KR830005065A - 할로겐, 특히 플루오르로 도우프된 산화주석층을 적외선 복사 열분해에 의해 유리표면에 도포하는 방법 - Google Patents
할로겐, 특히 플루오르로 도우프된 산화주석층을 적외선 복사 열분해에 의해 유리표면에 도포하는 방법 Download PDFInfo
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Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (7)
- 입도가 20㎛ 미만인 분말상의 유기 주석계 화합물을 할로겐 화합물 존재하 운송기류 중의 현탁액으로서 400 내지 650℃온도의 유리 표면에 도포시킴에 있어서, 주석화합물에 대한 할로겐 화합물로서 운송기류 중에 현탁된 분말상의 화합물을 사용함을 특징으로 하는 할로겐, 특히 플루오르로 도우프된 산화 주석층을 적외선 복사 열분해에 의해 유리 표면에 도포시키는 방법.
- 분말상의 할로겐 화합물을 분말상의 주석 화합물과 혼합물 형태로 사용함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제1항 기재의 방법.
- 분말상의 유기주석-할로겐 화합물, 특히 분말상의 유기주석-플루오르 화합물을 사용함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제1항 기재의 방법.
- 하기 일반식으로 표시되는 유기주석-할로겐 화합물을 사용함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제3항 기재의 방법(식중, R는 알킬, 아릴, 알킬아릴 또는 아르알킬기를 나타내고, X는 할로겐 원자, 특히 플루오르 원자를 나타내며, C는 1 또는 2의 정수를 나타내며, d는 0 또는 1의 정수를 나타낸다. 단, c=1이고 d=0일 경우에는 a+b=4(a,b는 0 내지 4의 정수), c=1이고 d=1일 경우에는 a+b=2(a,b는 0 내지 2의 정수)이고, c=2이고 d=1일 경우에는 a+b=3(a,b는 0 내지 3의 정수)임).
- 유기주석-플루오르 화합물로서 디부틸틴디플루오라이드(n-C4H9)2SnF2를 사용함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제4항 기재의 방법.
- 유기주석-플루오르 화합물로서 암모늄디부틸틴테트라플루오라이드 (NH4)2[(n-C4H9)2SnF4]를 사용함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제3항 기재의 방법.
- 유기주석-플루오르 화합물로서 디부틸틴트리플루오르아세테이트 (n-C4H9)2Sn(CF3COO)2를 사용함을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제3항 기재의 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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| KR (1) | KR830005065A (ko) |
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1981
- 1981-03-12 KR KR1019810000805A patent/KR830005065A/ko unknown
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