KR830000331B1 - Cooling treatment device with non-return valve - Google Patents

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KR830000331B1
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conduit
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도시마 야마우찌
사다오 노가미
겐지 사와다
준이찌로 모리아
히로오미 사와다
게이조 고바야시
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와따나베 미쓰노리
가부시끼가이샤 크리오. 메디칼
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Abstract

내용 없음.No content.

Description

역류방지 밸브부착 냉각치료 장치Cooling treatment device with non-return valve

첨부 도면은 본 발명 장치를 개괄적으로 나타낸 계통도.The accompanying drawings are schematic diagrams schematically showing the apparatus of the present invention.

본 발명은 냉각 치료 장치 특히 저온 공기를 마련하여, 이 공기를 급속히 환부에 적용하는 냉각 치료 장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to a cooling therapy apparatus, especially the cryotherapy apparatus which provides cold air and applies this air rapidly to a affected part.

염좌, 류우머티즘, 좌상, 신경통 등의 질환에 대하여는 환부에 극히 저온의 기체로 급속히 또한 단시간 냉각시킴으로써 치료 효과를 올리고 있는데, 이와 같은 치료를 위해서 최근 환부에 -80℃내지 -190℃라는 극히 저온도를 마련하는 일이 요구되는 경우가 있다.Diseases such as sprains, rheumatism, sciatica and neuralgia have a therapeutic effect by cooling rapidly and for a short time with extremely low temperature gas in the affected area. For such treatment, recently, extremely low temperatures of -80 ° C to -190 ° C in the affected area It may be required to provide a drawing.

일반적으로 치료를 위하여 저온을 얻기 위하여는 종래 얼음을 사용하는 것, 한제 (寒劑)를 사용하는 것이 간편하다.In general, in order to obtain a low temperature for treatment, it is easy to use conventional ice and to use a Chinese medicine.

그러나 이들로서는 저온을 얻을 수 없으므로 냉동기에서 저온 공기를 사용하는 방법 또는 액화 탄산 가스를 분출시켜서 얻은 저온의 탄산가스를 이용하는 방법이 있다. 그러나, 상기한 바와같은 충분한 저온은 용이하게 얻어지지 않는다. 환부를 다만 냉각하기 위해서 사용하는 것이라면 액체 산소(비점-183℃)나 액체질소 (비점-196℃)를 준비하여 이들의 액화 가스가 기화될 시의 잠열을 이용하여 액화 가스를 환부에 적용하는 일은 가능하다. 그러나 좁은 치료실에서 이들 가스를 냉각 치료용으로 사용하면 가스가 실내에 충만되는데, 전자의 가스는 화재의 위험이 있고 후자의 가스는 실내에 산소가 결핍되는 원인이 되기 때문에 이들 가스를 그대로 사용하는 것은 치료상 바람직하지 않다.However, since low temperature cannot be obtained by these, there exists a method of using low temperature air in a refrigerator, or using the low temperature carbon dioxide gas obtained by blowing liquefied carbon dioxide gas. However, sufficient low temperatures as described above are not easily obtained. If it is to be used only for cooling the affected part, preparing liquid oxygen (boiling point -183 ° C) or liquid nitrogen (boiling point -196 ° C) and applying the liquefied gas to the affected area using latent heat when these liquefied gases are vaporized It is possible. However, when these gases are used for cooling treatment in a narrow treatment room, the gas is filled in the room. The former gas is a fire hazard and the latter gas causes oxygen deficiency in the room. Not therapeutically desirable

본 발명자는 실내에 분출하여 충만되는 일이 있더라도 인체에 하등의 피해를 주는 일이 없이 적절하게 환부 치료 효과를 거둘 수가 있으며 또한 비교적 염가로 구할 수가 있는 것으로 이하의 이유로 주로 시판의 액체 공기의 이용을 생각한 것이다. 치료 목적으로 환부를 냉각하려면 질환의 정도에 따라 환부에 적용하는 냉각온도를 변동시켜야만 한다. 또한 치료를 능률적으로 행하기 위해서는 냉각 온도를 단시간에 변경하여 치료의 준비가 완료될 수 있어야만 한다. 액체 공기의 비점 온도는 약 -193℃이므로 이 저온의 공기를 발생시켜서 상기한 -80℃내지 -190℃중 치료에 적당한 온도의 공기를 얻을 수가 있다. 이와같이하여 목적한 바 적온의 저온도의 공기는 액화한 공기를 증발실에서 증발시켜 용이하게 얻어진다. 이와같이하여 얻어진 저온 공기를 환부에 적용하기 위하여는 도관에 저온 공기를 도입하여 도관의 선단에 부착한 컵체를 통해서 이 저온 공기를 환부에 적용하여야 한다. 일반적으로 대기중의 공기에는 수분이 함유되어 있으므로 저온으로한 공기에도 대기 중의 수분이 섞여서 이것을 사용하여 치료를 하면 도관내에서 이 수분이 동결되어 도관을 폐쇄함으로 컵체로부터 기체를 분사시킬 수가 없는 수가 있다. 또한, 저온 공기가 환부에 취부되면 기체 중의 수분이 환부에 닿아서 환부를 동상 시킨다. 그러나, 시판되는 액체 공기는 액화 작업중의 수분이 완전히 제거되어 있으므로 이 액체 공기를 기화하여 얻은 가스를 도관에 흐르게 하면 수분의 동결 현상이 생기지 않을 뿐 아니라 환부를 동상 시키지 않는다.The inventors of the present invention can achieve adequately the wound healing effect without causing any harm to the human body even if they are filled and filled in the room, and can be obtained relatively cheaply. I thought. Cooling the affected area for therapeutic purposes requires varying the cooling temperature applied to the affected area, depending on the extent of the disease. In addition, to perform the treatment efficiently, the cooling temperature must be changed in a short time so that the preparation for the treatment can be completed. Since the boiling point temperature of liquid air is about -193 degreeC, this low temperature air is produced | generated and it can obtain the air of temperature suitable for treatment in the said -80 degreeC--190 degreeC. In this way, the desired low-temperature air of evaporation is easily obtained by evaporating the liquefied air in the evaporation chamber. In order to apply the cold air thus obtained to the affected part, the cold air is introduced into the affected part through a cup body which is introduced into the conduit and attached to the tip of the conduit. Generally, the air in the air contains moisture, so even if the air is cooled to low temperature, the water in the air is mixed. When this treatment is used, the water freezes in the conduit, which closes the conduit. have. In addition, when cold air is attached to the affected part, moisture in the gas reaches the affected part and causes the affected part to frostbite. However, since commercially available liquid air is completely removed from the water during the liquefaction operation, when the gas obtained by vaporizing the liquid air flows into the conduit, the freezing of the water does not occur, and the affected part is not frostbite.

실제로 이와같이 하여 증발실에서 기화한 저온 가스를 환부에 적용하려면 저온 가스를 수송하는 관로가 길면 관로가 치료실의 실온에 의하여 따뜻해져서 관로 말단에서 배출 또는 분출되는 가스의 온도가 상승되어 버린다. 그 때문에 기체로 수송하는 관로 부분의 거리를 가급적 짧게 하여야 할 필요가 있다. 그런데 기체의 수송로가 짧아지면 사소한 부주의로 인하여 액화한 액체공기의 기체중에 아직 기화되지 않은 액상인 채로 액화 가스가 환부에 도달되는 일이 있게되는데, 이것 또한 위험한 일이다.In order to apply the low-temperature gas vaporized in the evaporation chamber to the affected part in this way, if the pipeline for transporting the low-temperature gas is long, the pipeline is warmed by the room temperature of the treatment chamber, and the temperature of the gas discharged or ejected from the end of the pipeline increases. For this reason, it is necessary to keep the distance of the pipeline portion transported by gas as short as possible. However, when the gas transportation path is shortened, liquefied gas may reach the affected part while the liquid is not yet vaporized in the gas of the liquefied liquid air due to minor carelessness, which is also dangerous.

본 발명은 이점 및 전기한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 액화 가스원과, 그 가스원으로부터 배출관에 의해 액체를 유도하여 액화가스를 증발시키는 증발실을 포함하는 증발기구와, 그 증발실에서 기화한 가스를 유도하는 도관과, 그 도관의 말단에 취부되어 상기 기화한 가스로 냉각을 위해 환부에 당접하는 분사밸브가 부착한 컵으로 구성되며, 그 증발기구에는 그 증발실보다 상류에 배출관에 연결되는 유입로내에 역류 방지 밸브가 설치되며, 증발실에는 상기도관에 연결되는 기체 유출구의 직하구역에서 증발실내에 유입된 액체의 액면에 떠서 액면이 상승시에 그 기체의 유출구를 막는 플로우트 밸브가 설치되고, 상기 유입로의 유입구가 상기 유출구보다 하방으로 개구되어 있는 구조를 구비하고 있다. 그리하여, 조업중에 상류 즉, 저장조로부터 액체인 채로 증발 기구에 유입한 다량의 유체가 증발 기구내에서 완전히 기화되지 않고 액체인 채로 그 기구에서 하류로 흐르는 일이 없도록 하기 위하여 증발 기구에 대한 과잉의 액체 유입을 저지하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the advantages and the foregoing, and includes an evaporation mechanism including a liquefied gas source, an evaporation chamber for guiding a liquid from the gas source by a discharge pipe and evaporating the liquefied gas, A conduit for inducing gas and a cup attached to an end of the conduit and injecting a valve to contact the affected part for cooling with the vaporized gas, the evaporator being connected to an outlet pipe upstream of the evaporation chamber. A backflow prevention valve is installed in the inflow path, and a float valve is installed in the evaporation chamber to float on the liquid level of the liquid introduced into the evaporation chamber in a region immediately below the gas outlet connected to the conduit and to block the gas outlet when the liquid level rises. The inflow port of the inflow path has a structure which is opened below the said outflow port. Thus, excess liquid to the evaporation mechanism during the operation so that a large amount of fluid entering the evaporation mechanism as a liquid from the reservoir does not completely vaporize in the evaporation mechanism and flows downstream from the apparatus as a liquid. To prevent influx.

본 발명의 냉각 치료 장치의 저온 기체를 유통시키는 유로의 하류 말단에는 환부에 당접되는 컵체는 눕거나 한쪽 무릎을 꿇은 자세의 환자 환부에 당접시킬 수 있다. 이때 컵체에 이어지는 유로는 가요성관인 것이 바람직하다. 그러나 상온에서 가요성이며 열절연재인 고무 또는 플라스틱재는 상기한 저온에 있어서의 가요성을 유지할 수가 없는 것이 있다. 더우기, 그와 같은 저온에 사용할 경우 관로의 내경이 좁고 가늘다 하드라도 그것을 둘러싼 절연층이 두터워지므로 관의 외경은 상당히 굵어진다. 따라서, 이와같은 관로에서는 도저히 가요성을 기대할 수가 없으며 관로는 강성을 갖는 것이 아니면 안될때도 있다. 따라서 본 발명에 있어서의 유로에서는 컵체를 직접 부착한 유로 말단과 이에 이어진 상류의 강성 유로 부분에는 유로의 축의 주위를 선회하여 유로에 기밀적으로 연통되는 제1계수와 상기 계수의 축과 직교하는 평면상을 선회하며 제1계수와 기밀적으로 연통되어 하류로 향해 유로를 형성하고 있는 제2계수로 이루어지는 계수 조립체가 적어도 1조 갖추어져 있는 것이다. 이 기구는 본 출원과 동시에 제출한 특허출원제 78-2814호에 기재되어 있으므로 생략한다.The cup body which contacts the affected part at the downstream end of the flow path which distribute | circulates the cryogenic gas of the cooling treatment apparatus of this invention can contact the patient affected part of a lying down or kneeling position. At this time, it is preferable that the flow path following a cup body is a flexible pipe. However, a rubber or plastic material that is flexible at room temperature and is a heat insulating material may not be able to maintain flexibility at the low temperature. Moreover, when used at such a low temperature, the inner diameter of the pipe is narrow and thin, but the outer diameter of the pipe is considerably thicker because the insulation layer surrounding it becomes thick even though it is hard. Therefore, it is hard to expect flexibility in such a pipeline, and the pipeline may have to be rigid. Therefore, in the flow path according to the present invention, a plane perpendicular to the axis of the coefficient and the first coefficient which is hermetically communicated with the flow path by turning around the axis of the flow path at the end of the flow path to which the cup body is directly attached and the upstream rigid flow path portion thereof. At least one set of counting assemblies comprising a second coefficient that turns over the phase and is in airtight communication with the first coefficient and forms a flow path downstream. This mechanism is omitted because it is described in patent application No. 78-2814, filed concurrently with this application.

이와같은 본 발명을 그 실시예에 관해 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하겠다.Such an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

공기, 산소 또는 질소의 액화 가스원은 용기(3)에 수용되고, 이 용기는 보호용의 외통으로 포위되고 용기와 외통사이에는 보온을 위한 단열제(3a)가 충전되어 있다. 용기(3)의 토출구(4)에는 배출관(5)가 개폐변(20)을 개재하여 부착된다. 변(20)과 토출구(4)의 사이에서 안전 밸브로의 분기로가 마련되는데, 이유로는 다시 액화기체토출압 조절변을 거쳐 용기(3)에 되돌아 오도록 분기되어있다. 그러나, 이 기구는 당업기술자에 있어서 발명력 없이 창작할 수 있는 것이며, 본 발명의 요지에 관계가 없으므로 생략한다. (21)은 관로에 설치된 여과기로서 액화 가스중에 포함되는 작은 얼음조각, 먼지등을 제거하는 것이다.A source of liquefied gas of air, oxygen or nitrogen is contained in the container 3, which is surrounded by a protective outer cylinder and filled with a heat insulating material 3a for keeping warm between the container and the outer cylinder. The discharge pipe 5 is attached to the discharge port 4 of the container 3 via the opening / closing edge 20. There is a branching path to the safety valve between the side 20 and the discharge port 4, for which reason it branches back to the container 3 via the liquid gas discharge pressure regulating valve. However, this mechanism can be created by the skilled person without invention, and is omitted since it is irrelevant to the gist of the present invention. Reference numeral 21 is a filter installed in a pipeline to remove small pieces of ice, dust and the like contained in liquefied gas.

관로(5)중에는 증발실(23)이 설치되어 있다. 이 증발실의 상류이며 여과기 (21)의 하류에는 역류 방지밸브(25)가 설치되어, 관로를 통하는 액체는 밸브(25)를 경유하여 유입로(5c)에 의해 증발실내로 유입한다. 증발실에서 증발한 기체는 유출구 (26)으로부터 배출도(12)를 경유하여 관로(5)의 연장인 도관(2)로 흐른다. 이 배출구는 환부에 당접될 컵(1)에 이어지는 도관(2)에 연속되어 있다. 도관(2)는 보온을 위해 열절연제로 피복된 피복관으로 되어있다. 관(2)의 말단은 역류 방지형의 팽창변(19)에서 상기 컵(1)에 이어져 있다.The evaporation chamber 23 is provided in the pipeline 5. The backflow prevention valve 25 is provided upstream of this evaporation chamber and downstream of the filter 21, and the liquid which flows through a pipe flows into the evaporation chamber by the inflow path 5c via the valve 25. As shown in FIG. The gas evaporated in the evaporation chamber flows from the outlet 26 to the conduit 2, which is an extension of the conduit 5 via the discharge degree 12. This outlet is continuous to the conduit 2 leading to the cup 1 to be abutted on the affected part. The conduit 2 is a cladding tube coated with a thermal insulation for thermal insulation. The end of the tube (2) is connected to the cup (1) at the expansion valve (19) of the backflow prevention type.

상기 유출구(26)의 바로 아래구역에는 창살 등으로 둘려진 우리(27)이 있고 이 우리 안에 부구(28)이 놓여있다. 상기 유입로(5c)의 유입구(29)는 유출구(26)보다 하방 위치에 개구되어 있다. 상기 부자는 증발실(23)내에 유입된 액체의 액면이 상승됨에 따라 유출구(26)을 폐쇄하도록 되어 있다. (30)은 증발실과 관로하류를 연결하는 축로(31)에 마련한 통상 폐쇄된 압력변이다.In the area just below the outlet 26 is a cage 27 encircled by a grate or the like and a float 28 is placed therein. The inlet port 29 of the inlet passage 5c is opened at a position lower than the outlet port 26. The rich man is configured to close the outlet 26 as the liquid level of the liquid introduced into the evaporation chamber 23 rises. 30 is a normally closed pressure valve provided in the shaft 31 which connects an evaporation chamber and a pipe downstream.

이 실시예의 작용을 설명하면 저장로(13)에서 배출된 액화가스는 관로(5)에서 역류 방지변(25)를 거쳐 증발실로 유입한다. 유입로의 유입구(29)는 하방 위치에 개구되어 있으므로 증발실에 액체가 고이면 입구(29)는 액중에 잠기게 되어 증발실 내에서 기화된 가스가 유입로에 충만되지 않도록 하고 있다. 증발실에서 기화된 가스는 유출구(26)에서 유출로(12)를 거쳐하류로 흐른다. 이때 어떠한 원인으로 증발실로의 액체의 유입이 과잉으로 되면 유입로로부터 이송되는 액체가 증발실에 고여 액면이 상승되고 그에 따라서 부구(28)이 상승하여 유출구(26)을 폐쇄하여 유출로(12)로 부터 액화 가스가 유출되지 않도록 한다. 증발실에 있어서 기화된 가스는 기화 때문에 가압된 가압에 의하여 액면이 압압되고, 액체는 유입구(29)로부터 유입로(5c)로 역류하기 시작한다. 그러나 이때, 역류 방지변(25)이 의하여 상류로 액체가 역류되는 것이 저지된다. 한편, 증발실내의 기압은 점차 상승되므로 소정 압력이 되면 변(30)이 작동하여 가스의 일부를 축로(31)로 흘러서 하류로 방출시킨다. 이로서 가스압이 하강하고 액면이 저하되어 원래의 정상 상태로 복귀한다. 이로써 액화 가스가 직접 하류로 흐르는 일이 저지된다.Referring to the operation of this embodiment, the liquefied gas discharged from the storage passage 13 flows into the evaporation chamber through the backflow prevention side 25 in the pipeline (5). Since the inlet 29 of the inflow path is opened in the downward position, when the liquid accumulates in the evaporation chamber, the inlet 29 is submerged in the liquid so that the gas vaporized in the evaporation chamber is not filled in the inflow path. The gas vaporized in the evaporation chamber flows downstream from the outlet port 26 via the outlet passage 12. At this time, if the inflow of the liquid into the evaporation chamber is excessive for some reason, the liquid transferred from the inflow passage accumulates in the evaporation chamber, and the liquid level rises accordingly, so that the float 28 rises to close the outlet 26 so that the outflow passage 12 Do not allow liquefied gas to flow out of the furnace. In the evaporation chamber, the vaporized gas is pressurized by the pressurized pressure due to vaporization, and the liquid begins to flow back from the inlet port 29 to the inlet path 5c. At this time, however, backflow of the liquid is prevented by the countercurrent prevention valve 25 upstream. On the other hand, since the air pressure in the evaporation chamber is gradually increased, when the predetermined pressure is reached, the valve 30 is operated to discharge a portion of the gas to the shaft 31 to be discharged downstream. This lowers the gas pressure, lowers the liquid level, and returns to the original steady state. This prevents the liquefied gas from flowing directly downstream.

상기한 바와같이 액화 가스의 저장조로부터 액화가스를 치료를 시행할 말단에 가까운 위치에서 증발 기구에 의하여 기화시키고 이것을 강성의 관을 사용하여 말단의 수요구역에 소위 입체적 방향에서 기화된 가스를 공급할 수가 있는 것으로, 증발 기구에서 수요지까지의 가스 수송 거리를 짧게 하고 있다. 증발 기구에 과잉으로 액화가스가 유입 되었을 때는 증발실에서 유입된 액체의 양을 조속히 검출하여 그 양이 소정량에 달하면 증발실의 상류의 변기구를 폐쇄하여 하류의 수용지에 기화되지 않고 있는 액화 가스가 유출되지 않도록 한다. 이때 기화된 가스의 압력에 의하여 저장조에서 증발실로 이송된 액체를 강제적으로 저장조에 압송함으로써 액체가 밀려나오는 것이 저지되어 저장액이 헛되게 분출되는 낭비를 방지할 수가 있다. 더우기 환부에 공급할 기체는 극히 단시간에 준비 되므로 치료를 능률적으로 행할 수가 있다.As described above, the liquefied gas from the reservoir of the liquefied gas can be vaporized by an evaporation mechanism at a position close to the end to be treated, and the rigid gas can be supplied to the demand area at the end in a so-called three-dimensional direction. As a result, the gas transportation distance from the evaporation mechanism to the demand site is shortened. When excessive amount of liquefied gas flows into the evaporation mechanism, the amount of liquid flowing in the evaporation chamber is detected quickly. If the amount reaches a predetermined amount, the liquefied gas is not vaporized in the downstream receiving zone by closing the upstream valve of the evaporation chamber. Do not let gas out. At this time, by forcing the liquid transferred from the storage tank to the evaporation chamber by the pressure of the vaporized gas to the storage tank to prevent the liquid from being pushed out, it is possible to prevent the waste liquid is ejected in vain. Moreover, the gas to be supplied to the affected area is prepared in a very short time, so that the treatment can be performed efficiently.

Claims (1)

액화 가스원(3)과 이 가스원에서 배출관(5)에 의해 액체를 도입하여 액화가스를 증발시키는 증발실(23)을 포함하는 증발기구와, 이 증발기구에서 기화된 가스를 이송하는 도관(2)와, 도관의 말단에 부착되어 상기 기화된 가스로 환부를 냉각시키기 위하여 환부에 당접되는 분사밸브가 부착된 컵(1)로 구성되며, 상기 증발기구에는 증발실보다 상류에서 배출관에 연결되는 유입로(5c)내에 역류 방지밸브(25)가 설치되고, 증발실에는 상기 도관에 연결되는 기체 유출구(26)의 직하방 구역(27)에서 증발실내로 유입된 액체의 액면으로 부상하여 액면 상승시에 기체 유출구를 막는 플로우르 밸브(28)이 설치되어, 상기 유입로의 유입구(29)가 상기 유출구보다 하방으로 개구하는 역류 방지 밸브 부착 냉동치료 장치.An evaporation mechanism including a liquefied gas source 3 and an evaporation chamber 23 which introduces liquid by the discharge pipe 5 from the gas source and evaporates the liquefied gas; 2) and a cup (1) attached to an end of the conduit and attached to an inlet valve for cooling the affected part with the vaporized gas, the evaporator being connected to the outlet pipe upstream of the evaporation chamber. When the inflow path 5c is provided with a non-return valve 25, the evaporation chamber rises to the liquid level of the liquid introduced into the evaporation chamber from the area 27 directly below the gas outlet 26 connected to the conduit and rises. The flow valve 28 which blocks a gas outlet is provided in the refrigeration treatment apparatus with a backflow prevention valve which opens the inflow port 29 of the said inflow path below the said outflow port.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101468291B1 (en) * 2013-03-08 2014-12-10 경북대학교 산학협력단 Portable cooling device for brain temperature

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