KR870011142A - 비시클로환계 술폰아미드 유도체의 제조방법 - Google Patents
비시클로환계 술폰아미드 유도체의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR870011142A KR870011142A KR870004976A KR870004976A KR870011142A KR 870011142 A KR870011142 A KR 870011142A KR 870004976 A KR870004976 A KR 870004976A KR 870004976 A KR870004976 A KR 870004976A KR 870011142 A KR870011142 A KR 870011142A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- salt
- sulfonamide derivative
- general formula
- lower alkyl
- producing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (2)
- 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 술폰아미드 유도체 또는 그의 염의 제조방법으로서, 하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 화합물을 Hal-SO2-R2(식중, R2는 치환 또는 비치환된 페닐이며 Hal은 할로겐을 나타낸다.)의 화합물과 반응시키고, 필요에 따라서, 탈보호 반응 및/또는 염 형성반응시킴을 특징으로 하는 술폰아미드 유도체 또는 그의 염의 제조방법.〔상기 식들중,R1은 수소, 저급알킬 또는 염 형성기를 나타내며 ;R1은 수소, 저급알킬을 나타내고 ;R2는 치환 또는 비치환된 페닐을 나타내며 : 및를 나타낸다.〕
- 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 술폰아미드 유도체 또는 그의 염의 제조방법으로서, 하기 일반식(Ⅲ)로 표시되는 화합물을 (Ar)3-HCH2CH2CH2C00R1′(식중, R1′는 수소, 저급알킬이며 Ar은 방향족 탄화수소기를 나타낸다.)의 화합물과 반응시키고, 필요에 따라서, 에스테르화 반응 및/또는 염 형성반응시킴을 특징으로 하는 술폰아미드 유도체 또는 그의 염의 제조방법.〔상기 식들중,R1은 수소, 저급알킬 또는 염 형성기를 나타내며 ;R2는 치환 또는 비치환된 페닐을 나타내고 : 및은또는를 나타낸다.〕※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP115599/1986 | 1986-05-19 | ||
JP11559986 | 1986-05-19 | ||
JP115599 | 1999-01-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR870011142A true KR870011142A (ko) | 1987-12-21 |
KR950001024B1 KR950001024B1 (ko) | 1995-02-07 |
Family
ID=14666612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019870004976A KR950001024B1 (ko) | 1986-05-19 | 1987-05-19 | 비시클로환계 술폰아미드 유도체의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR950001024B1 (ko) |
-
1987
- 1987-05-19 KR KR1019870004976A patent/KR950001024B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR950001024B1 (ko) | 1995-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR850004492A (ko) | 옥시캄의 엔올 에테르 유도체의 제조방법 | |
KR850004754A (ko) | 3-인돌 카르복사미드 화합물류의 제조방법 | |
KR850007252A (ko) | 하이드록시-4-2h-1-벤조티오피란-2-온 유도체의 제조방법 | |
KR830005090A (ko) | 3,7,11,15-테트라메틸-2,4,6,10,14-헥사데카펜타엔 산(酸) | |
KR840001152A (ko) | 신규 복소환(複素環) 화합물의 제법 | |
KR880011103A (ko) | 5-아미노-4,6-디할로게노피리딘의 제조방법 | |
KR850001724A (ko) | 4-페닐-4-옥소-부텐-2-오인산유도체의 제조방법 | |
KR840004422A (ko) | 사이프로헵타딘-3-카복실산의 에스테르 및 관련 화합물의 제조방법 | |
KR870011142A (ko) | 비시클로환계 술폰아미드 유도체의 제조방법 | |
KR830005191A (ko) | 푸란유도체의 제조방법 | |
KR850002979A (ko) | 1,2,3-트리티안화합물의 신규 제조방법 | |
KR830005225A (ko) | 데오필린의 피페라진 유도체의 제조방법 | |
KR840002821A (ko) | N-(2,3-에폭시프로필렌)-n-아르알킬술폰아미드 유도체의 제조방법 | |
KR860002486A (ko) | 티아진포스폰산 유도체의 제조방법 | |
KR860004051A (ko) | 치환된 페닐피페라진 유도체의 제조방법 | |
KR860008184A (ko) | 디옥솔로벤조이소옥사졸 유도체의 제법 | |
KR840005153A (ko) | 신규 유기인산염의 농약의 제조방법 | |
KR870011144A (ko) | 세팔로스포린 유도체의 제조방법 | |
KR890002176A (ko) | 신규한 세펨 화합물 | |
KR850004583A (ko) | 페닐아세트아닐리드 유도체의 제조방법 | |
KR880000384A (ko) | 안식향산 유도체의 제조방법 | |
KR840004105A (ko) | N,n- 치환된 아졸 카복스 아미드 유도체의 제조방법 | |
KR860003251A (ko) | 에르골린 유도체의 제조방법 | |
KR850005450A (ko) | N-포스포릴-또는 n-티오포스포릴-n'-s-트리아지닐-포름아미딘의 제조방법 | |
KR870007094A (ko) | 벤조일아세트 산 에스테르 유도체의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20040119 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |