도록 하고,(3) 가수분해 반응 혼합물 사이의 비중 차이를 이용하여 가수분해 반응 혼합물을 세층으로 분리하고 (4) 가수분해 반응 혼합물을 세층으로 분리하고, 대응 층(들)으로 부터 하나 또는 두개의 유기주석 산화물종을 회수하고, 대응층(들)으로 부터 회수된 다른 유기주석 산화물 종을 할로겐화물형태로 전환시키고 이렇게 얻어진 유기주석 할로겐화물을 가수분해 단계에 재순환 시키는 것이다.

그러므로, 본 발명은 (1) 유기 할로겐화물을 가수분해시키고, 가수분해 반응 혼합물을 세층으로 분리하고, 이렇게 함으로써 일- 및/또는 이유기주석 산화물을 실질적으로 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유층, 일유기주석 산화물-함유 수층, 또는 실질적으로 일- 및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 이유기주석 산화물-함유층으로서 목적 유기주석 산화물-함유층을 얻고, 목적 유기주석 산화물-함유층으로 부터 삼-, 일- 또는 이유기주석 산화물을 회수함을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기주석 산화물의 분리 제조법 ; (2) 유기 할로겐화물을 가수분해 시키고, 물, 염기성 물질, 염 및 물 난용성 유기용매로 구성된 군의 적어도 하나를 가수분해 반응 혼합물에 가하여 상기 가수분해 반응 혼합물을 세층으로 분리하고, 이렇게 함으로써 일- 및/또는 이유기주석 산화물을 실질적으로 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유층, 일유기주석 산화물-함유 수층, 또는 실질적으로 일-및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 이유기주석 산화물-함유층으로서 목적 유기주석 산화물-함유층을 얻고, 목적 유기주석 산화물-함유층으로부터 삼-, 일- 또는 이유기주석 산화물을 회수함을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기주석 산화물의 분리 제조법 : (3) 유기 할로겐화물을 가수분해 시키고, 가수분해 반응 혼합물 중의 이유기주석 산화물의 입자크기를 증가시키고, 상기 반응혼합물을 분리하고, 이렇게 함으로써 이유기주석 산화물-함유 층과 삼유기주석 산화물-함유층 및/또는 일유기주석 산화물-함유수층 사이에 생긴 비중 차이에 의해 일- 및/또는 이유기주석 산화물을 실질적으로 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유층, 일유기주석 산화물-함유수층, 또는 실질적으로 일- 및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 이유기주석 산화물-함유층으로서 목적유기주석 산화물-함유층을 얻고, 목적 유기주석 산화물-함유층으로 부터 삼-, 일- 또는 이유기주석 산화물을 회수함을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기주석 산화물의 분리제조법 : 및 (4) 유기할로겐화물을 가수분해시키고, 가수분해 반응 혼합물을 세층으로 분리하고, 이렇게 함으로써 일- 및/또는 이유기주석산화물을 실질적으로 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유층, 일유기주석 산화물-함유 수층, 또는 실질적으로 일- 및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 이유기주석 산화물-함유층으로서 목적유기주석산화물-함유층을 얻고, 목적유기주석 산화물-함유층으로 부터 삼-, 일- 또는 이유기주석 산화물을 회수하고, 이렇게 회수한 유기주석 산화물 중의 하나 또는 둘을 가수분해 단계에 재순환시키기에 적절한 할로겐화물 형태로 전환시킴을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기주석 산화물의 분리 제조법에 관한 것이다.

본 발명의 방법에 의해 제조될 수 있는 유기주석 산화물은 일유기주석 산화물, 및/또는 이유기주석 산화물 및/또는 삼유기주석 산화물이고, 반응 조건등에 따라 하나,둘 또는 세종류를 고순도 및 고품질로 얻을수 있다, 일유기주석 산화물의 예는 모노알킬 주석화물이고, 이유기주석 산화물의 예는 디알킬주석 산화물이며, "알킬"은 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, s-부틸, t-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-에틸헥실 또는 1,1,3,3-테트라메틸-부틸 같은 1∼8 탄소원자의 알킬기를 의미한다. 이 중에서, 알킬기가 부틸, 옥틸 등과 같은 이들 모노- 및 디알킬주석 산화물, 예를들면 모노-n-부틸 주석 산화물, 디-n-부틸 주석 산화물 및 디-n-옥틸주석 산화물은 공업적으로 중요하다.

삼유기주석 산화물로는, 비스 (트리알킬주석)산화물(용어 "알킬"은 상술한 대로 1∼8 탄소원자의 알킬기를 의미한다), 트리시클로알킬주석 수산화물(예, 트리시클로로헥실주석 수산화물), 트리아릴주석 수산화물[예, 트리페닐주석 수산화물, 트리스(치환된 페닐 주석 수산화물] 및 트리아르알킬주석 수산화물(예, 트리벤질주석 수산화물, 트리페네틸주석 수산화물, 트리네오필주석 산화물)을 언급할 수 있다. 이 중에서, 비스(트리부틸주석)산화물이 특히 공업적으로 중요하다.

출발물질로 이용되는 유기주석 할로겐화물은 주 목적 생성물에 대응하고 하기 일반식(I)을 갖는 것이다.

R_mSnX_4-m(1)

[상기 식중, R은 1∼8 탄소원자의 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기 또는 아르알킬기이고(각 기의 예는 상기에서 주어진 것들이다), X는 할로겐원자(염소, 브롬, 요오드)이고, m은 1∼3의 정수이다.]

그러므로, 상기 할로겐화물에는, 거기에 한정되는 것은 아니지만, 트리-n-부틸주석 클로라이드, 디-n-부틸주석 디브로마이드, 모노-n-부틸주석 트리요오다이드, 모노페닐주석 트리클로라이드, 디-n-옥틸주석 디요오다이드, 트리시클로헥실주석 브로마이드, 트리네오필주석 클로라이드 및 디메필주석 디브로마이드가 포함된다. 이러한 유기주석 할로겐화물은 일반적으로 다른 유기주석 할로겐화물을 함유한다. 일반적으로, 상기한 다른 유기주석 할로겐화물의 함량은 상기한 다른 유기주석 할로겐화물의 존재가 가수분해 반응을 억제 또는 방해하지 않는 한 10%를 초과할 수 있긴 하지만 바람직하게는 약 10중량% 이하이어야 한다. 다른말로 말하면, 일반적으로 약 90%이상의 순도를 갖는 출발물질 유기주석 할로겐화물을 사용하여 원하는 결과를 얻을 수 있다.

본 발명에 따라 가수분해 반응에 첨가되는 염기성 물질 또는 염은 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토금속수산화물, 수산화암모늄, 또는 이러한 것과 무기산과의 염이며, 거기에 한정되는 것은 아니지만, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화암모눔, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 수산화바륩, 염화나트륨, 염화칼륨, 브롬화나트륨, 브롬화칼륨, 요오드화나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 요오드화칼륨, 황산나트륨, 아세 트산나트륨, 황산암모늄, 아세트산칼륨, 염화암모늄, 질산나트륨, 염화칼슘, 요오드화칼슘, 브롬화칼슘, 탄산칼슘, 염화마그네슘, 탄산마그네슘, 요오드화마그네슘, 황산마그네슘, 아세트산마그네슘 및 질산마그네슘을 포함한다. 이 중에서, 바람직한 것은 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화암모늄, 염화나트륨 및 염화칼륨이다.

물 난용성 유기 용매는 가수분해 반응 혼합물에 첨가되는 경우에, 상기 혼합물을 세층, 즉, 대응 일-및/또는 이유기주석 산화물을 실질적으로 함유하지 않는 삼유기주석 산화물- 함유층, 일유기주석 산화물-함유수층 및 일- 및/또는 삼유기주석 산화물을 실질적으로 함유하지 않는 이유기주석 산화물-함유층으로 분리할 수 있어야만 한다. 이러한 용매에는, 거기에 한정되는 것은 아니지만, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 펜탄, 헥산, 이소헥산, 헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 시클로헥탄, 메틸시클로헥산, 메틸이소부틸메톤, 석유벤진, 리그로인, 석유나프타, 에틸벤젠, 디에틸벤젠, n-부탄올, 이소부탄올, s-부탄올, t-부탄올, 펜탄올, 이소펜탄올, 헥산올, 헵탄올, 시클로헥산올, 벤질알콜, 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에탄, 모노클로로벤젠, 디클로로에틸렌, 디클로로벤젠, 디클로로프로판, 부틸클로라이드 및 아밀 클로라이드가 포함된다. 이중에서, 바람직한 것은 헵탄, 톨루엔, 크실렌, n-부탄올, t-부탄올 및 시클로헥산올이다.

이들 용매는 단독으로 또는 혼합용매의 형태로 조합하여 사용할 수 있다.

이들 물질, 또는 물, 또는 그의 혼합물은 상기 반응 혼합물을 세층으로 뚜렷하게 상분리시킬 수 있는 양으로 가수분해 반응 혼합물에 첨가해야 한다.

가수분해 반응은 종래 기술에 공지되어 있는대로 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 수산화암모늄 같은 염기성 물질의 존재하에 행한다. 그러나, 고체 이유기주석 산화물 입자의 크기를 증가시킴으로써, 본 발명의 기본적인 한 측면에 따라, 반응혼합물중의 삼유기주석 산화물-함유층, 이유기주석 산화물-함유층 및 일유기주석 산화물-함유층 사이의 비중 차이에 의해 상을 세층으로 분리하기 위해서는, 반응은 바람직하게는 종래 기술에서 보다는 단축된 기간, 바람직하게는 3시간 이내, 보다 바람직하게는 1시간을 넘지 않는 기간 동안 행하여만 한다. 상기 반응은 바람직하게는 40 내지 90℃, 바람직하게는 50 내지 80℃의 온도에서 행한다.

수층 및 용매층의 비중은 물, 상술한 염기성 물질 또는 염등을 가수분해반응 혼합물에 가하거나, 또는 미리 가수분해 반응에 사용되는 염기성 물질의 농도를 통제하거나 또는 용매의 첨가량을 통제함으로써 조정할수 있다. 염기성 물질로는 수산화나트륨 수용액을 사용하는 것이 가장 경제적이며, 이러한 경우에 수산화나트륨 농도는 l 내지 50%(바람직하게는 5 내지 30%)일 수 있다. 세층 사이에 0.01 이상, 바람직하게는 0.03 내지 0.3의 비중 차이가 생겨서 뚜렷하게 세층으로 분리되도록 하는 것이 바람직하다.

실질적으로 일- 및/또는 이유기주석 산화물을 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유 층은 일반적으로 최상층으로서 형성되며, 일유기주석 산화물-함유수층은 중간층으로서 형성되고, 실질적으로 일- 및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 이유기주석 산화물-함유 층은 바닥층으로서 형성된다. 이들 사이의 경계는 뚜렷하며 충돌은 쉽게 서로 분리할 수 있다.

상층의 삼유기주석 산화물-함유층 중에서, 당 분야에서 특히 중요하다고 결정적인 특성을 갖는 이유기주석 산화물의 함량은 매우 적다. 즉, 5,000ppm 이하이거나 또는 특정한 경우에는 1,000ppm 이하이다. 덧붙여, 입자로 형성되는 이유기주석 산화물이 본 발명의 한 측면에 따라 크기가 증가되기 때문에, 상기 이유기주석 산화물을 여과의 통상 방법으로 쉽게 제거할 수 있다. 일유기주석 산화물의 알칼리금속염은 물에 용해되기 때문에 아무런 문제점을 일으키지 않으므로 상기 삼유기주석 산화물 층에 잘 혼합되지 않는다.

중간 수층은 알칼리 금속염 형태의 일유기 주석산화물을 함유하기 때문에 산을 이용하는 침전에 의해 고품질 일유기주석 산화물을 회수할 수 있다. 원료인 유기주석 할로겐화물이 일유기주석 삼할로겐화물을 함유하지 않는 경우에는, 경우에 따라서, 상기 층이 미반응 염기성 물질, 부산물인 무기염 등을 함유함에도 불구하고 상기 층의 유기주석 함량이 분석 검출 한계 이하이므로, 상기 층을 직접 생물학적으로 처리한 후 공업 폐수로 방출할 수 있다.

상술한 대로 증가된 입자 크기를 갖는 이유기주석 산화물은 반응 혼합물중에 기름 방울 형태로 떨어져서 가장 아래층을 형성한다. 일반적으로, 상기 층의 이유기주석 산화물 함량은 바람직하게는 20% 이상, 보다 바람직하게는 50% 이상이어야 한다. 상기 층을 유기용매 또는 물로 세척하고 감압하 건조 같은 방법에 의해 유기용매등을 제거함으로써 상기 층으로부터 이유기주석 산화물을 회수할 수 있다.

삼유기주석 산화물이 본 발명에 따른 분리 제조법에 의해 생산하고자 하는 주 목적 생성물인 경우에는, 가장 아래층의 주 성분인 이유기주석 산화물의 형성이 적은 방법으로 반응을 행하는 것이 필요하다. 이러한 경우에는, 형성된 이유기주석 산화물-함유 층을 각각의 배치식 반응 조작 완료 후에 또는 반응의 연속 조작 후에 꺼낼 수 있다. 이렇게 하여 꺼낸 부산물 이유기주석 산화물-함유층은 삼유기주석 산화물을 함유할수 있으며 염산 같은 할로겐화 수소산을 이용하는 공지 방법에 의한 처리에 의해 이유기주석 할로겐화물 또는 이유기주석 이할로겐화물-삼유기주석 할로겐화물 혼합물로 전환시킬 수 있다. 이러한 혼합물을 대응 사유기주석 산화물과 반응시키면, 상기 혼합물은 모두 고품질 삼유기주석 할로겐화물 형태로 전환된다. 그러므로, 상기 혼합물은 원료로 사용될 수 있다.

이유기주석 산화물이 본 발명에 따른 분리 제조방법에 의해 얻고자 하는 목적 생성물인 경우에, 고품질 디-n-부틸주석 산화물은 디-n-부틸주석 산화물-함유 바닥층을 물 또는 유기용매로 세척하고, 감압하건조 등의 방법으로 유기용매등을 제거함으로써 얻을 수 있고, 실질적으로 이유기주석 산화물을 함유하지않는 상태의 삼유기주석 산화물은 상기 층의 직접 증류에 의해 유기용매등을 제거함으로써 꼭대기 삼유기주석 산화물-함유 층으로부터 회수할 수 있다.

본 발명의 방법은 배치식 또는 연속적으로 행할 수 있다. 공정을 연속방법으로 조작할 수 있는 것이 본 발명의 탁월하고 특별한 특징의 하나이다.

본 발명에 따른 방법을 유기주석 할로겐화물 물질의 가수분해에 이용하는 경우에, 가수분해 반응 혼합물은 세층으로 분리되며, 그로 인하여 목적 유기주석 산화물-함유 층을 실질적으로 일- 및/또는 이유기주석산화물을 함유하지 않는 삼유기주석 산화물-함유층, 일유기주석 산화물-함유 수층, 또는 실질적으로 일-및/또는 삼유기주석 산화물을 함유하지 않는 유체 상태의 이유기주석 산화물-함유층으로 뚜렷하게 얻을 수있다.

상술한 대로 세층으로 분리될 수 있는 반응 혼합물을 얻기 위해서, 물, 염기성 물질, 염, 물 난용성 유기용매 또는 이들의 혼합물을 반응 혼합물에 가하거나 또는 가수분해 반응조건(염기성 물질의 첨가량, 용매의 양, 반응 시간 등)을 조정하여 각각의 생성층의 비중을 통제하고 고체 이유기주석 산화물의 입자 크기를 증가시킨다.

결과로서, 유기주석 산화물을 고순도 및 고품질로 쉽고, 간편하고, 안전하고 경제적인 방법으로 얻을 수 있다.

본 발명은 하기 실시예에 의해 보다 상세히 설명되며, 본 발명이 여기에 국한되는 것은 아니다.

[실시예 1]

측벽에 유출 노즐 개구부가 장치되어 있는 4목 플라스크에 교반기, 온도계 및 환류 응축기를 설치하고, 20% 가성소다 수용액 3,850g 및 4.8%의 디-n-부틸주석 디클로라이드를 함유하는 트리-n-부틸주석 콜로라이드 1,990g을 교반 및 50℃에서의 가열하에 플라스크에 연속적으로 공급하여 가수분해 반응을 행한다. 유출 노즐 개구부로부터 나오는 반응 혼합물 유출액을 직경 12.5cm, 높이 45cm의 분리 컬럼으로 유도하고 거기에 방치해 둔다.

유기층 중의 디-n-부틸주석 산화물 입자가 침전되기 시작한다. 이들은 수층을 통하여 불투명한 기름방울-유사 형태로서 바닥 층으로 떨어진다. 밤새 방치한 후에는, 세개의 뚜렷한 층, 즉 비스(트리-n-부틸주석)산화물 층, 염-함유 수층 및 디-n-부틸주석 산화물-함유 층이 존재한다. 이 세층을 따라따로 분리하고 비중을 측정한다. 비스(트리-n-부틸주석)산화물층의 비중은 1.1이고, 수층의 비중은 1.2이고 디-부틸주석 산화물-함유층의 비중은 1.3이다.

가장 위의 비스(트리-n-부틸주석)산화물 층을 감압하에 탈수시키면 1,629g(89.4% 수율)의 비스(트리-n-부틸주석)산화물이 얻어진다. 분석결과는 화합물이 순도 98.5%의 고품질이고 거기에 용해되어 있는 디-n-부틸주석 산화물의 함량이 500ppm인 것을 나타낸다. 수층에서는 유기주석 화합물이 전혀 검출되지 않는다.

가장 낮은 디-n-부틸주석 산화물-함유층은 무게가 197g이고 48%의 디-n-부틸주석 산화물 및 52%의 비스(트리-n-부틸주석)산화물로 이루어진 유체층으로 형성된다. 이 층을 35% 수성염산 345g을 이용하여 50℃에서 5시간 동안 염소화시킨다. 염소화 생성물을 7g의 염화 알루미늄의 존재하에 100℃에서 5시간 동안 158g의 테트라-n-부틸주석과 반응시킨다. 이렇게 해서 얻은 트리-n-부틸주석 클로라이드의 무게는 366g이다. 4.2%의 디-n-부틸주석 함량을 가지므로 원료로 사용하기에 적절하다. 이것까지 감안하면 총 수율은 98.2%에 달한다.

[실시예 2]

1ℓ들이 4목 플라스크에 교반기, 온도계, 환류 응축기 및 적하 깔대기를 장치하고, 450g의 30% 수성 가성소다를 충전한다. 교반 및 60℃에서의 가열하에 3.5% 디-n-부틸주석 디브로마이드를 함유하는 트리-n-부틸주석 브로마이드 300g을 적하 깔대기를 통해 약 10분에 걸쳐 적가하고, 동일 온도에서 30분간 가수분해 반응을 행한다. 반응 혼합물에 260g의 물을 가하여 비중을 조정한다. 실시예 1에서처럼 침전 현상이 일어나고, 반응 혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 수층의 비중을 측정하면 1.25이다. 그 후에, 실시예 1과 동일한 방법으로 최상층을 처리하여 224.4g(92.8%수율)의 비스(트리-n-부틸주석)산화물을 얻는다. 분석은 이 화합물이 순도 98.3%의 고품질이고 거기에 용해되어 있는 디-n-부틸주석 산화물의 함량이 300ppm인 것을 나타낸다.

최하층(12.5g)은 50%의 디-n-부틸주석 산화물 및 50%의 비스(트리-n-부틸주석)산화물로 이루어져 있다. 실시예 1과 동일한 방법으로 처리하면 23g의 트리-n-부틸주석 클로라이드가 얻어진다. 총 수율은 98.1%에 이른다.

[실시예 3]

실시예 2에서 사용된 것과 동일한 장치에 220g의 20% 수성 가성 소다를 충전한다. 거기에, 교반 및 70℃에서의 가열하에 6%의 디-n-옥틸주석 디요오다이드를 함유하는 트리-n-옥틸주석 요오다이드 200g을 적하 깔대기를 통해 약 5분에 걸쳐 적가하고, 동일 온도에서 30분간 가수분해 반응을 행한다. 반응 혼합물에, 비중 조정을 위해 50g의 톨루엔 및 148g의 물을 가한다. 결과로서, 실시예 1에서 처럼 침전 현상이 일어나며 반응 혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 그후에, 공지의 방법에 의해 꼭대기 층으로부터 톨루엔을 증류 제거하여 141.0g(88.5%수율)의 비스(트리-n-옥틸주석)산화물을 얻는다. 분석은 이 화합물이 고품질임을, 즉 98.1%의 순도를 가짐을 나타낸다.

[실시예 4]

실시예 2에서 사용된 것과 동일한 장치에 320g의 30% 수성 가성 소다를 충전한다. 거기에, 교반 및 60℃에서의 가열하에, 225g의 메틸 이소부틸 케톤에 용해시킨 2.6%의 디페닐주석 디클로라이드를 함유하는 트리페닐주석 클로라이드 300g의 용액을 적하 깔대기를 통해 약 5분에 걸쳐 적가하고, 동일 온도에서 가수분해 반응을 1시간 동안 수행한다. 반응 혼합물에 195g의 물을 가하여 비중을 조정한다. 결과로서, 실시예 1에서 처럼 침전 현상이 일어나고 반응 혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 그후에, 공지의 방법에 의해 꼭대기층으로부터 메틸 이소부틸 케톤을 증류 제거하여 269.lg(94.1%수율)의 트리페닐주석 수산화물을 얻는다. 분석은 이 화합물이 고품질 임을, 즉 98.1%의 순도를 갖는 것을 나타낸다.

[실시예 5]

실시예 2에서 사용된 것과 동일한 장치에 1,030g의 15% 수성 가성 소다를 충전한다. 거기에, 교반 및 80℃에서의 가열하에, 350g의 시클로헥산에 용해시킨 3%의 디시클로헥실주석 디브로마이드를 함유하는 트리시크로헥실주석 브로마이드 200g의 용액을 적하 깔대기를 통해 약 10분에 걸쳐 적가하고, 동일 온도에서 1시간 동안 가수분해 반응을 행한다. 반응 혼합물에 63g의 염화나트륨을 가하여 비중을 조정한다. 실시예 1에서 처럼 침전 현상이 일어나고 반응 혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 공지의 증류방법에 의해 꼭대기 층으로부터 시클로헥산을 제거하여 322g(93.7%수율)의 트리시클로헥실주석 수산화물을 얻는다. 분석은 이 생성물이 고품질임을, 즉 97.8%의 순도를 갖는 것을 나타낸다.

[실시예 6]

1ℓ들이 4목 플라스크에 교반기, 온도계, 환류 응축기 및 적하깔대기를 장치하고, 30% 수성 가성 칼리 215g을 충전한다. 거기에, 교반 및 80℃에서의 가열하에, 150g의 시클로헥산올에 용해시킨 1.8%의 트리-n-부틸주석 브로마이드 및 1.5%의 모노-n-부틸주석 트리브로마이드를 함유하는 디-n-부틸주석 디브로마이드 150g의 용액을 약 1시간에 걸쳐 적하 깔대기를 통해 적가하고, 동일 온도에서 30분간 가수분해반응을 행한다. 250g의 물을 가하여 비중을 조정한 후에 방치한다.

최상 층의 디-n-부틸주석 산화물의 입자가 침전되기 시작한다. 이들은 불투명한 기름 방울의 형태로서 수층을 통해 바닥층으로 더 떨어진다. 밤새 방치하면, 세개의 뚜렷한 층, 즉 비스(트리-n-부틸주석)산화물을 함유하는 시클로헥산을 층, 모노-n-부틸주석 산화물을 함유하는 수층 및 디-n-부틸주석 산화물-함유 층으로 분리된다. 이들 세층을 따로따로 분리하고 비중을 측정한다. 시클로헥산올 층의 비중은 0.97이고, 수층의 비중은 1.12이고 디-n-부틸주석 산학물층의 비중은 1.22이다.

디-n-부틸주석 산화물-함유 바닥층의 무게는 175g이고, 52%의 디-n-부틸주석 산화물 및 48%의 시클로헥산올로 이루어진 유체층이다. 물(450g) 및 50g의 시클로헥산올을 가하고 물로 세척하고 추출을 행한다. 감압하에 디-n-부틸주석 산화물 층을 건조시키면 91.0g(95.7%수율)의 디-n-부틸주석 산화물이 분말로 얻어진다. 이 분말의 분석은 이것이 47.80%(이론치 47.75%)의 주석 함량이 100 ppm 미만의 할로겐함량 및 1,500ppm의 불순물인 트리- 및 모노-n-부틸주석 함량이 총함량을 갖는다는 것을 나타낸다.

증류에 의해 최상층로부터 시클로헥산올을 제거하면 순도 92.6%의 비스(트리-n-부틸주석)산화물 2.lg이 얻어진다. 모노-n-부틸주석 산화물-함유 수층을 이산화탄소로 처리하여 중화시키고, 생성된 백색 결정성 침전을 물로 세척하고 건조시킨다. 1.1g의 모노-n-부틸주석 산화물(96.1%순도)이 얻어진다.

출발물질로부터의 Sn-기준 수율은 99.0% 이다.

[실시예7]

측벽에 유출 노즐 개구부가 장치되어 있는 4목 플라스크에 교반기, 온도계 및 환류 응축기를 설치한 후에,1,300g의 16% 수성 가성 소다 및 3,592g의 톨루엔에 용해시킨 1.5%의 트리-n-부틸주석 클로라이드와 1.0%의 모노-n-부틸주석 트리클로라이드를 함유하는 디-n-부틸주석 디클로라이드 1,912g의 용액을 플라스크에 연속적으로 공급한다. 플라스크 내용물을 교반하고 75℃에서 교반하여 가수분해를 행한다. 유출개구부에서 나오는 반응 혼합물 유출액을 방치한다. 결과로서, 실시예 6에서 처럼 침전현상이 일어나고 반응 혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 수층의 비중은 1.1이다. 그후에 최상층을 실시예 6과 동일한 방법으로 처리하여 1,520g(97.0%수울)이 디-n-부틸주석 산화물을 수득하고, 이를 분석하면 이는 47.72%의 주석함량, 100ppm 미만의 할로겐항량 및 1,200ppm의 트리- 및 모노-n-부틸주석 산화물의 총함량을 갖는다. 최상층으로부터 톨루엔을 제거하여 5.9g의 비스(트리-n-부틸주석)산화물(95.6%순도)을 얻는다. 모노-n-부틸주석 산화물-함유 수층을 이산화탄소 기체로 처리하여 2.6g의 모노-n-부틸주석 산화물(95.9%순도)을 얻는다.

출발물질로부터의 Sn-기준 수율은 99.0%이다.

[실시예 8]

실시예 6에서 사용된 것과 동일한 장치에 410g의 10% 수성 가성 소다를 충전한다. 거기에, 교반 및 80℃에서의 가열하에, 2.2%의 트리-n-옥틸주석 요오다이드 및 1.5%의 모노-n-옥틸주석 트리요오다이드를 함유하는 디-n一옥틸주석 디요오다이드 200g을 적하 깔대기를 통하여 약 5분에 걸쳐 적가한다. 동일온도에서 30분간 가수분해 반응을 행한다. 반응 혼합물에 120g의 부탄올 및 400g의 물을 가하여 비중을 조정한다. 실시예 6과 동일한 침전 현상이 일어나고 반응혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 그후에, 최하층을 실시예 6과 동일한 방법으로 처리하여 115.4g(96.0%수율)의 디-n-옥틸주석 산화물을 얻는다. 분석은 주석 함량이 32.85%이고, 할로겐 함량이 60ppm 미만이고 트리- 및 모노-n-옥틸주석 산화물의 총 함량이 3,000ppm임을 나타낸다.

[실시예 9]

실시예 6에서 사용된 것과 동일한 장치에 590g의 15% 수성 가성 칼리를 충전한다. 거기에, 교반 및 50℃에서의 가열하에, 180g의 t-부탄올에 용해시킨 1.2%의 트리-n-옥틸주석 클로라이드 및 0.9%의 모노-n-옥틸주석 트리요오다이드를 함유하는 모노-n-옥틸주석 트리클로라이드 200g을 적하 깔대기를 통하여 약 10분에 걸쳐 적가하고, 동일 온도에서 1시간동안 가수분해 반응을 행한다. 반응 혼합물에 290g의 물을 가하여 비중을 조정한다. 실시예 1과 동일한 침전현상이 일어나고 반응혼합물이 세개의 뚜렷한 층으로 분리된다. 그 후에, 최하층을 실시예 1과 동일한 방법으로 처리하여 168.0g(96.8%수율)의 디-n-옥틸주석산화물을 얻는다. 분석 데이타는 다음과 같다 : 주석 함량은 32.93%이고, 할로겐 함량은 100ppm미만이고 트리- 및 모노-n-옥틸주석산화물의 총 함량은 2,000ppm이다.

[실시예 10]

실시예 2에서 사용된 것과 동일한 장치에 450g의 30% 수성가성소다를 충전한다. 거기에, 35℃에서 교반하며, 0.8%의 디-n-부틸주석 디클로라이드 및 0.5%의 트리-n-부틸주석 클로라이드를 함유하는 모노-n-부틸주석 트리클로라이드 140g을 적하깔대기를 통해 10분에 걸쳐 적가한다. 이 온도에서 30분간 가수분해반응을 행한다. 반응혼합물에 100ml의 톨루엔 및 500ml의 물을 가한다. 밤새 방치한 후에, 반응혼합물이 세층으로 나뉘어진 것을 각각 분리한다. 꼭대기층은 비스(트리-n-부틸주석)산화물을 함유하는 톨루엔층이고, 바닥층은 디-n-부틸주석산화물을 함유하는 톨루엔층이고, 중간층은 그 안에 용해되어 있는 모노-n-부틸주석산화물의 소듐염을 함유하는 수층이다. 톨루엔을 제거하여 층들을 농축한 후에, 비스(트리-n-부틸주석)산화물 및 디부틸주석산화물을 각각 꼭대기 및 바닥층으로부터 회수한다.

30%염산을 이용하여 수층을 중화시키고, 생성된 결정성 모노 부틸주석산화물 침전을 수집하고, 물로 세척하고 건조시킨다. 이렇게하여 목적생성물이 97.8%수율로 얻어진다.

본 발명은 명세서, 특히 본 발명의 개시부분에서 상세히 설명되었다. 그러나, 본 발명의 요지 또는 범위에 위반되지 않는 한에서 본 발명을 다양하게 변화시키고 변형을 행할 수 있다.

Claims (24)

1. 유기 주석할로겐화물을 가수분해하고, 가수분해 반응혼합물을 세층으로 분리함으로써 목적 유기 주석산화물-함유층을 실질적으로 일-및/또는 이유기 주석산화물을 함유하지 않는 삼유기 주석산화물-함유층, 일유기 주석산화물-함유수층, 또는 실질적으로 일-및/또는 삼유기 주석산화물을 함유하지 않는 이유기 주석산화물-함유층으로서 수득하고, 목적 유기 주석산화물-함유층으로부터 삼-, 일-또는 이유기 주석산화물을 회수함을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기 주석산화물의 분리제조법.
2. 제 1 항에 있어서, 일유기 주석산화물이 모노알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬)이고, 이유기 주석산화물이 디알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬)이고 삼유기 주석산화물이 비스(트리알킬주석) 산화물("알킬"은 C_1∼8알킬), 트리시클로알킬 주석수산화물, 트리아릴 주석수산화물 또는 트리아르알킬 주석수산화물인 분리제조법.
3. 제 1 항에 있어서, 염기성물질 또는 염이 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물, 수산화암모늄, 또는 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물 또는 수산화암모늄과 무기산과의 염인 분리제조법.
4. 제 1 항에 있어서, 물 난용성 유기용매가 가수분해 반응혼합물을 세층으로 분리시킬 수 있는 용매 또는 혼합용매인 분리제조법.
5. 제 1 항에 있어서, 유기주석 할로겐화물이 하기 일반식의 화합물인 분리제조법.

   R_mSnNX_4-m(상기식중, R은 1∼8탄소원자의 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기 또는 아르알킬기이고, X는 할로겐원자이고, m은 1내지 3의 정수이다).
6. 제 5 항에 있어서, 유기 주석할로겐화물이 실질적으로 가수분해반응을 억제 또는 방해할 수 없는 양의 다른 유기 주석할로겐화물(들)을 함유할 수 있는 분리제조법.
7. 유기 주석할로겐화물을 가수분해하고, 물, 염기성물질, 염 및 물 난용성 유기용매로 이루어진 군의 적어도 하나를 가수분해 반응혼합물에 가하여 반응혼합물을 세층으로 분리함으로써 목적 유기 주석산화물-함유층을, 실질적으로 일-및/또는 이유기 주석산화물을 함유하지 않는 삼유기 주석산화물-함유층, 일유기주석산화물-함유수층, 또는 실질적으로 일-및/또는 삼유기 주석산화물을 함유하지 않는 이유기 주석산화물-함유층으로서 수득하고, 목적 유기 주석산화물-함유층으로부터 삼-, 일- 또는 이유기 주석산화물을 회수함을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기 주석산화물의 분리제조법.
8. 제 7 항에 있어서, 일유기 주석산화물이 모노알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬)이고, 이유기 주석산화물이 디알킬 주석산화물("알킬"은 C_1-8알킬)이고 삼유기 주석산화물이 비스(트리알킬주석)산화물("알킬"은 C_1∼8알킬), 트리시클로알킬 주석수산화물, 트리아릴 주석수산화물 또는 트리아르알킬 주석수산화물인 분리제조법.
9. 제 7 항에 있어서, 염기성물질 또는 염이 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물, 수산화암모늄, 또는 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물 또는 수산화암모늄과 무기산과의 염인 분리제조법.
10. 제 7 항에 있어서, 물 난용성 유기용매가 가수분해 반응혼합물을 세층으로 분리시킬 수 있는 용매 또는 혼합용매인 분리제조법.
11. 제 7 항에 있어서, 유기주석 할로겐화물이 하기 일반식의 화합물인 분리제조법.

    R_mSnX_4-m(상기식 중, R은 1∼8탄소원자의 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기 또는 아르알킬기이고, X는 할로겐원자이고, m은 1내지 3의 정수이다).
12. 제 11 항에 있어서, 유기 주석할로겐화물이 실질적으로 가수분해반응을 억제 또는 방해할 수 없는 양의 다른 유기 주석할로겐화물(들)을 함유할 수 있는 분리제조법.
13. 유기 주석할로겐화물을 가수분해하고, 가수분해 반응혼합물 중의 이유기 주석산화물의 입자크기를 증가시키고, 반응혼합물을 세층으로 분리하고, 그럼으로써 목적 유기 주석산화물-함유층을, 이유기 주석산화물-함유층과 삼유기 주석산화물-함유층 및/또는 일유기 주석산화물-함유층사이에 생긴 비중차이에 의해,실질적으로 일-및/또는 이유기 주석산화물을 함유하지 않는 삼유기 주석산화물-함유층, 일유기 주석산화물-함유수층, 또는 실질적으로 일-및/또는 삼유기 주석산화물을 함유하지 않는 이유기 주석산화물-함유층으로서 수득하고, 목적 유기 주석산화물-함유층으로부터 삼-, 일- 또는 이유기 주석산화물을 회수함을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기 주석산화물의 분리제조법.
14. 제 13 항에 있어서, 일유기 주석산화물이 모노알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬)이고, 이유기 주석산화물이 디알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬) 이고 삼유기 주석산화물이 비스(트리알킬주석)산화물("알킬"은 C_1∼8알킬), 트리시클로알킬 주석수산화물, 트리아릴 주석수산화물 또는 트리아르알킬 주석수산화물인 분리제조법.
15. 제 13 항에 있어서, 염기성물질 또는 염이 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물, 수산화암모늄, 또는 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물 또는 수산화암모늄과 무기산과의 염인 분리제조법.
16. 제 13 항에 있어서, 물 난용성 유기용매가 가수분해 반응혼합물을 세층으로 분리시킬 수 있는 용매 또는 혼합용매인 분리제조법.
17. 제 13 항에 있어서, 유기 주석할로겐화물이 하기 일반식의 화합물인 분리제조법.

    R_mSnX_4-m(상기 식중, R은 1∼8탄소원자의 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기 또는 아르알킬기 이고, X는 할로겐원자이고, m은 1내지 3의 정수이다).
18. 제 17 항에 있어서, 유기 주석할로겐화물이 실질적으로 가수분해반응을 억제 또는 방해할 수 없는 양의 다른 유기 주석할로겐화물(들)을 함유할 수 있는 분리제조법.
19. 유기 주석할로겐화물을 가수분해하고, 가수분해 반응혼합물을 세층으로 분리하고, 그럼으로써 목적유기 주석산화물-함유층을, 실질적으로 일- 및/또는 이유기 주석산화물을 함유하지 않는 삼유기 주석산화물-함유층, 일유기 주석산화물-함유수층, 또는 실질적으로 일-및/또는 삼유기 주석산화물을 함유하지 않는 이유기 주석산화물-함유층으로서 수득하고, 목적 유기 주석산화물-함유층으로부터 삼-, 일.- 또는 이유기 주석산화물을 회수하고, 이렇게하여 회수한 유기 주석산화물 중의 하나 또는 둘을 가수분해단계에 재순환시키기에 적절한 할로겐화물 형태로 전환시킴을 특징으로 하는 일-, 이- 또는 삼유기 주석산화물의 분리제조법.
20. 제 19 항에 있어서, 일유기 주석산화물이 모노알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬)이고, 이유기 주석산화물이 디알킬 주석산화물("알킬"은 C_1∼8알킬) 이고 삼유기 주석산화물이 비스(트리알킬주석)산화물("알킬"은 C_1∼8알킬), 트리시클로알킬 주석수산화물, 트리아릴 주석수산화물 또는 트리아르알킬 주석수산화물인 분리제조법.
21. 제 19 항에 있어서, 염기성물질 또는 염이 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물, 수산화암모늄, 또는 알칼리금속 수산화물, 알칼리토금속 수산화물 또는 수산화암모늄과 무기산과의 염인 분리제조법.
22. 제 19 항에 있어서, 물 난용성 유기용매가 가수분해 반응혼합물을 세층으로 분리시킬 수 있는 용매 또는 혼합용매인 분리제조법.
23. 제 19 항에 있어서, 유기 주석할로겐화물이 하기 일반식의 화합물인 분리제조법.

    R_mSnX_4-m(상기식 중, R은 1∼8탄소원자의 알킬기,시클로알킬기,아릴기 또는 아르알킬기이고, X는 할로겐원자이고, m은 1내지 3의 정수이다).
24. 제 23 항에 있어서, 유기 주석할로겐화물이 실질적으로 가수분해반응을 억제 또는 방해할 수 없는 양의 다른 유기 주석할로겐화물(들)을 함유할 수 있는 분리제조법.