Claims (7)
와이어드의 연속전기도금 방법에 있어서, 한 그룹의 드럼은 회전방향으로 전원이 결합되는 두개 이상의 드럼을 포함하며, 각각의 드럼은 회전가능한 수직샤프트가 설치되고, 전기도금될 도전와이어는 상기 드럼에 나선으로 감겨지고 주행되기 위해 다단으로 하부에서 상부를 향해 개단식으로 감겨지며, 상기 도전와이어는 다단으로 배열되고 상기 드럼들간에 위치된 전기도금조의 전해액을 통해 반복 배열되며, 상기 전기도금조의 단부에는 상기 도전와이어의 통과를 위해 슬리트가 설치되며, 상기 슬리트는 상기 창살판이 상기 전기도금조의 내외를 통과하도록 상팡 및 하판 사이에 다단으로 각각의 도전와이어를 위치시키고 상기 도전와이어를 다단으로 주행시키기 위한 통과홀이 각각의 창살판 사이의 접합부에서 형성되는 이러한 방법으로 창살판 긴축을 다단으로 셋트시키는 와이어의 연속도금 방법.In the wired continuous electroplating method, a group of drums includes two or more drums to which power is coupled in a rotational direction, each drum being provided with a rotatable vertical shaft, and the conductive wire to be electroplated spirally to the drum. The conductive wire is repeatedly wound through an electrolytic solution of an electroplating tank arranged in multiple stages and positioned between the drums. The slits are installed to pass the conductive wires, and the slits pass each of the conductive wires in multiple stages between the upper and lower plates so that the grate plate passes through the inside and outside of the electroplating bath, and the conductive wires are run in multiple stages. Grate in this way a hole is formed at the junction between each grate Continuous plating method of the wire to set the constriction in multiple stages.
제1항에 의한 방법에 있어서, 상기 도전와이어 등은 미리 견인되는 방법.The method according to claim 1, wherein the conductive wire or the like is previously towed.
제1항에 의한 방법에 있어서, 창살판은 세라믹으로 제조되고 특히 세라믹소결체로 제조되는 방법.The method according to claim 1, wherein the grate plate is made of ceramic and in particular made of ceramic sintered body.
제3항에 의한 방법에 있어서, 사익 와이어에 대한 상기 창살판의 통과홀이 3S이상으로 마무리 처리되는 방법.The method according to claim 3, wherein the passage hole of the grate plate with respect to the wing wire is finished to 3 S or more.
제2항에 의한 방법에 있어서, 구역감소가 최소한 5%인 방법.The method according to claim 2, wherein the zone reduction is at least 5%.
와이어등의 연속전기도금 장치에 있어서, 도전와이어를 연속으로 공급하기 위한 장비와, 상기 와이어의 선처리를 위해 상기 와이어를 견인하기 위한 장비와, 상기 와이어를 후처리용장비와 연속적으로 위치되는 상기 와이어를 집어올리기 위한 장비를 포함하는 장치에 있어서, 상기 전기도금장비에 상기 후처리장비와 상기 선처리장비 또는 상기 전기도금장비의 드럼상에서 전기도금될 사익 와이어를 드럼의 하부로부터 상부로 다단으로 주행시키고 감기위하여 적어도 한 그룹의 드럼은 두개 이상의 드럼을 포함하며, 이 드럼은 회전방향으로 전원이 공급되고 회전가능한 수직샤프트를 가진 드럼이 설치되며, 전기도금을 실행하기 위해 상기 도금조의 전해액내에 다단으로 전기도금될 상기와이어를 주행시키기 위해 상기 드럼들간에 전기도금조가 설치되고, 전기도금될 상기 와이어의 통과를 위해 상기 전기도금조의 한 단부에는 슬리트가 설치되며, 상기 슬리트는 상기 와이어를 다단 통과시키기 위해 각각의 창살판의 접합부에서 통과홀을 형성하도록 다단으로 창살판긴축을 셋트시키는 와이어등의 연속전기도금 장치.A continuous electroplating apparatus, such as a wire, comprising: equipment for continuously supplying conductive wires, equipment for towing the wire for pretreatment of the wire, and the wire continuously positioned with the post-treatment equipment. In the apparatus comprising a device for picking up a multi-stage running and winding the winding wire to be electroplated on the drum of the post-processing equipment and the pre-treatment equipment or the electroplating equipment to the electroplating equipment; To this end, at least one group of drums comprises two or more drums, which are provided with a drum having a vertical shaft which is powered in a rotational direction and is rotatable, and electroplated in multiple stages in the electrolytic solution of the plating bath to effect electroplating. An electroplating bath is installed between the drums to drive the wire to be Slit is installed at one end of the electroplating bath for the passage of the wire to be electroplated, the slits being grate in multiple stages to form a through hole at the junction of each grate plate to pass the wire in multiple stages. Continuous electroplating devices such as wires that set plate tightness.
제6항에 의한 장치에 있어서, 두개 이상의 드럼그룹조합시에 처음 드럼그룹의 상단으로 부터 다음드럼 그룹의 하단으로 전달되어 전기도금될 와이어를 안내하기 위하여 회전가능한 수평샤프트를 가진 복수의 레벨조정롤이 처음 드럼그룹과 다음 드럼그룹 사이에 설치되는 장치.7. A device according to claim 6, wherein in the combination of two or more drum groups a plurality of leveling rolls having a rotatable horizontal shaft for guiding the wire to be electroplated from the top of the first drum group to the bottom of the next drum group. A device installed between this first drum group and the next drum group.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.