Claims (13)
지지체상에 90몰% 이상의 염화은 함량을 갖는 할로겐화은 입자를 함유하는 적어도 1개의 할로겐화은 에멀젼층을 갖는 지지체, 하기 일반식 Ⅰ로 나타낸 화??물 및 상대 반응속도 1.6 이상을 갖는 발색제의 산화 생성물을 비활성화시킬 수 있는 화합물로 구성됨을 특징으로 하는 할로겐화은 사진 감광 재료 일반식 ⅠDeactivating the oxidation product of the support having at least one silver halide emulsion layer containing silver halide particles having a silver chloride content of at least 90 mol% on the support, the compound represented by the following general formula (I), and the coloring agent having a relative reaction rate of 1.6 or more Silver halide photosensitive material, characterized in that it consists of a compound capable of
식중, R1, R2및 R3는 각각 수소 원자 이외의 기를 나타내고, 이 기들은 서로 같거나 또는 상이해도 좋으며, Z는 치환기를 가져도 좋은 헤테로시클릭 고리를 형성하기 위하여 필요한 비금속 원자들의 기이고, X는 수소 원자 또는 발색제의 산화 생성물과 반응시킨 후 분리시킬 수 있는 기이다.Wherein R 1 , R 2 and R 3 each represent a group other than a hydrogen atom, these groups may be the same or different from each other, and Z is a group of nonmetallic atoms necessary to form a heterocyclic ring which may have a substituent X is a group which can be separated after reacting with a hydrogen atom or an oxidation product of a color developer.
제 1 항에 있어서, 상기 R1, R2및 R3로 나타내는 기가 할로겐 원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 아실기, 술포닐기, 카르바모일기, 술파모일기, 숲피닐기, 포스포닐기, 시아노기, 스피로화합물 잔기, 가치달린 탄화수소 화합물 잔기, 알콕시기, 아릴옥시기, 헤테로시클릭 옥시기, 실록시기, 아실옥시기, 카르바모일 옥시기, 아미노기, 아실아미노기, 술폰아미노기, 이미도기, 우레이도기, 술파모일아미노기, 알콕시카르바모일아미노기, 아릴옥시카르바모일기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시 카르보닐기, 알킬티오기, 아릴티오기, 또는 헤테로시클릭 티오기인 것을 특징으로 하는 감광 재료.The group represented by R 1 , R 2 and R 3 is a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, a sulfonyl group, Carbamoyl group, sulfamoyl group, forest finyl group, phosphonyl group, cyano group, spiro compound residue, valuable hydrocarbon compound residue, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group, carba Moyl oxy group, amino group, acylamino group, sulfoneamino group, imido group, ureido group, sulfamoylamino group, alkoxycarbamoylamino group, aryloxycarbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy carbonyl group, alkylthio group, arylthio group, or It is a heterocyclic thio group. Photosensitive material characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 있어서, 상기 일반식Ⅰ로 나타낸 화합물이 하기 구조식 Ⅱ, Ⅲ, Ⅳ, Ⅴ, Ⅵ, 또는 Ⅶ로 나타낸 화합물인 것을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following structural formulas (II), (III), (IV), (V) and (VI).
식 중, R1, R2및 R3는 일반식 Ⅰ에서 정의한 것과 같고, R4, R5, R6, R7, R8, R9및 R10은 각각 치환기이다.In formula, R <1> , R <2> and R <3> are the same as what was defined by General formula I, and R <4> , R <5> , R <6> , R <7> , R <8> , R <9> and R <10> are each a substituent.
제 3 항에 있어서, 상기 R4, R5, R6, R7, R8, R9및 R10이 각각 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 아실아미노기, 벤즈아미도기, 아킬아미노기, 아닐리노기, 알콕시카르보닐기 또는 알킬티오기인 것을 특징으로 하는 감광 재료.The method according to claim 3, wherein R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acylamino group, a benzamido group, an alkyl group. A photosensitive material characterized by being an amino group, an anilino group, an alkoxycarbonyl group or an alkylthio group.
제 1 항에 있어서, 상기 탈색제의 산화 생성물을 비활성시킬 수 있는 화합물이 상대 반응속도 1.6-15를 갖는 것을 특징으로 하는 감광 재료.A photosensitive material according to claim 1, wherein the compound capable of inactivating the oxidation product of the bleaching agent has a relative reaction rate of 1.6-15.
제 1 항에 있어서, 상기 할로겐화은 에멀젼층이 녹색 감성 할로겐화은 에멀젼층인 것을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material as claimed in claim 1, wherein the silver halide emulsion layer is a green sensitive silver halide emulsion layer.
제 6 항에 있어서, 상기 발색재의 산화 생성물을 비활성화시킬 수 있는 화합물이 상기 녹색 감성 할로겐화은 에멀젼층 중에 커플러 1몰당 1×10-4몰 내지 5×10-1몰의 양으로 함유됨을 특징으로 하는 감광 재료.7. The photosensitive compound according to claim 6, wherein the compound capable of deactivating the oxidation product of the coloring material is contained in the green sensitive silver halide emulsion layer in an amount of 1 × 10 −4 mol to 5 × 10 −1 mol per mole of coupler. material.
제 1 항에 있어서, 상기 할로겐화은 입자가 함량 10몰% 이하의 브롬화은과 함량 0.5% 이하의 요오드 화은을 갖는 것을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material as claimed in claim 1, wherein the silver halide particles have a silver bromide content of 10 mol% or less and a silver iodide content of 0.5% or less.
제 8 항에 있어서, 상기 할로겐화은 입자가 함량 1몰%-2몰%의 브롬화은을 갖는클로로브롬화은인 것을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material as claimed in claim 8, wherein the silver halide particles are silver chlorobromide having a silver bromide content of 1 mol% to 2 mol%.
제 1 항에 있어서, 상기 할로겐화은 에멀젼층이 유전상수 6.0미만을 갖는 고비점 유기용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material as claimed in claim 1, wherein the silver halide emulsion layer contains a high boiling point organic solvent having a dielectric constant of less than 6.0.
제10항에 있어서, 상기 고비점 유기용매가 유전상수 1.9-6.0을 갖는 것을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material as claimed in claim 10, wherein the high boiling point organic solvent has a dielectric constant of 1.9 to 6.0.
제11항에 있어서, 상기 고비점 유기용매가 하기 구조식 HA로 표시되는 것임을 특징으로 하는 감광 재료. 구조식 HAThe photosensitive material as claimed in claim 11, wherein the high boiling organic solvent is represented by the following structural formula HA. Structural HA
식중, R1및 R2는 각각 알킬기, 알케닐기 또는 알릴기이고, 단 R1및 R2로 나타낸 기에서 탄소 원자의 총수는 9 내지 32개이다.Wherein R 1 and R 2 are each an alkyl group, an alkenyl group or an allyl group, provided that the total number of carbon atoms in the group represented by R 1 and R 2 is 9 to 32.
제11항에 있어서, 상기 고비점 유기용매가 하기 구조식 HB로 표시되는 것임을 특징으로 하는 감광 재료.The photosensitive material as claimed in claim 11, wherein the high boiling organic solvent is represented by the following structural formula HB.
식중, R3, R4및 R5는 각각 알킬기, 알케닐기, 또는 아릴기이고, 단 R3, R4및 R5로 나타낸 기에서 탄소 원자의 총수는 24-54개이다.Wherein R 3 , R 4 and R 5 are each an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, provided that the total number of carbon atoms in the group represented by R 3 , R 4 and R 5 is 24-54.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.