KR20240131021A - Polyimide film for graphite sheet and graphite sheet prepraed therefrom - Google Patents

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KR20240131021A
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Abstract

본 발명은 탄소수 1 이상 6 이하의 알킬기를 적어도 하나 이상 갖는 인계 화합물을 포함하는 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름 및 이로부터 제조된 그라파이트 시트를 개시한다.The present invention discloses a polyimide film for producing a graphite sheet, which comprises a phosphorus compound having at least one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a graphite sheet produced therefrom.

Description

그라파이트 시트용 폴리이미드 필름 및 이로부터 제조된 그라파이트 시트 {POLYIMIDE FILM FOR GRAPHITE SHEET AND GRAPHITE SHEET PREPRAED THEREFROM}Polyimide film for graphite sheet and graphite sheet prepared therefrom {POLYIMIDE FILM FOR GRAPHITE SHEET AND GRAPHITE SHEET PREPRAED THEREFROM}

본 발명은 그라파이트 시트용 폴리이미드 필름 및 이로부터 제조된 그라파이트 시트에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide film for a graphite sheet and a graphite sheet manufactured therefrom.

최근의 전자 기기는 경량화, 소형화, 박형화 및 고집적화되고 있으며, 이로 인해 전자 기기에는 많은 열이 발생하고 있다. 이러한 열은 제품의 수명을 단축시키거나 고장, 오작동 등을 유발할 수 있다. 따라서, 전자 기기에 대한 열관리가 중요한 이슈로 대두되고 있다.Recent electronic devices are becoming lighter, smaller, thinner, and more integrated, which causes them to generate a lot of heat. This heat can shorten the life of the product or cause it to malfunction or fail. Therefore, heat management for electronic devices is emerging as an important issue.

그라파이트 시트는 구리나 알루미늄 등의 금속 시트보다 높은 열전도율을 가져 전자 기기의 방열 부재로서 주목받고 있다. 특히, 폴더블 기기의 발전에 따라 힌지에 사용되는 그라파이트 시트의 수요가 증대되는 추세이다. 이에 강도와 유연성이 개선된 그라파이트 시트에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.Graphite sheets have higher thermal conductivity than metal sheets such as copper or aluminum, and are attracting attention as heat dissipation materials for electronic devices. In particular, with the development of foldable devices, the demand for graphite sheets used in hinges is increasing. Accordingly, research on graphite sheets with improved strength and flexibility is actively being conducted.

그라파이트 시트는 다양한 방법으로 제조될 수 있는데, 예를 들어 고분자 필름을 탄화 및 흑연화시켜 제조될 수 있다. 특히, 폴리이미드 필름은 우수한 기계적 열적 치수 안정성, 화학적 안정성 등으로 인해 그라파이트 시트 제조용 고분자 필름으로서 각광받고 있다.Graphite sheets can be manufactured by various methods, for example, by carbonizing and graphitizing polymer films. In particular, polyimide films are attracting attention as polymer films for manufacturing graphite sheets due to their excellent mechanical, thermal, dimensional stability, and chemical stability.

그라파이트 시트 제조에 사용되는 폴리이미드 필름에는 다양한 첨가제가 사용될 수 있는데, 이중 가소제는 폴리이미드 필름의 물성 향상을 위해서 널리 사용되고 있다.Polyimide films used in the manufacture of graphite sheets can use various additives, among which plasticizers are widely used to improve the properties of polyimide films.

그라파이트 시트용 필름의 제조단계에 가소제를 첨가시켜 소성시 발포두께를 높일 수 있다. 이 때 가소제로 쓰인 화합물의 종류, 크기 및 분자량 등에 따라 폴리이미드 필름 및 이로부터 제조된 그라파이트 시트의 강도, 신도 및 탄성률 등이 변화한다. 이에 용도에 맞는 물성을 갖는 그라파이트 시트 개발을 위한 가소제의 종류 및 첨가 비율에 대한 연구가 요구되는 추세이다.By adding a plasticizer in the manufacturing step of a film for graphite sheets, the foaming thickness can be increased during firing. At this time, the strength, elongation, elastic modulus, etc. of the polyimide film and the graphite sheet manufactured therefrom change depending on the type, size, and molecular weight of the compound used as the plasticizer. Accordingly, there is a growing demand for research on the type and addition ratio of plasticizers for the development of graphite sheets with properties suitable for the intended use.

또한, 최근 접이식 전자 제품의 발전 속도가 빨라짐에 따라, 힌지에 적용시키기 위한 그라파이트 시트에 대한 개발이 요구되고 있다.In addition, as the pace of development of foldable electronic products has been accelerating recently, the development of graphite sheets for application to hinges is being demanded.

대한민국 등록특허공보 제10-1883434호Republic of Korea Patent Publication No. 10-1883434

본 발명의 목적은 그라파이트 시트 제조 시, 강도 및 신도가 저하되지 않고, 유연성이 개선된 그라파이트 시트의 제조가 가능한 폴리이미드 필름을 제공하는 것이다.The purpose of the present invention is to provide a polyimide film capable of producing a graphite sheet having improved flexibility without deterioration in strength and elongation during the production of the graphite sheet.

본 발명의 다른 목적은 상기 폴리이미드 필름으로부터 제조된 우수한 품질의 그라파이트 시트를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a graphite sheet of excellent quality manufactured from the polyimide film.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시형태는, 탄소수 1 이상 6 이하의 알킬기를 적어도 하나 이상 갖는 인계 화합물을 포함하는 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름을 제공한다.One embodiment of the present invention to achieve the above-mentioned purpose provides a polyimide film for producing a graphite sheet, which includes a phosphorus compound having at least one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

본 발명의 다른 일 실시형태는, 상기 폴리이미드 필름을 탄화, 흑연화 또는 탄화 및 흑연화하여 제조되는 그라파이트 시트를 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a graphite sheet manufactured by carbonizing, graphitizing, or carbonizing and graphitizing the polyimide film.

본 발명은 인계 화합물을 포함하는 폴리이미드 필름 및 이로부터 제조된 우수한 특성의 그라파이트 시트을 제공하는 효과를 갖는다.The present invention has the effect of providing a polyimide film containing a phosphorus compound and a graphite sheet having excellent properties manufactured therefrom.

도 1은 본원의 실시예 3의 폴리이미드 필름과, 비교예 1의 폴리이미드 필름의 응력 및 변형률을 비교한 응력-변형률 곡선(Stress-Strain Curve, S-S Curve) 이다.Figure 1 is a stress-strain curve (S-S Curve) comparing the stress and strain of the polyimide film of Example 3 of the present invention and the polyimide film of Comparative Example 1.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 구현예 및 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 여기에서 설명하는 구현예 및 실시예에 한정되지 않는다. 본 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, embodiments and examples of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily practice the invention. However, the present invention may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments and examples described herein. Throughout this specification, when a part is said to “include” a certain component, this does not exclude other components unless specifically stated otherwise, but rather means that other components may be included.

본 명세서 중 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In this specification, singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.When interpreting a component, it is interpreted as including the error range even if there is no separate explicit description.

본 명세서에서 수치범위를 나타내는 "a 내지 b"에서 "내지"는 ≥a이고 ≤b으로 정의한다.In this specification, “a to b” indicating a numerical range is defined as ≥a and ≤b.

본원의 일 측면에 따른 폴리이미드 필름은 탄소수 1 이상 6 이하의 선형 또는 분지형 알킬기를 적어도 하나 이상 갖는 인계 화합물을 포함할 수 있다.A polyimide film according to one aspect of the present invention may include a phosphorus compound having at least one linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

예를 들어, 상기 인계 화합물은 인산계 화합물일 수 있고, 상기 알킬기는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 사이클로프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 사이클로부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 사이클로펜틸기 등 일 수 있다.For example, the phosphorus compound may be a phosphoric acid compound, and the alkyl group may be a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a cyclopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a cyclobutyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a cyclopentyl group, and the like.

즉, 상기 인계 화합물의 탄소수는 1 이상 2 이하, 1 이상 3 이하, 1 이상 4 이하, 1 이상 5 이하 또는 1 이상 6 이하일 수 있다.That is, the carbon number of the above-mentioned phosphorus compound may be 1 or more and 2 or less, 1 or more and 3 or less, 1 or more and 4 or less, 1 or more and 5 or less, or 1 or more and 6 or less.

또한, 상기 인계 화합물은 탄소수 1 이상 6 이하의 알킬기를 1개 이상 4 개 이하, 1개 이상 3개 이하 또는 1개 이상 2개 이하 포함할 수 있다.In addition, the above-mentioned compound may contain 1 to 4, 1 to 3, or 1 to 2 alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.

한편, 상기 탄소수 1 이상 6 이하의 알킬기는 상기 인계 화합물의 인(P)원자와 직접 결합될 수 있다.Meanwhile, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms can be directly bonded to the phosphorus (P) atom of the phosphorus compound.

상기 인계 화합물이 갖는 알킬기의 탄소수가 상기 범위를 벗어나는 경우, 화합물의 분자량이 커지고 인(P) 함량이 적어질 수 있다. 이 경우 상기 인계 화합물이 포함된 폴리이미드 필름은 강도, 신도 및 탄성률이 저하될 수 있다.If the number of carbon atoms in the alkyl group of the above-mentioned phosphorus compound is outside the above range, the molecular weight of the compound may increase and the phosphorus (P) content may decrease. In this case, the polyimide film containing the above-mentioned phosphorus compound may have reduced strength, elongation, and elastic modulus.

한편, 상기 인계 화합물은 포스페이트계 화합물일 수 있다.Meanwhile, the above-mentioned phosphorus compound may be a phosphate compound.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름에 포함된 인계 화합물은 인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP), 트리메틸포스페이트(Trimethyl phosphate, TMP), 트리뷰틸 포스페이트(Tributyl phosphate, TBP), 트리이소뷰틸 포스페이트 (Tri-iso-butyl phosphate, TiBP)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상일 수 있다.In one embodiment, the phosphorus compound included in the polyimide film for producing the graphite sheet may be at least one selected from the group consisting of triethyl phosphate (TEP), trimethyl phosphate (TMP), tributyl phosphate (TBP), and tri-iso-butyl phosphate (TiBP).

일 구현예에 있어서, 상기 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로, 2 중량부 이상 8 중량부 이하의 상기 인계 화합물이 포함될 수 있다.In one embodiment, the phosphorus compound may be included in an amount of 2 parts by weight or more and 8 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total content of the imidization catalyst included in the polyimide film.

즉, 상기 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량을 100 중량부로 보았을 때, 상기 폴리이미드 필름에 포함된 상기 인계 화합물의 총 함량은 2 중량부 이상 8 중량부 이하일 수 있다.That is, when the total content of the imidization catalyst included in the polyimide film is considered to be 100 parts by weight, the total content of the phosphorus compound included in the polyimide film may be 2 parts by weight or more and 8 parts by weight or less.

한 예로 상기 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량이 10 g인 경우, 폴리이미드 필름에 포함된 상기 인계 화합물의 총 함량은 0.2 g 이상 0.8 g 이하일 수 있다.For example, when the total content of the imidization catalyst included in the polyimide film is 10 g, the total content of the phosphorus compound included in the polyimide film may be 0.2 g or more and 0.8 g or less.

예를 들어, 상기 인계 화합물은, 상기 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로, 2 중량부 이상 8 중량부 이하, 3 중량부 이상 7 중량부 이하, 3 중량부 이상 6.5 중량부 이하, 3 중량부 이상 6 중량부 이하일 수 있다.For example, the amount of the above-described phosphorus compound may be 2 parts by weight or more and 8 parts by weight or less, 3 parts by weight or more and 7 parts by weight or less, 3 parts by weight or more and 6.5 parts by weight or less, or 3 parts by weight or more and 6 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total content of the imidization catalyst included in the polyimide film.

상기 인계 화합물의 함량이 본원의 함량 범위를 상회하면 겔 필름에 심한 수축이 발생하여 제막이 되지 않아서 폴리이미드 필름을 제조할 수 없을 수 있고, 본원의 함량 범위를 하회하면 폴리이미드 필름의 강도 및 신도가 감소하는 등 기계적 특성이 저하될 수 있다.If the content of the above-mentioned phosphorus compound exceeds the content range of the present invention, severe shrinkage may occur in the gel film, preventing film formation and making it impossible to manufacture a polyimide film. If the content falls below the content range of the present invention, the mechanical properties of the polyimide film may deteriorate, such as a decrease in strength and elongation.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 기계 방향(Machine Direction, MD)의 강도가 265 MPa 이상 310 MPa 이하이고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 강도가 255 MPa 이상 320 MPa 이하일 수 있다.In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet may have a strength in the machine direction (MD) of 265 MPa or more and 310 MPa or less and a strength in the transverse direction (TD) of 255 MPa or more and 320 MPa or less.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 기계 방향(Machine Direction, MD)의 강도가 267 MPa 이상 309 MPa 이하, 269 MPa 이상 307 MPa 이하, 271 MPa 이상 305 MPa 이하, 273 MPa 이상 300 MPa 이하, 274 MPa 이상 295 MPa 이하, 274.5 MPa 이상 293.6 MPa 이하, 265 MPa 이상 270 MPa 미만, 270 MPa 이상 275 MPa 미만, 275 MPa 이상 280 MPa 미만, 280 MPa 이상 285 MPa 미만, 285 MPa 이상 290 MPa 미만, 290 MPa 이상 295 MPa 미만, 295 MPa 이상 300 MPa 미만, 300 MPa 이상 305 MPa 미만, 305 MPa 이상 310 MPa 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for producing the graphite sheet has a strength in the machine direction (MD) of 267 MPa or more and 309 MPa or less, 269 MPa or more and 307 MPa or less, 271 MPa or more and 305 MPa or less, 273 MPa or more and 300 MPa or less, 274 MPa or more and 295 MPa or less, 274.5 MPa or more and 293.6 MPa or less, 265 MPa or more and less than 270 MPa, 270 MPa or more and less than 275 MPa, 275 MPa or more and less than 280 MPa, 280 MPa or more and less than 285 MPa, 285 MPa or more and less than 290 MPa, 290 MPa or more and less than 295 MPa, 295 MPa or more and less than 300 MPa, 300 MPa or more and less than 305 MPa, It can be 305 MPa or more and 310 MPa or less.

그리고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 강도가 261 MPa 이상 320 MPa 이하, 267 MPa 이상 315 MPa 이하, 273 MPa 이상 310 MPa 이하, 279 MPa 이상 307 MPa 이하, 281.9 MPa 이상 306.8 MPa 이하, 255 MPa 이상 260 MPa 미만, 260 MPa 이상 265 MPa 미만, 265 MPa 이상 270 MPa 미만, 270 MPa 이상 275 MPa 미만, 275 MPa 이상 280 MPa 미만, 280 MPa 이상 285 MPa 미만, 285 MPa 이상 290 MPa 미만, 290 MPa 이상 295 MPa 미만, 295 MPa 이상 300 MPa 미만, 300 MPa 이상 305 MPa 미만, 305 MPa 이상 310 MPa 미만, 310 MPa 이상 315 MPa 미만, 315 MPa 이상 320 MPa 이하일 수 있다.And, the strength in the transverse direction (TD) is 261 MPa or more and 320 MPa or less, 267 MPa or more and 315 MPa or less, 273 MPa or more and 310 MPa or less, 279 MPa or more and 307 MPa or less, 281.9 MPa or more and 306.8 MPa or less, 255 MPa or more and less than 260 MPa, 260 MPa or more and less than 265 MPa, 265 MPa or more and less than 270 MPa, 270 MPa or more and less than 275 MPa, 275 MPa or more and less than 280 MPa, 280 MPa or more and less than 285 MPa, 285 MPa or more and less than 290 MPa, 290 MPa or more and less than 295 MPa, 295 MPa or more and less than 300 MPa, 300 MPa or more and 305 MPa Less than, 305 MPa or more but less than 310 MPa, 310 MPa or more but less than 315 MPa, 315 MPa or more but less than 320 MPa.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 기계 방향(Machine Direction, MD)의 신도가 128 % 이상 135 % 이하이고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 신도가 132 % 이상 138 % 이하일 수 있다.In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet may have an elongation in the machine direction (MD) of 128% or more and 135% or less and an elongation in the transverse direction (TD) of 132% or more and 138% or less.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 기계 방향(Machine Direction, MD)의 신도는 128.5 % 이상 136% 이하, 129 % 이상 135.5 % 이하, 129 % 이상 135 % 이하, 130 % 이상 134.9 % 이하, 128 % 이상 129 % 미만, 129 % 이상 130 % 미만, 130 % 이상 131 % 미만, 131 % 이상 132 % 미만, 132 % 이상 133 % 미만, 133 % 이상 134 % 미만, 134 % 이상 135 % 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the graphite sheet may have an elongation in the machine direction (MD) of 128.5% or more and 136% or less, 129% or more and 135.5% or less, 129% or more and 135% or less, 130% or more and 134.9% or less, 128% or more and less than 129%, 129% or more and less than 130%, 130% or more and less than 131%, 131% or more and less than 132%, 132% or more and less than 133%, 133% or more and less than 134%, or 134% or more and 135% or less.

그리고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 신도는 130 % 이상 139.5 % 이하, 130.5 % 이상 139 % 이하, 131 % 이상 138.5 % 이하, 131.5 % 이상 138 % 이하, 132 % 이상 137.5 % 이하, 132.1 % 이상 137.1 % 이하, 132 % 이상 133 % 미만, 133 % 이상 134 % 미만, 134 % 이상 135 % 미만, 135 % 이상 136 % 미만, 136 % 이상 137 % 이하, 137 % 이상 138 % 이하일 수 있다.And, the elongation in the transverse direction (TD) can be 130% or more and 139.5% or less, 130.5% or more and 139% or less, 131% or more and 138.5% or less, 131.5% or more and 138% or less, 132% or more and 137.5% or less, 132.1% or more and 137.1% or less, 132% or more and less than 133%, 133% or more and less than 134%, 134% or more and less than 135%, 135% or more and less than 136%, 136% or more and 137% or less, 137% or more and 138% or less.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 기계 방향(Machine Direction, MD)의 탄성률이 1.8 GPa 이상 2.6 GPa 이하이고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 탄성률이 1.5 GPa 이상 2.5 GPa 이하일 수 있다.In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet may have an elastic modulus in the machine direction (MD) of 1.8 GPa or more and 2.6 GPa or less and an elastic modulus in the transverse direction (TD) of 1.5 GPa or more and 2.5 GPa or less.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 기계 방향(Machine Direction, MD)의 탄성률은 1.8 GPa 이상 2.58 GPa 이하, 1.9 GPa 이상 2.51 GPa 이하, 2.0 GPa 이상 2.44 GPa 이하, 2.1 GPa 이상 2.37 GPa 이하, 2.2 GPa 이상 2.3 GPa 이하, 1.8 GPa 이상 1.9 GPa 미만, 1.9 GPa 이상 2.0 GPa 미만, 2.0 GPa 이상 2.1 GPa 미만, 2.1 GPa 이상 2.2 GPa 미만, 2.2 GPa 이상 2.3 GPa 미만, 2.3 GPa 이상 2.4 GPa 미만, 2.4 GPa 이상 2.5 GPa 미만, 2.5 GPa 이상 2.6 GPa 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the graphite sheet may have an elastic modulus in the machine direction (MD) of 1.8 GPa or more and 2.58 GPa or less, 1.9 GPa or more and 2.51 GPa or less, 2.0 GPa or more and 2.44 GPa or less, 2.1 GPa or more and 2.37 GPa or less, 2.2 GPa or more and 2.3 GPa or less, 1.8 GPa or more and less than 1.9 GPa, 1.9 GPa or more and less than 2.0 GPa, 2.0 GPa or more and less than 2.1 GPa, 2.1 GPa or more and less than 2.2 GPa, 2.2 GPa or more and less than 2.3 GPa, 2.3 GPa or more and less than 2.4 GPa, 2.4 GPa or more and less than 2.5 GPa, or 2.5 GPa or more and 2.6 GPa.

그리고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 탄성률은 1.6 GPa 이상 2.4 GPa 이하, 1.7 GPa 이상 2.3 GPa 이하, 1.8 GPa 이상 2.2 GPa 이하, 1.9 GPa 이상 2.15 GPa 이하, 2.0 GPa 이상 2.1 GPa 이하, 1.5 GPa 이상 1.6 GPa 미만, 1.6 GPa 이상 1.7 GPa 미만, 1.7 GPa 이상 1.8 GPa 미만, 1.8 GPa 이상 1.9 GPa 미만, 1.9 GPa 이상 2.0 GPa 미만, 2.0 GPa 이상 2.1 GPa 미만, 2.1 GPa 이상 2.2 GPa 미만, 2.2 GPa 이상 2.3 GPa 미만, 2.3 GPa 이상 2.4 GPa 미만, 2.4 GPa 이상 2.5 GPa 이하일 수 있다.And, the elastic modulus in the transverse direction (TD) may be 1.6 GPa or more and 2.4 GPa or less, 1.7 GPa or more and 2.3 GPa or less, 1.8 GPa or more and 2.2 GPa or less, 1.9 GPa or more and 2.15 GPa or less, 2.0 GPa or more and 2.1 GPa or less, 1.5 GPa or more and less than 1.6 GPa, 1.6 GPa or more and less than 1.7 GPa, 1.7 GPa or more and less than 1.8 GPa, 1.8 GPa or more and less than 1.9 GPa, 1.9 GPa or more and less than 2.0 GPa, 2.0 GPa or more and less than 2.1 GPa, 2.1 GPa or more and less than 2.2 GPa, 2.2 GPa or more and less than 2.3 GPa, 2.3 GPa or more and less than 2.4 GPa, 2.4 GPa or more and 2.5 GPa or less. there is.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계로 측정한 L*값이 50 이상 70 이하일 수 있다.In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet may have an L* value of 50 or more and 70 or less as measured by a colorimeter.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계로 측정한 L*값은 51.4 이상 68.2 이하, 52.8 이상 66.4 이하, 54.2 이상 64.6 이하, 55.6 이상 62.8 이하, 57 이상 61.5 이하, 57.1 이상 61.2 이하, 50 이상 55 미만, 55 이상 60 미만, 60 이상 65 미만, 65 이상 70 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the graphite sheet may have an L* value measured by a colorimeter of 51.4 or more and 68.2 or less, 52.8 or more and 66.4 or less, 54.2 or more and 64.6 or less, 55.6 or more and 62.8 or less, 57 or more and 61.5 or less, 57.1 or more and 61.2 or less, 50 or more and less than 55, 55 or more and less than 60, 60 or more and less than 65, or 65 or more and 70 or less.

또한, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계로 측정한 a*값이 12.5 이상 18 이하일 수 있다.In addition, the polyimide film for manufacturing the graphite sheet may have an a* value of 12.5 or more and 18 or less as measured by a colorimeter.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계로 측정한 a*값은 12.7 이상 17.5 이하, 12.8 이상 17 이하, 12.9 이상 16.5 이하, 13.1 이상 16.1 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the above graphite sheet may have an a* value measured using a colorimeter of 12.7 or more and 17.5 or less, 12.8 or more and 17 or less, 12.9 or more and 16.5 or less, or 13.1 or more and 16.1 or less.

또한, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계로 측정한 b*값이 70 이상 100 이하일 수 있다.In addition, the polyimide film for manufacturing the graphite sheet may have a b* value of 70 or more and 100 or less as measured by a colorimeter.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계로 측정한 b*값은 75 이상 95 이하, 80 이상 93 이하, 85 이상 91 이하, 86 이상 90 이하, 87.5 이상 89.3 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the above graphite sheet may have a b* value measured using a colorimeter of 75 or more and 95 or less, 80 or more and 93 or less, 85 or more and 91 or less, 86 or more and 90 or less, or 87.5 or more and 89.3 or less.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계(Ultra scan pro, Hunter Lab社)를 사용하여 측정한 투과율이 25 % 이상 40 % 이하일 수 있다.In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet may have a transmittance of 25% or more and 40% or less as measured using a colorimeter (Ultra scan pro, Hunter Lab).

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계(Ultra scan pro, Hunter Lab社)를 사용하여 측정한 투과율이 25.5 % 이상 35 % 이하, 26 % 이상 33 % 이하, 27 % 이상 31 % 이하, 27.4 % 이상 30.9 % 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the above graphite sheet may have a transmittance of 25.5% or more and 35% or less, 26% or more and 33% or less, 27% or more and 31% or less, or 27.4% or more and 30.9% or less as measured using a colorimeter (Ultra scan pro, Hunter Lab Co.).

또한, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계(Ultra scan pro, Hunter Lab社)를 사용하여 측정한 헤이즈 값이 6 % 이상 17 % 이하일 수 있다.In addition, the polyimide film for manufacturing the graphite sheet may have a haze value of 6% or more and 17% or less as measured using a colorimeter (Ultra scan pro, Hunter Lab).

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 색차계(Ultra scan pro, Hunter Lab社)를 사용하여 측정한 헤이즈 값이 6.1 % 이상 16 % 이하, 6.2 % 이상 15 % 이하, 6.3 % 이상 14 % 이하, 6.4 % 이상 13 % 이하, 6.5 % 이상 12 % 이하, 6.6 % 이상 11.1 % 이하일 수 있다.For example, the polyimide film for manufacturing the above graphite sheet may have a haze value measured using a colorimeter (Ultra scan pro, Hunter Lab) of 6.1% to 16%, 6.2% to 15%, 6.3% to 14%, 6.4% to 13%, 6.5% to 12%, or 6.6% to 11.1%.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 변형률 0.2 mm/mm 이상 0.8mm/mm 이하 사이에서, 하기의 수학식 1에 의해서 계산된 응력-변형률 곡선의 기울기가 50 이상 100 이하일 수 있다.In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet may have a slope of a stress-strain curve calculated by the following mathematical expression 1 of 50 or more and 100 or less at a strain of 0.2 mm/mm or more and 0.8 mm/mm or less.

[수학식 1][Mathematical Formula 1]

기울기 = (변형률 0.8 mm/mm 에서의 응력 - 변형률 0.2 mm/mm 에서의 응력) / (0.8-0.2)Slope = (Stress at strain 0.8 mm/mm - Stress at strain 0.2 mm/mm) / (0.8-0.2)

상기 수학식 1에서 (0.8-0.2)는 변형률 0.2 mm/mm 및 변형률 0.8mm/mm 지점에서의 변형률 차이를 의미한다.In the above mathematical expression 1, (0.8-0.2) means the strain difference at the strain points of 0.2 mm/mm and 0.8 mm/mm.

예를 들어, 상기 응력-변형률 곡선의 기울기는 변형률 0.2 mm/mm 이상의 구간에서, 55 이상 97 이하, 60 이상 94 이하, 65 이상 91 이하, 70 이상 88 이하, 75 이상 86 이하, 80 이상 84 이하, 50 이상 60 미만, 60 이상 70 미만, 70 이상 80 미만, 80 이상 90 미만, 90 이상 100 이하일 수 있다.For example, the slope of the stress-strain curve may be, in the section of strain of 0.2 mm/mm or more, 55 to 97, 60 to 94, 65 to 91, 70 to 88, 75 to 86, 80 to 84, 50 to less than 60, 60 to less than 70, 70 to less than 80, 80 to less than 90, or 90 to 100.

상기 기울기는 항복점 이후의 기울기로서, 상기 그라파이트 시트용 폴리이미드 필름의 탄성률 또는 탄성계수를 의미할 수 있다.The above slope is a slope after the yield point and may mean the elastic modulus or elastic coefficient of the polyimide film for the graphite sheet.

일 구현예에 있어서, 상기 폴리이미드 필름의 영률은 200 kgf/mm2 이상 260 kgf/mm2 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 폴리이미드 필름의 영률은 205 kgf/mm2 이상 255 kgf/mm2 이하, 210 kgf/mm2 이상 250 kgf/mm2 이하, 220 kgf/mm2 이상 240 kgf/mm2 이하, 225 kgf/mm2 이상 232 kgf/mm2 이하일 수 있다.In one embodiment, the Young's modulus of the polyimide film may be 200 kgf/mm 2 or more and 260 kgf/mm 2 or less. For example, the Young's modulus of the polyimide film may be 205 kgf/mm 2 or more and 255 kgf/mm 2 or less, 210 kgf/mm 2 or more and 250 kgf/mm 2 or less, 220 kgf/mm 2 or more and 240 kgf/mm 2 or less, or 225 kgf/mm 2 or more and 232 kgf/mm 2 or less.

또한, 일 구현예에 있어서, 상기 폴리이미드 필름의 인장변형률은 94 % 이상 127 % 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 폴리이미드 필름의 인장변형률은 95 % 이상 120 % 이하, 96 % 이상 113 % 이하, 104 % 이상 108 % 이하일 수 있다. In addition, in one embodiment, the tensile strain of the polyimide film may be 94% or more and 127% or less. For example, the tensile strain of the polyimide film may be 95% or more and 120% or less, 96% or more and 113% or less, or 104% or more and 108% or less.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 이무수물 단량체와 디아민 단량체의 반응에 의해 형성된 폴리아믹산을 이미드화하여 제조되고, 상기 폴리아믹산은 100,000 내지 500,000의 중량평균분자량을 가질 수 있다. In one embodiment, the polyimide film for producing the graphite sheet is produced by imidizing a polyamic acid formed by a reaction of a dianhydride monomer and a diamine monomer, and the polyamic acid may have a weight average molecular weight of 100,000 to 500,000.

상기 범위에서, 그라파이트 시트 제조 시 흑연화가 용이할 수 있다. 여기서, '중량평균분자량'은 겔크로마토그래피(GPC)를 사용하고, 폴리스티렌을 표준 시료로 이용하여 측정될 수 있다. 폴리아믹산의 중량평균분자량은, 예를 들어 150,000 내지 500,000, 다른 예를 들면 200,000 내지 400,000, 또 다른 예를 들면 250,000 내지 400,000 일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the above range, graphitization can be facilitated when manufacturing a graphite sheet. Here, the 'weight average molecular weight' can be measured using gel chromatography (GPC) and polystyrene as a standard sample. The weight average molecular weight of the polyamic acid can be, for example, 150,000 to 500,000, for another example, 200,000 to 400,000, for another example, 250,000 to 400,000, but is not limited thereto.

상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름을 형성하기 위한 이무수물 단량체와 디아민 단량체로는 폴리이미드 필름 제조 분야에서 통상적으로 이용되는 다양한 단량체가 사용될 수 있다.As the dianhydride monomer and diamine monomer for forming the polyimide film for manufacturing the above graphite sheet, various monomers commonly used in the field of polyimide film manufacturing can be used.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름의 이무수물 단량체는 방향족 이무수물 단량체일 수 있고, 디아민 단량체는 방향족 디아민 단량체일 수 있다. 이무수물 단량체로는 피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복시산 이무수물, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복시산 이무수물, 옥시디프탈산 이무수물, 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복시산 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복시산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, p-페닐렌비스(트리멜리트산 모노에스테르 무수물), p-비페닐렌비스(트리멜리트산 모노에스테르 무수물), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복시산 이무수물, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복시산 이무수물, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 이무수물, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 이무수물, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)비페닐 이무수물, 2,2-비스[(3,4-디카르복시 페녹시)페닐]프로판 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복시산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복시산 이무수물, 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 또는 이들의 조합을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 디아민 단량체로는 벤젠 고리를 1개 포함한 디아민 단량체(예를 들면, 1,4-디아미노벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조산 등), 벤젠 고리를 2개 포함한 디아민 단량체(예를 들면, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디메틸벤지딘, 2,2'-디메틸벤지딘, 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 3,3'-디아미노디페닐설폭시드, 3,4'-디아미노디페닐설폭시드, 4,4'-디아미노디페닐설폭시드 등), 벤젠 고리를 3개 포함한 디아민 단량체(예를 들면, 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트리플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스[2-(4-아미노페닐)아이소프로필]벤젠, 1,4-비스[2-(3-아미노페닐)아이소프로필]벤젠, 1,4-비스[2-(4-아미노페닐)아이소프로필]벤젠 등), 벤젠 고리를 4개 포함한 디아민 단량체(예를 들면, 3,3'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(4-아미노 페녹시)페닐]케톤, 비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]설파이드, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]설파이드, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]설파이드, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]설파이드, 비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]설폰, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]설폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]설폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]설폰, 비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]메탄, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]메탄, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]메탄, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]메탄, 2,2-비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 등), 또는 이들의 조합을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the dianhydride monomer of the polyimide film for producing the graphite sheet may be an aromatic dianhydride monomer, and the diamine monomer may be an aromatic diamine monomer. The dianhydride monomers include pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, diphenylsulfone-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfide dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3',4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2,2-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, p-phenylenebis(trimellitic acid monoester anhydride), p-biphenylenebis(trimellitic acid monoester anhydride), m-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic acid dianhydride, p-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic acid dianhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)biphenyl dianhydride, 2,2-bis[(3,4-dicarboxy phenoxy)phenyl]propane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, Examples of suitable dianhydrides include, but are not limited to, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-(2,2-hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride, or combinations thereof. As diamine monomers, diamine monomers containing one benzene ring (e.g., 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzoic acid, etc.), diamine monomers containing two benzene rings (e.g., diaminodiphenyl ethers such as 4,4'-diaminodiphenyl ether and 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-Dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis(4-aminophenyl)sulfide, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3'-dimethylbenzidine, 2,2'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxybenzidine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-Diaminodiphenylsulfone, 3,3'-Diaminobenzophenone, 4,4'-Diaminobenzophenone, 3,3'-Diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-Diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-Diaminodiphenylmethane, 3,4'-Diaminodiphenylmethane, 4,4'-Diaminodiphenylmethane, 2,2-Bis(3-aminophenyl)propane, 2,2-Bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-Bis(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-Bis(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-Diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-Diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide, etc.), diamine monomers containing three benzene rings (e.g., 1,3-bis(3-aminophenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenyl)benzene, 1,4-bis(3-aminophenyl)benzene, 1,4-bis(4-aminophenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)-4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino-4-(4-phenyl)phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-di(4-phenylphenoxy)benzophenone, 1,3-bis(3-aminophenylsulfide)benzene, 1,3-bis(4-aminophenylsulfide)benzene, 1,4-bis(4-aminophenylsulfide)benzene, 1,3-bis(3-aminophenylsulfone)benzene, 1,3-bis(4-aminophenylsulfone)benzene, 1,4-bis(4-aminophenylsulfone)benzene, 1,3-bis[2-(4-aminophenyl)isopropyl]benzene, 1,4-bis[2-(3-aminophenyl)isopropyl]benzene, 1,4-bis[2-(4-aminophenyl)isopropyl]benzene, etc.), diamine monomers containing four benzene rings (e.g., 3,3'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 3,3'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]ether, Bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, Bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, 2,2-bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, etc.), or combinations thereof can be used, but are not limited thereto.

특히, 이무수물 단량체로는 피로멜리트산 이무수물, 3, 3',4, 4'-비페닐테트라카르복시산 이무수물, 2, 3,3', 4-비페닐테트라카르복시산 이무수물, 옥시디프탈산 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)설폰 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물 또는 이들의 조합이 사용되고, 디아민 단량체로는 4,4'-옥시디아닐린, 3,4'-옥시디아닐린, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 4,4'-메틸렌디아닐린, 3,3'-메틸렌디아닐린 또는 이들의 조합이 사용될 수 있다.In particular, as the dianhydride monomer, pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic anhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride or a combination thereof can be used, and as the diamine monomer, 4,4'-oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4'-methylenedianiline, 3,3'-methylenedianiline or a combination thereof can be used.

예를 들어, 이무수물 단량체로는 피로멜리트산 이무수물이 사용되고, 디아민 단량체로는 4,4'-옥시디아닐린이 사용될 수 있다.For example, pyromellitic dianhydride can be used as the dianhydride monomer, and 4,4'-oxydianiline can be used as the diamine monomer.

상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름의 두께는 20 내지 500 ㎛일 수 있다. 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름의 두께는, 예를 들어 20 내지 500 ㎛, 더 바람직하게는 25 내지 400 ㎛, 더욱 바람직하게는 30 내지 300 ㎛, 더더욱 바람직하게는 35 내지 200 ㎛일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The thickness of the polyimide film for producing the above graphite sheet may be 20 to 500 ㎛. The thickness of the polyimide film for producing the graphite sheet may be, for example, 20 to 500 ㎛, more preferably 25 to 400 ㎛, even more preferably 30 to 300 ㎛, and even more preferably 35 to 200 ㎛, but is not limited thereto.

상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 폴리이미드 필름 제조 분야에서 통상적으로 이용되는 다양한 방법으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름은 1종 이상의 이무수물 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체를 용매 중에서 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조한 뒤, 상기 폴리아믹산 용액에 이미드화 촉매, 탈수제, 및 선택적으로 승화성 무기 충전제, 용매 등을 첨가하여 폴리이미드 필름용 조성물을 형성하고, 상기 조성물을 제막하여 제조될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The polyimide film for producing the above graphite sheet can be produced by various methods commonly used in the field of polyimide film production. For example, the polyimide film for producing the graphite sheet can be produced by, but is not limited to, polymerizing one or more dianhydride monomers and one or more diamine monomers in a solvent to produce a polyamic acid solution, then adding an imidization catalyst, a dehydrating agent, and optionally a sublimable inorganic filler, a solvent, etc. to the polyamic acid solution to form a composition for a polyimide film, and then forming the composition into a film.

상기 폴리아믹산 용액을 이미드화하는 과정은 열 이미드화법, 화학 이미드화법 또는 상기 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병용하는 복합 이미드화법 등 공지의 이미드화법을 통해 수행될 수 있다.The process of imidizing the above polyamic acid solution can be performed using a known imidization method, such as a thermal imidization method, a chemical imidization method, or a composite imidization method using a combination of the thermal imidization method and the chemical imidization method.

상기 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름에 포함되는 승화성 무기 충전제 전체의 평균 입경(D50)은 0.1 내지 5.0 ㎛이고, 승화성 무기 충전제 전체의 함량은 폴리이미드 필름의 총 중량 100 중량% 기준으로 0.07 내지 0.4 중량%일 수 있다. The average particle size ( D50 ) of the entire sublimable inorganic filler included in the polyimide film for manufacturing the above graphite sheet may be 0.1 to 5.0 ㎛, and the content of the entire sublimable inorganic filler may be 0.07 to 0.4 wt% based on 100 wt% of the total weight of the polyimide film.

상기 승화성 무기 충전제는 폴리이미드 필름의 탄화 및/또는 흑연화 시 승화하여 소정의 발포 현상을 유도할 수 있다. 이러한 발포 현상은, 탄화 및/또는 흑연화 시 발생하는 승화 가스의 배기를 원활하게 하여 양질의 그라파이트 시트의 수득을 가능하게 할 수 있고, 발포에 따라 형성되는 소정의 공극은 그라파이트 시트의 내굴곡성('유연성')도 향상시킬 수 있다. The above-mentioned sublimable inorganic filler can induce a predetermined foaming phenomenon by sublimation during carbonization and/or graphitization of the polyimide film. This foaming phenomenon can facilitate the exhaust of sublimation gas generated during carbonization and/or graphitization, thereby enabling the acquisition of a high-quality graphite sheet, and the predetermined pores formed by the foaming can also improve the bending resistance ('flexibility') of the graphite sheet.

다만, 과도한 발포 현상과 그로 인한 다수의 공극은, 그라파이트 시트의 열전도도와 기계적 물성을 크게 악화시킬 수 있고, 그라파이트 시트 표면에 결함을 야기할 수 있으므로, 승화성 무기 충전제의 종류, 함량 및 입자 크기는 신중하게 선택되어야 한다.However, since excessive foaming and the resulting large number of voids can significantly deteriorate the thermal conductivity and mechanical properties of the graphite sheet and cause defects on the surface of the graphite sheet, the type, content, and particle size of the sublimable inorganic filler must be carefully selected.

'평균 입경(D50)'은 승화성 무기 충전제를 디메틸포름아미드 용매 중에서 25℃에서 5분 동안 초음파 분산시킨 후 입도측정기(laser diffraction particle size analyzer)(SALD-2201, Shimadzu)를 사용하여 측정될 수 있다. The 'average particle size (D 50 )' can be measured using a laser diffraction particle size analyzer (SALD-2201, Shimadzu) after ultrasonically dispersing the sublimable inorganic filler in a dimethylformamide solvent at 25°C for 5 minutes.

그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름 중 승화성 무기 충전제 전체의 평균 입경(D50)은, 예를 들어 0.5 내지 4.0 ㎛, 다른 예를 들면 1.0 내지 5.0 ㎛, 또 다른 예를 들면 1.5 내지 5.0 ㎛, 또 다른 예를 들면 1.5 내지 2.5 ㎛ 미만일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 폴리이미드 필름 중 승화성 무기 충전제 전체의 함량은 폴리이미드 필름의 총 중량을 기준으로, 예를 들어 0.07 내지 0.35 중량%, 다른 예를 들면 0.1 내지 0.3 중량%, 또 다른 예를 들면 0.15 내지 0.3 중량%일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The average particle size ( D50 ) of the entire sublimable inorganic filler in the polyimide film for producing a graphite sheet may be, for example, 0.5 to 4.0 ㎛, for example, 1.0 to 5.0 ㎛, for another example, 1.5 to 5.0 ㎛, for another example, 1.5 to less than 2.5 ㎛, but is not limited thereto. The content of the entire sublimable inorganic filler in the polyimide film may be, for example, 0.07 to 0.35 wt%, for example, 0.1 to 0.3 wt%, for another example, 0.15 to 0.3 wt%, based on the total weight of the polyimide film, but is not limited thereto.

상기 승화성 무기 충전제는 평균 입경(D50)이 0.1 내지 2.0 ㎛인 제1승화성 무기 충전제 및 평균 입경(D50)이 2.0 초과 내지 5.0 ㎛인 제2승화성 무기 충전제를 포함할 수 있다. The above sublimable inorganic filler may include a first sublimable inorganic filler having an average particle diameter (D 50 ) of 0.1 to 2.0 ㎛ and a second sublimable inorganic filler having an average particle diameter (D 50 ) of more than 2.0 to 5.0 ㎛.

상기 승화성 무기 충전제 중 제1승화성 무기 충전제 및 제2승화성 무기 충전제의 함량은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들면 승화성 무기 충전제의 총 중량을 기준으로 제1승화성 무기 충전제는 10 내지 90 중량%로 포함되고, 제2승화성 무기 충전제는 10 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 예를 들어, 승화성 무기 충전제의 총 중량을 기준으로 제1승화성 무기 충전제의 함량은, 예를 들면 15 내지 85 중량%, 다른 예를 들면 20 내지 80중량%, 또 다른 예를 들면 30 내지 80중량%, 또 다른 예를 들면 50 내지 80 중량%일 수 있고, 제2승화성 무기 충전제의 함량은, 예를 들면 85 내지 15 중량%, 다른 예를 들면 80 내지 20 중량%, 또 다른 예를 들면 70 내지 20 중량%, 또 다른 예를 들면 50 내지 20 중량%일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The contents of the first sublimable inorganic filler and the second sublimable inorganic filler among the above sublimable inorganic fillers are not particularly limited, but for example, the first sublimable inorganic filler may be included in an amount of 10 to 90 wt% and the second sublimable inorganic filler may be included in an amount of 10 to 90 wt% based on the total weight of the sublimable inorganic filler. For example, the content of the first sublimable inorganic filler may be, for example, 15 to 85 wt%, for another example, 20 to 80 wt%, for another example, 30 to 80 wt%, or for another example, 50 to 80 wt%, and the content of the second sublimable inorganic filler may be, for example, 85 to 15 wt%, for another example, 80 to 20 wt%, for another example, 70 to 20 wt%, or for another example, 50 to 20 wt%, but is not limited thereto.

상기 승화성 무기 충전제의 예로는 탄산칼슘, 제2인산칼슘, 황산바륨 등을 들 수 있다. 상기 승화성 무기 충전제는 더욱 바람직하게는 제2인산칼슘이 될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the above sublimable inorganic filler include calcium carbonate, dibasic calcium phosphate, barium sulfate, etc. The above sublimable inorganic filler may more preferably be dibasic calcium phosphate, but is not limited thereto.

상기 용매로는 폴리아믹산을 용해시킬 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 용매는 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)를 포함할 수 있다. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve polyamic acid. For example, the solvent may include an aprotic polar solvent.

특히, 디메틸설폭시드, 디에틸설폭시드 등의 설폭시드계 용매; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드 등의 포름아미드계 용매; N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디에틸아세트아미드 등의 아세트아미드계 용매; N-메틸-2-피롤리돈, N-비닐-2-피롤리돈 등의 피롤리돈계 용매; 페놀, o-, m-, 또는 p-크레졸, 크실레놀, 할로겐화 페놀, 카테콜 등의 페놀계 용매; 헥사메틸포스포르아미드, γ-부틸올락톤 등의 비프로톤성 극성 용매; 등을 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In particular, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide; formamide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-diethylformamide; acetamide solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-diethylacetamide; pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone; phenol solvents such as phenol, o-, m-, or p-cresol, xylenol, halogenated phenols, catechol; aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoramide and γ-butyrolactone; etc. can be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.

상기 탈수제로는 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 부티르산 무수물, 벤조산 무수물 등을 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The above dehydrating agent may be acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, benzoic anhydride, etc., alone or in combination of two or more, but is not limited thereto.

상기 제막은 폴리아믹산 용액을 기재 상에 필름 형상으로 도포하고, 30 내지 200℃의 온도에서 15초 내지 30분 동안 가열 건조시켜 겔 필름을 제조한 뒤, 기재를 제거한 겔 필름을 250 내지 600℃의 온도에서 15초 내지 30분 동안 열처리하여 수행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The above film forming may be performed by applying a polyamic acid solution in a film shape on a substrate, heating and drying at a temperature of 30 to 200°C for 15 seconds to 30 minutes to produce a gel film, and then heat-treating the gel film from which the substrate has been removed at a temperature of 250 to 600°C for 15 seconds to 30 minutes, but is not limited thereto.

본원의 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름으로 그라파이트 시트 제조 시, 우수한 특성의 그라파이트 시트 제조가 가능하다.When manufacturing graphite sheets using the polyimide film of this invention, it is possible to manufacture graphite sheets with excellent properties.

본원의 다른 일 측면에 따른 그라파이트 시트는 본원의 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름을 탄화, 흑연화 또는 탄화 및 흑연화 하여 제조될 수 있다.A graphite sheet according to another aspect of the present invention can be manufactured by carbonizing, graphitizing, or carbonizing and graphitizing a polyimide film for manufacturing a graphite sheet of the present invention.

상기 탄화는 그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름의 고분자 사슬을 열분해하여 비정질 탄소체, 비결정질 탄소체 및/또는 무정형 탄소체를 포함한 예비 그라파이트 시트를 형성하는 공정으로, 예를 들어 폴리이미드 필름을 감압 하에서 또는 비활성기체 분위기 하에서 상온에서부터 최고 온도인 1,000℃ 내지 1,500℃ 범위의 온도까지 10시간 내지 30시간에 걸쳐 승온 및 유지하는 단계를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 선택적으로, 탄소의 고배향성을 위해 탄화시 핫프레스 등을 이용하여 폴리이미드 필름에 압력을 가할 수도 있으며, 이때의 압력은, 예를 들면 5 kg/cm2 이상, 다른 예를 들면 15 kg/cm2 이상, 또 다른 예를 들면 25 kg/cm2 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The above carbonization is a process for forming a preliminary graphite sheet including an amorphous carbon body, a non-crystalline carbon body and/or an amorphous carbon body by thermally decomposing the polymer chains of the polyimide film for producing a graphite sheet, and may include, for example, a step of heating and maintaining the polyimide film under reduced pressure or in an inert gas atmosphere from room temperature to a maximum temperature of 1,000° C. to 1,500° C. for 10 to 30 hours, but is not limited thereto. Optionally, pressure may be applied to the polyimide film using a hot press or the like during carbonization in order to achieve a high degree of orientation of the carbon, and the pressure at this time may be, for example, 5 kg/cm 2 or more, for another example, 15 kg/cm 2 or more, and for another example, 25 kg/cm 2 or more, but is not limited thereto.

상기 흑연화는 비정질 탄소체, 비결정질 탄소체 및/또는 무정형 탄소체의 탄소를 재배열하여 그라파이트 시트를 형성하는 공정으로, 예를 들어 예비 그라파이트 시트를, 선택적으로 비활성기체 분위기 하에서 상온에서부터 최고 온도인 2,500℃ 내지 3,000℃ 범위의 온도까지 2시간 내지 30시간에 걸쳐 승온 및 유지하는 단계를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 선택적으로, 탄소의 고배향성을 위해 흑연화시 핫프레스 등을 이용하여 예비 그라파이트 시트에 압력을 가할 수도 있으며, 이때의 압력은, 예를 들면 100 kg/cm2 이상, 다른 예를 들면 200 kg/cm2 이상, 또 다른 예를 들면 300 kg/cm2 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The above graphitization is a process of forming a graphite sheet by rearranging carbon in an amorphous carbon body, amorphous carbon body and/or an amorphous carbon body, and may include, for example, a step of heating and maintaining a preliminary graphite sheet, optionally in an inert gas atmosphere, from room temperature to a maximum temperature of 2,500° C. to 3,000° C. for 2 to 30 hours, but is not limited thereto. Optionally, in order to achieve a high orientation of carbon, pressure may be applied to the preliminary graphite sheet using a hot press or the like during graphitization, and the pressure at this time may be, for example, 100 kg/cm 2 or more, for another example, 200 kg/cm 2 or more, and for another example, 300 kg/cm 2 or more, but is not limited thereto.

본원의 또 다른 일 측면에 따른 그라파이트 시트는 신도가 5.5 % 이상 10 % 이하일 수 있다.According to another aspect of the present invention, the graphite sheet may have an elongation of 5.5% or more and 10% or less.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트의 신도가 5.5 % 이상 6 % 미만, 6 % 이상 7 % 미만, 7 % 이상 8 % 미만, 8 % 이상 9 % 미만, 9 % 이상 10 % 이하 일 수 있다.For example, the elongation of the graphite sheet may be 5.5% or more and less than 6%, 6% or more and less than 7%, 7% or more and less than 8%, 8% or more and less than 9%, or 9% or more and 10% or less.

또한, 본원의 인계 화합물을 첨가한 그라파이트 시트는 상기 인계 화합물을 첨가하지 않고 제조한 그라파이트 시트에 비해서 신도가 250 % 이상 상승할 수 있다.In addition, the graphite sheet with the phosphorus compound of the present invention added can have an elongation increase of 250% or more compared to a graphite sheet manufactured without adding the phosphorus compound.

특히, 상기 인계 화합물이 3 %를 초과하여 첨가되는 경우, 신도가 400 % 이상 상승할 수 있다. In particular, when the above-mentioned phosphorus compound is added in an amount exceeding 3%, the elongation can increase by more than 400%.

일 구현예에 있어서, 상기 그라파이트 시트는 강도가 63 MPa 이상 85 MPa 이하이고, 탄성률이 1.0 GPa 이상 2.4 GPa 이하일 수 있다.In one embodiment, the graphite sheet may have a strength of 63 MPa or more and 85 MPa or less and an elastic modulus of 1.0 GPa or more and 2.4 GPa or less.

예를 들어, 상기 그라파이트 시트의 강도가 63.1 MPa 이상 84 MPa 이하, 63.2 MPa 이상 83 MPa 이하, 63.3 MPa 이상 82 MPa 이하, 63.4 MPa 이상 81.5 MPa 이하, 63.5 MPa 이상 1.2 MPa 이하, 63 MPa 이상 65 MPa 미만, 65 MPa 이상 70 MPa 미만, 70 MPa 이상 75 MPa 미만, 75 MPa 이상 80 MPa 미만, 80 MPa 이상 85 MPa 이하일 수 있다.For example, the strength of the graphite sheet may be 63.1 MPa or more and 84 MPa or less, 63.2 MPa or more and 83 MPa or less, 63.3 MPa or more and 82 MPa or less, 63.4 MPa or more and 81.5 MPa or less, 63.5 MPa or more and 1.2 MPa or less, 63 MPa or more and less than 65 MPa, 65 MPa or more and less than 70 MPa, 70 MPa or more and less than 75 MPa, 75 MPa or more and less than 80 MPa, or 80 MPa or more and 85 MPa or less.

그리고, 예를 들어 상기 그라파이트 시트의 탄성률은 1.1 GPa 이상, 2.3 GPa 이하, 1.2 GPa 이하 2.2 GPa 이하, 1.25 GPa 이상 2.15 GPa 이하, 1.3 GPa 이상 2.1 GPa 이하, 1.0 GPa 이상 1.5 GPa 미만, 1.5 GPa 이상 2.0 GPa 미만, 2.0 GPa 이상 2.4 GPa 이하일 수 있다. And, for example, the elastic modulus of the graphite sheet may be 1.1 GPa or more and 2.3 GPa or less, 1.2 GPa or less and 2.2 GPa or less, 1.25 GPa or more and 2.15 GPa or less, 1.3 GPa or more and 2.1 GPa or less, 1.0 GPa or more and less than 1.5 GPa, 1.5 GPa or more and less than 2.0 GPa, or 2.0 GPa or more and 2.4 GPa or less.

한편, 상기 그라파이트 시트의 발포두께 및 압연두께는 각각 60~130 ㎛ 및 22~28 ㎛ 일 수 있고, 열확산계수 및 열전도도는 각각 550~620 mm2/s 및 850~990 W/(m*K)일 수 있다.Meanwhile, the foaming thickness and rolling thickness of the graphite sheet may be 60 to 130 ㎛ and 22 to 28 ㎛, respectively, and the thermal diffusivity and thermal conductivity may be 550 to 620 mm 2 /s and 850 to 990 W/(m*K), respectively.

또한, 상기 그라파이트 시트의 밀도는 1.85~1.89 g/cm3 일 수 있다.Additionally, the density of the graphite sheet may be 1.85 to 1.89 g/cm 3 .

이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며, 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, these are presented as preferred examples of the present invention, and the present invention cannot be construed as being limited by these in any way.

제조예 1 (폴리이미드 필름의 제조)Manufacturing Example 1 (Manufacture of polyimide film)

반응기에 용매로서 디메틸포름아미드 250.0g을 투입하고 온도를 20℃로 맞췄다. 여기에 디아민 단량체로서 4,4'-옥시디아닐린(ODA) 30.0g을 첨가하고, 이어서 이무수물 단량체로서 피로멜리트산 이무수물(PMDA) 30.0g을 첨가하여 점도가 230,000cP인 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 250.0 g of dimethylformamide was added as a solvent to the reactor and the temperature was adjusted to 20°C. 30.0 g of 4,4'-oxydianiline (ODA) as a diamine monomer was added, and then 30.0 g of pyromellitic dianhydride (PMDA) as a dianhydride monomer was added to produce a polyamic acid solution having a viscosity of 230,000 cP.

이어서, 제조된 폴리아믹산 용액에 탈수제로서 아세트산 무수물 80.0g, 이미드화 촉매로서 β-피콜린 10.0g, 승화성 무기 충전제로서 제2인산칼슘(아지노모토社, Top flow-K, 평균입경(D50): 2.5㎛) 0.12g 및 디메틸포름아미드 50.0g을 혼합하였다.Next, 80.0 g of acetic anhydride as a dehydrating agent, 10.0 g of β-picoline as an imidization catalyst, 0.12 g of dibasic calcium phosphate (Ajinomoto Co., Ltd., Top flow-K, average particle size ( D50 ): 2.5 μm) as a sublimable inorganic filler, and 50.0 g of dimethylformamide were mixed into the prepared polyamic acid solution.

또한, 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 적정량의 인계 화합물을 첨가하여 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 폴리이미드 필름 전구체 용액을 제조하였다.In addition, polyimide film precursor solutions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 were prepared by adding an appropriate amount of a phosphorus compound as shown in Table 1 below.

준비된 폴리이미드 필름 전구체 용액을 SUS plate(100SA, Sandvik)에 닥터 블레이드를 사용하여 38 ㎛로 캐스팅하고 100 ℃내지 200 ℃의 온도 범위에서 건조시켜 자기 지지성을 갖는 겔 필름을 제조하였다. The prepared polyimide film precursor solution was cast to 38 μm on a SUS plate (100SA, Sandvik) using a doctor blade and dried at a temperature range of 100°C to 200°C to produce a self-supporting gel film.

이어서, 겔 필름을 SUS Plate에서 박리하여 핀 프레임에 고정시켜 고온 텐터로 이송하였다. 필름을 고온 텐터에서 200 ℃부터 700 ℃까지 가열한 후 25 ℃에서 냉각시킨 후 핀 프레임에서 분리하여 폴리이미드 필름을 수득하였다.Next, the gel film was peeled off from the SUS plate, fixed to a pin frame, and transferred to a high-temperature tenter. The film was heated from 200°C to 700°C in the high-temperature tenter, cooled to 25°C, and then separated from the pin frame to obtain a polyimide film.

제조예 2(그라파이트 시트의 제조)Manufacturing Example 2 (Manufacturing of graphite sheet)

제조예 1에 의해서 제조된 폴리이미드 필름을 탄화가 가능한 전기로를 사용하여 질소 기체 하에서 3.3 ℃/min의 속도로 1,210℃까지 승온하였고, 1,210℃에서 약 2 시간 유지시켰다(탄화). The polyimide film manufactured by Manufacturing Example 1 was heated to 1,210°C at a rate of 3.3°C/min under nitrogen gas using an electric furnace capable of carbonization, and maintained at 1,210°C for about 2 hours (carbonization).

이어서, 흑연화가 가능한 전기로를 사용하여 아르곤 기체 하에서 2.5 ℃/min의 승온 속도로 1,210 ℃에서 2,200 ℃까지 승온하여 제1 소성 단계를 수행하였다. Next, the first calcination step was performed by heating from 1,210 ℃ to 2,200 ℃ at a heating rate of 2.5 ℃/min under argon gas using an electric furnace capable of graphitization.

2,200 ℃에 도달 후, 승온 속도를 1.25 ℃/min의 승온 속도로 변경하여 2,500 ℃까지 연속적으로 승온하여 제2 소성 단계를 수행하였다.After reaching 2,200 ℃, the heating rate was changed to 1.25 ℃/min and the temperature was continuously increased to 2,500 ℃ to perform the second firing step.

2,500 ℃에 도달 후, 승온 속도를 10 ℃/min의 승온 속도로 변경하여 2,650 ℃까지 연속적으로 승온하여 제3 소성 단계를 수행하였으며, 2,650 ℃에서 수분간 정치한 후, 흑연화를 완료하여 그라파이트 시트를 제조하였다. After reaching 2,500 ℃, the heating rate was changed to 10 ℃/min and the temperature was continuously increased to 2,650 ℃ to perform the third firing step, and after standing still at 2,650 ℃ for several minutes, graphitization was completed to manufacture a graphite sheet.

마지막으로, 10 ℃/min의 속도로 그라파이트 시트를 냉각시켰다.Finally, the graphite sheet was cooled at a rate of 10 ℃/min.

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 인 화합물 함량은 하기 표 1과 같다.The contents of the compounds of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 are as shown in Table 1 below.

인 화합물Phosphorus compound 종류type 함량
(이미드화 촉매 100 중량부 기준)
Content
(Based on 100 parts by weight of imidization catalyst)
실시예 1Example 1 TEPTEP 33 실시예 2Example 2 TEPTEP 3.53.5 실시예 3Example 3 TEPTEP 44 실시예 4Example 4 TEPTEP 66 비교예 1Comparative Example 1 -- -- 비교예 2Comparative Example 2 TEPTEP 99 비교예 3Comparative Example 3 BDPBDP 44 비교예 4Comparative Example 4 BDPBDP 66 비교예 5Comparative Example 5 CDPCDP 44 비교예 6Comparative Example 6 CDPCDP 66 비교예 7Comparative Example 7 TCPTCP 44 비교예 8Comparative Example 8 TCPTCP 66

상기 표 1에서 TEP는 인산트리에틸(Triethyl phosphate)이고, BDP는 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트(Bisphenol A bis(diphenyl phosphate)이고, CDP는 크레실 다이페닐 포스페이트(Cresyl diphenyl phosphate)이며, TCP는 트리크레실 포스페이트(Tricresyl phosphate)이다.In the above Table 1, TEP is triethyl phosphate, BDP is bisphenol A bis(diphenyl phosphate), CDP is cresyl diphenyl phosphate, and TCP is tricresyl phosphate.

실시예 1Example 1

제조예 1에 의해서, 인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 3 중량부 첨가하여 폴리이미드 필름을 제조하였다. 이후 제조예 2에 의해서 그라파이트 시트를 제조하였다.According to Manufacturing Example 1, a polyimide film was manufactured by adding 3 parts by weight of triethyl phosphate (TEP) based on 100 parts by weight of the total content of the imidization catalyst included in the entire polyimide film. Thereafter, a graphite sheet was manufactured according to Manufacturing Example 2.

실시예 2Example 2

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 3.5 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 3.5 parts by weight of triethyl phosphate (TEP) was added based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

실시예 3Example 3

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 4 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 4 parts by weight of triethyl phosphate (TEP) was added based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

실시예 4Example 4

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 6 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 6 parts by weight of triethyl phosphate (TEP) was added based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

비교예 1Comparative Example 1

인계 화합물을 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.Polyimide films and graphite sheets were manufactured in the same manner as in Example 1, except that no phosphorus compound was added.

비교예 2Comparative Example 2

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 9 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 9 parts by weight of triethyl phosphate (TEP) was added based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

비교예 3Comparative Example 3

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP) 대신 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트(Bisphenol A bis(diphenyl phosphate, BDP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 4 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 4 parts by weight of bisphenol A bis(diphenyl phosphate, BDP) was added instead of triethyl phosphate (TEP) based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content contained in the entire polyimide film.

비교예 4Comparative Example 4

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP) 대신 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트(Bisphenol A bis(diphenyl phosphate, BDP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 6 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 6 parts by weight of bisphenol A bis(diphenyl phosphate, BDP) was added instead of triethyl phosphate (TEP), based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content contained in the entire polyimide film.

비교예 5Comparative Example 5

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP) 대신 크레실 다이페닐 포스페이트(Cresyl diphenyl phosphate, CDP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 4 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 4 parts by weight of cresyl diphenyl phosphate (CDP) was added instead of triethyl phosphate (TEP) based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

비교예 6Comparative Example 6

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP) 대신 크레실 다이페닐 포스페이트(Cresyl diphenyl phosphate, CDP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 6 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 6 parts by weight of cresyl diphenyl phosphate (CDP) was added instead of triethyl phosphate (TEP) based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

비교예 7Comparative Example 7

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP) 대신 트리크레실 포스페이트(Tricresyl phosphate, TCP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 4 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and a graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 4 parts by weight of tricresyl phosphate (TCP) was added instead of triethyl phosphate (TEP) based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

비교예 8Comparative Example 8

인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP) 대신 트리크레실 포스페이트(Tricresyl phosphate, TCP)를 전체 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로 6 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 폴리이미드 필름 및 그라파이트 시트를 제조하였다.A polyimide film and graphite sheet were manufactured in the same manner as in Example 1, except that 6 parts by weight of tricresyl phosphate (TCP) was added instead of triethyl phosphate (TEP) based on 100 parts by weight of the total imidization catalyst content included in the entire polyimide film.

TEP를 과량 사용한 비교예 2 및 TCP를 과량 사용한 비교예 8의 경우, 겔필름에 심한 수축이 발생하여 제막이 되지 않아서 폴리이미드 필름을 제조할 수 없었고, 강도, 탄성률, 신도, L*a*b* 값, 투과율 및 헤이즈를 측정할 수 없었다.In the case of Comparative Example 2 where TEP was used in excess and Comparative Example 8 where TCP was used in excess, severe shrinkage occurred in the gel film and the film could not be formed, so that the polyimide film could not be manufactured, and the strength, elastic modulus, elongation, L*a*b* value, transmittance, and haze could not be measured.

평가예 1 : 폴리이미드 필름의 강도, 탄성률 및 신도 측정Evaluation Example 1: Measurement of strength, elastic modulus, and elongation of polyimide film

제조예 1에 따라 제조된 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 폴리이미드 필름의 강도, 탄성률 및 신도를 측정하였다.The strength, elastic modulus, and elongation of the polyimide films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured according to Manufacturing Example 1 were measured.

강도와 신도는 Autograph Universal Testing Machines(SHIMADZU, AG-IS)를 사용하여 ASTM D882에 준하는 방법으로 측정되었다. 또한, Instron 5564 모델을 이용하여, ASTM D882 방법으로 탄성률을 측정하였다. Strength and elongation were measured using Autograph Universal Testing Machines (SHIMADZU, AG-IS) according to ASTM D882. In addition, elastic modulus was measured using Instron 5564 model according to ASTM D882 method.

또한 강도, 탄성률 및 신도는 기계 방향(Machine direction, MD) 및 폭 방향(Transverse direction, TD) 모두 측정하였다.Additionally, strength, elastic modulus, and elongation were measured in both the machine direction (MD) and transverse direction (TD).

평가예 1에 의한 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 1 are shown in Table 2 below.

폴리이미드 필름
(제조예 1)
polyimide film
(Manufacturing Example 1)
강도(MPa)Strength (MPa) 탄성률(GPa)Elastic modulus (GPa) 신도(%)Believers (%)
MDMD TDTD MDMD TDTD MDMD TDTD 실시예 1Example 1 274.5274.5 281.9281.9 2.32.3 2.12.1 134.3134.3 135.9135.9 실시예 2Example 2 286.6286.6 294.1294.1 2.22.2 2.02.0 134.9134.9 137.1137.1 실시예 3Example 3 291.6291.6 295.4295.4 2.22.2 2.12.1 133.9133.9 133.3133.3 실시예 4Example 4 293.6293.6 306.8306.8 2.22.2 2.12.1 130.0130.0 132.1132.1 비교예 1Comparative Example 1 216.3216.3 214.6214.6 2.72.7 2.62.6 131.6131.6 129.1129.1 비교예 2Comparative Example 2 -- -- -- -- -- -- 비교예 3Comparative Example 3 264.7264.7 254.6254.6 2.82.8 2.62.6 138.6138.6 134.7134.7 비교예 4Comparative Example 4 247.7247.7 248.3248.3 3.13.1 2.92.9 126.4126.4 133.7133.7 비교예 5Comparative Example 5 229.4229.4 236.1236.1 2.82.8 2.82.8 133.1133.1 131.0131.0 비교예 6Comparative Example 6 231.2231.2 234.6234.6 2.92.9 2.82.8 137.3137.3 137.2137.2 비교예 7Comparative Example 7 222.6222.6 224.0224.0 2.82.8 2.72.7 134.1134.1 131.2131.2 비교예 8Comparative Example 8 -- -- -- -- -- --

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 강도가 기계 방향의 경우 및 폭 방향의 경우 모두 증가하였다.Compared to the polyimide film of Comparative Example 1 that did not include a phosphorus compound, the strength of the polyimide films of Examples 1 to 4 that included the phosphorus compound triethyl phosphate increased in both the machine direction and the width direction.

또한, 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 폴리이미드 필름에 비하여 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 강도가 모두 증가하였다.In addition, the strength of the polyimide films of Examples 1 to 4 containing triethyl phosphate all increased compared to the polyimide films of Comparative Examples 3 to 7 containing bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 강도의 범위는 기계 방향의 경우에는 216 MPa 이상 292 MPa 이하, 폭 방향의 경우에는 214 MPa 이상 307 MPa 이하로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the strength range was measured to be 216 MPa or more and 292 MPa or less in the machine direction and 214 MPa or more and 307 MPa or less in the width direction.

신도의 경우, 인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름에 비해서 인계 화합물인 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 신도가 유사하거나 더 높았다. In the case of the elongation, the elongation of the polyimide films of Examples 1 to 4 containing the phosphorus compound triethyl phosphate was similar to or higher than that of the polyimide film of Comparative Example 1 which did not contain the phosphorus compound.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 신도의 범위는 길이 방향의 경우엔 130 % 이상 135 % 이하, 폭 방향의 경우엔 129 % 이상 138 % 이하로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the range of the ductility was measured to be 130% or more and 135% or less in the length direction, and 129% or more and 138% or less in the width direction.

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 탄성률은 기계 방향의 경우 및 폭 방향의 경우에 모두 감소하였다.Compared to the polyimide film of Comparative Example 1 that did not include a phosphorus compound, the elastic modulus of the polyimide films of Examples 1 to 4 that included the phosphorus compound triethyl phosphate decreased in both the machine direction and the width direction.

또한, 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 폴리이미드 필름에 비하여 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 탄성율은 모두 감소하였다. In addition, the elastic modulus of the polyimide films of Examples 1 to 4 containing triethyl phosphate all decreased compared to the polyimide films of Comparative Examples 3 to 7 containing bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 탄성률의 범위는 기계 방향의 경우에는 2.2 GPa 이상 2.3 GPa 이하, 폭 방향의 경우에는 2.0 GPa 이상 2.1 GPa 이하로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the elastic modulus was measured to be in the range of 2.2 GPa or more and 2.3 GPa or less in the machine direction and in the range of 2.0 GPa or more and 2.1 GPa or less in the width direction.

평가예 2 : 폴리이미드 필름의 color L*a*b* 측정Evaluation Example 2: Color L*a*b* measurement of polyimide film

제조예 1에 따라 제조된 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 폴리이미드 필름의 color L*a*b* 값을 실온에서 색차계(Ultra scan pro, Hunter Lab社)를 사용하여 측정하였다.The color L*a*b* values of the polyimide films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured according to Manufacturing Example 1 were measured at room temperature using a colorimeter (Ultra scan pro, Hunter Lab Co., Ltd.).

평가예 2에 의한 측정 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 2 are shown in Table 3 below.

폴리이미드 필름
(제조예 1)
polyimide film
(Manufacturing Example 1)
ColorColor
L*L* a*a* b*b* 실시예 1Example 1 61.261.2 13.113.1 89.389.3 실시예 2Example 2 59.559.5 14.414.4 88.688.6 실시예 3Example 3 58.358.3 15.515.5 88.088.0 실시예 4Example 4 57.157.1 16.116.1 87.587.5 비교예 1Comparative Example 1 81.381.3 1.71.7 101.1101.1 비교예 2Comparative Example 2 -- -- -- 비교예 3Comparative Example 3 71.571.5 12.012.0 101.1101.1 비교예 4Comparative Example 4 75.375.3 12.012.0 106.7106.7 비교예 5Comparative Example 5 78.978.9 7.77.7 105.4105.4 비교예 6Comparative Example 6 78.078.0 10.510.5 107.5107.5 비교예 7Comparative Example 7 78.478.4 8.58.5 105.5105.5 비교예 8Comparative Example 8 -- -- --

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 폴리이미드 필름에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 L*값이 감소하였는바, 보다 어두운 색을 띄게 되었다. Compared to the polyimide film of Comparative Example 1 that does not include a phosphorus compound and the polyimide films of Comparative Examples 3 to 7 that include bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the L* value of the polyimide films of Examples 1 to 4 that include the phosphorus compound triethyl phosphate decreased, and thus the color became darker.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, L*값의 범위는 57 이상 62 이하로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the range of L* values was measured to be 57 or more and 62 or less.

평가예 3 : 폴리이미드 필름의 투과율 및 헤이즈(Haze) 측정Evaluation Example 3: Measurement of Transmittance and Haze of Polyimide Film

제조예 1에 따라 제조된 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1 내지 8의 폴리이미드 필름의 투과율 및 헤이즈를 측정하였다.The transmittance and haze of the polyimide films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured according to Manufacturing Example 1 were measured.

투과율 및 헤이즈 값은 ASTM D1003 기준에 근거하여 색차계(UltraScan Pro, HunterLab社)를 사용하여 A광원 상에서 측정하였다.Transmittance and haze values were measured under light source A using a colorimeter (UltraScan Pro, HunterLab) based on the ASTM D1003 standard.

평가예 3에 의한 측정 결과를 하기 표 4에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 3 are shown in Table 4 below.

폴리이미드 필름
(제조예 1)
polyimide film
(Manufacturing Example 1)
투과율(%)Transmittance (%) 헤이즈(%)Haze(%)
실시예 1Example 1 30.930.9 6.66.6 실시예 2Example 2 28.328.3 10.310.3 실시예 3Example 3 28.028.0 10.210.2 실시예 4Example 4 27.427.4 11.111.1 비교예 1Comparative Example 1 63.163.1 9.09.0 비교예 2Comparative Example 2 -- -- 비교예 3Comparative Example 3 44.844.8 9.89.8 비교예 4Comparative Example 4 51.651.6 8.48.4 비교예 5Comparative Example 5 58.258.2 9.19.1 비교예 6Comparative Example 6 56.456.4 8.98.9 비교예 7Comparative Example 7 57.457.4 9.69.6 비교예 8Comparative Example 8 -- --

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 폴리이미드 필름에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 투과율이 모두 감소하였다.Compared to the polyimide film of Comparative Example 1 not including a phosphorus compound and the polyimide films of Comparative Examples 3 to 7 including bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the transmittance of the polyimide films of Examples 1 to 4 including the phosphorus compound triethyl phosphate all decreased.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 투과율의 범위는 27 % 이상 31 % 이하로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the range of transmittance was measured to be 27% or more and 31% or less.

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 폴리이미드 필름에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 헤이즈가 증가하는 경향을 나타내었다.Compared to the polyimide film of Comparative Example 1 not including a phosphorus compound and the polyimide films of Comparative Examples 3 to 7 including bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the haze of the polyimide films of Examples 1 to 4 including the phosphorus compound triethyl phosphate tended to increase.

인산트리에틸을 3 중량% 포함하는 실시예 1의 경우에는 비교예 3내지 7에 비하여 헤이즈가 감소하였으나, 인산트리에틸을 각각 3.5, 4, 6 중량% 포함하는 실시예 2 내지 4의 경우에는 비교예 3 내지 7에 비하여 헤이즈가 증가하였다.In the case of Example 1 containing 3 wt% of triethyl phosphate, the haze decreased compared to Comparative Examples 3 to 7, but in the case of Examples 2 to 4 containing 3.5, 4, and 6 wt% of triethyl phosphate, respectively, the haze increased compared to Comparative Examples 3 to 7.

평가예 4 : 폴리이미드 필름의 응력-변형률 곡선 기울기 비교Evaluation Example 4: Comparison of the slope of stress-strain curves of polyimide films

제조예 1에 따라 제조된 실시예 4 및 비교예 1의 폴리이미드 필름의 영률 및 인장변형률을 측정하였다. 또한 응력 및 변형률을 측정하여 두 값을 비교한 그래프(응력-변형률 곡선)를 그리고, 변형률이 0.2 mm/mm 이상일 때부터 0.8 mm/mm 이하일 때의 그래프 기울기를 계산하여 비교하였다.The Young's modulus and tensile strain of the polyimide films of Example 4 and Comparative Example 1 manufactured according to Manufacturing Example 1 were measured. In addition, the stress and strain were measured, and a graph (stress-strain curve) comparing the two values was drawn, and the slope of the graph when the strain was 0.2 mm/mm or more and 0.8 mm/mm or less was calculated and compared.

영률은 3회 측정한 결과의 평균값을 비교하여 볼 때, 비교예 1의 경우 2.6 GPa이고 실시예 4의 경우 2.2 GPa로 측정되었다. 즉, 인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름에 비하여 인산트리에틸을 6 중량% 포함하는 실시예 4의 폴리이미드 필름의 경우에 영률이 감소하였다.When comparing the average values of the results measured three times, the Young's modulus was measured as 2.6 GPa for Comparative Example 1 and 2.2 GPa for Example 4. That is, the Young's modulus decreased in the case of the polyimide film of Example 4 containing 6 wt% of triethyl phosphate compared to the polyimide film of Comparative Example 1 not containing a phosphorus compound.

또한 인장변형률은 6회 측정한 결과의 평균값을 비교하여 볼 때, 비교예 1의 경우 121.5 %이고 실시예 4의 경우 107.5 %로 측정되었다. 즉, 인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름에 비하여 인산트리에틸을 6 중량% 포함하는 실시예 4의 폴리이미드 필름의 경우에 인장변형률이 감소하였다.In addition, when comparing the average values of the results of six measurements, the tensile strain was measured as 121.5% for Comparative Example 1 and 107.5% for Example 4. That is, the tensile strain decreased in the case of the polyimide film of Example 4 containing 6 wt% of triethyl phosphate compared to the polyimide film of Comparative Example 1 not containing a phosphorus compound.

도 1에 나타낸 바와 같이 응력-변형률 곡선 그래프에 있어서, 변형률이 0.2 mm 이상일 때부터 0.8 mm 이하일 때의 그래프 기울기를 계산한 결과, 비교예 1의 그래프 기울기는 44.39이고 실시예 4의 그래프 기울기는 81.25로 증가하였다. 즉, 인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 폴리이미드 필름에 비하여 인산트리에틸을 6 중량% 포함하는 실시예 3의 폴리이미드 필름의 경우에 항복점 이후의 응력이 증가하였다.As shown in Fig. 1, in the stress-strain curve graph, when the slope of the graph was calculated from when the strain was 0.2 mm or more to 0.8 mm or less, the slope of the graph of Comparative Example 1 was 44.39, and the slope of the graph of Example 4 increased to 81.25. That is, the stress after the yield point increased in the case of the polyimide film of Example 3 containing 6 wt% of triethyl phosphate compared to the polyimide film of Comparative Example 1 not containing a phosphorus compound.

평가예 5 : 폴리이미드 필름의 열분해 특성 측정Evaluation Example 5: Measurement of thermal decomposition characteristics of polyimide film

제조예 1에 따라 제조된 실시예 3 및 비교예 1,3,5 및 7의 폴리이미드 필름의 열분해 특성을 측정하였다.The thermal decomposition characteristics of the polyimide films of Example 3 and Comparative Examples 1, 3, 5, and 7 manufactured according to Manufacturing Example 1 were measured.

열분해 특성은 Thermogravimetric Analysis (TA Instruments, TGA5500)을 사용하여 10℃/분의 속도로 625℃까지 승온하여 측정되었다.Thermal decomposition characteristics were measured using Thermogravimetric Analysis (TA Instruments, TGA5500) at a heating rate of 10°C/min up to 625°C.

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3,5 및 7의 폴리이미드 필름에 비하여 인산트리에틸을 포함하는 실시예 3의 폴리이미드 필름은 625℃에서의 열분해 시 잔여량이 모두 증가하였다.Compared to the polyimide films of Comparative Example 1 not including a phosphorus compound and Comparative Examples 3, 5 and 7 including bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the polyimide film of Example 3 including triethyl phosphate all showed an increase in the residual amount upon thermal decomposition at 625°C.

실시예 3의 경우, 625℃에서의 열분해 시 잔여량이 83 중량%로 측정되었다. 625℃에서의 열분해 시 잔여량이 비교예 1의 경우에는 74 중량%, 비교예 3의 경우에는 77 중량%, 비교예 5의 경우에는 80 중량%, 비교예 7의 경우에는 81 중량%로 측정되었는 바, 열분해시 잔여량은 실시예 3의 경우가 비교예 1,3,5 및 7의 경우보다 더 크게 측정되었다.In the case of Example 3, the residual amount upon thermal decomposition at 625°C was measured to be 83 wt%. The residual amount upon thermal decomposition at 625°C was measured to be 74 wt% for Comparative Example 1, 77 wt% for Comparative Example 3, 80 wt% for Comparative Example 5, and 81 wt% for Comparative Example 7, indicating that the residual amount upon thermal decomposition was measured to be greater in the case of Example 3 than in the cases of Comparative Examples 1, 3, 5, and 7.

즉, 인산트리에틸이 포함된 폴리이미드 필름이 잔여량이 높아 난연제로서의 효과가 우수한 것으로 측정되었다.That is, it was measured that the polyimide film containing triethyl phosphate had a high residual amount and thus was excellent in its effect as a flame retardant.

평가예 6 : 그라파이트 시트의 강도 및 탄성률 측정Evaluation Example 6: Measurement of strength and elastic modulus of graphite sheet

제조예 2에 따라 제조된 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 그라파이트 시트의 강도 및 탄성률을 측정하였다.The strength and elastic modulus of the graphite sheets of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured according to Manufacturing Example 2 were measured.

강도는 Autograph Universal Testing Machines(SHIMADZU, AG-IS)를 사용하여 ASTM D882에 준하는 방법으로 측정되었다. 또한, Instron 5564 모델을 이용하여, ASTM D882 방법으로 탄성률을 측정하였다. Strength was measured using Autograph Universal Testing Machines (SHIMADZU, AG-IS) according to ASTM D882. In addition, elastic modulus was measured using Instron 5564 model according to ASTM D882 method.

또한 강도 및 탄성률은 기계 방향(Machine direction, MD)으로 측정하였다.Additionally, strength and elastic modulus were measured in the machine direction (MD).

평가예 6에 의한 측정 결과를 하기 표 5에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 6 are shown in Table 5 below.

그라파이트 시트
(제조예 2)
Graphite Sheet
(Manufacturing example 2)
강도(MPa, MD)Strength (MPa, MD) 탄성률(GPa, MD)Elastic modulus (GPa, MD)
실시예 1Example 1 63.563.5 2.12.1 실시예 2Example 2 81.281.2 2.02.0 실시예 3Example 3 76.376.3 1.61.6 실시예 4Example 4 67.467.4 1.31.3 비교예 1Comparative Example 1 56.356.3 5.35.3 비교예 2Comparative Example 2 -- -- 비교예 3Comparative Example 3 62.862.8 2.02.0 비교예 4Comparative Example 4 50.150.1 1.31.3 비교예 5Comparative Example 5 58.358.3 2.52.5 비교예 6Comparative Example 6 63.163.1 2.82.8 비교예 7Comparative Example 7 62.862.8 2.72.7 비교예 8Comparative Example 8 -- --

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 그라파이트 시트 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 그라파이트 시트에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 그라파이트 시트의 강도가 향상되었고 탄성률이 감소하였다.Compared to the graphite sheet of Comparative Example 1 not including a phosphorus compound and the graphite sheets of Comparative Examples 3 to 7 including bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the strength of the graphite sheets of Examples 1 to 4 including the phosphorus compound triethyl phosphate was improved and the elastic modulus was decreased.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 강도의 범위는 63.5 MPa ~ 81.2 MPa 로 측정되었고, 탄성률의 범위는 1.3 GPa ~ 2.1 GPa 로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the strength range was measured as 63.5 MPa to 81.2 MPa, and the elastic modulus range was measured as 1.3 GPa to 2.1 GPa.

즉, 실시예 1 내지 4는 비교예 1 내지 7에 비하여 강도와 유연성이 향상되었음을 확인할 수 있었다.That is, it was confirmed that Examples 1 to 4 had improved strength and flexibility compared to Comparative Examples 1 to 7.

평가예 7 : 그라파이트 시트의 신도 측정Evaluation Example 7: Measurement of elongation of graphite sheet

제조예 2에 따라 제조된 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 그라파이트 시트의 신도를 측정하였다.The elongation of the graphite sheets of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured according to Manufacturing Example 2 was measured.

신도는 Autograph Universal Testing Machines(SHIMADZU, AG-IS)를 사용하여 ASTM D882에 준하는 방법으로 측정되었고, 기계 방향(Machine direction, MD)으로 측정하였다. The test specimens were measured in the machine direction (MD) using Autograph Universal Testing Machines (SHIMADZU, AG-IS) according to ASTM D882.

평가예 7에 의한 측정 결과를 하기 표 6에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 7 are shown in Table 6 below.

그라파이트 시트
(제조예 2)
Graphite Sheet
(Manufacturing example 2)
신도(%, MD)Believers (%, MD)
실시예 1Example 1 5.85.8 실시예 2Example 2 7.57.5 실시예 3Example 3 7.67.6 실시예 4Example 4 7.47.4 비교예 1Comparative Example 1 1.51.5 비교예 2Comparative Example 2 -- 비교예 3Comparative Example 3 5.45.4 비교예 4Comparative Example 4 5.45.4 비교예 5Comparative Example 5 4.34.3 비교예 6Comparative Example 6 4.84.8 비교예 7Comparative Example 7 4.64.6 비교예 8Comparative Example 8 --

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 그라파이트 시트 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 그라파이트 시트에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 그라파이트 시트의 신도가 증가하였다. Compared to the graphite sheet of Comparative Example 1 which did not include a phosphorus compound and the graphite sheets of Comparative Examples 3 to 7 which included bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the elongation of the graphite sheets of Examples 1 to 4 which included the phosphorus compound triethyl phosphate increased.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 신도의 범위는 5.5% 이상 8% 이하로 측정되었다.Specifically, for Examples 1 to 4, the range of the degree of faith was measured to be 5.5% or more and 8% or less.

평가예 8 : 그라파이트 시트의 발포두께 및 압연두께 측정Evaluation Example 8: Measurement of foam thickness and rolling thickness of graphite sheet

제조예 2에 따라 제조된 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 8의 그라파이트 시트의 발포두께 및 압연두께를 측정하였다.The foaming thickness and rolling thickness of the graphite sheets of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured according to Manufacturing Example 2 were measured.

발포두께 및 압연두께는 Digital Micrometer(Standard-type, Mitutoyo)에 의해서 측정되었다.The foam thickness and rolling thickness were measured by a Digital Micrometer (Standard-type, Mitutoyo).

평가예 8에 의한 측정 결과를 하기 표 7에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 8 are shown in Table 7 below.

그라파이트 시트
(제조예 2)
Graphite Sheet
(Manufacturing example 2)
발포두께(㎛)Foam thickness (㎛) 압연두께(㎛)Rolling thickness (㎛)
실시예 1Example 1 6565 2222 실시예 2Example 2 8585 2525 실시예 3Example 3 9696 2323 실시예 4Example 4 122122 2323 비교예 1Comparative Example 1 3838 1818 비교예 2Comparative Example 2 -- -- 비교예 3Comparative Example 3 6767 2121 비교예 4Comparative Example 4 7676 2222 비교예 5Comparative Example 5 5757 2020 비교예 6Comparative Example 6 5858 2121 비교예 7Comparative Example 7 5858 2222 비교예 8Comparative Example 8 -- --

인계 화합물을 포함하지 않는 비교예 1의 그라파이트 시트 및 비스페놀에이 비스다이페닐 포스페이트, 크레실 다이페닐 포스페이트 또는 트리크레실 포스페이트를 포함하는 비교예 3 내지 7의 그라파이트 시트에 비하여, 인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 그라파이트 시트의 발포두께가 증가하였다. Compared to the graphite sheet of Comparative Example 1 not including a phosphorus compound and the graphite sheets of Comparative Examples 3 to 7 including bisphenol A bisdiphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate or tricresyl phosphate, the foaming thickness of the graphite sheets of Examples 1 to 4 including the phosphorus compound triethyl phosphate increased.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 경우, 발포두께는 65 ㎛ 이상 122 ㎛ 이하로 측정되었고, 압연두께는 22 ㎛ 이상 25 ㎛ 이하로 측정되었다.Specifically, in the cases of Examples 1 to 4, the foaming thickness was measured to be 65 ㎛ or more and 122 ㎛ or less, and the rolling thickness was measured to be 22 ㎛ or more and 25 ㎛ or less.

실시예 1 내지 4의 경우 TEP의 적용으로 인해 비교예 1 내지 7의 그라파이트 시트에 비하여 발포 현상이 원활하게 이루어짐에 따라 그라파이트 시트의 수득이 유리하다. 또한 발포에 따라 형성된 공극은 그라파이트 시트의 유연성에도 유리하다. 이와 같은 발포두께에도 불구하고 실시예 1 내지 4의 경우, 비교예 1 내지 7의 경우에 비해 압연두께에 큰 차이가 나지 않는다. 즉, 원활한 발포 현상을 통해 유연성과 얇은 압연두께 모두 달성한 것을 확인할 수 있었다.In the case of Examples 1 to 4, since the foaming phenomenon is more smoothly achieved than in the graphite sheets of Comparative Examples 1 to 7 due to the application of TEP, the obtaining of the graphite sheet is advantageous. In addition, the pores formed by the foaming are also advantageous for the flexibility of the graphite sheet. Despite such a foaming thickness, in the case of Examples 1 to 4, there is no significant difference in the rolling thickness compared to the case of Comparative Examples 1 to 7. That is, it was confirmed that both flexibility and a thin rolling thickness were achieved through a smooth foaming phenomenon.

평가예 9 : 그라파이트 시트의 밀도, 열확산계수 및 열전도도 측정Evaluation Example 9: Measurement of density, thermal diffusivity and thermal conductivity of graphite sheets

제조예 2에 따라 제조된 실시예 1 내지 4의 그라파이트 시트의 밀도, 열확산계수 및 열전도도를 측정하였다.The density, thermal diffusivity and thermal conductivity of the graphite sheets of Examples 1 to 4 manufactured according to Manufacturing Example 2 were measured.

밀도는 제조된 폴리이미드 필름을 15mm X 300mm(가로 X 세로)의 크기로 절단한 시편에 대하여, Pycnometer(AccuPyc 1340, Micromeritics)를 사용하여, 상온 조건에서 헬륨 기체를 사용하여 측정하였다.The density was measured using a Pycnometer (AccuPyc 1340, Micromeritics) at room temperature in helium gas on specimens cut into 15 mm X 300 mm (width X length) sizes from the manufactured polyimide film.

열확산계수는 그라파이트 시트를 직경 1인치, 두께 18㎛의 크기로 잘라 샘플을 준비하고, 측정장치(Netsch, LFA 467)를 사용하여 Laser Flash법으로 평면 방향 열확산계수를 측정하였다. The thermal diffusivity was measured by cutting a graphite sheet into a size of 1 inch in diameter and 18 ㎛ in thickness, preparing a sample, and measuring the thermal diffusivity in the plane direction by the Laser Flash method using a measuring device (Netsch, LFA 467).

이렇게 측정된 열확산계수 값(25℃의 온도에서 각각 5번씩 측정한 평균값)에 밀도(중량/부피) 및 비열(이론 값으로서 0.85kJ/(kg·K))을 곱하여 열전도도를 산출하였다. The thermal conductivity was calculated by multiplying the thermal diffusivity values measured in this way (average values measured five times each at a temperature of 25℃) by the density (weight/volume) and specific heat (theoretical value: 0.85 kJ/(kg K)).

평가예 9에 의한 측정 결과를 하기 표 8에 나타내었다.The measurement results according to Evaluation Example 9 are shown in Table 8 below.

그라파이트 시트
(제조예 2)
Graphite Sheet
(Manufacturing example 2)
열확산계수(mm2/s)Thermal diffusivity (mm 2 /s) 밀도(g/cm3)Density (g/cm 3 ) 열전도도(W/(m*K))Thermal Conductivity (W/(m*K))
실시예 1Example 1 618618 1.841.84 965965 실시예 2Example 2 582582 1.651.65 816816 실시예 3Example 3 554554 1.851.85 873873 실시예 4Example 4 554554 1.891.89 892892

인계 화합물 인산트리에틸을 포함하는 실시예 1 내지 4의 그라파이트 시트의 열확산계수는 554 mm2/s 이상 618 mm2/s 이하로 측정되었고, 열전도도는 816 W/(m*K) 이상 965 W/(m*K) 이하로 측정되었다.The thermal diffusivity of the graphite sheets of Examples 1 to 4 containing the phosphorus compound triethyl phosphate was measured to be 554 mm 2 /s or more and 618 mm 2 /s or less, and the thermal conductivity was measured to be 816 W/(m*K) or more and 965 W/(m*K) or less.

또한, 실시예 1 내지 4의 경우에 그라파이트 시트의 밀도는 1.65 g/cm3 이상 1.89g/cm3 이하로 측정되었다.Additionally, in the cases of Examples 1 to 4, the density of the graphite sheet was measured to be 1.65 g/cm 3 or more and 1.89 g/cm 3 or less.

본 발명의 제조방법의 실시예는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 당업자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하는 바람직한 실시 예일 뿐, 전술한 실시 예에 한정되는 것은 아니므로 이로 인해 본 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 당업자에게 있어 명백할 것이며, 당업자에 의해 용이하게 변경 가능한 부분도 본 발명의 권리범위에 포함됨은 자명하다.The embodiments of the manufacturing method of the present invention are only preferred embodiments that enable those skilled in the art with common knowledge in the technical field to which the present invention belongs to to easily carry out the present invention, and are not limited to the above-described embodiments, so that the scope of the rights of the present invention is not limited thereby. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended patent claims. In addition, it will be obvious to those skilled in the art that various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope that does not depart from the technical idea of the present invention, and it is self-evident that parts that can be easily changed by those skilled in the art are also included in the scope of the rights of the present invention.

Claims (11)

탄소수 1 이상 6 이하의 선형 또는 분지형 알킬기를 적어도 하나 이상 갖는 인계 화합물을 포함하는,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
Comprising a phosphorus compound having at least one linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
상기 인계 화합물은 인산트리에틸(Triethyl phosphate, TEP), 트리메틸포스페이트(Trimethyl phosphate, TMP), 트리뷰틸 포스페이트(Tributyl phosphate, TBP), 트리이소뷰틸 포스페이트 (Tri-iso-butyl phosphate, TiBP)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상인,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
In the first paragraph,
The above-mentioned phosphorus compound is at least one selected from the group consisting of triethyl phosphate (TEP), trimethyl phosphate (TMP), tributyl phosphate (TBP), and tri-iso-butyl phosphate (TiBP).
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름에 포함된 이미드화 촉매의 총 함량 100 중량부를 기준으로, 2 중량부 이상 8 중량부 이하의 상기 인계 화합물을 포함하는,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
In the first paragraph,
Based on 100 parts by weight of the total content of the imidization catalyst included in the polyimide film, the phosphorus compound is included in an amount of 2 parts by weight or more and 8 parts by weight or less.
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
기계 방향(Machine Direction, MD)의 강도가 265 MPa 이상 310 MPa 이하이고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 강도가 255 MPa 이상 320 MPa 이하인,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
In the first paragraph,
The strength in the machine direction (MD) is 265 MPa or more and 310 MPa or less, and the strength in the transverse direction (TD) is 255 MPa or more and 320 MPa or less.
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
기계 방향(Machine Direction, MD)의 신도가 128 % 이상 135 % 이하이고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 신도가 132 % 이상 138 % 이하인,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
In the first paragraph,
The elongation in the machine direction (MD) is 128% or more and 135% or less, and the elongation in the transverse direction (TD) is 132% or more and 138% or less.
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
기계 방향(Machine Direction, MD)의 탄성률이 1.8 GPa 이상 2.6 GPa 이하이고, 폭 방향(Transverse Direction, TD)의 탄성률이 1.5 GPa 이상 2.5 GPa 이하인,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
In the first paragraph,
The elastic modulus in the machine direction (MD) is 1.8 GPa or more and 2.6 GPa or less, and the elastic modulus in the transverse direction (TD) is 1.5 GPa or more and 2.5 GPa or less.
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
색차계로 측정한 L*값이 50 이상 70 이하인,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.
In the first paragraph,
The L* value measured by a colorimeter is 50 or more and 70 or less,
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.
제1항에 있어서,
변형률 0.2 mm/mm 이상 0.8mm/mm 이하 사이에서,
하기의 수학식 1에 의해서 계산된 응력-변형률 곡선의 기울기가 50 이상 100 이하인,
그라파이트 시트 제조용 폴리이미드 필름.

[수학식 1]
기울기 = (변형률 0.8 mm/mm 에서의 응력 - 변형률 0.2 mm/mm 에서의 응력) / (0.8-0.2)
In the first paragraph,
Between strains of 0.2 mm/mm and 0.8 mm/mm,
The slope of the stress-strain curve calculated by the following mathematical expression 1 is 50 or more and 100 or less.
Polyimide film for manufacturing graphite sheets.

[Mathematical formula 1]
Slope = (Stress at strain 0.8 mm/mm - Stress at strain 0.2 mm/mm) / (0.8-0.2)
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 폴리이미드 필름을 탄화, 흑연화 또는 탄화 및 흑연화 하여 제조된, 그라파이트 시트.
A graphite sheet manufactured by carbonizing, graphitizing, or carbonizing and graphitizing the polyimide film of any one of claims 1 to 8.
제9항에 있어서,
신도가 5.5 % 이상 10 % 이하인, 그라파이트 시트.
In Article 9,
Graphite sheet having a content of 5.5% or more and 10% or less.
제9항에 있어서,
강도가 63 MPa 이상 85 MPa 이하이고, 탄성률이 1.0 GPa 이상 2.4 GPa 이하인, 그라파이트 시트.
In Article 9,
A graphite sheet having a strength of 63 MPa or more and 85 MPa or less and an elastic modulus of 1.0 GPa or more and 2.4 GPa or less.
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