KR840000618B1 - 개선된 슬리트(Silt)형 샤도우마스크를 구비한 칼라 수상관 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

개선된 슬리트(Silt)형 샤도우마스크를 구비한 칼라 수상관

제1도는 본 발명에 따른 샤도우 마스크(shadow mask)형 수상관을 부분적으로 도시한 투시도.

제2도, 제3도, 제4도는 마스크의 웨브(web)의 횡단면을 도시한 종래기술의 마스크와 개선된 2개의 마스크를 각각 도시한 횡단 투시도.

제5도, 제6도, 제7도, 제2도,제3도,제4도의 마스크를 만드는데 사용된 포토 마스터(photomaster)패턴(pattern)의 일부분을 도신한 도면.

본 발명은 칼라 수상관과 특히, 슬리트(Slit)형 개구 마스크를 구비한 수상관에 관한 것이다.

샤도우 마스크형 칼라 수상관은 일반적으로 적녹, 청 에미팅 형관라인(emittiing phosphor line) 또는 도트(dot)의 스크리인과 스크리인을 발광시키는 전자총, 그리고 전자총과 스크리인 사이에 삽입된 샤도우마스크를 포함한다.

마스크 또는 개구(aperture)가 조직적으로 형광 라인이나 도트에 관련을 갖기 위해 정획하게 인접한 스크리인에 배치된 샤도우 마스크는 많은 개구를 가진 얇은 금속판이다.

최근에는 상대적으로 슬리트형 개구를 갖는 샤도우 마스크형 칼라브라운관이 상업적으로 인수되고 있다. 이렇게 인수하게된 이유중 하나는 원형의 개구를 갖는 마스크 도트 스크린형 수상관 보다는 슬리트 마스크 라인 스크린형 수상관이 마스크를 통과하는 전자비임의 투과율이 높기 때문이다. 전자비임이 투과하는데 있어서 슬리트 마스크를 사용하는 것이 일정한 이득을 준다 하더라도, 슬리트 마스크를 통과하는 전자 비임의 투과율은 현재 기술로 실행되는 것보다 더욱 증가할 수 있다.

두 가지 형태의 슬리트 샤도우 마스크가 현재 사용되고 있다.

한가지 형태는, 마스크의 위에서 밑에까지 슬리트가 계속적으로 연장된다. 단지, 원추형 마스크에만 그러한 배열이 사용되고, 그러한 배열은 마스크를 팽팽하게 유지하기 위해 굳세고 단단한 틀(frame)이 필요하다. 또다른 형태의 슬리트 샤도우 마스크는, 마스크가 도움(dome) 형태로 되어 있어 수직, 수평으로 휘어져 있다. 이러한 마스크 실시예에 있어서, 수직으로 연장되는 슬리트는 슬리트 사이의 수많은 간격(bridge) 또는 웨브(web)에 의해 차단되는데 그것들이 마스크가 도움형태를 유지할 수 있도록 도와준다. 그러나 이러한 웨브가 존재하므로써 전자비임의 투과를 감소시키고 그로 인해서 웨브가 없는 수상관에 비교해서 수상관의 밝기가 감소한다.

그러므로 전자비임의 투과에 대해 웨브의 효과를 감소시킬 수 있는 마스크를 개발하는 것이 요구된다.

본 발명에 따른 칼라 수상관은 캐소우드 발광성 스크리인(Cathode luminescent screen), 전자총, 그리고 전자총과 스크리인 사이에 위치한 슬리트형 개구마스크를 포함하고, 그 마스크안의 슬리트는 칼럼(Column)에 배열되고 있고, 웨브가 각 칼럼의 슬리트를 분리시킨다. 칼럼안의 교대로 엇갈린 웨브는 마스크의 스크리인 쪽으로 층이져 있는 교대로 엇갈린 웨브를 갖는 일반적인 마스크의 두께보다 두께가 더 작다.

제1도는 유리관(10)을 포함한 장방형의 칼라수상관을 도시하는데, 유리관(10)은 장방형 페이스 플레이트 패널(faceplate panel) 또는 캡(cap) (12)과 장방형 퍼널(funnel) (16)에 연결된 관 모양의 네크(neck) (14)를 포함한다. 패널은 시각 페이스 플레이트(18)와 퍼널(16)을 봉인하는 주변의 플랜지(flange) 또는 사이드왈(sidewall) (20)을 포함한다. 페이스 플레이트(18)의 내부표면에 모자이크(nosaic) 3색 형광 스크리인(22)이 수반된다. 스크리인은 수상관 중심 수직축(제1도의 플레인(plane)에 수직)에 대체로 평행하게 연장되는 형광라인을 지니고 있는 라인 스크리인이다. 개선된 새로운 다수의 개구를 갖고 있는 칼라 선택 전극(electrode) 또는 샤도우마스크(24)는, 전통적인 수단으로 스크리인(22)에 관하여 미리 결정된 간격으로 이동할 수 있도록 장치되어 있다. 제1도에서 점선으로 개략적으로 도시한 인 라인(inline) 전자총(26)은 네크(neck) (14)가운데에 장치되어 있는데, 그것은 마스크(24)를 통과하여 스크리인(22)으로 코프라나(coplanar; 동일 평면성)콘버어전스 진로를 따라 3개의 전자비임(28)을 방사하여 직진하도록 하기 위한 것이다. 전자비임이 연합된 형광 라인을 때리도록함과 동시에 연관되지 않은 칼라 에미형 형광 라인으로부터 간 전자비임을 골라내므로써 마스크(24)는 칼라 선택기능을 갖는다. 자계(磁界 : magnetic) 편향요우크(yoke) (30)는 퍼널(16)과 네크(16)의 교차점에 가까운 빈 유리관(10)에 장치되어 있다. 요우크(30)는 적당히 에너지를 받으면 장방형 라스터(raster) 안에서 스크리인(22)으로 전자비임(28)을 주사하도록 야기시킨다.

제2도는 개구 칼럼의 가운데를 따라 자른 종래의 샤도우 마스크의 횡단면의 일부분을 도시한다. 칼럼내부의 개구(42)는 마스크의 브릿지(bridge)부분(44)에 의해 다른 개구와 분리되는데 그 브릿지는 일반적으로 타이-바(tie-bar)또는 웨브라고 부른다. 이런 특정한 종래의 마스크에서 웨브(44)는 횡단면이 6각형모양 이다. 종래 마스크의 또 다른 형태의 웨브는 횡단면이 약간 삼각형이다. 모든 웨브(44)는 마스크(10)의 두께와 두께가 같다. 웨브(44)가 두께가 같기 때문에, 마스크(40)에 입사하는 전자비임중 큰부분 "A"는 웨브 (44)에 차단된다. 마스크의 웨브에 의해 차단된 전자비임의 양을 감소하는 것이 필요한데, 그것에 의하여 마스크 투과와 빛의 출력이 증가한다. 그러나, 이렇게 커지는 마스크 투과를 얻기 위한 마스크 강도에서 취해야만 하는 어떤 절충안을 최소로 하는 것도 필요하다.

개선된 새로운 마스크(24)의 2가지 실시예(50)과 (60)이 제3도와 제4도에 각각 도시되어 있는데, 그것은 마스크 강도의 감소를 최소로하는 동시에 마스크의 투과를 증가하도록 해 준다. 이러한 두 가지의 실시예에서 교대로 엇갈린 웨브가 마스크의 스크린쪽으로 층이져 있고, 일반 마스크 두께에 비교하여 두께가 감소되어 있다.

제3도의 마스크(50)는 마스크의 스크린쪽(54)을 향해 층이져 있는 두께가 감소된 교대로 엇갈린 웨브(52)와 마스크의 반대편 또는 전자총쪽으로 층이져 있는 두께가 감소된 교대로된 웨브(56)를 포함한다. 제4도의 마스크(60)의 스크린쪽(64)을 향해 층이져 있는 두께가 감소된 교대로 엇갈린 웨브(62)를 포함하지만 남은 웨브(66)는 두께가 마스크와 같은 웨브다. 제3도와 제4도에 도시한 웨브(52)와 (62)에 의해 차단된 전자비임의 축소된 부분 "B"와 제2도의 부분 "A"를 비교함으로써 증가한 전자비임 투과를 알 수 있다.

제5도, 제6도, 제7도는 제2도, 제3도, 제4도의 마스크를 각각 구성하기 위해 사용된 포토 마스터(photomaster) 패턴(pattern)을 도시한다. 각 도면에서 굵으선 패턴(pattern)은 마스크의 전자총쪽이고 가는선 패턴은 마스크의 스크리인족이다. 제5도의 종래 기술의 패턴(70)과 (72)에서, 전자총족 패턴(70)은 스크리인쪽 패턴(72)보다 더욱 길고 좁은 장방형으로 생긴 소자를 갖는다. 두ㅏ지 패턴의 소자는 서로 겹치고, 마스크와 두께가 같은 웨브가 위치한 소자 사이에 수직간격이 남는다. 제6도의 패턴(74)와 (76)에서, 계획된 웨브 위치에서 남은 간격은 고대로 억갈려서 빠진다(생략한다). 그런데 그 이유는 한 패턴의 장방형으로 생긴 소자가 다른 패턴에서 웨브갭(gap)과 겹치기 때문이다. 제7도의 패턴(78)과 (80)에서, 스크리인족 패턴980)은 제5도의 스크리인족 패턴(72)와 같다. 하지만 전자총쪽 패턴(78)은, 전자총쪽 소자가 스크리인쪽 패턴에 있어서 모든 다른 웨브갭과 겹침으로써 제6도의 전자총쪽 패턴(76)과 같다.

전술한 개선된 마스크는 교대로 엇갈려 있는 웨브를 횡단면적을 적어도 50%까지 모소시킨다. 이것은 슬리트폭을 변화시킬 필요도 없이 마스크의 전자비임 투과를 증가시킨다. 더우기, 물결무늬(moire)를 증가시킬지도모를 웨브의 위치로 야기되는 퓨리티(purity)가 저하되지 않는다. 교대로 엇갈린 웨브의 전자총쪽을 제거하면 교대로 엇갈린 웨브에서 슬리트개구의 휘어진 끝의 샤도우(그늘)효과를 제거하게된다. 그로 인하여 수상관 중심부에서는 전자비임 투과를 증가하게 된다. 더우기, 엇갈린 웨브의 전자총쪽 부분을 제거하면, 평균 슬리트폭을 결정하는 목적을 위해 슬리트끝을 둥글게 하는 것이 마스크의 투과를 측정하도록 하는 여러가지 효과를 감소시키게 된다. 그렇게 감소됨으로써 마스크의 투과와 슬리트 폭간의 상호관계의 정밀도는 증가한다. 제3도의 마스크(50)는 마스크 구조에 있어서 여전히 다른 이점을 갖고 있다. 제4도의 개선된 마스크(60)는 물론 제2도의 종래의 마스크(40)는 두개의 포로 마스터 패턴의 정확한 수직정합(rfgistration)을 필요로 하는데, 그 두개의 포로마스터 패턴은 마스크 또는 마스크와 두께가 같은 개구가 마스크의 투과를 감소시킬 층이지게하는 방식으로 형성되도록하는데 사용되었다. 물론 제4도의 마스크(60)에서 투과에 있어서의 이러한 감소는 제2도의 종래의 마스크(40)에서 감소되는 것의 반밖에 되지 않는다. 그렇지만, 제3도의 마스크(50)의 투과는 물결무늬(moire)에 대한 가벼운 효과의 가능한 예외를 갖는 포토마스터 패턴의 수직 미스레지스터(misregister)에 의해 변화되지 않는다.

Claims (1)

1. 캐소우드 발광성 스크리인, 전자총, 그리고 전자총과 스크리인 사이에 위치한 슬리트형 개구 마스크를 포함하고, 그 마스크안의 슬리트는 수직칼럼에 배열되어 있고, 웨브가 각 칼럼의 슬리트를 수직으로 분리시키는 칼라수상관에 있어서, 마스크(50)의 스크린쪽(54)을 향해 층이져 잇는 교대로 엇갈린 웨브를 갖고, 일반 마스크의 두께보다 더 얇은 두께의 칼럼 내부에 교대로 엇갈린 웨브(52)를 특징으로하는 개선된 슬리트(Slit)형 샤도우마스크를 구비한 칼라 수상관.

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