KR800001522B1 - Liquid-gas contactor - Google Patents

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KR800001522B1
KR800001522B1 KR7800029A KR780000029A KR800001522B1 KR 800001522 B1 KR800001522 B1 KR 800001522B1 KR 7800029 A KR7800029 A KR 7800029A KR 780000029 A KR780000029 A KR 780000029A KR 800001522 B1 KR800001522 B1 KR 800001522B1
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KR
South Korea
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gas
liquid
tank
contact
supply port
Prior art date
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KR7800029A
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Korean (ko)
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노보루 하시모도
히데오 후꾸다
세쓰오 시바다
Original Assignee
스즈기 요시오
닛기 가부시기 가이샤
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/02Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath

Abstract

Mixing device of liquid and gas in absorption process have a counter and parallel flow phase. The gas to be treated enters an upturned U-tube and solvent enters at a higher level Most of the gas rinses to mix with the falling part of the liquid in a counterflow pattern. The gas continuous to flow with the rest of the liquid in parallel with in the second phase around a column. Due to the low gas velocity, the treated gas is separated from the solvent in the downward leg and is drawn off. The ends of the column are immersed in the solvent in the tank to form a lqiuid seal.

Description

기액 접촉장치Gas-liquid contactor

제1도는 본 발명의 바람직한 실시상태의 일예를 표시한 사시도.1 is a perspective view showing an example of a preferred embodiment of the present invention.

제2도는 본 발명의 다른 실시상태의 일예를 표시한 일부를 절개한 사시도.2 is a perspective view cut away a portion showing an example of another embodiment of the present invention.

제3도∼제7도는 실시예에 있어서의 시험결과에 따르는 그래프.3 to 7 are graphs according to the test results in Examples.

제8도는 본 발명의 또 다른 실시상태를 표시하는 개념도.8 is a conceptual diagram showing another embodiment of the present invention.

본 발명은 비교적 대용량의 가스나 액체를 취급하는데 적절한 기액(氣液) 접촉장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas-liquid contact device suitable for handling a relatively large amount of gas or liquid.

더욱 상세하게 설명한다면 석회석고법 또는 탄산나트륨 수용액이나 가성소오다 수용액 등을 흡수액으로 하는 습식배연탈황(濕式排煙脫硫), 각종 흡수액을 사용하는 가스 흡수, 냉각, 증습(增濕), 탈취(脫臭) 습식제진(濕式除塵) 등에 적합한 기액 접촉장치를 사용하여서 접촉조작을 원활하게 한 것이다.In more detail, wet flue gas desulfurization using lime lime gypsum or aqueous sodium carbonate or caustic soda solution as an absorption liquid, gas absorption using various absorption liquids, cooling, vaporization, deodorization (脫臭) The contact operation is facilitated by using a gas-liquid contact device suitable for wet vibration damping.

종래의 기액 접촉장치로서는 붕단탑(棚段塔) 또는 충전탑(充塡塔) 등이 일반적으로 사용되고 있으나, 어느 것이나 액체가 넘처흐르는 것을 방지하거나 액체의 비말동반(飛沫同伴) 감소 대책의 문제 때문에 가스공통(空筒) 속도를 크게 할 수가 없어서 대용량의 가스나 액체를 취급하기 위하여서는 탑경(塔經)을 크게 하지 않으면 안되었었다.As a conventional gas-liquid contacting device, a banded tower or a packed column is generally used, but either of them is prevented from overflowing the liquid, or because of the problem of countermeasures against reduction of liquid entrainment. Since the common gas velocity could not be increased, the tower diameter had to be increased to handle a large amount of gas or liquid.

또한 슬러리액을 사용할 경우에는 탑내의 스케일 부착 등의 문제가 있다. 또한 기액 접촉장치로서는 기타 기포탑과 같은 것이 있으나, 액중에 가스를 분산시키기 위한 분산판의 연구가 필요하며 또한 이 경우 가스공통 속도가 현저하게 작으며 (예를 들면, 10cm/sec 이하) 대용량의 가스나 액체의 처리에는 적합하지 않으며 압력손실도 큰 결점이 있다.Moreover, when using a slurry liquid, there exists a problem, such as scale adhesion in a column. In addition, there are other gas-liquid contact devices such as bubble towers, but it is necessary to study a dispersion plate for dispersing gas in a liquid, and in this case, the gas common speed is remarkably small (for example, 10 cm / sec or less) It is not suitable for the treatment of gas or liquid, and has a large pressure loss.

본 발명은 위에서와 같은 문제를 해결하기 위하여 탑내에 선반이나 충전물 등의 구조물이 없으며 구조가 간단한 기액 접촉장치와 그 장치를 사용하여서 심한 기액환상류(氣液混相)를 형성시켜 효과적인 기액 접촉조작을 할 수 있게 제공하는데 있다.In order to solve the above problems, there is no structure such as a shelf or packing material in the tower, and the gas-liquid contacting device having a simple structure and the apparatus are used to form a severe gas-liquid recirculation stream, thereby providing effective gas-liquid contact operation. It's about providing it.

즉, 본 발명은 하단이 공히 액조(液槽)로 개구하며 상부가 서로 연통되어 있는 가스 상승유로 및 하강유로가 있으며 가스 상승유로(上昇流路)의 하단은 액속으로 개구하여 유로의 액조상의 비교적 하부위치에 가스송급(送給)구를, 그 상부에 액공급구를 구비하여 급속한 상승가스 흐름에 의하여 액의 상당량을 동반시키므로서 기액 접촉을 하는 장치로서 액조의 액조 상부 공실에는 접촉이 끝난 가스 배출구를 설치한 것을 특징으로 하는 기액 접촉장치 및 하단의 공히 액조로 개구하여 상부가 서로 연통하고 있는 가스 상승유로 및 하강유로가 있으며 가스유로의 하단은 액속으로 개구하며 유로의 액조상의 비교적 하부위치에 가스 송급구를, 그 상부에 액공급구를 구비하여 접촉액조의 액조 상부공실에 접촉이 끝난 가스배출구를 구비한 장치를 사용하여서 가스 공통속도 Ug가 3m/sec 이상 또한 액질량(液質量) 속도 L이 40,000 내지 500,000kg/㎥.hr로 운전하는 것을 특징으로 하는 기액 접촉장치에 관한 것이다.That is, according to the present invention, the lower end of the gas rising passage and the lower passage are open to the liquid tank, and the upper portion is in communication with each other. A gas supply port is provided at a relatively lower position, and a liquid supply port is provided at an upper portion thereof, and a gas-liquid contact is carried out by accommodating a substantial amount of liquid by a rapid rising gas flow. A gas-liquid contact device characterized in that a gas outlet is provided and a gas up flow passage and a down flow passage having upper portions communicating with each other by opening with a liquid tank at the bottom thereof, and a lower portion of the gas flow passage with a liquid flow rate and having a relatively lower portion in the liquid tank of the flow passage. A gas supply port is provided at the position, and a liquid supply port is provided at the upper portion thereof, and an apparatus having a gas outlet port contacted with the upper chamber of the liquid tank of the contact liquid tank is used. Accordingly, the gas-liquid contact device is characterized in that the gas common speed Ug is operated at 3 m / sec or more and the liquid mass velocity L is 40,000 to 500,000 kg / m 3 .hr.

다음에 본 발명을 도면에 의하여 상세하게 설명한다.Next, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

제1도는 본 발명의 바람직한 실시형태의 일예를 표시하는 사시도로서 액체에 의하여 가스를 흡수한 것이다. 제1도에 있어서 1은 가스 흡수탑, 2는 가스 송급관, 3은 접촉이 끝난 가스의 배출관, 4는 액조, 7은 액공급구이다.1 is a perspective view showing an example of a preferred embodiment of the present invention in which gas is absorbed by a liquid. In FIG. 1, 1 is a gas absorption tower, 2 is a gas supply pipe, 3 is a discharge pipe of the contacted gas, 4 is a liquid tank, and 7 is a liquid supply port.

흡수탑 1은 가스 상승유로 하강유로를 구비하여, 그들은 상부에서 서로 연통되도록 구성되어 있으며, 제1도에서는 역 U자상의 관에 의하여 형성되어 있다. 흡수탑 1의 가스 상승유로의 하단은 액속을 개구하며, 가스 하강유로의 하단은 액조 4에 개구하고 있다. 흡수탑 1의 가스 상승유로 측에는 액조 4 위의 비교적 하부 위치에 가스 송급구 8이 설치되어 있으며, 그 상부에 액공급구 7이 설치되어 있다. 액조 4는 가스 상승유로와 하강유로의 개구부의 사이에 있어서 액의 유로를 남겨서 간막이판 13에 의하여 간막이 되어 있으며 간막이판 13에 의하여 형성된 가스 상승유로 측의 액조공실과 흡수탑 1의 액공급구 상부와의 사이에 가스 환류관 5가 설치되어 있다. 간막이판 13에 의하여 간막이 된 가스 하강유로 측의 액조공실에는 접촉이 끝난 가스 배출구 9가 설치되어 있다. 흡수탑 1의 탑경에 관하여서는 최대 3m 정도까지 가능하며, 이때 대략 130,000 내지 380,000㎥/hr의 가스처리가 가능하게 되지만 바람직하기에는 탑경 2m 이하로서 처리량은 170,000㎥/hr까지로 된다.Absorption tower 1 is provided with a gas up flow passage and down flow passage so that they are configured to communicate with each other at the top, and in FIG. 1 are formed by inverted U-shaped pipes. The lower end of the gas ascending passage of the absorption tower 1 opens the liquid velocity, and the lower end of the gas descending passage is opened to the liquid tank 4. A gas supply port 8 is provided on the gas riser side of the absorption tower 1 at a relatively lower position above the liquid tank 4, and a liquid supply port 7 is provided on the upper portion thereof. The liquid tank 4 is partitioned by the partition plate 13 while leaving the flow path between the gas rising channel and the opening of the descending channel, and the liquid tank chamber on the side of the gas rising channel formed by the partition plate 13 and the upper portion of the liquid supply port of the absorption tower 1. The gas reflux tube 5 is provided between and. The gas outlet 9 which has been contacted is provided in the liquid tank chamber on the side of the gas descending flow path which is partitioned by the partition plate 13. The maximum diameter of the absorption tower 1 may be up to about 3 m, at which time gas treatment of approximately 130,000 to 380,000 m 3 / hr may be possible, but preferably, the tower diameter is 2 m or less, and the throughput is up to 170,000 m 3 / hr.

상술한 바와 같은 구성의 기액 접촉장치에 있어서는 피처리 가스는 관 2로부터 가스 송급구 8을 경유하여 흡수탑 1에 도입되나, 이 경우 가스의 유속에 따라서는 가스 송급구 8의 근방에서 가스 정류를 할 때도 있다. 한편, 액조 4의 흡수액은 펌프 10에 의하여 액공급구 7로부터 흡수탑 1내로 공급된다. 또한 이 경우 흡수액은 흡수탑 1에 1개소로부터 공급되고 있으나, 가스 상승부의 수직방향으로 여러개의 액공급구를 설치하여도 좋으며 또한 필요에 따라서는 그 공급부에 분산기구를 설치하는 것도 생각할 수가 있다.In the gas-liquid contact device having the above-described configuration, the gas to be treated is introduced into the absorption tower 1 from the pipe 2 via the gas supply port 8, but in this case, gas rectification is performed in the vicinity of the gas supply port 8 depending on the flow rate of the gas. Sometimes. On the other hand, the absorbing liquid of the liquid tank 4 is supplied from the liquid supply port 7 into the absorption tower 1 by the pump 10. In this case, the absorption liquid is supplied from one place to the absorption tower 1, but several liquid supply ports may be provided in the vertical direction of the gas riser, and if necessary, a dispersion mechanism may be provided in the supply portion.

액공급구 7로부터 낙하하는 흡수액은 하방의 가스 송급구 8로부터 상승하는 피처리 가스와 접촉하여 공급구 7과 송급구 8과의 사이에서 향류(向流) 접촉대역(接觸帶域)을 형성한다.The absorbing liquid falling from the liquid supply port 7 contacts the target gas rising from the lower gas supply port 8 to form a countercurrent contact zone between the supply port 7 and the supply port 8. .

따라서, 가스의 유속에 따라서 공급구 7의 높이를 적당히 조절하여서 향류 접촉대역의 길이를 결정하면 좋으며 예를 들면 액공급구 7을 가스 송급구 8의 근처에 설치하면 탑내 전역을 병류(竝流) 접촉대역으로 할 수도 있다. 그 대역의 하부에 있어서 흡수액은 피처리 가스의 일부를 휘감아 넣으며, 병류 접촉대역을 형성하여서 하강을 계속하여 액조 4내로 낙하하며 액조 4내로 지입(持

Figure kpo00001
)된 가스는 조내에서 기포로 되어 흡수액과 접촉한다. 조 내로 지입되는 가스가 소량이거나 또는 흡수탑 1에서의 가스 흡수가 양호하게 행하여지면 간막이판 13은 불필요하게 된다. 그러나, 그러하지 못할 경우에는, 전술한 조내로 지입되어서 흡수액과 접촉후 접촉되지 않은 가스를 접촉이 끝난 가스 배출구 9에 단락 패스되지 않도록 하기 위하여 간막이판 13을 설치할 필요가 있다.Therefore, the length of the countercurrent contact zone may be determined by appropriately adjusting the height of the supply port 7 in accordance with the flow rate of the gas. For example, when the liquid supply port 7 is installed near the gas supply port 8, the entire interior of the tower is co-flowed. It may also be a contact band. In the lower part of the zone, the absorbing liquid encloses a part of the gas to be treated, forms a co-current contact zone, continues to descend, falls into the liquid tank 4, and is fed into the liquid tank 4.
Figure kpo00001
The gas is bubbled in the tank and comes into contact with the absorbing liquid. If a small amount of gas is introduced into the tank or if the gas absorption in the absorption tower 1 is satisfactorily performed, the partition plate 13 becomes unnecessary. However, if this is not the case, it is necessary to provide a partition plate 13 in order to prevent short-circuiting of the gas which has been introduced into the above-mentioned tank and is not in contact with the absorbent liquid after contact with the gas outlet 9 which has been contacted.

따라서 간막이판 13의 액침(液浸) 깊이는 흡수탑 1의 가스 상승류로 측의 액침 깊이 보다 약간 깊게하면 좋다. 그 간막이판 13은 조 전체를 간막이할 필요는 없으며 흡수액의 유로를 남겨두어야 한다.Therefore, the immersion depth of the partition plate 13 may be slightly deeper than the immersion depth on the side by the gas rising flow of the absorption tower 1. The partition plate 13 does not need to partition the entire tank, leaving a flow path for the absorbent liquid.

본 실시상태에서 흡수액에 흡수되지 않은 가스는 액조 4의 상부 공실로 부상(浮上)하여 가스 환류관 5를 통과, 가스 환류구 6으로부터 흡수탑 1로 복귀된다.In this embodiment, the gas which is not absorbed by the absorbing liquid rises to the upper vacancy of the liquid tank 4, passes through the gas reflux tube 5, and returns to the absorption tower 1 from the gas reflux port 6.

그런데, 전술한 향류 접촉대역 보다 상방에서는 흡수액과 접촉하면서 상승하는 가스가 액공급구 7로부터 공급된 흡수액의 일부 또는 전량을 동반하며 또한 상술한 환류가스와 합류하여서 탑내를 탑정상까지 상승, 계속하여 하강하면서 액공급구 7 이하에 병류 접촉대역을 형성한다.However, above the countercurrent contact zone, the gas rising while being in contact with the absorbing liquid accompanies a part or all of the absorbing liquid supplied from the liquid supply port 7, and also merges with the reflux gas described above to raise the inside of the tower to the top of the tower and continue. While descending, a co-current contact zone is formed below the liquid inlet 7.

그 대역을 통과한 기액 혼상류는 액조 4 내에서 처리가스와 흡수액으로 분리되어서 처리가스는 접촉이 끝난 가스배출간 3으로부터 배출되며 흡수액은 조 4내로 회수된다. 더구나, 흡수액은 공급관 11로부터 액조 4로 공급되며 발출관 12로부터 조 외로 배출된다.The gas-liquid mixed phase passing through the zone is separated into the processing gas and the absorbing liquid in the liquid tank 4 so that the processing gas is discharged from the contact gas discharge period 3 and the absorbing liquid is recovered into the tank 4. Moreover, the absorbent liquid is supplied from the supply pipe 11 to the liquid tank 4 and discharged from the discharge pipe 12 to the outside of the tank.

본 발명에 의하여 대구경의 흡수탑을 사용하면 대량의 가스를 취급할 수가 있으나, 제1도에 표시하는 실시상태를 그대로 스케일 엎(acale up)하는 것은 경제적이라고는 할 수 없다.According to the present invention, when a large diameter absorption tower is used, a large amount of gas can be handled, but it is not economical to scale up the embodiment shown in FIG. 1 as it is.

즉, 흡수탑 1의 구경이 크게 되는데 따라서 역 U자상의 흡수탑간의 치수가 커지게 되며 따라서 액조 4도 큰 것이 필요하게 된다. 예를 들면, 탑경 1m의 경우, 가스 상승유로와 가스 하강유로의 간격은 각각의 중심간에서 약 3m가 되며, 이에 상당하는 액조는 원형조로서 그 내경은 약 7m나 된다. 그런데 액조 본래의기능으로서는 그 정도로 크게 할 필요는 없으며 경제성에 약간 문제가 있다.That is, the diameter of the absorption tower 1 becomes large, so that the dimension between the absorption towers of the inverted U-shape becomes large, and therefore, the liquid tank 4 also needs to be large. For example, in the case of a tower diameter of 1 m, the distance between the gas ascending flow path and the gas descending flow path is about 3 m between each center, and the corresponding liquid tank is a circular tank and its inner diameter is about 7 m. However, the original function of the liquid tank does not have to be so large, and there is a problem in economy.

상술한 장치의 제작상의 문제는 흡수탑 1의 가스 상승유로의 하부를 수직으로 하지않고, 그 하단이 가스 하강유로의 하단에 근접되도록 약간 경사지게 하므로서 해결될 수 있다. 이 경우 가스 하강유로를 경사지게 살치하여도 접촉효과는 변하지 않는다.The problem of fabrication of the above-described apparatus can be solved by not tilting the lower portion of the gas rise passage of the absorption tower 1 vertically, but by slightly inclining the lower end thereof to approach the lower end of the gas down passage. In this case, the contact effect does not change even if the gas descending passage is slanted.

또한 흡수탑 1의 가스 상승유로의 하단을 액조 4의측면을 경유하여서 액속으로 개구시켜도 상술한 문제점은 피할 수 있다.In addition, even if the lower end of the gas rise passage of the absorption tower 1 is opened to the liquid velocity via the side surface of the liquid tank 4, the above-described problems can be avoided.

제8도에 그 개념도를 표시하나 동 도면의 각 부호는 제1도의 부호와 동일하다. 더구나, 본 도면에 있어서 흡수탑 1의가스 하강유로의 하단을 액조 4의 상부 공간의 속 깊이까지 삽입하고 있는 것은 접촉이 끝난 가스와 흡수액의 양호한 기액분리를 달성하려는데 있다.Although the conceptual diagram is shown in FIG. 8, each code | symbol of the same figure is the same as that of FIG. In addition, in this drawing, the lower end of the gas descending passage of the absorption tower 1 is inserted into the inner depth of the upper space of the liquid tank 4 in order to achieve good gas-liquid separation between the contacted gas and the absorbing liquid.

이상, 가스 상승유로가 하나의 실시예에 관하여 설명하여 왔으나 또한 대량의 가스나 액체를 처리하려면, 그들의 편류를 방지하여서 효율좋게 기액 접촉시키는 연구가 필요하게 된다.As mentioned above, although the gas ascent flow path has been described with respect to one embodiment, in order to process a large amount of gas or liquid, it is necessary to study the gas-liquid contact efficiently by preventing their drift.

그 일예를 다른 실시상태로서 표시한 제2도를 사용하여서 설명한다.An example thereof will be described using FIG. 2 shown as another embodiment.

제2도에 있어서 부호 1 내지 13은 제1도의 것과 동일하므로 설명을 생략한다. 본 실시상태에서는 흡수탑 1의 외형을 원통형으로 구성하여 흡수탑 1의 하부에 일체적으로 설치된 액조 4내의 간막이판 13을 흡수탑 1의 정상부근까지 이르켜 세우므로서 그 좌우에 가스 상승유료와 하강유로를 형성한 점에 특징이 있다.In FIG. 2, the code | symbols 1-13 are the same as that of FIG. 1, and description is abbreviate | omitted. In this embodiment, the external shape of the absorption tower 1 is formed in a cylindrical shape, and the partition plate 13 in the liquid tank 4 integrally installed at the lower part of the absorption tower 1 is raised up to the top of the absorption tower 1, so that the gas rising oil and It is characterized by the fact that a downward flow path is formed.

흡수탑 1의 가스 상승유로 측의 반원통부는 액 시일이 가능하게 되는 깊이 이상 액조 4의 액속에 침지되어 있다.The semi-cylindrical part on the side of the gas rise passage of the absorption tower 1 is immersed in the liquid flow rate of the liquid tank 4 more than the depth by which liquid sealing is possible.

또한 가스 상승유로를 유체의 흐름에 대하여서 평행한 여러개의 대역에 전술한 간막이판 13과는 별도의 간막이판 14에 의하여 분활한 점에도 특징이 있다.In addition, the gas ascending flow path is also divided by the partition plate 14 separate from the aforementioned partition plate 13 in several zones parallel to the flow of the fluid.

이 간막이판 14는 도시하는 바와 같이 가스 상승유로와 그 아래의 병류 접촉대역의 양측 공히 분할하여도 좋으며 가스 상승유로만을 분할하여도 좋다.As shown in the figure, the partition plate 14 may be divided on both sides of the gas ascending passage and the cocurrent contact zone below it, or may be divided only by the gas ascending passage.

또한 피처리 가스의 유량에 따라서는 가스 송급구 8 근처의 흡수탑 1의 탑경을 그 상하부분보다 크게할 경우도 생각할 수 있다.In addition, depending on the flow rate of the gas to be treated, it may be considered that the top diameter of the absorption tower 1 near the gas supply port 8 is made larger than the upper and lower portions thereof.

끝으로 조작 조건에 관하여 설명한다. 후술하는 실시예로 명백한 바와 같이 가스 공통속도 Ug은 3m/sec 이상이 적당하며 바람직하기는 5 내지 20m/sec이나 더욱 바람직하기에는 5 내지 15m/sec의 범위이다. 또한 액질량 속도 L은 40,000 내지 500,000kg/㎡/hr가 적당하다.Finally, the operating conditions will be described. As apparent from the examples described below, the gas common speed Ug is preferably 3 m / sec or more, preferably 5 to 20 m / sec, and more preferably 5 to 15 m / sec. In addition, the liquid mass rate L is appropriately 40,000 to 500,000 kg / m 2 / hr.

그러나, 경우에 따라서는 1,000,000kg/㎡/hr 정도까지의 조작은 불가능한 것은 아니다. 이 조작 조건으로 운전하면 가스의 운동 에너지에 의하여 장치 내에 액체를 체류시키며 또한 액(液)을 미세화하여 기액을 교란상태로 하여서 양호한 기액 접촉을 할 수 있다.However, in some cases, operations up to about 1,000,000 kg / m 2 / hr are not impossible. When operating under these operating conditions, the liquid can be retained in the apparatus by the kinetic energy of the gas, and the liquid can be refined to make the gas liquid disturbed so that good gas-liquid contact can be achieved.

이상 상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 전술한 바와 같은 공통속도를 크게할 수 있으며 장치 내에 종래와 같은 선반이나 충전물 등의 구조물이 전혀 없으므로 구조가 간단하며 압력손실이 적고 또한 스케일의 부착에 의한 폐쇄도 생기지 않는다. 또한 접촉탑과 액조의 장치내 전역을 기액 접촉대역으로서 활용할 수 있으므로 기액의 접촉효율이 증대한다. 또한 소형의 장치로 되므로 장치의 생산가격이 염가로 된다.As described above, according to the present invention, the common speed as described above can be increased, and since there is no structure such as shelves or packing materials in the apparatus, the structure is simple, the pressure loss is small, and the closing by attaching the scale It does not occur In addition, since the whole area of the apparatus of the contact tower and the liquid tank can be utilized as a gas-liquid contact zone, the contact efficiency of gas-liquid increases. In addition, since it is a compact device, the production price of the device becomes cheap.

[실시예 1]Example 1

공기 속에 포함되는 어떠한 유기산을 가상소오다 수용액에 흡수시키는 실험을 제1도에 표시하는 장치로서 하였다. 역 U자상의 흡수탑의 탑 높이는 1.5m, 내경은 50mm이다. 실험조건을 다음에 표시한다.The experiment in which any organic acid contained in the air is absorbed into the aqueous virtual soda solution was made as an apparatus shown in FIG. The tower height of the reverse U-shaped absorption tower is 1.5m and the inner diameter is 50mm. The experimental conditions are shown below.

공급가스온도 23-28℃Supply gas temperature 23-28 ℃

흡수액 온도 41℃Absorbent temperature 41 ℃

가스공통속도 Ug 6,8,10m/secGas common speed Ug 6,8,10m / sec

흡수액질량속도 L 10,000-300,000kg/㎡.hrAbsorption liquid mass rate L 10,000-300,000kg / ㎡.hr

가성소오다의 메이크엎 량 1.81l/hr(일정)Caustic Soda's Make Up Volume 1.81l / hr (Schedule)

메이크업 가성소오다 농도 1.71mol/ℓ(일정)Makeup Caustic Soda Concentration 1.71mol / ℓ (Schedule)

Figure kpo00002
Figure kpo00002

분석 방법으로서는 입구 가스농도는 입구가스 속의 유리산을 에타놀에 흡수시켜 자외선 흡수법(U.V. 230mm)으로 측정하였다.As an analytical method, the inlet gas concentration was measured by ultraviolet absorption method (U.V. 230 mm) by absorbing the free acid in the inlet gas into ethanol.

출구가스의 유기산 농도는 가스크로마토 그래피(gas chromatograph)(glass column 2m, PEG 20M(10%)+H3PO4(0.5%) Chromosorb WAW-DMCS)로 구하였다. 더구나, 흡수율을 입구가스와 출구가스의 유기산 농도비로부터 구하였다.The organic acid concentration of the outlet gas was determined by gas chromatography (glass column 2m, PEG 20M (10%) + H 3 PO 4 (0.5%) Chromosorb WAW-DMCS). Moreover, the absorption rate was calculated from the ratio of organic acid concentrations of the inlet gas and the outlet gas.

제3도에 실험결과를 표시하나 흡수율은 어느 것이나 98% 이상을 표시하며 흡수액량의 증대와 함께 흡수율은 증가하나 가스공통속도의 영향에 관하여서는 흡수율이 고율이므로 현저한 차는 나타나지 않았다.Although the results of the experiment are shown in FIG. 3, the water absorption rate is more than 98%, and the absorption rate increases with the increase in the amount of absorbed liquid, but there is no significant difference because the absorption rate is high with respect to the influence of the gas common speed.

[실시예 2]Example 2

탄산가스 칼슘 슬러리에 의한 아황산가스의 흡수 실험을 실시예 1과 동일한 장치로 시행하였다.Absorption experiment of sulfurous acid gas by the calcium carbonate slurry was carried out by the same apparatus as in Example 1.

실험조건을 이하에 표시한다.The experimental conditions are shown below.

온도 40℃Temperature 40 ℃

PH 5.8PH 5.8

액조중의 미반응 탄산칼슘농도 0.02∼0.04mol/ℓUnreacted calcium carbonate concentration in the liquid tank 0.02 to 0.04 mol / l

액조중의 전슬러리 농도 12-16wt%Total Slurry Concentration 12-16wt%

탄산칼슘 과잉율 1.02-1.04Calcium Carbonate Excess Rate 1.02-1.04

입구 아황산가스 농도 500-700ppmInlet sulfur dioxide concentration 500-700ppm

L/G(흡수탑 내의 액류량과 가스 유량의 비 kg/㎡)를 3.5, 6.9, 10.3의 3종류를 선택하여 종축에 탈황율(%), 횡축에 가스 공통속도 Ug(m/sec)로서 측정치를 그래프화 한 것을 제4도에 표시한다.L / G (the ratio of liquid flow rate and gas flow rate in kg / m2) is selected from 3.5, 6.9, and 10.3 as the desulfurization rate (%) on the vertical axis and the common gas velocity Ug (m / sec) on the horizontal axis. The graph of the measured value is shown in FIG.

그래프에 의하면 탈황율은 L/G의 증대와 함께 증가하는 한편, 가스 공통속도의 상승에 따라서 감소되는 것을 알 수 있다. L/G가 3.5이며 더구나 Ug가 낮을 경우(〉8m/sec)는 경향에 차이가 있으나, 그것은 액체류량(液體留量)의 차이에 의하여 기액의 접촉상태가 다른 조건과 상이하므로 발생한 현상이다.The graph shows that the desulfurization rate increases with increasing L / G and decreases with increasing gas common speed. If L / G is 3.5 and Ug is low (> 8m / sec), there is a difference in tendency, but this is a phenomenon caused by the contact state of gas-liquid different from other conditions due to the difference in the amount of liquid flow.

본 실험결과를 총괄한다면 Ug이 6-10m/sec라는 고유속(高流速)으로 88-97%라는 높은 탈황율을 얻었다고 할 수 있다.The overall results of this experiment can be said that Ug has a high desulfurization rate of 88-97% at high flow rate of 6-10m / sec.

[실시예 3]Example 3

공기의 물과의 기액 접촉조작을 제1도에 표시하는 장치로서 행하며 탑내의 전압력 손실을 측정하였다. 탑고 4.5m, 내경 300mm이다. 가스 공탑속도 Ug와 액질량속도 L을 여러가지로 바꾸어서 얻어진 측정치를 그래프화한 것을 제5도에 표시한다. 그래프에 의하여 가스 공탑속도가 Ug 5m/sec 이상이 되면 압력손실 △P가 흡격하게 증대하며 그에 따라서 물의 체류량이 증가하는 것이 명백하며 양호한 기액 접촉이 행하여진다.The gas-liquid contact operation with water of air was performed as the apparatus shown in FIG. 1, and the total pressure loss in the tower was measured. It is 4.5m high and 300mm inside diameter. Fig. 5 shows a graph of measured values obtained by variously changing the gas column velocity Ug and the liquid mass velocity L. It is clear from the graph that when the gas tower speed becomes more than Ug 5 m / sec, the pressure loss DELTA P is absorbed and the water retention amount increases accordingly, and good gas-liquid contact is made.

[실시예 4]Example 4

탄산칼슘 슬려리에 의한 아황산가스의 흡수 실험을 제2도에 표시하는 장치를 사용하여서 실시하였다. 흡수탑의 탑고는 4.5m, 내경은 1000mm이며 간막이판 14는 동일한 간격에 3개소를 설치하였다. 실험조건을 다음에 표시한다.The experiment of absorption of the sulfurous acid gas by calcium carbonate slurry was performed using the apparatus shown in FIG. The tower height of the absorption tower is 4.5m, the inner diameter is 1000mm, and the partition plate 14 is installed at three places at equal intervals. The experimental conditions are shown below.

온도 20-25℃Temperature 20-25 ℃

PH 5.8PH 5.8

액조중의 미반응 탄산칼슘농도 0.03∼0.5mol/ℓUnreacted calcium carbonate concentration in liquid tank 0.03-0.5 mol / l

액조중의 전슬러리 농도 14-17wt%Total Slurry Concentration in Liquid Tank 14-17wt%

탄산칼슘 과잉율 1.03-1.05Calcium Carbonate Excess Rate 1.03-1.05

입구아황산가스 농도로서 500-700ppm의 것과 1400-1500ppm의 것의 2종류를 선택하여 L/G는 3.5, 5.2, 6.9, 10.4의 4종류를 선택하여 실험을 실시하였다.The experiment was carried out by selecting two types of inlet sulfur dioxide gas, 500-700ppm and 1400-1500ppm, and L / G for 3.5, 5.2, 6.9 and 10.4.

얻어진 결과를 실시예 2와 동일하게 그래프화한 것을 제6도에 표시한다.The graph of the obtained result similarly to Example 2 is shown in FIG.

그래프에 의하면 탈황율은 L/G의 증대와 함께 증가하며 Ua의 상승과 함께 증가하는 경향을 얻었다. 본 예와 실시예 2와의 경향의 차이는 탈황율이 흡수탑 내의 기액의 접촉상태와 액체류량에 따라서 현저한 영향을 받는데에 기인된다.The graph shows that the desulfurization rate increases with the increase of L / G and increases with the increase of Ua. The difference in tendency between this example and Example 2 is due to the fact that the desulfurization rate is significantly influenced by the contact state of the gas liquid in the absorption tower and the amount of liquid flow.

[실시예 5]Example 5

공기와 물과의 기액 접촉조작을 실시예 4와 동일한 장치로 실시하였다. 가스 공탑속도 Ug와 액질량속도 L을 여러가지로 바꾸어서 얻어진 측정치를 그래프화한 것을 제7도에 표시한다. 그래프에 의하여 공탑속도 Ug이 5m/sec 이상이 되면 압력손신 △P가 급작스럽게 증대하며, 그에 따라서 물의 탑내 체류량이 증가하는 것이 명백하며 양호한 기액접촉이 이루어진다.The gas-liquid contact operation of air and water was performed with the same apparatus as in Example 4. Fig. 7 shows a graph of measured values obtained by variously changing the gas column velocity Ug and the liquid mass velocity L. It is apparent from the graph that when the tower speed Ug is 5 m / sec or more, the pressure loss ΔP increases abruptly, and thus the retention of water in the tower increases, resulting in good gas-liquid contact.

Claims (1)

한단이 공히 액조로 개구하며 상부가 서로 연통되어 있는 가스 상승유로 및 하강유로가 역 U자상의 관으로 되어 있으며 가스 상승유로의 하단의 액속에 개구하며, 그 유로의 액조상의 비교적 하부위치에 가스 송급구를 그 상부에 액공급구를 설비하며 급격한 상승 가스류에 의하여 액의 상당량을 동반시키므로서 기액접촉을 하는 장치로서 액조의 액조상부 공실에는 접촉이 끝난 가스 배출구를 설치한 것을 특징으로 하는 기액 접촉장치.One end is open in the liquid tank and the gas up flow passage and the down flow passage, which communicate with each other at the top, are inverted U-shaped pipes and open in the liquid flow at the bottom of the gas rise flow passage, and the gas is located at a relatively lower position on the liquid tank of the flow passage. The supply port is equipped with a liquid supply port at the upper part thereof, and a gas-liquid contact is carried out by accommodating a substantial amount of liquid by a sudden rising gas flow. Gas-liquid contactor.
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