KR890003353A - 비듬 생성 저지용 머리 미용제 제조 방법 - Google Patents

비듬 생성 저지용 머리 미용제 제조 방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

비듬 생성 저지용 머리 미용제 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (3)

  1. 헤어 토닉이 조성 성분에 비자극, 비이온성 계면활성제인 저급 지방산 모노 에스텔을 첨가하여 비듬 생성 저지용으로 하는 조성.
  2. 헤어 로숀에 비듬 생성 저지 용제로 저급 지방산 모노 에스텔을 첨가하는 조성.
  3. 헤어 크림에 비듬 생성 저지 용제로 저급 지방산 모노 에스텔을 첨가하여 크림을 만드는 조성.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030033515A (ko) * 2001-10-23 2003-05-01 주식회사 엘지이아이 김치실을 구비한 냉장고
KR100607117B1 (ko) * 2000-02-15 2006-08-01 로레알 피부 및/또는 점막의 미생물 부착을 예방하거나저감시키는 제제로서의 피부 및/또는 점막의 물리화학적특성을 변경시킬 수 있는 특정 지질 성분의 용도
KR100607118B1 (ko) * 2000-02-15 2006-08-01 로레알 피부 및/또는 점막의 미생물 부착을 예방하거나저감시키는 제제로서의 피부 및/또는 점막의 물리화학적특성을 변경시킬 수 있는 특정 화합물의 용도

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KR100607117B1 (ko) * 2000-02-15 2006-08-01 로레알 피부 및/또는 점막의 미생물 부착을 예방하거나저감시키는 제제로서의 피부 및/또는 점막의 물리화학적특성을 변경시킬 수 있는 특정 지질 성분의 용도
KR100607118B1 (ko) * 2000-02-15 2006-08-01 로레알 피부 및/또는 점막의 미생물 부착을 예방하거나저감시키는 제제로서의 피부 및/또는 점막의 물리화학적특성을 변경시킬 수 있는 특정 화합물의 용도
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