KR840001676B1 - Photocurable composition - Google Patents

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힝와이 람 쥬리아
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제네랄 일렉트릭 캄파니
삼손 헬프콭
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Abstract

Photo-hardenable, cationically polymerization org. material, (A), is deep-hardened by(i) adding 0.1-15 wt. % A, of a triarylsulphonium salt, )I), as photo-initiator, and (ii) irradiating the mixt. I has formula ((R)a(R1)b(R2)cs)(Y)(where R is a monovalent org. radical terminated with other than aryl); and (iii) 0.1-10 parts wt. of organo titanate; and (b) heating the mixt. at from the m.P of the copolymer to 200oC. Pref. the copolymer is of ethylene-ethyl acrylate, the difunctional compd. is decane-diol and the organo-titanate is tetraisopropyl titanate. The polymer can be cured at rapid rates without high pressure and prepd. without silane compds.

Description

광경화성 조성물Photocurable composition

본 발명은 광경화성 조성물에 관한 것이다. 좀더 상세히 설명하면, 본 발명은 양이온 중합성 유기물질과 유효량의 특정 트리아릴설포늄 염 광개시제(photoinitiator)로 이루어진 광경화성(photocurable) 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition. More specifically, the present invention relates to a photocurable composition consisting of a cationic polymerizable organic material and an effective amount of a specific triarylsulfonium salt photoinitiator.

크리벨로(crivello)의 미합중국 특허 제4,058,401호, 제4,069,055호 및 제4,161,478호에 기술된 바와 같이 에폭시 수지 및 다른 양이온 중합성 유기물질은 다양한 아릴 설포늄염과 함께 자외선의 존재하에 신속히 경화된다. 이와같은 광경화성 조성물 및 광개시제를 사용하여 귀중한 결과를 수득할 수 있지만, 통상적으로 언급된 양이온 중합성 유기물질은 약 60초 이하의 시간내에서는 약 10 내지 15밀의 두께까지 비점착성 상태로 된다. 그러나, 전자 부품의 캡슐화 및 보호피복 등의 특정 용도에서는 다양한 양이온 중합성 유기물질의 심부(deep section), 즉 20밀 이상의 경화를 필요로 한다. 따라서, 트라아릴설포늄염 광개시제의 사용은 어느 정도 제한을 받아왔다.Epoxy resins and other cationically polymerizable organics, along with various aryl sulfonium salts, rapidly cure in the presence of ultraviolet light, as described in Crivelo, US Pat. Nos. 4,058,401, 4,069,055, and 4,161,478. While valuable results can be obtained using such photocurable compositions and photoinitiators, conventionally mentioned cationically polymerizable organic materials become non-tacky to a thickness of about 10 to 15 mils in less than about 60 seconds. However, certain applications such as encapsulation and protective coating of electronic components require deep sections of various cationic polymerizable organic materials, i. Thus, the use of traarylsulfonium salt photoinitiators has been somewhat limited.

본 발명은, 하기 일반식(1)의 광개시제를 후술하려는 특정 유기 광증감제(sensitizer)와 함께 사용할 경우 자외선 또는 가시광선의 존재하에서 에폭시수지, 페놀포름알데히드 수지, 비닐 에테르, 에피설파이드 및 시클릭아민 등과 같은 매우 다양한 양이온 중합성 유기물질의 심부 경화에 유용하다는 사실에 기초를 두고 있다 :The present invention, when using the photoinitiator of the general formula (1) with a specific organic sensitizer to be described later in the presence of ultraviolet or visible light epoxy resin, phenolformaldehyde resin, vinyl ether, episulfide and cyclic amine It is based on the fact that it is useful for deep curing of a wide variety of cationically polymerizable organic materials such as:

[(R)a(R1)b(R2)c(S]+[Y]-(1)[(R) a (R 1 ) b (R 2 ) c (S) + [Y] - (1)

상기식에서,In the above formula,

R은 일반식

Figure kpo00001
R is a general formula
Figure kpo00001

[여기서, R3는 탄소수 1 내지 13의 1가 또는 2가 방향족 라디칼이고, R4는 탄소수 6 내지 13의 2가 또는 3가 방향족 라디칼이며, X는 -S- 또는 -O-이고, Z는

Figure kpo00002
, -O-, -S-,
Figure kpo00003
,
Figure kpo00004
또는 -(CH2)e-(여기서, R5는 탄소수 1 내지 13의 유기라디칼이고, e는 1 내지 4의 정수이다)이며, d는 0 또는 1이다]의 1가 유기라디칼이고, R1은 탄소수 6 내지 13의 1가 방향족 유기라디칼이며, R2는 헤테로시클릭 또는 융합환 구조를 형성하는 탄소수 6 내지 20의 2가 방향족 라디칼이고, Y는 MQn 비-친핵성 음이온(여기서, M은 인 및 비소로부터 선택된 금속 또는 비금속이고, Q는 할로겐이며, n은 4 내지 6이다)이며, a는 1 내지 3의 정수이고, b는 0 내지 2의 정수이며, c는 0 또는 1(단, a+b+c의 합은 3이다)이다.[Wherein R 3 is a monovalent or divalent aromatic radical having 1 to 13 carbon atoms, R 4 is a divalent or trivalent aromatic radical having 6 to 13 carbon atoms, X is -S- or -O-, and Z is
Figure kpo00002
, -O-, -S-,
Figure kpo00003
,
Figure kpo00004
Or-(CH 2 ) e- (wherein R 5 is an organic radical having 1 to 13 carbon atoms, e is an integer of 1 to 4), d is 0 or 1], a monovalent organic radical, and R 1 Is a monovalent aromatic organic radical having 6 to 13 carbon atoms, R 2 is a divalent aromatic radical having 6 to 20 carbon atoms forming a heterocyclic or fused ring structure, and Y is an MQn non-nucleophilic anion wherein M is A metal or nonmetal selected from phosphorus and arsenic, Q is halogen, n is 4 to 6, a is an integer from 1 to 3, b is an integer from 0 to 2, and c is 0 or 1 the sum of a + b + c is 3).

전술된 양이온 중합성 유기물질의 경화속도는, 일반식(1)의 광개시제를 사용할 경우 선행기술의 광재시제를 사용할 때보다 상당히 신속하다.The cure rate of the cationic polymerizable organic material described above is considerably faster when using the photoinitiator of the general formula (1) than when using the slag initiator of the prior art.

일반식 (1)에서 Y로 표기된 비-친핵성 음이온의 예는 MQn(여기서, M은 금속 또는 비금속이고, Q는 할로겐 라디칼이며, n은 4 내지 6이다)이며, 바람직한 것은 PF6 -및 AsF6 -와 같은 MF6이다. 또한, Y의 예에는 과염소산염, CF3SO3 -, C6H4SO3 -, Cl-, Br-, F-, I-, 질산염, 인산염, CF3CO2 -및 FPO4 -가 포함될 수 있다.Examples of non-nucleophilic anions denoted by Y in formula (1) are MQn, where M is a metal or nonmetal, Q is a halogen radical and n is 4 to 6, with PF 6 and AsF being preferred. 6 - same as MF 6 . Also, examples of Y include perchlorate, CF 3 SO 3 -, C 6 H 4 SO 3 -, Cl -, Br -, F -, I -, nitrate, phosphate, CF 3 CO 2 - and FPO 4 - contain Can be.

본 발명은, 양이온 중합성 유기물질 및 일반식(1)의 광개시제의 유효량으로 이루어진 광경화성 조성물을 제공한다.The present invention provides a photocurable composition comprising an effective amount of a cationic polymerizable organic material and a photoinitiator of the general formula (1).

일반식 (1)에서 R로 표기된 라디칼의 예는,Examples of the radical represented by R in general formula (1) are

Figure kpo00005
Figure kpo00005

; 및 상응하는, 메틸, 메톡시, 에틸, 프로필 또는 부톡시와 같은 탄소수 1 내지 8의 알킬 또는 알콕시 라디칼 1 내지 4개, 또는 염소, 브롬 또는 불소 등의 할로겐라디칼 1 내지 4개로 치환된 상기 라디칼들의 유도체이다. R1으로 표기된 라디칼의 보다 구체적인 예는 페닐, 톨일, 크실일, 나프틸 또는 안트릴이다. R2로 표기된 라디칼의 예는,; And corresponding radicals substituted with 1 to 4 alkyl or alkoxy radicals having 1 to 8 carbon atoms such as methyl, methoxy, ethyl, propyl or butoxy, or 1 to 4 halogen radicals such as chlorine, bromine or fluorine. Derivatives. More specific examples of radicals designated as R 1 are phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl or anthryl. Examples of radicals represented by R 2 are

Figure kpo00006
Figure kpo00006

(여기서, Z는 전술된 바와 동일하다)이다.(Where Z is the same as described above).

일반식(1)의 트리아릴설포늄염의 예에는, 하기 구조식의 화합물이 포함된다:Examples of the triarylsulfonium salt of the general formula (1) include compounds of the following structural formula:

Figure kpo00007
Figure kpo00007

Figure kpo00008
Figure kpo00008

일반식(1)의 트리아릴설포늄염은, 1979년 6월 6일 출원되어 현재 계류중인 미합중국 특허원 제046,115호에 기술된 방법으로 제조할 수 있다. 하기와 같이, 디아릴티오에테르를 구리(Ⅱ)촉매의 존재하에 디아릴 요도늄염과 반응시킬 수 있다 :The triarylsulfonium salt of formula (1) may be prepared by the method described in US Patent Application No. 046,115, filed June 6, 1979 and currently pending. Diarylthioethers can be reacted with diaryl iodonium salts in the presence of a copper (II) catalyst as follows:

Figure kpo00009
Figure kpo00009

상기식에서, R, R1, M, Q 및 n는 전술된 바와 동일하다.Wherein R, R 1 , M, Q and n are the same as described above.

에이치·엠·핏츠(H. M. Pitts)의 미합중국 특허 제2,807,648호에는, AlCl3를 사용하여 방향족 탄화수소를 직접 프리델 크래프트 축합(Friedel Crafts condensation)시키는 방법이 기술되어 있다. 일반식(1)의 광개시제중의 일부를 제조하기 위해 사용할 수 있는 방법은, 하기와 같이 일염화 황 및 염소의 사용에 기초를 두고 있다:U.S. Patent No. 2,807,648 to HM Pitts describes a method of directly fryingel crafts condensation of aromatic hydrocarbons using AlCl 3 . Methods that can be used to prepare some of the photoinitiators of Formula (1) are based on the use of sulfur monochloride and chlorine as follows:

Figure kpo00010
Figure kpo00010

상기의 트리아릴설포늄염은, KMQn, KMF6또는 NaMF6등과 같은 알칼리금속 MQn 또는 MF6염을 사용하는 치환 반응(metathesis)에 의해 Y가 MQn 또는 MF6인 일반식(1)의 바람직한 광개시제로 전환시킬수 있다.The triarylsulfonium salt is a preferred photoinitiator of the general formula (1) wherein Y is MQn or MF 6 by substitution reaction using an alkali metal MQn or MF 6 salt such as KMQn, KMF 6 or NaMF 6 . You can switch.

본 발명의 광경화성 조성물에 사용할 수 있는 유기중합물질에는, 1개 또는 다수의 에폭시작용기를 함유하는 단량체성, 이량체성 또는 올리고머성 또는 중합체성 에폭시 물질과 같은 에폭시 수지가 포함된다. 예를 들어, 비스페놀-A(4,4-이소프로필리덴 디페닐)과 에피클로로히드린의 반응으로부터 생성된 수지 또는 저분자량의 페놀포름알데히드 수지(노볼락 수지)와 에피클로로 히드린과의 반응에 의하여 생성된 수지를 단독으로 사용하거나, 반응 희석제인 에폭시-함유 화합물과 혼합하여 사용할 수 있다. 페닐 글리시딜 에테르, 4-비닐 시클로헥센 디옥사이드, 리모넨 디옥사이드, 1,2-시클로헥센 옥사이드, 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메트 아크릴레이트, 스티렌 옥사이드, 또는 알릴 글리시딜 에테르 등과 같은 희석제는 점도 조절제로 첨가시킬 수 있다.Organic polymers that can be used in the photocurable compositions of the present invention include epoxy resins such as monomeric, dimeric or oligomeric or polymeric epoxy materials containing one or more epoxy functional groups. For example, a resin produced from the reaction of bisphenol-A (4,4-isopropylidene diphenyl) with epichlorohydrin or a reaction of a low molecular weight phenolformaldehyde resin (novolak resin) with epichlorohydrin The resin produced by the above may be used alone or in combination with an epoxy-containing compound which is a reaction diluent. Diluents such as phenyl glycidyl ether, 4-vinyl cyclohexene dioxide, limonene dioxide, 1,2-cyclohexene oxide, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, styrene oxide, or allyl glycidyl ether, etc. It can be added as a viscosity regulator.

또한, 이들 화합물의 범위는 말단 또는 측위 에폭시 그룹을 갖는 중합물질로 확대시킬 수 있다. 이들 화합물의 예는, 코모노머(comonomer)중의 한가지로서 메트 아크릴레이트 또는 글리시딜 아크릴레이트를 함유하는 비닐 공중합체이다. 전술된 촉매를 사용하여 쉽게 경화시킬 수 있는 에폭시-함유 중합체의 다른 부류는 에폭시-실록산 수지, 에폭시-폴리 우레탄 및 에폭시-폴리에스테르이다. 통상적으로, 이와같은 중합체는 이의 쇄 말단에 에폭시 작용기를 갖는다. 하기의 참조문헌에는 에폭시 실록산 수지 및 이의 제조방법이 더욱 상세히 기술되어 있다[참조문헌 : E. P. Plueddemann 및 G. Fanger, J. Am. Chem. Soc. 80,632-5(1959)]. 미합중국 특허 제 2,935,488호, 제 3,235,620호, 제 3,369,055호, 제 3,379,653호, 제 3,398,211호, 제 3,403,199호, 제 3,563,840호, 제 3,567,797호, 및 제 3,677,955호에 기술된 바와 같이, 에폭시 수지는 아민, 카복실산, 티올, 페놀 또는 알콜등과 반응시키는 것과 같은 다수의 표준 방법에 의해서도 개질시킬 수 있다. 에폭시 수지와 함께 사용할 수 있는 다른 공반응물은, 하기의 참조문헌에 기술된 히드록시-말단 폴리에스테르와 같은 히드록시-말단 가요제(flexibilizer)이다[참조문헌:Encyclopedia of Polymer Science and Technology Vol. 6, 1967, Interscience Publishers, New York, pp. 209-271, 특히 p.238]In addition, the scope of these compounds can be extended to polymeric materials having terminal or positioning epoxy groups. Examples of these compounds are vinyl copolymers containing methacrylate or glycidyl acrylate as one of the comonomers. Other classes of epoxy-containing polymers that can be easily cured using the catalysts described above are epoxy-siloxane resins, epoxy-polyurethanes and epoxy-polyesters. Typically, such polymers have epoxy functional groups at their chain ends. The following references describe epoxy siloxane resins and methods for their preparation in more detail. [References: E. P. Plueddemann and G. Fanger, J. Am. Chem. Soc. 80,632-5 (1959). Epoxy resins are amine, carboxylic acid, as described in U.S. Pat.Nos. It can also be modified by a number of standard methods such as reacting with thiols, phenols or alcohols. Another co-reactant that can be used with the epoxy resin is a hydroxy-terminated flexibilizer, such as the hydroxy-terminated polyester described in the following references. Encyclopedia of Polymer Science and Technology Vol. 6, 1967, Interscience Publishers, New York, pp. 209-271, especially p.238]

본 발명에 사용할 수 있는 포름알데히드 열경화성 유기 축합수지의 예는 우레아형 수지 및 페놀-포름 알데히드 형 수지등이다.Examples of the formaldehyde thermosetting organic condensation resin that can be used in the present invention are urea resins, phenol-formaldehyde resins, and the like.

또한, 멜아민 티오우레아 수지, 멜아민 또는 우레아 알데히드 수지, 크레졸-포름 알데히드 수지를 사용할 수 있으며, 이들을 폴리에스테르, 알키드 및 폴리설파이드와 같은 다른 카복시-, 히드록실-, 아미노- 및 머캡토-함유 수지와 함께 혼합하여 사용할 수도 있다.In addition, melamine thiourea resins, melamine or urea aldehyde resins, cresol-formaldehyde resins can be used, and these are carboxy-, hydroxyl-, amino- and mercapto-containing, such as polyesters, alkyds and polysulfides. It can also mix and use with resin.

본 발명의 중합성 조성물의 제조에 사용할 수 있는 비닐 유기 예비중합체(prepolymer)의 예는, 구조식 CH2=CH-O-(CH2-CH2O)n'-CH=CH2(여기서, n'는 약 1,000이하 또는 그 이상의 양정수이다)의 다-작용성 비닐에테르(예 : 1,2,3-프로판 트리비닐 에테르 또는 트리메틸올 프로판 트리 비닐에테르), 구조식Examples of vinyl organic prepolymers that can be used in the preparation of the polymerizable composition of the present invention include the structure CH 2 = CH-O- (CH 2 -CH 2 O) n '-CH = CH 2 , wherein n Is a polyfunctional vinyl ether (eg, 1,2,3-propane trivinyl ether or trimethylol propane trivinylether) of up to about 1,000 or more positive integers,

Figure kpo00011
Figure kpo00011

의 예비중합체, 및 25℃에서의 점도가 200내지 10,000센티포이즈인 저분자량 폴리부타디엔등이다. 이와 같은 조성물을 경화시켜 수득된 제품은 인쇄용 잉크 및 열경화성 수지의 통상적인 다른 용도로 사용할 수있다.And low molecular weight polybutadiene having a viscosity at 200C of 200 to 10,000 centipoise. Products obtained by curing such compositions can be used for printing and inks and other conventional applications of thermosetting resins.

본 발명의 중합 조성물에 사용할 수 있는 유기 물질의 또 다른 예는, 열 가소성 수지로 전환시킬 수 있는 시클릭 에테르이다. 이와같은 시클릭 에테르의 예로는, 쉬뢰터(Schroeter)의 미합중국 특허 제 3,673,216호에 기술된 알콕시 옥세탄 및 3,3-비스-클로로메틸옥세탄과 같은 옥세탄 ; 테트라하이드로푸란, 옥세판, 산소-함유 스피로 화합물, 트리옥산 또는 디옥소란등과 같은 옥소란이 있다.Another example of an organic material that can be used in the polymerization composition of the present invention is a cyclic ether that can be converted to a thermoplastic resin. Examples of such cyclic ethers include oxetane, such as the alkoxy oxetane and 3,3-bis-chloromethyloxetane described in Schroeter, US Pat. No. 3,673,216; Oxolanes such as tetrahydrofuran, oxepane, oxygen-containing spiro compounds, trioxane or dioxolane and the like.

시클릭 에테르 이외에도,

Figure kpo00012
-락톤(예 ; 프로피오락톤)과 같은 시클릭 에스테르, 1,3,3-트리메틸-아제티딘과 같은 시클릭아민, 및 하기 구조식의 물질과 같은 오가노 실리콘 시클릭을 사용할 수도 있다.In addition to cyclic ethers,
Figure kpo00012
Cyclic esters such as -lactone (e.g. propiolactone), cyclic amines such as 1,3,3-trimethyl-azetidine, and organo silicone cyclics such as the materials of the following structural formulas can also be used.

Figure kpo00013
Figure kpo00013

상기식에서, R"는 메틸 또는 페닐과 같은 동일 또는 상이한 1가 유기라디칼이고, m은 3내지 8의 정수이다.Wherein R ″ is the same or different monovalent organic radical, such as methyl or phenyl, and m is an integer from 3 to 8.

오가노실리콘 시클릭의 예로는 헥사메틸트리실록산 및 옥타메틸 테트라실록산 등이 있다. 본 발명에 따라 제조된 생성물은 고분자량의 오일 및 고무이다.Examples of organosilicon cyclics include hexamethyltrisiloxane, octamethyl tetrasiloxane, and the like. The products prepared according to the invention are high molecular weight oils and rubbers.

본 발명의 광경화성 조성물은, 양이온 중합성 유기 물질을 유효량, 예를들어 광경화성 조성물의 0.1내지 15중량%의 일반식(1)의 트리 아릴설포늄 염과 혼합하여 제조할 수 있다.The photocurable composition of this invention can be manufactured by mixing a cationically polymerizable organic substance with the triarylsulfonium salt of General formula (1) of 0.1-15 weight% of an effective amount, for example, a photocurable composition.

어떤 경우에는, 아세톤, 니트로메탄 및 아세토니트릴과 같은 유기 용매를 사용하여 다양한 성분들의 혼합을 용이하게 할 수 있다. 필요시, 디아릴요도늄염을 동일 반응계내에서 생성시킬 수도 있다. 또한, 경화성 조성물에는, 실리카, 활석, 점토, 유리섬유, 증량제, 수화알루미나, 탄소 섬유 및 가공보조제등과 같은 비활성 성분들을 양이온 중합성 유기물질 100중량부당 500부의 양으로 첨가시킬 수 있다. 본 발명의 경화성 조성물은 금속, 고무, 플라스틱, 필름의 성형부, 종이, 목재, 유리, 직물, 콘크리이트 또는 세라믹과 같은 기판에 도포시킬 수 있다.In some cases, organic solvents such as acetone, nitromethane and acetonitrile may be used to facilitate mixing of the various components. If necessary, the diaryl iodonium salt may be produced in situ. In addition, to the curable composition, inert components such as silica, talc, clay, glass fibers, extenders, hydrated alumina, carbon fibers, and processing aids may be added in an amount of 500 parts per 100 parts by weight of the cationic polymerizable organic material. The curable composition of the present invention can be applied to substrates such as metal, rubber, plastics, molded parts of films, paper, wood, glass, textiles, concrete or ceramics.

본 발명의 경화성 조성물의 용도는, 예를 들어 보호, 장식 및 절연 피복, 폿팅(potting) 조성물, 인쇄잉크, 봉합제, 접착제, 성형화합물, 전선절연, 섬유피복, 적층, 함침테이프 또는 바니쉬등이다.Uses of the curable compositions of the invention are, for example, protective, decorative and insulating coatings, potting compositions, printing inks, sutures, adhesives, molding compounds, wire insulation, fiber coatings, laminations, impregnated tapes or varnishes and the like. .

당업자들이 본 발명을 보다 용이하게 수행할 수 있도록 하기 위하여 하기의 실시예를 제공하는 것이며, 이것으로 본 발명을 제한하고자 함이 아니다. 실시예에서의 모든 부는 중량 기준이다.In order to enable those skilled in the art to more easily carry out the present invention, the following examples are provided, which are not intended to limit the present invention. All parts in the examples are by weight.

[실시예 1]Example 1

86%수산화 칼륨 19.6부, 티오페놀 33부 및 디메틸 아세트 아미드 약 120부의 혼합물을 교반시키면서 120℃로 가열시켜 물을 제거시킨다. 약 6.5부의 물을 모은 다음, 생성 혼합물에 26.3부의 파라-디브로모벤젠을 첨가시키고, 환류 가열시킨다. 6시간동안 환류시킨 다음, 반응 혼합물을 냉각시키고 300부의 물을 첨가시킨다. 생성된 황갈색 고체를 여과시키고, 물로 수회 세척시킨 다음, 생성물을 건조시킨다. 이와같은 방법을 사용하여 34.7부의 1.4-디티오펜옥시벤젠을 수득한다.A mixture of 19.6 parts of 86% potassium hydroxide, 33 parts of thiophenol and about 120 parts of dimethyl acetamide is heated to 120 ° C. while stirring to remove water. About 6.5 parts of water are collected, then 26.3 parts of para-dibromobenzene is added to the resulting mixture and heated to reflux. After refluxing for 6 hours, the reaction mixture is cooled and 300 parts of water is added. The resulting tan solid is filtered off, washed several times with water and then the product is dried. Using this method, 34.7 parts of 1.4-dithiophenoxybenzene are obtained.

전술된 디설파이드 7.35부, 디페닐요도늄 헥사플루오로아르시네이트 11.75부 및 구리 벤조에이트 0.2부의 혼합물을 120℃로 3시간동안 가열시킨다. 생성반응 혼합물을 1회당 약 50부의 디에틸에테르로 수회 세척시키고, 잔류고체를 95% 에탄올로 재결정시켜 69

Figure kpo00014
내지 75℃의 융점을 갖는 매우 밝은 황갈색의 결정성 생성물을 45%의 수율로 수득한다.The mixture of 7.35 parts of disulfide described above, 11.75 parts of diphenyliodonium hexafluoroarcinate and 0.2 parts of copper benzoate is heated to 120 ° C. for 3 hours. The resulting reaction mixture was washed several times with about 50 parts of diethyl ether each time and the remaining solid was recrystallized from 95% ethanol to give 69
Figure kpo00014
A very light tan crystalline product having a melting point of from 75 ° C. to a yield of 45% is obtained.

생성물의 원소분석 결과는 하기와 같다 :Elemental analysis of the product is as follows:

계산치 : %C, 51.3 ; %H, 3.50 ; %S, 11.43Calculated Value:% C, 51.3; % H, 3.50; % S, 11.43

실측치 : %C, 51.21 ; %H, 3.59 ; %S, 11.37Found:% C, 51.21; % H, 3.59; % S, 11.37

이와같은 용법을 사용하여 하기 구조식의 트리아릴 설포늄염을 수득한다.Using this method, the triaryl sulfonium salt of the following structural formula is obtained.

Figure kpo00015
Figure kpo00015

4-비닐시클로헥센 디옥사이드 중의 전술된 광개시제 3%용액을 제조한다. 트리페닐설포늄 헥사플루오로 아르시네이트에 대하여도 유사한 용액을 제조한다. 이어서, 각각의 용액의 점착성 소멸시간은, 유리 슬라이드 상에 1밀 두께의 필름으로 도포시킨 기판으로부터 6인치 이격시킨 위치에서 GE H3T7 수은 아크램프를 사용하여 측정한다. 본 발명의 광개시제는 1초 미만의 점착성 소멸시간을 갖는 반면에, 트리페닐설포늄 헥사플루오로아르시네이트 혼합물은 약 5초의 점착성 소멸 시간을 갖는다.Prepare 3% solution of photoinitiator as described above in 4-vinylcyclohexene dioxide. Similar solutions are prepared for triphenylsulfonium hexafluoro arcinate. The sticky extinction time of each solution is then measured using a GE H3T7 mercury arc lamp at a position 6 inches apart from the substrate coated with a 1 mil thick film on a glass slide. The photoinitiators of the present invention have a sticky disappearance time of less than 1 second, while the triphenylsulfonium hexafluoroarcinate mixture has a sticky disappearance time of about 5 seconds.

[실시예 2]Example 2

37.2부의 디페닐설파이드와 13.34부의 염화 알루미늄 혼합물에 총 9.5부의 염소를 교반시키면서 첨가시킨다. 반응 혼합물을 500부의 얼음에 부어 염화 알루미늄 착화물을 분해시킨다. 수득된 백색 반-고체를 1회당 200부의 열수(hot water)로 2회 세척시킨 다음, 잔류물에 27.8부의 칼륨 헥사플루오로 아르시네이트 및 500부의 열수를 첨가시켜 30℃의 온도에서 1시간동안 교반시킨다. 오렌지색 오일을 분리시키고, 수용액을 경사시켜 회수한다. 물로 수회 세척시킨 다음, 최종적으로 무수 에틸 에테르로 세척하여 정제시킨다. 이어서, 생성물을 60℃에서 감압하에 16시간동안 건조시킨다. 이어서, 생성물을 95% 에탄올로 재결정시켜, 77

Figure kpo00016
내지 87℃의 융점을 갖는 트리아릴 설포늄 염을 31%의 수율로 수득한다. 이상과 같은 방법에 의하여 하기 구조식의 염을 수득한다.A total of 9.5 parts of chlorine is added to 37.2 parts of diphenylsulfide and 13.34 parts of aluminum chloride with stirring. The reaction mixture is poured onto 500 parts of ice to decompose the aluminum chloride complex. The obtained white semi-solid was washed twice with 200 parts of hot water per time, and then 27.8 parts of potassium hexafluoro arcinate and 500 parts of hot water were added to the residue for 1 hour at a temperature of 30 ° C. Stir. The orange oil is separated and the aqueous solution is recovered by decanting. It is washed several times with water and finally purified by washing with anhydrous ethyl ether. The product is then dried at 60 ° C. under reduced pressure for 16 hours. The product was then recrystallized from 95% ethanol, 77
Figure kpo00016
Triaryl sulfonium salts having a melting point of from 87 ° C. are obtained in a yield of 31%. The salt of the following structural formula is obtained by the above method.

Figure kpo00017
Figure kpo00017

[실시예 3]Example 3

3,4-에폭시시클로 헥실메틸-3',4'-에폭시 시클로헥산 카복실레이트와 광개시제로서 트리페닐 설포늄헥사플루오로 아르시네이트(선행기술) 및 본 발명의 광개시제(실시예 2)로 각각 이루어진 3% 용액을 제조한다. 증가 두께의 필름을 유리판 상에 도포시키고, 필름으로부터 6인치 이격시킨 거리에서 GE H3T7 중간압력 수은 아크램프를 사용하여 1분간 경화시킨다. 전술된 광개시제들을 사용하여 비-점착성 상태로 경화시킬 수 있는 필름의 최대두께는 하기와 같다 :Consisting of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxy cyclohexane carboxylate and triphenyl sulfonium hexafluoro arcinate (prior art) as photoinitiator and photoinitiator of the present invention (Example 2), respectively Prepare a 3% solution. An increasing thickness of film is applied on the glass plate and cured for 1 minute using a GE H3T7 medium pressure mercury arc lamp at a distance of 6 inches from the film. The maximum thickness of the film that can be cured in a non-tacky state using the photoinitiators described above is as follows:

[표 Ⅰ]TABLE I

Figure kpo00018
Figure kpo00018

상기의 결과를 보면, 일반식(1)의 광개시제를 함유하는 본 발명의 광경화성 조성물은 선행 기술의 광경화성 조성물의 4배 이상의 두께로 경화된다는 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the photocurable composition of the present invention containing the photoinitiator of the general formula (1) is cured to a thickness of at least four times that of the photocurable composition of the prior art.

[실시예 4]Example 4

실시예 2의 광개시제와 양이온 중합성 유기물질로서 시클로헥센 옥사이드를 사용하여 다른 광경화성 조성물을 제조한다. 용액은 시클로헥센 옥사이드 1리터당 0.021몰의 광개시제를 함유한다. 이들 광경화성 혼합물의 일부(3㎖)를 취하고, Hanovia 450중간압력 수은 아크램프를 사용하여 밀봉 상태하에서 조사시킨다.분취물을 주기적으로 꺼내어 다양한 시간에서 급냉시키고, 메탄올 중에서 침전시켜 중합체를 분리시킨다. 광경화 생성물을 여과에 의해 회수하고, 60℃에서 진공하에 밤새 건조시킨다. 중합체를 계량하여 %전환률을 측정한다. 하기의 표에는 수득된 결과가 %전환률로 수록되어 있다.Another photocurable composition is prepared using the photoinitiator of Example 2 and cyclohexene oxide as the cationically polymerizable organic material. The solution contains 0.021 moles of photoinitiator per liter of cyclohexene oxide. A portion (3 mL) of these photocurable mixtures are taken and irradiated under sealed conditions using a Hanovia 450 medium pressure mercury arc lamp. The aliquots are taken out periodically, quenched at various times and precipitated in methanol to separate the polymer. The photocured product is recovered by filtration and dried overnight at 60 ° C. under vacuum. The polymer is weighed to determine the% conversion. The table below lists the results obtained in% conversion.

[표 Ⅱ]TABLE II

Figure kpo00019
Figure kpo00019

[실시예 5]Example 5

시클로헥센 옥사이드 대신에 2-클로로에틸렌 비닐에테르를 사용하여 실시예 4의 절차를 반복한다. 혼합물의 4㎖ 분취액을 실시예 4와 동일한 방법에 따라 조사시켜 하기와 같은 %전환률을 수득한다 :The procedure of Example 4 is repeated using 2-chloroethylene vinyl ether instead of cyclohexene oxide. A 4 ml aliquot of the mixture was irradiated according to the same method as in Example 4 to obtain the following% conversions:

[표 Ⅲ]TABLE III

Figure kpo00020
Figure kpo00020

상기의 결과를 보면, 본 발명의 광개시제가 선행기술의 광개시제보다 탁월함을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the photoinitiator of the present invention is superior to the photoinitiator of the prior art.

[실시예 6]Example 6

시클로헥센 옥사이드 대신에 트리옥산과 염화메틸렌을 각각 사용하여 실시예 4의 절차를 반복한다. 1.386×10-1몰의 트리옥산과 1.386×10-4몰의 광개시제를 각각 함유하는 용액을 제조한다. 이어서, 혼합물을 실시예 5의 방법으로 조사시켜 하기의 %전환률을 수득한다.The procedure of Example 4 is repeated using trioxane and methylene chloride, respectively, instead of cyclohexene oxide. A solution containing 1.386 × 10 −1 mole trioxane and 1.386 × 10 −4 mole photoinitiator, respectively, was prepared. The mixture is then irradiated by the method of Example 5 to yield the following% conversions.

[표 Ⅳ]Table IV

Figure kpo00021
Figure kpo00021

[실시예 7]Example 7

디에틸렌글리콜 디비닐 에테르와 트리페닐 설포늄 헥사플루오로아르시네이트로 이루어진 1%용액과 디에틸렌 글리콜 디비닐 에테르와 실시예 2에서의 본 발명 광개시제로 이루어진 1% 용액을 제조한다. 이들 각각의 용액으로 부터 10g을 취하여 직경 2인치의 컵에 붓고, 23cm 이격된 위치에서 GE H3T7 중간압력 수은 아크램프를 사용하여 5초간 조사시킨다. 경화된 고체 중합체를 컵으로부터 꺼내어 아세톤으로 세척하여 미반응 디비닐 에테르를 제거하고 건조시킨다. 무수 중합체들의 각각의 중량은 샘플의 경화두께에 비례한다.A 1% solution consisting of diethylene glycol divinyl ether and triphenyl sulfonium hexafluoroarcinate and a 1% solution of diethylene glycol divinyl ether and the photoinitiator of the invention in Example 2 were prepared. Take 10 grams from each of these solutions and pour into a 2 inch diameter cup and irradiate for 5 seconds using a GE H3T7 medium pressure mercury arc lamp at 23 cm apart. The cured solid polymer is taken out of the cup and washed with acetone to remove unreacted divinyl ether and dry. The weight of each of the anhydrous polymers is proportional to the curing thickness of the sample.

Figure kpo00022
Figure kpo00022

상기의 측정 결과를 보면, 일반식(1)의 광개시제를 함유하는 본 발명의 광경화성 조성물은 선행기술의 광개시제를 함유하는 광경화성 조성물보다 2.6배 이상의 두께로 경화됨을 알 수 있다. 1몰을 기준으로, 본 발명의 화합물은 선행기술의 화합물보다 3.2배 더 효과적이다.From the above measurement results, it can be seen that the photocurable composition of the present invention containing the photoinitiator of the general formula (1) is cured to a thickness of 2.6 times or more than the photocurable composition containing the photoinitiator of the prior art. On a molar basis, the compounds of the present invention are 3.2 times more effective than the compounds of the prior art.

[실시예 8]Example 8

Mehtylon 75201, 하기 구조식의 페놀-포름알데히드 레졸, 및 광개시제로서 각각 트리페닐설포늄 헥사플루오로아르시네이트(선행기술) 및 실시예 2에서의 본 발명 광개시제로 이루어진 2%용액을 제조한다 :A 2% solution of Mehtylon 75201, phenol-formaldehyde resol of the following structural formula, and triphenylsulfonium hexafluoroarcinate (prior art) as a photoinitiator and the photoinitiator of the invention in Example 2, respectively:

Figure kpo00023
Figure kpo00023

제조된 2개의 용액을 유리판상에 3밀 두께의 필름으로 도포시키고, 6인치 이격시킨 거리에서 GE H3T7 수은 아크램프를 사용하여 자외선을 조사시킨다. 본 발명의 광개시제를 함유하는 수지 필름은 비-점착성 상태로 되는데 1.5분이 소요되는 반면에, 선행기술의 광개시제를 함유하는 필름은 동일 조건하에서 5.5분이 소요된다.The two solutions prepared were coated on a glass plate with a 3 mil thick film and irradiated with ultraviolet light using a GE H3T7 mercury arc lamp at a distance of 6 inches. The resin film containing the photoinitiator of the present invention takes 1.5 minutes to become non-tacky, whereas the film containing the photoinitiator of the prior art takes 5.5 minutes under the same conditions.

[실시예 9]Example 9

페놀포름알데히드 대신에 하기 구조식의 실리콘 수지를 사용하여 전술된 실시예의 절차를 반복한다 :The procedure of the above-described example is repeated using a silicone resin of the following structure instead of phenolformaldehyde:

Figure kpo00024
Figure kpo00024

실시예 2에서의 광개시제를 함유하는 샘플을 10초간 조사시키면, 비-점착성으로 되어 아세톤으로 세척하여도 제거되지 않는다. 한편, 트리페닐 설포늄염을 함유하는 샘플은 연질이며, 아세톤에 의해 쉽게 제거된다.When the sample containing the photoinitiator in Example 2 was irradiated for 10 seconds, it became non-tacky and was not removed even by washing with acetone. On the other hand, the sample containing triphenyl sulfonium salt is soft and is easily removed by acetone.

[실시예 10]Example 10

하기 구조식의 수지(유니온 카바이드에서 시판되는 A-187)를 사용하여 전술된 실시예의 절차를 반복한다 :The procedure of the above described example is repeated using a resin of the following structural formula (A-187 available from Union Carbide):

Figure kpo00025
Figure kpo00025

선행 기술의 광개시제를 함유하는 3밀 두께의 필름의 경화에는 75초간의 조사를 필요로 하지만, 본 발명의 광개시제를 함유하는 동일 두께의 필름의 경화에는 단지 30초간의 조사만을 필요로 한다.While curing of 3 mil thick films containing photoinitiators of the prior art requires irradiation for 75 seconds, curing of films of the same thickness containing the photoinitiator of the present invention requires only 30 seconds of irradiation.

[실시예 11]Example 11

치환족 에폭시 수지(ERL4221)중의 하기 구조식의 광개시제들 각각의 3% 용액을 유리판상에 도포시키고, 실시예 7의 방법에 따라 경화시킨다 :A 3% solution of each of the photoinitiators of the following structural formula in the substituted group epoxy resin (ERL4221) was applied onto a glass plate and cured according to the method of Example 7:

Figure kpo00026
Figure kpo00026

생성된 경화필름을 아세톤으로 세척시킨 다음, 건조시켜 계량한다. 본 발명의 광개시제는, 선행기술의 광개시제 필름의 2배 두께의 필름을 제공한다.The resulting cured film is washed with acetone, then dried and weighed. The photoinitiator of the present invention provides a film twice the thickness of the photoinitiator film of the prior art.

[실시예 12]Example 12

3,4-에폭시 시클로헥실메틸-3',4'-에폭시 시클로헥산 카복실레이트 중의 실시예 2의 광개시제의 3%용액을 제조한다. 샘플을 2부분으로 나누고, 이중 한 분취액에 0.5중량%의 페릴렌을 첨가시킨 다음, 390nm이하의 파장에서 모든 자외선을 제거할 수 있도록 필터가 설비된 GE H3T7 램프로부터의 가시광선에 노출시킨다. 페릴렌 염료 광증감제를 함유하는 샘플은 30초내에 경화되는 반면, 이를 함유하지 않는 샘플은 5분간의 조사후에도 경화되지 않는다. 본 실시예는, 염료 광증감제를 본 발명의 광개시제와 혼합하여 사용하므로써 가시광선 경화성 조성물을 제공하는 것을 예시한 것이다.A 3% solution of the photoinitiator of Example 2 in 3,4-epoxy cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxy cyclohexane carboxylate is prepared. The sample is divided into two portions, one of which is added 0.5% by weight of parylene and then exposed to visible light from a GE H3T7 lamp equipped with a filter to remove all ultraviolet radiation at wavelengths below 390 nm. Samples containing perylene dye sensitizers cure within 30 seconds, while samples not containing it do not cure after 5 minutes of irradiation. This example illustrates the use of a dye photosensitizer in combination with the photoinitiator of the present invention to provide a visible light curable composition.

[실시예 13]Example 13

11.2부(0.02몰)의 디페닐-4-티오 페녹시페닐 설포늄 헥사플루오로아르시네이트, 20부의 빙초산, 및 약4부의 30% 과산화 수소로 이루어진 혼합물을 실온에서 18시간 동안 교반시킨다. 이어서, 혼합물을 200부의 증류수에 붓는다. 생성된 조 생성물을 물로 세척한 다음, 무수 에틸 에테르로 세척시킨다. 원소분석, 분광분석 및 제법등에 의하여, 생성물은 하기의 구조식을 갖는다.A mixture of 11.2 parts (0.02 mole) of diphenyl-4-thio phenoxyphenyl sulfonium hexafluoroarcinate, 20 parts of glacial acetic acid, and about 4 parts of 30% hydrogen peroxide is stirred at room temperature for 18 hours. The mixture is then poured into 200 parts of distilled water. The resulting crude product is washed with water and then with anhydrous ethyl ether. By elemental analysis, spectroscopic analysis, and the production method, the product has the following structural formula.

Figure kpo00027
Figure kpo00027

4-비닐 시클로헥센 디옥시사이드 중의 상기 광개시제의 3%용액은, 10인치 이격시킨 거리에서 GE H3T7램프를 사용하여 조사시킬 경우 비-점착성 필름으로 경화된다.The 3% solution of the photoinitiator in 4-vinyl cyclohexene deoxyside cures to a non-tacky film when irradiated using a GE H3T7 lamp at a distance of 10 inches.

[실시예 14]Example 14

실시예 2에서의 설포늄 염 11.2부(0.02몰)를 약 15부의 아세톤에 첨가시킨다음, 2부의 과산화 수소를 냉각시키면서 서서히 첨가시킨다. 용액을 밤새 교반시킨 다음, 200부의 물에 붓는다. 수득된 오일을 물로 세척하고, 무수 에틸 에테르로 세척하여 고체화시킨다. 진공하에 밤새 건조시킨 후에 수득된 생성물은 70

Figure kpo00028
내지 74℉의 융점을 가지며, 원소분석, 분광분석 및 제법등을 기초로 하여 하기의 구조식을 갖는다.11.2 parts (0.02 mole) of the sulfonium salt in Example 2 is added to about 15 parts of acetone, and then 2 parts of hydrogen peroxide are slowly added while cooling. The solution is stirred overnight and then poured into 200 parts of water. The oil obtained is washed with water and solidified by washing with anhydrous ethyl ether. After drying under vacuum overnight the product obtained is 70
Figure kpo00028
It has a melting point of from 74 ° F., and has the following structural formula based on elemental analysis, spectroscopic analysis, and the like.

Figure kpo00029
Figure kpo00029

4-비닐시클로헥센 디옥사이드 중의 상기 광개시제의 3%용액을 전술된 실시예의 방법으로 경화시키면, 2초 내에 비-점착성 필름으로 경화된다.When the 3% solution of the photoinitiator in 4-vinylcyclohexene dioxide is cured by the method of the above-described example, it is cured into a non-tacky film within 2 seconds.

비록 전술된 실시예들이 본 발명의 실시에 사용할 수 있는 많은 변형들 중에서 일부만을 예시한 것이기는 하지만, 본 발명이 넓게는 자외선경화성 조성물, 일반식(1) 범주내의 특정 트리아릴설포늄염 및 이들 물질의 제조방법에 관한 것이라는 사실은 명백하다. 본 발명에서 사용된 "유효량"이라는 표현은 트리아릴설포늄염의 경우에 유기물질의 경화에 필요한 량을 의미한다. 광경화성 조성물의 중량을 기준으로 0.1내지 15중량%의 트리아릴설포늄염을 사용할 수 있다.Although the embodiments described above illustrate only some of the many variations that can be used in the practice of the present invention, the present invention is broadly directed to UV-curable compositions, certain triarylsulfonium salts within the general formula (1) category, and these materials. It is clear that the present invention relates to a manufacturing method of. The expression "effective amount" as used in the present invention means an amount necessary for curing the organic material in the case of triarylsulfonium salt. 0.1 to 15% by weight of a triarylsulfonium salt may be used based on the weight of the photocurable composition.

Claims (1)

에폭시 수지, 페놀-포름알데히드 수지 및 비닐 에테르로 부터 선택된 양이온 중합성 유기물질 85내지 99.9중량%와 하기 일반식(1)의 트리아릴설포늄염 0.1내지 15중량%로 이루어진 광경화성 조성물 :A photocurable composition comprising 85 to 99.9% by weight of a cationically polymerizable organic material selected from an epoxy resin, a phenol-formaldehyde resin and a vinyl ether and 0.1 to 15% by weight of a triarylsulfonium salt of the following general formula (1): [(R)a(R1)b(R2)cS]+[Y]-(1)[(R) a (R 1 ) b (R 2 ) c S] + [Y] - (1) 상기식에서,In the above formula, R은 일반식
Figure kpo00030
R is a general formula
Figure kpo00030
[여기서, R3는 탄소수 1내지 13의 1가 또는 2가 방향족 라디칼이고, R4는 탄소수 6내지 13의 2가 또는 3가 방향족 라디칼이며, X는 -S-또는 -O-이고, Z는
Figure kpo00031
또는 -(CH2)e-(여기서, R5는 탄소수 1내지 13의 유기라디칼이고, e는 1내지 4의 정수이다)이며, d는 0또는 1이다]의 1가 유기 라디칼이고, R1은 탄소수 6내지 13의 1가 방향족 유기 라디칼이며, R2는 헤테로 시클릭 또는 융합환 구조를 형성하는 탄소수 6내지 20의 2가 방향족 라디칼이고, Y는 MQn 비-친핵성 음이온(여기서, M은 인 및 비소로부터 선택된 금속 또는 비금속, Q는 할로겐이며, n은 4내지 6이다)이며, a는 1내지 3의 정수이고, b는 0내지 2의 정수이며, c는 0또는 1(단, a+b+c의 합은 3이다)이다.
[Wherein R 3 is a monovalent or divalent aromatic radical having 1 to 13 carbon atoms, R 4 is a divalent or trivalent aromatic radical having 6 to 13 carbon atoms, X is -S- or -O-, and Z is
Figure kpo00031
Or-(CH 2 ) e- (wherein R 5 is an organic radical of 1 to 13 carbon atoms, e is an integer of 1 to 4), d is 0 or 1], a monovalent organic radical of R 1 Is a monovalent aromatic organic radical having 6 to 13 carbon atoms, R 2 is a divalent aromatic radical having 6 to 20 carbon atoms forming a heterocyclic or fused ring structure, and Y is an MQn non-nucleophilic anion, wherein M is A metal or nonmetal selected from phosphorus and arsenic, Q is halogen, n is 4 to 6, a is an integer from 1 to 3, b is an integer from 0 to 2, and c is 0 or 1 (where a the sum of + b + c is 3).
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