KR830000924B1 - Power supply device of electrical processing machine - Google Patents

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기요시 이노우에
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Abstract

The input terminal can be connected with an AC source of a low frequency without equipping a transformer. The rectifier converts the AC to the DC, and is connected with the AC source. The pulse apparatus generates a power of higher frequency than the constant AC frequency by converting the DC into a pulse. The power of high frequency converts a voltage into a desired level in the high frequency transformer. Non-linear series electricity of a pulse intermediation function generates a pulse from the high frequency power of the desired level in the electrical processing machine.

Description

전기 가공기의 전원장치Power supply of electric processor

제1도는 본 발명에 의한 일실시예의 회로도.1 is a circuit diagram of an embodiment according to the present invention.

제2 내지 4도는 제1도에 도시한 회로 일부의 실시예들의 회로도.2-4 are circuit diagrams of embodiments of some of the circuits shown in FIG.

제5도는 전기 가공갭의 상태에 응답하여 동작하는 본 발명에 의한 교류-직류-고주파수-직류변환기의 회로도.5 is a circuit diagram of an AC-DC-high frequency-DC converter in accordance with the present invention operating in response to a state of an electrical processing gap.

제6도는 전기방전가공 작동의 별개의 모드에 대하여 본 발명에 의한 교류-직류-고주파수-직류 변환기 회로의 여러 부분에서 나타나는 파형을 도시한 도면.6 shows waveforms appearing in various parts of the AC-DC-high frequency-DC converter circuit according to the present invention for a separate mode of electrodischarge machining operation.

제7도는 저전압 가공 펄스상에 고전압 갭-파괴 펄스가 중첩되게 하는 교류-직류-고주파수-직류 변환기 회로의 또 다른 실시예를 도시한 회로도.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating another embodiment of an AC-DC-high frequency-DC converter circuit that causes a high voltage gap-break pulse to overlap on a low voltage overhead pulse.

제8내지 10도는 제7도에 도시된 회로의 변형예를 도시한 회로도.8 to 10 are circuit diagrams showing modifications of the circuit shown in FIG.

제11내지 13도는 단속 펄스 개입 기간을 갖는 펄스열 또는 단위 펄스들로 구성된 군펄스열을 발생하는 교류-직류-고주파수-직류 변환기들을 도시한 회로도.11-13 are circuit diagrams showing AC-DC-high frequency-DC converters generating pulse trains or group pulse trains consisting of unit pulses with an intermittent pulse intervention period.

제14도는 제 11 내지 13도의 실시예들에 따라서 인가된 군 펄스들의 각종 모드를 도시한 파형도.14 is a waveform diagram illustrating various modes of group pulses applied according to the embodiments of FIGS. 11 to 13.

제15도는 스파크 전착 공정에 대한 제11도의 실시예의 적용을 도시한 회로도.FIG. 15 is a circuit diagram illustrating the application of the embodiment of FIG. 11 to a spark electrodeposition process.

제16도는 제15도의 실시예에 있어서의 인가 펄스들의 파형도.FIG. 16 is a waveform diagram of applied pulses in the embodiment of FIG.

제17도는 아크용접 공정에 대한 본 발명의 교류-직류-고주파수-직류 변환기의 적용을 도시한 도면.FIG. 17 shows the application of the AC-DC-high frequency-DC converter of the present invention to an arc welding process.

제18도는 제17도의 실시예에 있는 회로 부분을 도시한 회로도.FIG. 18 is a circuit diagram showing a portion of a circuit in the embodiment of FIG.

제19도는 제18도의 회로의 각종 부분에서 나타나는 펄스들의 파형도.19 is a waveform diagram of pulses appearing in various parts of the circuit of FIG.

본 발명은 전기 가공기의 전원장치에 관한 것으로, 특히 이같은 용도로 개량된 전기 회로에 관한 것이다.The present invention relates to a power supply for an electric machine, and more particularly to an electric circuit improved for such use.

"전기가공"이라는 용어는 전기방전가공(EDM), 전기화학가공(ECM)등등 및 스파크전착(ESD), 아크용접을 의미한다.The term "electroprocessing" means electro-discharge machining (EDM), electrochemical machining (ECM), etc. and spark electrodeposition (ESD), arc welding.

현재까지 전기 가공을 행하도록 설계된 기계들은 상용교류(A.C)의 크기를 적당한 레벨로 변환하여, 이후 변환된 교류가 직류로 정류된 후 스위칭 장치에 의하여 피가공체와 가공 전극간에 형성된 가공 갭의 양단에 인가하기에 바람직스러운 펄스기간, 간격 및 주파수를 갖는 전기펄스열로 바뀌어질 수 있게하기 위해 필연적으로 대용량의 변압기를 필요로 한다. 또한, 이미 잘 알려져 있는 바와같이, 가공 매개물로서는 EDM에 있어 물 또는 기름을 사용하며, 또는 전착가공에 있어서는 전해액을 사용한다.To date, machines designed to perform electromachining convert the size of the commercial alternating current (AC) to an appropriate level, after which the converted alternating current is rectified to DC, and then both ends of the processing gap formed between the workpiece and the processing electrode by a switching device. Inevitably, a large capacity transformer is needed to be able to be converted into an electric pulse train having a desired pulse duration, interval and frequency for application. As is well known, water or oil is used for EDM as the processing medium, or an electrolytic solution is used for electrodeposition processing.

이 경우 전기에너지를 펄스식으로 인가하는 것에 의해 고밀도 전류가공 즉 고밀도 전착이 행해진다. 그러나, 50Hz 내지 60Hz의 저주파수 상용 교류가 사용되기 때문에, 변압기, 따라서 전체 전원장치의 크기 및 무게가 불필요하게 커지게 된다. 더우기 이러한 형태의 전원 장치에서는 제어목적으로 리액터의 사용이 요구되는데, 이같은 리액터는 비교적 늦은 응답속도를 나타내므로, 전원 장치의 효율이 좋지 않게된다.In this case, high-density current processing, that is, high-density electrodeposition, is performed by applying electrical energy in a pulsed manner. However, since low frequency commercial alternating currents of 50 Hz to 60 Hz are used, the size and weight of the transformer, and thus the overall power supply, becomes unnecessarily large. Furthermore, this type of power supply requires the use of a reactor for control purposes. Such a reactor exhibits a relatively slow response speed, resulting in poor power supply efficiency.

이외에도, 전술한 형태의 전원 장치는 가공에너지를 가공갭에 공급하기 위한 대용량의 주전원과, 기계 및 기계부품들을 제어하기 위해 작으나 용량이 다른 하나 이상의 보조전원을 필요로 하므로, 전원 장치의 크기 및 무게가 커져 바람직하지 않게 된다. 즉, 상술한 전원 장치들은 크기가 크고, 무게가 많이 나가며, 효율이 좋지 못하다.In addition, the power supply of the type described above requires a large main power supply for supplying the processing energy to the processing gap, and one or more auxiliary power supplies having small but different capacities for controlling the machine and the mechanical components, and thus the size and weight of the power supply. Becomes large and becomes undesirable. That is, the power supplies described above are large in size, heavy in weight, and poor in efficiency.

그러므로, 본 발명의 목적은 부피 및 무게가 작으며, 고효율적이고 고안정성을 갖는 양호한 전기가공기의 전원장치를 제공함에 있다.Therefore, it is an object of the present invention to provide a power supply of a good electric machine, which is small in volume and weight, and has high efficiency and high stability.

본 발명에 의하면, 교류-직류-고주파수-직류(AC-DC-HF-DC) 변환기를 구비하고 있는 전기 가공기의 개량된 전원 장치가 되는데, 교류-직류-고주파수-직류 변환기는 상용 교류를 입수하기 위한 입력장치와 상기 교류를 직류로 변환하기 위한 정류 장치와, 직류 출력으로 부터 상용 교류보다 높은 주파수를 갖는 고주파수(HF)교류 또는 펄스열이 발생되도록 발전기 또는 펄스기에 의하여 온/오프(ON/OFF) 조정이 가능한 스위칭 장치와, 상기 고주파수의 진폭을 바람직한 레벨로 변환하기 위한 변압기 장치와, 변환된 고주파수 출력을 조정된 진폭의 직류출력으로 변환하기 위한 제2정류 장치를 포함한다. 본 발명에 따라 상기 최종의 직류 출력은 피가공체와 전극간에 형성된 가공갭 양단에 펄스열로서 인가되도록 제2발진기에 의하여 온/오프 제어 가능한 제2스위칭 장치에 의하여 펄스화 된다. 상기 변압기 장치는 제1정류 장치와 상기 제1스위칭장치에 접속된 1차 권선과, 복수개의 2차권선을 갖는데, 상기 2차권선들중 하나는 제 2정류장치의 정류 작용에 의해 상기 제2직류출력이 발생되게끔 하는데 사용되며, 나머지의 2차권선들은 전원 장치의 부품 또는 전원 장치가 설비된 전기 가공기의 부품들을 동작 또는 제어하기 위한 입력들을 구성한다.According to the present invention, there is an improved power supply of an electric machine equipped with an AC-DC-HF-DC converter, and the AC-DC-high frequency-DC converter can obtain commercial AC. Rectifier for converting AC to DC, and Rectifier for converting AC to DC, and ON / OFF by generator or pulse generator to generate high frequency (HF) exchange or pulse train having higher frequency than commercial AC from DC output. An adjustable switching device, a transformer device for converting the amplitude of the high frequency to a desired level, and a second rectifying device for converting the converted high frequency output into a DC output of the adjusted amplitude. According to the present invention, the final direct current output is pulsed by a second switching device that can be turned on and off by a second oscillator so as to be applied as a pulse train across the processing gap formed between the workpiece and the electrode. The transformer device has a first winding connected to the first rectifying device and the first switching device, and a plurality of secondary windings, one of the secondary windings being rectified by the rectifying action of the second rectifying device. Used to cause an output to be generated, the remaining secondary windings constitute inputs for operating or controlling the parts of the power supply or the parts of the electric machine equipped with the power supply.

이후 본 발명을 도면을 참조하면서 더욱 상세히 설명하겠다. 도면에서 같은 번호는 동일 부품임을 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. Like numbers in the drawings indicate like parts.

제1도에 있어, 입력단자(1)는 상용교류(AC) 전원의 입력단자이며, 정류기(2)는 교류를 전파정류하여 출력단자들(2a, 2b)의 양단간에 직류출력을 발생하는 전파정류기이다. 트랜지스터로 형성된 스위치(3)는 서로 병렬로 접속된 변압기(5)의 1차 권선(51)과 콘덴서(6)에 의해 형성된 회로망의 양단에 고주파 전류가 제공될 수 있게끔 적어도 1KHz이상, 양호하게는 10내지 50KHz의 발진 주파수를 갖는 발진기(4)에 의하여 온/오프 제어된다. 변압기(5)에는 필요한 만큼의 복수 개의 2차권선들(53, 54, 55, …5n)이 제공되어 있는데, 이들 중권선(53)은 가공에너지를 발생하도록 되어 있다. 권선들(54-5n)은 각종 전원 장치와 기계부품에 대한 제어 또는 동작신호를 발생하기 위한 출력 권선들을 구성한다. 제각기 권선의 권수는 고주파수 교류의 소망의 전압레벨을 발생하도록 조정되어진다.In FIG. 1, the input terminal 1 is an input terminal of a commercial AC power supply, and the rectifier 2 full-wave rectifies AC to generate a DC output between both ends of the output terminals 2a and 2b. It is a rectifier. The switch 3 formed of a transistor is preferably at least 1 KHz, preferably at least 1 KHz, so that a high frequency current can be provided at both ends of the network formed by the primary winding 51 and the capacitor 6 of the transformer 5 connected in parallel with each other. The on / off control is performed by the oscillator 4 having an oscillation frequency of 10 to 50 KHz. The transformer 5 is provided with as many secondary windings 53, 54, 55, ... 5n as necessary, and these heavy windings 53 are configured to generate processing energy. The windings 54-5n constitute output windings for generating control or operating signals for various power supplies and mechanical components. The number of turns of each winding is adjusted to produce the desired voltage level of high frequency alternating current.

주전원 또는 가공 전원장치의 일부분을 구성하는 출력권선(53)은 레벨 안정회로망(83)의 전단에 배치된 정류기(73)와 결합되어 있다. 회로망(83)으로 부터의 직류 신호는 발진기 또는 펄스기(10)에 의하여 온/오프제어 가능한 트랜지스터들로 형성된 스위치(93)에 의하여 펄스화 되어진다.The output winding 53 constituting a part of the main power supply or the processing power supply device is coupled with the rectifier 73 disposed in front of the level stabilization network 83. The direct current signal from the network 83 is pulsed by a switch 93 formed of transistors on / off controllable by the oscillator or pulser 10.

이하 설명에서는 본 발명에 의한 전원 장치의 동작 설명을 주로 전기방전가공(EDM)에 대해 행한다.In the following description, the operation of the power supply apparatus according to the present invention is mainly described for the electric discharge machining (EDM).

발진기(10)는 조정 가능한 스위칭 신호를 스위치(93)에 발생하여, 소정의 펄스 기간 및 간격의 가공펄스 열들이 가공갭(GAP)양단에 인가되게 한다.The oscillator 10 generates an adjustable switching signal to the switch 93 so that processing pulse trains of a predetermined pulse period and interval are applied across the processing gap GAP.

권선(54양단에 발생된 고주파-교류는 정류기(74)에 의하여 정류되고 회로망(84)에 의하여 평활된 직류로 발생된다. 스위치(94)는 부하단자들(-, +)양단에 접속된 콘덴서(12)의 전압레벨에 응답하며 20내지 40KHz 주파수 범위에서 동작하는 발진기, 즉, 펄스기(11)에 의하여 제어되어, 안정된 출력(-, +)이 얻어지게 한다. 스위치(93)는 펄스겸 출력 안정기로서 작동한다. 이 같은 회로망이 전기화학 가공 또는 전해전착에 사용된 경우, 스위칭 주파수는 안정된 직류전압을 발생하도록 증대될 수도 있다.The high-frequency alternating current generated across the winding 54 is generated by rectification by the rectifier 74 and smoothed by the network 84. The switch 94 is a capacitor connected across the load terminals (-, +). It is controlled by an oscillator operating in the frequency range 20 to 40 KHz, that is, a pulse 11, in response to the voltage level of (12), so that a stable output (-, +) is obtained. When this network is used for electrochemical processing or electrodeposition, the switching frequency may be increased to produce a stable direct current voltage.

다른 출력권선(55-5n)에는 DC 출력이 필요할 경우에 정류기가 설치되며, AC 출력이 필요할 경우에는 주파수 변환기가 설치된다. 전압 레벨의 안정화가 필요하지 않은 경우에는 물론 전압안정 스위치를 설치할 필요가 없다. 일반적으로 트랜지스터 또는 동종의 장치의 스위칭제어는 필요로 하나, LED (발광 다이오드), LCD(액정 표시판) 등등 표시회로의 동작을 꼭 필요로하지는 않는다.The other output winding 55-5n is provided with a rectifier when DC output is required, and a frequency converter is installed when AC output is required. If voltage level stabilization is not required, of course there is no need to install a voltage stabilizer switch. In general, switching control of transistors or devices of the same type is required, but not necessarily the operation of display circuits such as LEDs (light emitting diodes), LCDs (liquid crystal displays), and the like.

본 발명에 의한 교류-직류-고주파수-직류변환기 회로는 다음과 같은 장점을 갖는다. 어떤 소망의 출력전압은 고주파수 신호를 발생하도록 발진기의 충격계수를 조정하는 것에 의해 영(0)레벨로 부터 변압기의 정격레벨까지의 범위내에서 쉽게 얻을 수 있다. 또한 변압기가 보다 높은 주파수의 신호와 더불어 사용되기때문에, 변압기가 소형으로 될수 있어 전원장치를 종래의 장치보다 크기 및 무게에 있어 작게할 수 있다. 또한 다수의 출력 또는 가공 에너지 및 기구 제어목적에 대해 단일의 변압기가 사용되므로 장치가 더욱 소형화될 수 있다. 가공 에너지용 권선(53)으로 부터의 출력은 스위치(93)의 온/오프스위칭 제어에 의하여 안정화되어, 가공갭(G)양단에 소정의 방식으로 펄스가 인가되므로, 그 결과, 입력단자(1)에 나타나는 전압내의 변동이 있다할지라도 입력단자(1)와 효과적으로 격리된갭(G)에 있어서의 가공동작에는 아무런 영향이 없게 된다. 따라서, 이것에 의해 안정되고 평형된 일련의 방전이 수행되며, 높은 정확도와 높은 효율을 갖게된다. 동일한 안정특성의 장점에 의하여, 다른 부하단자들에 발생하는 출력전압들은 입력축(1)에서의 전압내의 변동과는 실제로 무관하게 된다.The AC-DC-high frequency-DC converter circuit according to the present invention has the following advantages. Some desired output voltage can be easily obtained from the zero level to the rated level of the transformer by adjusting the oscillator's impact factor to generate a high frequency signal. In addition, since the transformer is used with a higher frequency signal, the transformer can be made smaller, so that the power supply can be smaller in size and weight than the conventional device. In addition, a single transformer is used for multiple output or process energy and instrument control purposes, making the device more compact. The output from the processing energy winding 53 is stabilized by the on / off switching control of the switch 93, and a pulse is applied to the processing gap G across the processing gap G in a predetermined manner. As a result, the input terminal 1 Even if there is a variation in the voltage shown in Fig. 1), there is no effect on the machining operation in the gap G effectively isolated from the input terminal 1. Thus, a stable and balanced series of discharges are thereby performed, resulting in high accuracy and high efficiency. By virtue of the same stability characteristic, the output voltages generated at the other load terminals are actually independent of the fluctuations in the voltage at the input shaft 1.

제3도는 출력 전압 안정기의 변형 실시예를 도시한 것으로, 트랜지스터인 스위치(13)는 입력전압에 작동적으로 응답하는 발진기(14)에 의하여 제어되는 입력회로망과 병렬로 연결되어 있다. 제4도는 스위치(13)가 발진기(14)에 의하여 작동되는 입력회로망에 직렬로 연결된 다른 변형 실시예를 도시한 것이다. 또한, 제5도는 변압기(5)가 변환된 출력을 발생하도록 출력 회로망내에 제공된 것을 도시한 변형실시예이다. 이들의 변형실시예들은 전술한 바와 마찬가지의 방식으로 사용되어질 수 있다.3 shows a variant of the output voltage stabilizer, in which a switch 13, which is a transistor, is connected in parallel with an input network controlled by an oscillator 14 operatively responding to an input voltage. 4 shows another variant embodiment in which switch 13 is connected in series to an input network operated by oscillator 14. 5 is a variant embodiment showing that the transformer 5 is provided in the output network to generate a converted output. These modified embodiments can be used in the same manner as described above.

제 5, 6도를 참조로 하면, 본 발명에 의한 교류-직류-고주파수-직류 변환기 회로의 설명 및 작동 설명이 더욱 깊게 이해될 것이다. 제5도의 회로에서는, HF 변압기(5)가 가공 출력만을 포함하는 것으로 도시되었으나, 제어목적용의 부가적인 출력이 제1도와 연관하여 설명한 바와같이, 제공될 수도 있다. 이미 설명되어진 바와같이, 변압기(5)의 제2차 권선(53)에서 인출되는 고주파수 전압은 정류기(7)에 공급되어, 여기서 동일하게 조정된 전압진폭의 직류로 변환된다. 정류된 직류는 스위칭장치(9)내에서 선택적으로 작동하는 세개의 스위치들에 의하여 펄스화 된다. 이들 세개의 스위치들은 "최초가공" 스위치(9a)와 "중간가공"스위치(9b) 그리고 "마무리 가공" 스위치(9c)로서 구성되며, 이들 제각기들은 전극(E)과 피가공체(W) 사이의 가공갭(G)양단에 소정의 펄스 기간 및 간격 또는 소정의 범위내에서 변하는 펄스 기간과 간격의 펄스열이 발생하게끔 가변매개변수의 펄스기, 즉, 발진기(10)에 의하여 작동된다. 저항들(Ra, Rb, Rc)은 개별의 회로망들(최초가공, 중간가공, 마무리가공)내에 펄스 피이크 전류를 설정하게끔 트랜지스터 스위치들(9a, 9b, 9c)과 직렬로 결합되어 있다. 더우기, 이 실시예에 있어서, 감지저항(16)은 전극(E)과 피가공체(W)간의 갭전압, 전류 또는 임피던스에 응답하여, 저항(16)에 접속된 전위차계의 암(16a)이 갭전압 또는 임피던스 크기에 비례하는 신호를 제어회로(17)에 발생하게 하므로써, 발진기(4)의 동작모드가 갭전압, 전류 또는 임피던스에 따라 제어될 수 있도록 한다.Referring to Figs. 5 and 6, the description and operation description of the AC-DC-high frequency-DC converter circuit according to the present invention will be further understood. In the circuit of FIG. 5, the HF transformer 5 is shown to include only a machining output, but additional output for control purposes may be provided, as described in connection with FIG. 1. As already explained, the high frequency voltage withdrawn from the secondary winding 53 of the transformer 5 is supplied to the rectifier 7, where it is converted into a direct current of equally regulated voltage amplitude. The rectified direct current is pulsed by three switches which selectively operate in the switching device 9. These three switches are configured as a "first" switch 9a, a "medium" switch 9b and a "finished" switch 9c, each of which is between the electrode E and the workpiece W. The pulses of variable parameters, i.e., the oscillator 10, are operated to generate a predetermined pulse period and interval or a pulse string of pulse periods and intervals varying within a predetermined range across the processing gap G. Resistors Ra, Rb, Rc are coupled in series with transistor switches 9a, 9b, 9c to set the pulse peak current in the individual networks (initial, intermediate, finish). Furthermore, in this embodiment, the sense resistor 16 is responsive to the gap voltage, current or impedance between the electrode E and the workpiece W, so that the arm 16a of the potentiometer connected to the resistor 16 is connected. By generating a signal proportional to the gap voltage or impedance magnitude in the control circuit 17, the operating mode of the oscillator 4 can be controlled according to the gap voltage, current or impedance.

상술한 바와같이, 펄스기, 즉, 발진기(4)는 변압기(5)의 크기 및 무게가 충분히 작아질 수 있게끔 적어도 1KHz주파수의 제어펄스를 발생하도록 동작한다. 이러한 제어펄스의 충격계수 및 주파수는 응답속도가 빠른 HF출력 레벨을 결정한다.As mentioned above, the pulser, i.e., the oscillator 4, operates to generate a control pulse of at least 1 KHz frequency so that the size and weight of the transformer 5 can be sufficiently small. The impact coefficient and frequency of these control pulses determine the HF output level with fast response speed.

최초가공용 스위치(9a)는 100μs 내지 10ms 사이의 펄스 기간을 갖는 펄스열들을 제공하도록 펄스기 즉 발진기(10)에 의하여 작동된다. 마무리가공 스위치(9c)는 스위치(9b)가 중간 범위의 펄스기간을 갖는 펄스를 발생하게끔 1 내지 5μs사이의 펄스 기간을 갖는 펄스열을 발생하도록 작동한다. 이들 펄스에 대한 펄스 간격은 통상적으로 1 내지 10ms사이에 설정된다. 저항들(Ra, Rb, Rc)의 저항값들은 스위치(9a)가 작동되는 최초 가공에 있어, 펄스가 수십암페어 내지 1킬로암페어 사이의 피이크 진류를 갖고 스위치(9c)가 작동되는 마무리 가공에 있어, 펄스가 1 내지 10암페어의 피이크 전류를 갖으며, 스위치(9b)가 작동되는 중간 가공에 있어 펄스가 범위의 피이크 전류를 갖도록 설정된다.The first switch 9a is operated by a pulser or oscillator 10 to provide pulse trains with a pulse duration between 100 μs and 10 ms. The finishing switch 9c operates to generate a pulse train having a pulse period of 1 to 5 s so that the switch 9b generates a pulse having a pulse range in the middle range. Pulse intervals for these pulses are typically set between 1 and 10 ms. The resistance values of the resistors Ra, Rb, Rc are in the initial processing in which the switch 9a is operated, in the finishing processing in which the pulse has peak peaks between tens of amps and 1 kiloamp and the switch 9c is operated. The pulse has a peak current of 1 to 10 amperes, and the pulse is set to have a peak current in the range in the intermediate processing in which the switch 9b is operated.

펄스기(10)가 독립적인 발진기로서 구성될 수 있는 한, 펄스기(10)는 전극(E)과 피가공체(W)사이의 EDM 또는 ECM가공갭(G)내의 갭상태에 응답하도록 설계되어, 그결과 가공갭(G)에 인가될 펄스의 기간, 간격 및 펄스반복비는 최적 상태하에서 가공처리가 행해질 수 있도록 변화되어질 것이다.As long as the pulser 10 can be configured as an independent oscillator, the pulser 10 is designed to respond to a gap condition in the EDM or ECM processing gap G between the electrode E and the workpiece W. As a result, the period, interval and pulse repetition ratio of the pulses to be applied to the processing gap G will be changed so that the processing can be performed under an optimum state.

또한, 갭 상태는 펄스기(4)의 제어가 행해지게끔 제어회로(17)를 작동하도록 갭전압에 응답하는 저항(16)에 의하여 검출되므로, 그결과 스위치(3)에 전송되어지는 스위칭 제어펄스들의 동작주파수 및 충격계수는 변압기(5)의 출력 교류의 레벨을 제어하게끔 변형된다. 제어 주파수가 상용 교류입력(즉 50 내지 60Hz)의 주파수에 비해 확실하게 높으므로, 제어는 극히 빠른 응답속도로 행해진다. 그러므로, 갭(G)에서 단락회로상태가 발생할 경우, 그 결과로서 일어날 수 있는 손상 또는 아아킹이 순간적으로 방지되게끔 순간적으로 응답하여 정상적인 갭상태를 회복시키므로써, 이에 따라 연속 가공이 가능하며, 안정성이 있는 고효율을 갖는다.In addition, the gap state is detected by the resistor 16 responsive to the gap voltage to operate the control circuit 17 so that the control of the pulser 4 is performed, so that the switching control pulse transmitted to the switch 3 as a result. Their operating frequency and impact coefficient are modified to control the level of the output alternating current of the transformer 5. Since the control frequency is certainly higher than the frequency of the commercial AC input (i.e., 50 to 60 Hz), the control is performed at an extremely fast response speed. Therefore, when a short circuit condition occurs in the gap G, it is possible to continuously process by restoring the normal gap state in a momentary response so that any damage or arcing that may occur as a result is instantaneously prevented. It has high efficiency with stability.

스위치(3)의 온/오프 동작에 의하여 발생된 HF-AC가 1KHz보다 낮지 않은 주파수를 갖는 한 에너지 효율성을 특히 최초 가공의 경우에 대해 가공 펄스의 반복비에 비해 적어도 2배로 설정될때에 괄목할 수 있을 정도로 향상되어진다.As long as the HF-AC generated by the on / off operation of the switch 3 has a frequency not lower than 1 KHz, the energy efficiency is particularly remarkable when it is set at least twice the repetition rate of the processing pulses, especially for the initial processing. It is improved enough.

제6도에는 고주파수-교류의 주파수와 가공펄스의 펄스기간 사이의 관계가 도시되어있다. 최초 가공에 있어, 변압기(5)의 출력권선(53)에서 정류기(7)에 의한 전파정류로 얻어지는 직류를 펄스화 하는 것에 의하여(스위치(9a)에 의하여) 얻어지는 가공 펄스들은 제6(a)도에 도시된 바와같이 충격계수의 50%(또는 50μs의 펄스간격)을 가진 50μs의 펄스기간을 갖는다. 고주파수-교류가 20KHz(제6(a)도)의 주파수를 갖는 경우에, 교류전압은 점선으로 도시된 가공펄스의 온-시간(Ton)동안 한번은 영(0)레벨을 횡단한다. 이것은 직류 가공펄스회로의 전류제한저항(즉, 스위치(9a)와 직렬로 연결된 저항(Ra))이 임계값보다 낮게 설정될 수 있음을 의미한다.6 shows the relationship between the frequency of high-frequency alternating current and the pulse period of the processing pulse. In the initial processing, the processing pulses obtained by pulsed the direct current obtained by full-wave rectification by the rectifier 7 in the output winding 53 of the transformer 5 (by the switch 9a) are the sixth (a). As shown in the figure, it has a pulse period of 50 μs with 50% of the impact coefficient (or a pulse interval of 50 μs). In the case where the high-frequency alternating frequency has a frequency of 20 KHz (figure 6 (a)), the alternating voltage traverses the zero level once during the on-time Ton of the processing pulse shown by the dotted line. This means that the current limiting resistor (ie, the resistor Ra connected in series with the switch 9a) of the direct current processing pulse circuit can be set lower than the threshold value.

가공 펄스용 직류가 저주파수(50 내지 60Hz) 상용교류의 직접 정류에 의해 얻어지는 종래의 기술에 있어서, 펄스화된 가공 전류는 상기 입력교류(정류용)보다 더욱 높은 주파수를 갖으므로, 그결과 입력 교류전압(제6(a)도)은 제각기의 가공펄스 온-시간(Ton)동안 영(0)레벨을 횡단하지 않는다. 이것은 가공회로내의 대부분의 전류 제어가 가공펄스화 스위치(9a)와 직렬 연결의 저항(Ra)에 의해 행해질 것을 필요로 한다. 즉, 예를들면, 200암페어의 피이크전류, 100볼트의 전류전압 및 0,5온의 회로 저항(Ra)이 필요하다. 이에 비해, 본 발명에서는 저항(Ra)에 대해 0.1 내지 0.05옴만으로 충분하다.In the prior art in which a direct current for a working pulse is obtained by direct rectification of a low frequency (50 to 60 Hz) commercial alternating current, the pulsed processing current has a higher frequency than the input alternating current (for rectification), and as a result, an input alternating current The voltage (figure 6 (a)) does not cross the zero level during each processing pulse on-time Ton. This requires that most of the current control in the processing circuit is performed by the resistance Ra of the series connection with the processing pulsation switch 9a. That is, for example, a peak current of 200 amps, a current voltage of 100 volts, and a circuit resistance Ra of 0,5 ions are required. In contrast, in the present invention, only 0.1 to 0.05 ohm is sufficient for the resistance Ra.

스위치(9b)가 펄스기간(Ton), 즉, 10μs(제6(d)도)의 가공펄스를 발생하도록 작동하는 "중간가공"에 있어, 이러한 펄스들의 주파수는 20KHz의 전원 주파수보다 높으며, 이에 따라서 교류전압(제6(a)도)은 제각기의 작업펄스온시간(Ton)동안 영(0)레벨을 횡단하지 않는다. 예를들어서 10암페어의 피이크 가공 전류를 얻기 위해서는, 직렬저항(Rb)의 저항값을 10옴으로 하는 것이 필요하다. 또한 2μs의 온시간(Ton)(제6(e)도)을 갖는 마무리 가공을 위해서는, 직렬저항(Rc)은 1암페어의 펄스 피이크 전류가 얻어지게끔 100옴의 저항값을 가져야만 한다. 그러므로 상당한 저항값이 중간 가공 및 마무리 가공 범위내에서 요구되는한, 이러한 요구는 성취되기가 어렵지 않은데 그 이유는 이들 가공 영역에서 낮은 전력필요성에 기인한다.In the "intermediate processing" in which the switch 9b operates to generate a pulse duration Ton, i.e., a processing pulse of 10 mu s (figure 6 (d)), the frequency of these pulses is higher than the power frequency of 20 KHz. Therefore, the AC voltage (Fig. 6 (a)) does not cross the zero level during each working pulse on time Ton. For example, in order to obtain a peak working current of 10 amps, it is necessary to set the resistance value of the series resistor Rb to 10 ohms. In addition, for finishing with an on time Ton (Fig. 6 (e)) of 2 mu s, the series resistor Rc must have a resistance value of 100 ohms so that a pulse peak current of 1 amp is obtained. Therefore, as long as significant resistance values are required within the intermediate and finish machining ranges, this requirement is not difficult to achieve because of the low power requirements in these processing areas.

커다란 피이크전류가 인가되어져야만 하는 최초 가공에 있어, 회로저항값의 현저한 감소(약 10분지1)가 이루어져, 전력 효율성이 현저하게 개선됨(10배)은 중요하다.In the initial processing where large peak currents must be applied, it is important that a significant reduction in circuit resistance (approximately 10) occurs, resulting in a significant improvement in power efficiency (10 times).

물론 고주파수-교류의 주파수는 바람직스럽게 변화된다. 그러므로, 펄스기간(Ton)이 길어지면 고주파수가 낮아지며, 이와는 반대로 펄스기간이 짧아지면 주파수는 높아진다.Of course the frequency of the high-frequency alternating is preferably changed. Therefore, the longer the pulse period Ton, the lower the high frequency, and conversely, the shorter the pulse period, the higher the frequency.

제7도는 설명된 교류-직류-고주파수-직류 변환기로서 구성된 고전압진원장치(A)와 저전압 가공 전원장치(B)를 구비한 전원장치의 다른 실시예를 도시한 것으로, 제7도에서는 다른 도면에 생략된 필터(1a)가 입력단자(1)의 출력측에 제공된다. 변압기들(5와 51)의 출력권선들은 제각기 고전압과 저전압 전원장치를 이룬다. 제각기 고전압직류와 저전압직류를 펄스화하기 위하여 고전압변환기(A)의 고전압(HV) 2차 회로망 내에 있는 스위치(9)와 저전압-변환기(B)의 저전압(LV)2차 회로망내의 스위치(91)는 제 1차 직류회로망들 내에서 스위치들(3) 및 (31)용 펄스기 또는 발진기(4)의 작동과 상반적으로 공통펄스기, 즉 발진기(10)에 의하여 작동되어 전극(E)과 피가공체(W)간에 소정의 펄스기간및 간격의 가공펄스열을 제공한다. 그러나 스위치들 (9)및 (91)용으로 두개의 펄스기들을 제공하여, 갭파괴 또는 방진 개시시에 고전압 스위치(9)가 턴오프되게끔 하는 것이 가능하다.FIG. 7 shows another embodiment of a power supply having a high voltage generator A and a low voltage overhead power supply B configured as the described AC-DC-high frequency-DC converter, and FIG. The omitted filter 1a is provided on the output side of the input terminal 1. The output windings of the transformers 5 and 51 form a high voltage and a low voltage power supply, respectively. Switch 9 in the high voltage (HV) secondary network of the high voltage converter (A) and the low voltage (LV) secondary network of the low voltage converter (B), respectively, to pulse high voltage DC and low voltage DC, respectively. Is operated by a common pulse, i.e., oscillator 10, as opposed to the operation of the pulser or oscillator 4 for switches 3 and 31 in the primary DC networks. A processing pulse train of a predetermined pulse period and interval is provided between the workpieces W. FIG. However, it is possible to provide two pulses for the switches 9 and 91 so that the high voltage switch 9 is turned off at the start of gap breakdown or dustproofing.

이 실시예는 갭상태에 응답하는 또다른 제어장치(18과 181)가 제공되는데, 이들 제어장치들은 방전전류에 응답하여 갭(G)이 단락된 때에 증대된 전류진폭에 응답하는 신호가 펄스기들(4및 41)의 작동을 중지시키고, 이때 변환기 A및 B의 동작이 펄스기(4및 41)의 충격계수 및 또는 주파수를 감소시켜 가공갭(G)을 용이하게 정상상태로 회복시키는 식으로 펄스기(4, 41)를 제어하게끔 설계된다. 간격상태는 고주파 성분의 크기 또는 임피던스, 저항, 간격전압으로 대체 표현될 수도 있다.This embodiment is provided with further controllers 18 and 181 responsive to a gap condition, in which the signals respond to the increased current amplitude when the gap G is shorted in response to the discharge current. The operation of the transducers 4 and 41, wherein the operation of the transducers A and B reduces the impact coefficient and / or the frequency of the pulsers 4 and 41 so that the machining gap G is easily restored to its normal state. It is designed to control the pulser (4, 41). The gap state may be represented by the magnitude or impedance of the high frequency component, the resistance, and the gap voltage.

펄스기(10)의 출력매개변수들은 전술된 실시예에서와 마찬가지로 최초, 중간 또는 마무리와 까은 가공의 소망의 가공모드에 따라서 조정되어진다. 스위치들(9, 91)이 고전압-직류 및 저전압-직류의 펄스화를 위해 제각기 턴온된 경우, 고전압 간격 트리거 펄스가 중첩되는 저전압가공 펄스는 각 가공펄스 주기에서 가공갭(G)양단에 인가된다. 저전압 가공 펄스상에 대한 고전압 펄스의 중첩은 간격파괴를 용이하게하여 개방펄전압펄스가 극스화되게 한다. 펄스기(10)는 스위치(91)보다 더욱 높은 주파수에서 스위치(9)를 동작시켜 수개의 고전압펄스가 단일의 저전압가공 펄프상에 중첩되어 나타나게끔 변형된다.The output parameters of the pulsator 10 are adjusted in accordance with the desired processing mode of initial, intermediate or finish and close processing as in the above-described embodiment. When the switches 9 and 91 are turned on for high voltage-DC and low voltage-DC pulses, respectively, a low voltage processing pulse in which a high voltage interval trigger pulse is superimposed is applied across the processing gap G in each processing pulse period. . The superposition of the high voltage pulses on the low voltage processed pulses facilitates the interval break so that the open pulse voltage pulses are minimized. The pulser 10 is deformed to operate the switch 9 at a higher frequency than the switch 91 so that several high voltage pulses appear superimposed on a single low voltage processing pulp.

제8도의 변형실시예에서 고전압변압기(5)의 제2차 권선에는 가공 전원장치(B)로부터 저전압의 가공펄스열상에 고전압-고주파수 펄스화 전류가 중첩되게끔 반파 정류기(7d)가 제공된다. 저전압 변환기(B)내의 발진기(41)가 50내지 100KHz 주파수에서 작동하는 반면에 고전압 변환기(A)내의 발진기(4)는 100내지 500KHz의 주파수에 작동된다.In the modified embodiment of FIG. 8, the secondary winding of the high voltage transformer 5 is provided with a half-wave rectifier 7d such that the high voltage-high frequency pulsating current is superimposed on the low voltage working pulse train from the processing power supply B. Oscillator 41 in low voltage converter B operates at a frequency of 50 to 100 KHz, while oscillator 4 in high voltage converter A operates at a frequency of 100 to 500 KHz.

예를들면 50KHz의 주파수에서 작동하는 발진기 (4)의 경우, 1μs의 펄스기간 및 간격을 갖는 고전압 출력펄스들은 가공갭(G)양단에 직접 인가되어질 것이다. 전술된 실시예에서와 마찬가지로, 저전압 가공 펄스들은 소정의 펄스기간(Ton)및 간격(Toff)(예로서 마무리 가고에서는 펄스기간(Ton)이 1내지 5μs이며 최초가공에서는 100μs내지 10ms왼)을 가진 출력전류를 스위치(91)에 의해 펄스화하므로써 얻어진다. 제각기의 저전압 펄스 및 고전압 펄스가 동기되도록 하기 위하여는 발진기(10)로부터 발진기(4)에 신호가 전송되어진다. 고전압 펄스들은 200내지 300볼트의 전압을 갖도록 설정되며, 저전압펄스들은 20내지 30볼트의 전압을 갖도록 설정되어진다. 소망의 가공모드에 따른 펄스기간을 갖는 저전압 가공펄스상에 반복적으로 1μs의 펄스 기간을 갖는 저전압 고전압 펄스를 중첩하는 것에 의해 방전트리거 효율이 증가되며, 갭의 단락회로상태발생시에 전력중단이 용이해진다. 제8도의 실시예에서 제어장치(18, 181)은 제각기 고전압 변압기(5)와 저전압 변압기(51)의 일차회로 망내의 직류에 응답하며, 차단 다이오드(19)는 저전압 변압기(51)의 이차회로 망내에 제공된다.For example for an oscillator 4 operating at a frequency of 50 KHz, high voltage output pulses with a pulse duration and interval of 1 μs will be applied directly across the processing gap G. As in the above-described embodiment, the low voltage processing pulses have a predetermined pulse duration Ton and interval Toff (e.g., 1 to 5 microseconds in the finishing process and 100 microseconds to 10 ms left in the initial processing). The output current is obtained by pulsed by the switch 91. A signal is transmitted from the oscillator 10 to the oscillator 4 in order to synchronize the low voltage pulses and the high voltage pulses, respectively. The high voltage pulses are set to have a voltage of 200 to 300 volts, and the low voltage pulses are set to have a voltage of 20 to 30 volts. The discharge trigger efficiency is increased by repeatedly superimposing the low voltage high voltage pulse having a pulse duration of 1 μs on the low voltage processing pulse having the pulse duration according to the desired processing mode, and the power interruption is facilitated when a gap short circuit condition occurs. . In the embodiment of FIG. 8, the control devices 18, 181 respectively respond to the direct current in the primary circuit network of the high voltage transformer 5 and the low voltage transformer 51, and the blocking diode 19 is the secondary circuit of the low voltage transformer 51. It is provided in the network.

제9도의 변형된 실시예에서, 고전압 변환기(A)의 직류출력은 펄스화됨이없이 가공갭(G)양단에 연속적으로 인가되어지며, 반면에 저전압 변환기(B)의 직류출력은 스위치(91)에 의하여 펄스화되고 연속적인 고전압직류에 중첩되어 갭(G)의 양단에 인가되므로써 그결과 저전압 진류 펄스에 앞선 고전압-직류에 의한 갭 파괴의 가공주기가 반복적으로 행해진다. 이러한 실시예에서 클록발진기(20)는 저전압 변환기(B)의 이차회로망내의 스위치(91)와 마찬가지로 변환기들(A, B)의 각 일차 회로망내의 스위치들(3, 31)에 인가될 초기설정의 매개변수의 제어펄스가 스위칭 펄스를 제공하는 계수기(22)에 의하여 처리되어지는 1MHz주파수의 클록펄스를 제공하는데 사용되어진다.In the modified embodiment of FIG. 9, the direct current output of the high voltage converter A is continuously applied across the processing gap G without being pulsed, while the direct current output of the low voltage converter B is switched 91. It is pulsed by and superimposed on the continuous high voltage DC and applied to both ends of the gap G. As a result, the processing cycle of the gap breakage by the high voltage-DC prior to the low voltage pulse current pulse is repeatedly performed. In this embodiment, the clock oscillator 20 is similar to the switch 91 in the secondary network of the low voltage converter B, which is the initial setting to be applied to the switches 3 and 31 in each primary network of the converters A and B. The control pulse of the parameter is used to provide a clock pulse of 1 MHz frequency which is processed by the counter 22 which provides the switching pulse.

제10도의 회로배열의 소망의 최초 가공, 중간가공 또는 마무리가공이 달성되게끔 고전압 변환기(A)와 조합하여 동작할 수 있도록 스위치(23)에 의하여 선택적으로 구동되며, 서로 병렬로 접속된 다수의 저전압 변환기들(B1, B2, B3)을 포함할다. 그러므로 최초 가공에 있어서는 모든 변환기들(B1, B2, B3)은 가공갭(G)에 최대의 두개의 변환기들(B1, B2)이 작동되고, 마무리 가공에서는 단지 변환기(B1)만이 구동된다.FIG. 10 is selectively driven by a switch 23 to be operated in combination with the high voltage converter A so that the desired initial, intermediate or finished machining of the circuit arrangement is achieved, and a plurality of connected in parallel Low voltage converters B 1 , B 2 , B 3 . Therefore, in the first machining, all transducers B 1 , B 2 , B 3 are operated with the maximum two transducers B 1 , B 2 in the machining gap G, and in the finishing machining only the transducer B 1. ) Is driven.

제11도에서 도시한 변형된 교류-직류-고주파수-직류 변환기 회로는 기간(Toff)만큼 서로 이격된 펄스군들을 발생하도록 설계되어 있는데, 제각기의 펄스군은 1μs의 펄스기간및 1μs의 펄스간격을 가진 복수개의 단위펄스들을 포함한다. 단위 펄스들로 구성된 펄스군을 사용하면 증가된 가공안정성에 기인하여 보다 나은 표면처리, 증대된 제거율 및 감소된 상대전극 마모성의 장점을 얻는다. 그러나 그들의 개별적인 크기때문에, 극히 높은 응답속도가 단위 펄스들을 제어하는데 필요하다.The modified AC-DC-high frequency-DC converter circuit shown in FIG. 11 is designed to generate pulse groups spaced apart from each other by a period Toff, each pulse group having a pulse period of 1 μs and a pulse interval of 1 μs. It includes a plurality of unit pulses. The use of a pulse group consisting of unit pulses gives the advantage of better surface finish, increased removal rate and reduced counter electrode wear due to increased processing stability. However, because of their individual size, extremely high response speeds are needed to control the unit pulses.

예를들어, 최초가공에 있어, 개별의 단위 펄스들 자체의 에너지가 증가되어짐에도 불구하고, 가공에너지는 단위펄스군들과 더불어 확실히 높은 전류밀도로 양산되어져야만 한다. 펄스군들을 발생하기 위해 종래의 시스템에서는 상용교류의 정류에 의해 얻어진 직류를 스위칭하는데 의존하였으나 이러한 시스템은 상기의 요구를 충분히 만족시키지 못하였다.For example, in initial processing, although the energy of the individual unit pulses themselves is increased, the processing energy must be mass produced with a high current density with the unit pulse groups. In order to generate pulse groups, the conventional system has relied on switching the direct current obtained by the commutation of the commercial alternating current, but such a system did not sufficiently satisfy the above requirement.

본 발명의 원리를 실시한 제11도의 회로 장치에서 전술된 실시예에서와 같이 입력단자(1)에 입수되어 필터(1a)를 통하여 공급되는 상용고류에 대해 정류기(2)의 출력에 제공된 트랜지스터의 스위치(3)는 단위펄스들의 기간(Ton) 및 간격(Toff)을 한정하는 펄스기(24)에 의하여 제어되어진다. 펄스기(24)는 펄스군들의 기간(Ton) 및 간격(Toff)을 결정하는 펄스기(26)에 연결된 입력단자(25a)를 갖는 AND게이트(25)에 연결된 입력단자(24a)를 갖는다.In the circuit arrangement of FIG. 11 embodying the principles of the present invention, a switch of a transistor provided at the output of the rectifier 2 with respect to a commercial high flow obtained at the input terminal 1 and supplied through the filter 1a as in the above-described embodiment. (3) is controlled by the pulser 24 which defines the duration Ton and the interval Toff of the unit pulses. The pulser 24 has an input terminal 24a connected to an AND gate 25 having an input terminal 25a connected to the pulser 26 for determining the period Ton and the interval Toff of the pulse groups.

그러므로 스위치(3)는 펄스기(26)이 "1"펄스출력을 발생하는 통상 10μs 내 10ms의 시간(Ton)동안, 펄스기(24)에 의하여 결정된 최소 1μs의 폭 (Ton과 Toff)을 갖는 연속적인 단위펄스군이 발생되게끔 정류기(2)의 직류 출력을 펄스화하기 위하여 턴온되고 제어되어진다. 스위치(3)는 펄스기(26)가 "0"펄스출력을 발생하거나 또는 어떠한 펄스출력도 발생하지 않게되는 때 및 발생하지 않는 기간동안 턴오프되어 그 상태를 유지하므로써 그결과 휴지기간(Toff)이 연속적인 단위펄스군들 사이에 삽입된다. 이러한 연속적인 단위펄스군으이 통상적인 모드는 제14도내에서 도시되어있다. 연속적 펄스군들의 제각기 군내에 포함된 단위 펄스들의 수는 바람직한 특정의 가공모드, 즉 최초가공, 중간가공, 마무리가공의 모드에 따라서 결정되어진다. 단위 펄스들의 기간(Ton)과 간격(Toff)들은 소망의 가공모드에 따라서 다음과 같이 결정되었다. 즉 마무리 가공에서는 Ton=1μs, Toff=10μs내지 20μs, 중간 가공에서는 Ton=5μs, Toff=15πs 내지 20μs, 그리고 최초가공에서는 Ton=50μs 내지 100μs, Toff=20μs 내지 50μs가 된다.Therefore, the switch 3 has a width (Ton and Toff) of at least 1 μs determined by the pulser 24 during the time Ton of 10 ms within the normal 10 μs when the pulser 26 generates a “1” pulse output. It is turned on and controlled to pulse the direct current output of the rectifier 2 so that a continuous group of unit pulses is generated. The switch 3 turns off and maintains its state when the pulser 26 generates a " 0 " pulse output or no pulse output and during the non-occurring period so that the idle time Toff results. It is inserted between these successive unit pulse groups. A typical mode of this group of continuous pulses is shown in FIG. The number of unit pulses included in each group of consecutive pulse groups is determined in accordance with the desired particular processing mode, i.e., the first, intermediate and finishing modes. The duration Ton and the interval Toff of the unit pulses were determined as follows according to the desired processing mode. In other words, in the finishing, Ton = 1μs, Toff = 10μs to 20μs, in the intermediate machining Ton = 5μs, Toff = 15πs to 20μs, and in the initial processing, Ton = 50μs to 100μs, Toff = 20μs to 50μs.

게이트(25)용으로 제공된 2차 입력단자(25b)는 가공갭(G)내의 방진 상태에 응답하는 검파회로장치(27)에 연결된다. 이러한 회로장치는 가공 갭(G)에서 검출된 전압에 비례하는 주파수의 신호펄스가 발생되게끔 전압-주파수 변환을 행하도록 갭 전압에 응답한다. 신호펄스들은 펄스기(26)로 부터의 출력펄스와 AND게이트 (25)에서 합성되어지며, 합성된 신호는 펄스기(24)에 인가되어 펄스기들이 변형된 기간(Ton) 및 간격(Toff)를 갖는 연속적인 단위펄스군들을 발생하게된다.The secondary input terminal 25b provided for the gate 25 is connected to the detection circuit device 27 which responds to the dustproof state in the processing gap G. This circuit arrangement is responsive to the gap voltage to perform voltage-frequency conversion such that a signal pulse of frequency proportional to the voltage detected in the processing gap G is generated. The signal pulses are synthesized at the AND gate 25 with the output pulses from the pulser 26, and the synthesized signal is applied to the pulser 24 so that the pulses are deformed during the period Ton and interval Toff. It generates continuous unit pulse groups with.

발진캐패시터(6)와 함께 스위치(3)에 의한 스위칭 동작은 변압기(5)에 의하여 변환된 500KHz정도의 고주파수 교류펄스를 발생한다. 이러한 실시예에서의 변압기(5)는 비교적 낮은 전압레벨, 즉 35볼트를 생성하는 제1의 이차권선(53a)과 비교적 높은 전압 레벨, 즉 200볼트를 생성하는 제2의 이차권선(52b)를 갖는다. 이들 두 전압출력들은 제각기 반파정류기들(7a, 7b)에 의한 정류에 의하여 갭의 전기 방전을 트리거하는 고전압 펄스와 트리거된 가공방전을 유지하는 저전압펄스로서 가공갭(G)양단에 인가되어진다. 이러한 실시예의 2중 출력 변환기들은 동작을 안정화하고 전력효율을 증대시킨다. 더우기 이것에 의해 변압기(5)의 크기가 작게될 수 있어 더욱 소형화기 이루어질 수 있다.The switching operation by the switch 3 together with the oscillation capacitor 6 generates a high frequency alternating pulse of about 500 KHz converted by the transformer 5. The transformer 5 in this embodiment has a first secondary winding 53a that produces a relatively low voltage level, i.e. 35 volts, and a second secondary winding 52b that produces a relatively high voltage level, i.e. 200 volts. Have These two voltage outputs are applied across the processing gap G as high voltage pulses which trigger the electrical discharge of the gap by rectification by the half-wave rectifiers 7a and 7b respectively and low voltage pulses which maintain the triggered processing discharge. The dual output converters of this embodiment stabilize operation and increase power efficiency. Moreover, the size of the transformer 5 can be made smaller, thereby further miniaturization can be achieved.

펄스기(26)의 출력 및 검파회로(27)의 출력에 응답하는 펄스기(24)의 경우, 제14(b)도 내지 제14(d)도에 도시된 각종 펄스 제어패턴들이 얻어진다. 제14(b)도는 연속적인 단위펄스군들을 도시한것으로, Too과 Toff들은 갭 상태에 따라서 변형되어, 갭(G)이 안정된 상태하에 있는 경우에 숫자가 증가되고 폭(Ton)이 길어지며 간격(Toff)이 감소된 펄스군이 그리고, 방전상태가 나쁜 경우에는 Ton이 감소되고 Toff가 증 된 펄스군이 인가되게 한다. 제14(c)도에서 도시된 펄스제어 패턴에서, 단위 펄스들의 펄스 기간및 간격들은 가공간격의 방전상태에 따라서 제어 응답하며 제14(d)도의 패턴에서는 단위펄스와 펄스그룹들의 매개변수들이 동시에 제어됨이 도시되어 있다.In the case of the pulser 24 which responds to the output of the pulser 26 and the output of the detection circuit 27, various pulse control patterns shown in FIGS. 14 (b) to 14 (d) are obtained. FIG. 14 (b) shows the continuous unit pulse groups, where Too and Toff are deformed according to the gap state, so that the number increases and the width Ton becomes longer when the gap G is in a stable state. The group of pulses with reduced Toff) is applied, and the group of pulses with increased Toff is applied when Ton is reduced when the discharge state is bad. In the pulse control pattern shown in FIG. 14 (c), the pulse periods and intervals of the unit pulses are controlled in response to the discharge state of the processing interval, and in the pattern of FIG. 14 (d), the unit pulse and the parameters of the pulse groups are simultaneously Controlled is shown.

제12도에 도시된 변형에서, 단위 펄스들의 기간(Ton)과 간격(Toff)를 규정하는 펄스기(24)와, 기간(Ton)과 간격(Toff)를 규정하는 펄스기(26) 들은 AND게이트(28)에 연결된다. AND게이트(28)의 출력은 이미 설명된 (제14(a)도에서) 연속적인 단위펄스군이 가공갭(G)에 제공되게끔 스위치에 인가되어진다. 이러한 변형에서, 펄스기(24)는 단위 펄스들의 기간(Ton)과 간격(Toff)이 변형되게끔 가공갭전압과 기준전압간의 비교신호를 발생하는 제어회로(29)에 응답할 수 있도록 연결된다.In the variant shown in FIG. 12, the pulser 24 defining the period Ton and the interval Toff of the unit pulses, and the pulsers 26 defining the period Ton and the interval Toff are ANDed. Is connected to the gate 28. The output of the AND gate 28 is applied to the switch such that a continuous group of unit pulses (as shown in Fig. 14 (a)) is provided to the processing gap G. In this variant, the pulser 24 is connected in response to the control circuit 29 generating a comparison signal between the processing gap voltage and the reference voltage such that the period Ton and the interval Toff of the unit pulses are deformed. .

동시에, 전술된 실시예에서와 마찬가지로 펄스기(26)는 기간(Ton)과 간격(Toff)이 변형되게끔 제어회로(27)에 응답하여, 제14(d)도에서 도시된 제어패턴이 얻어지도록 한다. 제어회로와 펄스기(26)간에 접속회로가 생략된 경우, 제14(c)도에서 도시된 제어상태가 얻어진다.At the same time, as in the above-described embodiment, the pulser 26 responds to the control circuit 27 such that the period Ton and the interval Toff are deformed, so that the control pattern shown in FIG. 14 (d) is obtained. To lose. When the connection circuit between the control circuit and the pulser 26 is omitted, the control state shown in Fig. 14 (c) is obtained.

제13도의 다른 변형에서, 정류기(2)는 스위치들(3a, 3b, 3c)을 제각기 갖는 세개의 직류 출력회로망들을 갖는다. 스위치(3a)에 연관된 변압기(5a)는 그의 2차 권선에서 200 내지 400볼트의 고전압을 발생하는 반면에, 스위치(3b, 3c)와 제각기 연관된 변압기(5b, 5c)는 30 내지 50볼트의 저전압을 발생하며, 제각기의 변압기 출력들은 가공갭(G)양단에 다른 펄스군에 중첩되는 연속적인 펄스군들을 발생하도록 제각기 반파정류기들(70a, 70b, 70c)에 의하여 정류된다. 스위치(3a)는 단위펄스들의 기간(Ton)과 간격(Toff)을 규정하는 펄스기(33)에 의하여 제어되어지는 반면에, 스위치들(3b, 3c)은 연속적인 펄스들의 기간(Ton)과 간격(Toff)을 규정짓는 펄스기(34)에 의하여 제어되어진다. 또한, 펄스기(33)는 펄스기(34)에 의하여 제어되어 단지 기간(Ton)동안만 단위 펄스들이 발생되게 한다.In another variant of FIG. 13, the rectifier 2 has three direct current output networks with switches 3a, 3b and 3c respectively. Transformer 5a associated with switch 3a generates a high voltage of 200 to 400 volts in its secondary winding, while transformers 5b and 5c associated with switches 3b and 3c respectively have a low voltage of 30 to 50 volts. Each transformer output is rectified by the half-wave rectifiers 70a, 70b, and 70c to generate successive pulse groups that overlap the other pulse groups across the processing gap G. The switch 3a is controlled by the pulser 33 which defines the period Ton and the interval Toff of the unit pulses, while the switches 3b and 3c are connected to the period Ton of the successive pulses. It is controlled by a pulser 34 which defines an interval Toff. In addition, the pulser 33 is controlled by the pulser 34 so that unit pulses are generated only during the period Ton.

스위치들(3b, 3c)의 제어에 의하여 발생되 연속펄스들은 변압기들(5b, 5c)에 의한 전압 감소시의 전극(E)과 피가공체(W) 사이에 인가되어진다. 다수개의 출력들을 사용하는 것에 의해, 증가된 가공 에너지는 소형의 분리된 변압기로 가공 갭(G)에 공급되어진다. 물론, 더욱 증가된 가공전류가 필요한 경우, 병렬 회로망의 수는 증가되어진다. 스위치(3a)의 제어에 의하여 발생된 고주파 단위 펄스들은 가공갭(G)에서의 전기 방전을 확실하게 트리거할 수 있는 정도까지 변압기(5a)에 의하여 전압 레벨이 상승되며, 정류 시에 저전압의 연속적인 가공 펄스들상에 중첩된다. 따라서 제각기의 개별적인 연속의 저전압 펄스의 Ton동안, 기간(Ton)과 간격(Toff)을 갖는 고전압의 단위 펄스군이 인가된다.Continuous pulses generated by the control of the switches 3b and 3c are applied between the electrode E and the workpiece W during voltage reduction by the transformers 5b and 5c. By using multiple outputs, the increased processing energy is supplied to the processing gap G in a small separate transformer. Of course, when more processing current is required, the number of parallel networks is increased. The high frequency unit pulses generated by the control of the switch 3a raise the voltage level by the transformer 5a to the extent that it can reliably trigger the electric discharge in the processing gap G, and the continuous low voltage Superimposed on normal processing pulses. Thus, during each Ton of individual consecutive low voltage pulses, a high voltage unit pulse group having a period Ton and an interval Toff is applied.

고전압 단위 펄스들이 방전개시에 사용되기 때문에 때때로의 아아킹(arcing) 또는 단락회로는 보통 이정상적이고 안정화된 가공 상태로의 신속한 회복이 행해지게끔 고전압 장치의 제어를 중단하는 것에 의해 쉽게 해결된다. 펄스기(33) 및 (34)중 어느 하나를 가공갭의 정보회로망(35)에 응답하게한 경우, 단위 펄스들의 기간(Ton) 및 간격(Toff), 그리고 효율적인 가공이 행해지게끔 자동적으로 제어된다.Since high voltage unit pulses are used at the start of discharge, sometimes arcing or short circuits are easily solved by stopping control of the high voltage device so that a rapid recovery to an abnormal and stabilized processing state is usually performed. When one of the pulsers 33 and 34 responds to the information network 35 of the processing gap, the period Ton and the interval Toff of the unit pulses, and the efficient processing are automatically controlled to be performed. .

제15도는 본 발명에 따른 스파크 전착처리에 교류-직류-고주파수-직류 변환기의 적용을 도시한 것이다. 이러한 시스템에 있어, 선행 실시예들에서 설명되어진 원리는 전착전극 (E)및 병행하는 피가공체(W)에 의해 형성된 가공갭(G)이 근본적으로 사용되어진다. 통상 실시에 따른, 전착전극(E)는 전기기계적 발진기(36)에 의하여 피가공체(W)에 대해 진동한다.Fig. 15 shows the application of the AC-DC-high frequency-DC converter to the spark electrodeposition process according to the present invention. In such a system, the principle described in the preceding embodiments basically uses the processing gap G formed by the electrodeposited electrode E and the parallel workpiece W. According to a typical embodiment, the electrode electrode E vibrates with respect to the workpiece W by the electromechanical oscillator 36.

지금까지, 진동 전극이 재질이 전기 방전의 에너지에 의하여 부식되어 피가공체의 표면상에 전착되는 스파크 전착에 대한 전원장치는 전극과 피가공체의 양단에 접속된 캐패시터의 충방전에 사용된다. 이러한 시스템은 전착속도 및 일단 피가공체상에 전착된 부식층의 제거가능성이 제한된다는 특성이 있다.Up to now, the power supply device for spark electrodeposition in which the vibrating electrode is corroded by the energy of electric discharge and electrodeposited on the surface of the workpiece is used for charging and discharging of the capacitor connected to both electrodes and the workpiece. Such a system is characterized in that the electrodeposition rate and the possibility of removing the corrosion layer once electrodeposited onto the workpiece are limited.

본 발명에 의한 교류-직류-고주파수-직류 변환기는 상기된 문제들을 극복하는데 사용되며, 특히 전착 가공갭의 양단에 인가되는 펄스들을 적당히 제어하여, 그결과 적당히 제어된 휴지기간만큼 서로 분리된 연속적인 펄스군으로 양산할때. 사용되어 상기와 같은 문제점을 해소한다.The AC-DC-high frequency-DC converter according to the present invention is used to overcome the above-mentioned problems, in particular by controlling the pulses applied at both ends of the electrodeposition processing gap so that the continuous separated from each other by a moderately controlled rest period. When mass production with pulse group. It is used to solve the above problem.

전술된 회로 배열에서처럼, 정류기(2)는 스위치(3)에 의하여 펄스화되는 직류 출력을 제공한다. 스위칭 제어신호는 제어 단위 펄스들을 발생하는 발진기, 즉, 펄스기 (38)에 결합되니 제1입력단자(37a)와, 제2 AND 게이트(39)에 연결된 제2입력단자(37b)를 갖는 AND게이트(37)에 공급된다. AND게이트(39)는 단위펄스들을 순간적으로 또는 주기적으로 단속하는 제어신호를 발생하는 제2발진기 즉 펄스기(43)에 연결된다. 또한 게이트(39)는 전착전극(E)과 피가공체(W)사이에 연결된 가공갭 검파기(44)에 연결된다.As in the circuit arrangement described above, the rectifier 2 provides a direct current output pulsed by the switch 3. The switching control signal is coupled to an oscillator that generates control unit pulses, i.e., a pulser 38, and thus has an AND having a first input terminal 37a and a second input terminal 37b connected to the second AND gate 39. It is supplied to the gate 37. The AND gate 39 is connected to a second oscillator or pulser 43 that generates a control signal that intermittently or periodically intercepts unit pulses. The gate 39 is also connected to the processing gap detector 44 connected between the electrode electrode E and the workpiece W. FIG.

스파크 전착 처리에서, 전기 방전에 의해 가열된 전극(E)의 첨두 부분은 피가공체(W)의 표면상에 전착된후, 전극(E)은 분리되어 부식된 재료가 냉각되게 한다. 내부 전극의 전기 방전 및 분리에 의한 가열 및 냉각을 되풀이하면, 전착이 행하여지게 된다. 전극의 진동은 주기적 접촉 및 분리가 이루어지도록 상용 교류의 주파수로 보통 행해지는 반면, 가공 펄스들은 적어도 1KHz의 주파수로 발생하여, 그 결과 제각기의 진동주기동안 다수의 전기방전이 행해지게 된다. 결과적으로, 전차율은 종래의 회로, 즉 전극 진동 및 펄스 및 발생이 상호동기되는 캐패시터 충방전 시스템에 비해 증대된다.In the spark electrodeposition process, after the peak portion of the electrode E heated by electric discharge is electrodeposited on the surface of the workpiece W, the electrode E is separated to allow the corroded material to cool. When heating and cooling by electrical discharge and separation of an internal electrode are repeated, electrodeposition is performed. The vibration of the electrodes is usually done at a frequency of commercial alternating current to allow periodic contact and separation, while the processing pulses occur at a frequency of at least 1 KHz, resulting in a large number of electrical discharges during each oscillation cycle. As a result, the electric rate is increased compared to conventional circuits, that is, capacitor charge and discharge systems in which electrode vibration and pulse and generation are mutually synchronized.

펄스기(38) 및 펄스기(43)으로 부터의 제어신호들에 응답하는 스위치(3)의 온/오프 작동은 전차갭(G) 양단에 제각기 제16도에서 도시된 바와같은 기간(Ton) 및 간격(Toff)를 갖는 선정된 수만큼의 단위 펄스들을 가지며 휴지기간(Toff)만큼 분리되고 이 기간(Ton)을 갖는 연속적인 펄스군들을 제공한다. 통상적으로 Ton 및 Toff들은 10내지 200μs로 선택되어지며, Ton및 Toff들은 500μs 내지 10ms로 선택되어진다.The on / off operation of the switch 3 in response to the control signals from the pulser 38 and the pulser 43 is the period Ton shown in FIG. 16 respectively across the tank gap G. And continuous pulse groups having a predetermined number of unit pulses having an interval Toff, separated by a rest period Toff, and having this period Ton. Typically, Ton and Toffs are selected from 10 to 200 μs and Ton and Toffs are selected from 500 μs to 10 ms.

휴지기간(Toff)를 중간에 삽입하여 연속 방전이 행해질 수 있게끔, 가열된 전극(E)를 효과적으로 냉각시킨다. 전극(E)이 피가공체(W)와 접촉되는 한 다수의 휴지주기가 사용되어진다. 이렇게 함으로서 전차율이 증가되어지며 동시에 전차된 표면층이 질적으로 개선되어진다.The paused electrode Toff is inserted in the middle to effectively cool the heated electrode E so that continuous discharge can be performed. As long as the electrode E is in contact with the workpiece W, a plurality of rest periods are used. By doing so, the chariot ratio is increased and at the same time the chariot surface layer is improved qualitatively.

전극(E)와 피가공체(W)사이의 전기적 상태에 응답하는 갭(G) 검출기(44)는 갭(G)이 과도하게 벌어지게되는 경우 AND게이트(39)가 구동하지 않게 "0"신호를 발생한다. 따라서 펄스기(43)로 부터의 제어신호들은 게이트(39)를 통하여 게이트(37)에 도달될 수 없어, 그결과 스위치(3)는 오프상태로 유지되고 출력펄스들이 가공갭(G)에 인가되지 않는다. 전차펄스들의 중단제어는 가공 펄스들의 고주파수에서 응답성을 갖으므로, 전극의 접촉/분리 진동에 동기하여 용이한 가공펄스 제어와 더불어 안정화된 전착처리가 행해질 수 있다.The gap G detector 44, which responds to the electrical state between the electrode E and the workpiece W, is "0" so that the AND gate 39 does not drive when the gap G becomes excessively wide. Generate a signal. Therefore, the control signals from the pulser 43 cannot reach the gate 37 through the gate 39, so that the switch 3 remains off and the output pulses are applied to the machining gap G. It doesn't work. Since the interruption control of the chariot pulses has responsiveness at high frequencies of the processing pulses, a stable electrodeposition process can be performed along with easy processing pulse control in synchronization with the contact / separation vibration of the electrode.

본 발명에 의한 교류-직류-고주파수-직류 변환기는 아아크(arc) 용접 처리에서도 효과적으로 적용된다.The AC-DC-high frequency-DC converter according to the present invention is effectively applied to arc welding treatment.

제17도에서 아아크 용접 시스템은 전극(E)과 피가공체(W) 양단에 접속된 것으로 도시된 본 발명에 의한 용접 전원장치의 한쌍의 출력단자들(45)을 가진 홀더(H)에 의하여 지지되는 용접봉 전극(E)으로부터의 용융된 재료로 용접되는 피가공체(W1)및 (W2)를 포함한다. 입력단자(1)에서 입수된 상용 교류에 대한 정류기(2)의 직류측에 전술된 실시예에서와같이 제공된 전력펄스화 스위치(3)는 고주파 펄스기(46)와 저주파펄스기(47)의 동작에 의하여 제어되며, 그 결과 연속적인 단위펄스군들은 시스템의 출력단자(45)에 발생한다. 이러한 단위펄스들의 펄스군화 또는 주기적 중단은 제어스위치(3a)에서 행해진다.In FIG. 17, the arc welding system is provided by a holder H having a pair of output terminals 45 of the welding power supply according to the present invention, which is shown connected to both ends of the electrode E and the workpiece W. FIG. A workpiece W 1 and W 2 welded with molten material from a supported electrode electrode E. The power pulsation switch 3 provided as in the embodiment described above on the direct current side of the rectifier 2 for commercial alternating current obtained at the input terminal 1 is provided with a high frequency pulser 46 and a low frequency pulser 47. Controlled by operation, consequently, successive unit pulse groups occur at the output terminal 45 of the system. Pulse grouping or periodic interruption of these unit pulses is done in the control switch 3a.

고주파수 펄스기(46)는 제19(a)도에 도시된 바와같은 10KHz 주파수의 기간(Ton) 간격(Toff), 및 파형을 가진 제어펄스를 발생하는데 사용되며, 저주파수 펄스기(47)는 제19(b)도에 도시된 바와같은 주파수의 기간(Ton), 휴지기간(Toff) 및 파형을 갖는 제어펄스를 발생한다. 그결과, 스위치(3a)로부터의 펄스들은 제19(c)도에서 도시된 바와같은 파형이 됨을 알수 있다. 또한 용접봉(E)와 피가공체(W1, W2)의 양단에 발생된 펄스들은 제19(d)도에서 도시된 바와같은 파형임을 알수가 있다. 이들 펄스들의 출력전압(V)은 아아크를 트리거할 수 있을 정도로 충분히 높게 조정되어지며, 그리고 아아크 전류(Ip)는 안정펄스 아아칭을 유지할 수 있을 정도로 충분한 전류밀도를 갖도록 조정되어진다.The high frequency pulser 46 is used to generate a control pulse having a ton interval Toff of a 10 KHz frequency and a waveform as shown in FIG. 19 (a), and the low frequency pulser 47 As shown in FIG. 19 (b), a control pulse having a period Ton, a pause period Toff, and a waveform is generated. As a result, it can be seen that the pulses from the switch 3a have a waveform as shown in FIG. 19 (c). In addition, it can be seen that the pulses generated at both ends of the electrode E and the workpieces W 1 and W 2 are waveforms as shown in FIG. 19 (d). The output voltage V of these pulses is adjusted high enough to trigger arcing, and the arc current Ip is adjusted to have a current density sufficient to maintain stable pulse arcing.

제18도에서 입력단자들(1', 1'')과 정류기들(2', 2'')과 스위칭 소자들(3', 3'', 3''')과 입력단자들(1)에 대응하는 출력단자들(45', 45'')과 정류기(2)와, 스위치(3) 그리고 제17도의 출력단자들(45)이 도시되어 있다. 클록발전기 즉 펄스기(48)는 제17도의 고주파수펄스기(46)에 대응한다. 제17도의 상세도인 제18도 회로내의 다른 회로소자들은 AND 게이트(54, 55, 56, 57)과, Toff, Ton, Toff, Ton을 결정짓는 프리셋트 계수기(61, 62, 63, 64)과, RS쌍안정 소자(65, 66)와, 분할기(67)와, 고주파 변압기(5', 5)와, 반파정류기(7)와 그리고 전환장치(68)들이 있다.In FIG. 18, the input terminals 1 ', 1' ', the rectifiers 2', 2 '', the switching elements 3 ', 3' ', 3' '' and the input terminals 1 are shown. The output terminals 45 'and 45' 'corresponding to the rectifier 2, the switch 3 and the output terminals 45 of FIG. 17 are shown. The clock generator or pulse generator 48 corresponds to the high frequency pulse generator 46 of FIG. Other circuit elements within the circuit of FIG. 18, which is a detail of FIG. 17, include AND gates 54, 55, 56, 57, and preset counters 61, 62, 63, 64 that determine Toff, Ton, Toff, Ton. And RS bistable elements 65 and 66, divider 67, high frequency transformers 5 'and 5, half wave rectifier 7 and switching device 68.

동작에 있어, 단안정소자(65)가 셋트된 경우, 발전기(148)로 부터의 고주파수 펄스들은 AND게이트(55)를 통과하며 계수기(62)에 의해 계수된다. 계수가 소정값에 도달한때, 계수기(62)는 소자(65)를 리셋트하는 출력펄스를 발생한다. 이렇게 되므로써 펄스기(48)로 부터의 고주파수 펄스들은 다시 게이트(54)를 통과하게되고 계수기(61)가 계수를 행하게 된다. 이후, 프리셋트값에 계수기(61)의 계수레벨이 도달할때, RS 쌍안정 소자(65)는 셋트상태로 복귀되어진다. 이러한 주기의 반복에 의해 제19도에 도시된 바와같은 출력신호 펄스들은 쌍안정 소자(65)로부터 유출된다.In operation, when the monostable element 65 is set, the high frequency pulses from the generator 148 pass through the AND gate 55 and are counted by the counter 62. When the count reaches a predetermined value, the counter 62 generates an output pulse for resetting the element 65. This causes the high frequency pulses from the pulser 48 to pass through the gate 54 again and the counter 61 counts. Then, when the counting level of the counter 61 reaches the preset value, the RS bistable element 65 is returned to the set state. By repetition of this period, output signal pulses as shown in FIG. 19 flow out from the bistable element 65.

마찬가지로 쌍안정 소자(66)도 출력신호들을 제공한다. 그러나 분할기(67)가 압력채널내에 위치하기 때문에, 후자의 신호들은 RS쌍안정소자(65)로부터의 출력펄스들의 주파수보다 대단히 낮은 주파수를 갖는다.Similarly, bistable element 66 also provides output signals. However, since the divider 67 is located in the pressure channel, the latter signals have a frequency much lower than the frequency of the output pulses from the RS bistable element 65.

RS쌍안정 소자들(65와 66)의 출력펄스들의 충격계수 및 주파수들은 쉽게 프리셋트되며, 클록펄스기(48)의 주파수, 분할기(67)의 주파수분할 및 계수기들(61, 62, 63과 64)의 프리셋트 레벨들을 조정하는 것에 의하여 정확하게 된다.The impact coefficients and frequencies of the output pulses of the RS bistable elements 65 and 66 are easily preset, the frequency of the clock pulse 48, the frequency division of the divider 67 and the counters 61, 62, 63 and the like. This is done by adjusting the preset levels in 64).

RS쌍안정 소자들(65와 66)의 출력들은 출력파형이 제19(c)도에 도시된 바와같은 AND게이트(69)에 인가되어진다. 정류기(7)의 출력단자에 전환기(68)가 접속된 경우, 제19(d)도에 도시된 바와같은 펄스화된 용접전류는 단자(45')에 발생하여, 전극(E)과 피가공체(W1, W2)사이에 인가되어 진다. 또한 전환기(68)가 다른 출력단자에 연결된 경우에 고주파수 교번펄스들은 제각기 기간(Ton)을 갖고 1KHz주파수의 연속적인 펄스군으로 발생된다, 또한 쌍안정 소자(65)의 출력은 변압기(5')의 1차축내의 스위칭소자(3'')를 제어하는데 사용되어지며, 쌍안정소자(66)의 출력은 용접전극(E)과 피가공체(W1, W2)양단에 제19(d)도에 도시된 바와같은 파형의 펄스화된 용접 전류가 단자(45'')로부터 공급되게끔 변압기(5')의 2차축내의 스위칭소자(3'')를 제어하는데 사용되어진다.The outputs of the RS bistable elements 65 and 66 have an output waveform applied to the AND gate 69 as shown in FIG. 19 (c). When the converter 68 is connected to the output terminal of the rectifier 7, a pulsed welding current as shown in FIG. 19 (d) is generated at the terminal 45 ', so that the electrode E and the workpiece to be processed. It is applied between the sieves W 1 and W 2 . Also, when the diverter 68 is connected to another output terminal, the high frequency alternating pulses are generated in successive pulse groups of 1 KHz frequency, each having a period Ton, and the output of the bistable element 65 is the transformer 5 '. It is used to control the switching element (3 '') in the primary axis of the bistable element 66, the output of the 19th (d) across the welding electrode (E) and the workpiece (W 1 , W 2 ) It is used to control the switching element 3 '' in the secondary axis of the transformer 5 'such that a waveform pulsed welding current as shown in the figure is supplied from the terminal 45''.

상술한 바와같이 본 발명에 따르면, 전기 가공기의 개량된 전원장치가 제공되는데, 이 전원장치는 소형화가 이루어져 경제적이며, 어떠한 문제점도 없이 효율좋은 가공동작을 보인다.According to the present invention as described above, there is provided an improved power supply device of an electric machine, which is compact and economical, and exhibits an efficient processing operation without any problems.

Claims (1)

변압기를 구비하지 않고 저주파수의 상용교류원에 접속될 수 있는 입력장치와 ; 상기 상용교류원에 직결되어 상용교류를 직류로 변환하는 정류기와 ; 상기 정류기에 직결되어 상기 직류를 펄스화 하는 것에 의해 상기 상용교류주파수보다 더 높은 고주파수의 출력을 발생하는 펄스화장치와 ; 상기 펄스화장치에 접속되어 상기 고주파수의 출력이 전압크기를 소망의 레벨로 변환하는 고주파수 변압기와 ; 상기 변압기에 접속되어 상기 소망 레벨의 고주파수 출력으로 부터 소정펄스매개변수의 비직선적인 일련의 전기가 공펄스를 발생하여 전기가 공전극과 피가공체간의 가공갭의 양단에 인가하는 장치로 이루어진 전기가공기의 전원장치.An input device that can be connected to a low-frequency commercial AC source without a transformer; A rectifier connected directly to the commercial exchange source and converting a commercial exchange into a direct current; A pulseizing device which is directly connected to the rectifier and generates an output of a higher frequency than the commercial alternating frequency by pulsing the direct current; A high frequency transformer connected to the pulse device to convert the output of the high frequency into a desired level; An electrical device comprising a device connected to the transformer to generate a non-linear series of empty pulses of a predetermined pulse parameter from the high frequency output of the desired level and to be applied to both ends of the processing gap between the hollow electrode and the workpiece. Power supply of the machine.
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