KR20240107646A - Gas grafting hydrophobization apparatus using non-contact heat source - Google Patents

Gas grafting hydrophobization apparatus using non-contact heat source Download PDF

Info

Publication number
KR20240107646A
KR20240107646A KR1020220190466A KR20220190466A KR20240107646A KR 20240107646 A KR20240107646 A KR 20240107646A KR 1020220190466 A KR1020220190466 A KR 1020220190466A KR 20220190466 A KR20220190466 A KR 20220190466A KR 20240107646 A KR20240107646 A KR 20240107646A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
phase grafting
vapor phase
hydrophilic substrate
contact heat
acid
Prior art date
Application number
KR1020220190466A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
안병준
김유리
라응식
최형진
박미림
Original Assignee
(주)태경포리마
Filing date
Publication date
Application filed by (주)태경포리마 filed Critical (주)태경포리마
Publication of KR20240107646A publication Critical patent/KR20240107646A/en

Links

Images

Classifications

    • DTEXTILES; PAPER
    • D21PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21HPULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H25/00After-treatment of paper not provided for in groups D21H17/00 - D21H23/00
    • D21H25/08Rearranging applied substances, e.g. metering, smoothing; Removing excess material
    • DTEXTILES; PAPER
    • D21PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21HPULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H19/00Coated paper; Coating material
    • D21H19/10Coatings without pigments
    • D21H19/14Coatings without pigments applied in a form other than the aqueous solution defined in group D21H19/12
    • DTEXTILES; PAPER
    • D21PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21HPULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H23/00Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper
    • D21H23/02Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper characterised by the manner in which substances are added
    • D21H23/22Addition to the formed paper
    • D21H23/52Addition to the formed paper by contacting paper with a device carrying the material
    • D21H23/56Rolls
    • D21H23/58Details thereof, e.g. surface characteristics, peripheral speed
    • D21H23/60Details thereof, e.g. surface characteristics, peripheral speed the material on the applicator roll being subjected to a particular treatment before applying to the paper

Abstract

본 발명은 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 관한 것이다. 본 발명의 제1 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치는, 친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서, 롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더; 언와인더로부터 공급되는 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러; 도포 롤러로부터 공급되는 친수성 기재의 제2 면에 접촉한 상태에서, 친수성 기재의 제2 면을 가열하는 히팅 롤러; 히팅 롤러의 외주면에 감겨진 친수성 기재로부터 이격된 상태에서 기상 그라프팅 시약이 도포된 친수성 기재의 제1 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원; 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 흡입부; 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물을 제거하는 스크러버; 및 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source. The vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the first embodiment of the present invention hydrophobizes the surface of a hydrophilic substrate by a gas grafting process using fatty acid chloride. In the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, an unwinder that continuously unwinds and supplies a hydrophilic substrate wound in a roll shape; An application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder; a heating roller that heats the second side of the hydrophilic substrate while in contact with the second side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller; a plurality of non-contact heat sources that heat the first surface of the hydrophilic substrate coated with the vapor phase grafting reagent in a state spaced apart from the hydrophilic substrate wound around the outer peripheral surface of the heating roller; A suction unit located adjacent to the heating roller and removing hydrogen chloride generated from the surface of the hydrophilic substrate while a gas phase grafting reaction occurs and a gas phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate; A scrubber located adjacent to the heating roller and removing by-products generated during the gas phase grafting reaction; and a rewinder that continuously winds the vapor phase grafting substrate on which the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate after completing the vapor phase grafting reaction.

Description

비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치{Gas grafting hydrophobization apparatus using non-contact heat source}Gas grafting hydrophobization apparatus using non-contact heat source}

본 발명은 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기상 그라프팅 반응에 필요한 반응 열의 전달 효율을 향상시켜 기상 그라프팅 반응의 효율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 염화 수소 가스를 효과적으로 제거하여 친수성 기재가 변색되는 현상을 방지할 수 있는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a vapor-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source. More specifically, it not only improves the efficiency of the vapor-phase grafting reaction by improving the transfer efficiency of reaction heat required for the vapor-phase grafting reaction, but also improves the efficiency of the vapor-phase grafting reaction. It relates to a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source that can prevent discoloration of a hydrophilic substrate by effectively removing hydrogen chloride gas generated during the reaction.

일반적으로 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정은 수산기(Hydroxyl group, -OH)를 가지는 친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용하여 소수화 처리하는 공정을 의미하며, 기상 그라프팅 소수화 장치(또는, 기상 그라프팅 장치)에 의해 수행될 수 있다.In general, the gas grafting process refers to a process of hydrophobizing the surface of a hydrophilic substrate having a hydroxyl group (-OH) using fatty acid chloride, and gas grafting It may be performed by a hydrophobization device (or a vapor phase grafting device).

예를 들어, 미국 공개특허공보 2013-0236647(Machine and treatment process via chromatogenous grafting of a hydroxylated substrate)(2013년 9월 12일 공개)(특허문헌 1)에는 드럼 드라이어(건조 롤러)로부터 기재로 반응 열을 전달하여 기재의 수산기와 기화된 염화 지방산이 효과적으로 반응하도록 하는 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조가 개시되어 있다.For example, in U.S. Patent Publication 2013-0236647 (Machine and treatment process via chromatogenous grafting of a hydroxylated substrate) (published on September 12, 2013) (Patent Document 1), reaction heat is applied from a drum dryer (drying roller) to a substrate. The structure of a vapor-phase grafting hydrophobization device is disclosed that delivers a vaporized chlorinated fatty acid with the hydroxyl group of the substrate to effectively react.

그러나, 종래의 기상 그라프팅 소수화 장치는 반응 공정 중 발생한 반응 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride, HCl) 가스로 인해 기재가 드럼 드라이어(건조 롤러)와 밀착되지 못하므로 불균일한 열의 전달로 그라프팅 반응 또한 균일하지 못하고, 이로 인해 반응 열이 충분치 않으면 기상 그라프팅 반응의 효율이 저하되는 문제점이 있었다However, in the conventional vapor phase grafting hydrophobization device, the substrate cannot come into close contact with the drum dryer (drying roller) due to hydrogen chloride (HCl) gas, a reaction by-product generated during the reaction process, so the grafting reaction is also delayed due to uneven heat transfer. There was a problem that the efficiency of the vapor phase grafting reaction was reduced if it was not uniform and the reaction heat was not sufficient.

또한, 종래의 기상 그라프팅 소수화 장치는 기상 그라프팅 반응의 부산물인 염화 수소 가스가 효과적으로 제거되지 않으면 기재의 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA) 코팅층의 변색을 일으키고, 이러한 변색은 기재의 외관적 물리적 손상을 야기한다는 문제점이 있었다.In addition, the conventional gas-phase grafting hydrophobization device causes discoloration of the polyvinyl alcohol (PVA) coating layer of the substrate if hydrogen chloride gas, a by-product of the vapor-phase grafting reaction, is not effectively removed, and this discoloration causes the external and physical appearance of the substrate. There was a problem with causing damage.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 상기 특허문헌 1에서는 건조 롤러 표면 거칠기(Roughness)를 조절하여 건조 롤러와 기재 사이의 공기 갭(air gap)을 0 - 100 ㎛으로 형성시키면 염화 수소에 의한 폴리비닐 알코올 코팅층의 탈수 반응을 억제할 수 있다고 기술하고 있다.In order to solve this problem, in Patent Document 1, the surface roughness of the drying roller is adjusted to form an air gap between the drying roller and the substrate to 0 - 100 ㎛, resulting in a polyvinyl alcohol coating layer by hydrogen chloride. It is stated that it can inhibit the dehydration reaction of.

또한, 국내 공개특허공보 제10-2016-0141920호(기상 그라프팅을 이용한 기재의 친수성 표면의 소수화 처리 방법 및 장치)(2016년 12월 12일 공개)(특허문헌 2)에는 건조 롤러에 다수의 공극을 구비하는 벨트를 설치하여 공극을 이용하여 염화 수소를 수용하게 되면 폴리비닐 알코올 코팅층의 탈수 반응을 감소시킬 수 있다고 기술하고 있다.In addition, in Korean Patent Publication No. 10-2016-0141920 (Method and device for hydrophobizing the hydrophilic surface of a substrate using vapor phase grafting) (published on December 12, 2016) (Patent Document 2), a plurality of It is stated that by installing a belt with pores and using the pores to accommodate hydrogen chloride, the dehydration reaction of the polyvinyl alcohol coating layer can be reduced.

또한, 국내 등록특허공보 제10-1908335호(기상그라프팅을 이용하여 소수화된 PVA 코팅 종이의 화학적 변색방지 방법)(2018년 10월 10일 공고)(특허문헌 3)에는 폴리비닐 알코올 코팅층에 존재하는 알카리 탄산 금속염을 이용하여 중화시킴으로 변색을 방지하는 효과가 있다고 기술하고 있다.In addition, in Domestic Patent Publication No. 10-1908335 (Method for preventing chemical discoloration of hydrophobized PVA coated paper using vapor phase grafting) (announced on October 10, 2018) (Patent Document 3), polyvinyl alcohol is present in the coating layer. It is stated that it is effective in preventing discoloration by neutralizing it using an alkaline metal carbonate salt.

그러나, 상기 특허문헌 1에서 종래의 건조롤러 표면 거칠기를 형성시키는 방법은 히팅 롤의 직경의 크기가 늘어나면 열효율이 떨어지는 문제점이 있었고, 상기 특허문헌 2에서 벨트를 설치하는 방법은 벨트의 설치 공간 및 중량에 따른 문제점 및 벨트의 내구성이 저하된다는 문제점이 있었으며, 상기 특허문헌 3에서 폴리비닐알코올 코팅층에 알칼리탄산금속염을 이용하는 방법은 내수성의 저하 및 알칼리탄산금속염에 의한 폴리비닐알코올 코팅 공정 오염의 문제점이 있었다.However, the method of forming the surface roughness of the conventional drying roller in Patent Document 1 had a problem in that thermal efficiency decreased as the diameter of the heating roll increased, and the method of installing the belt in Patent Document 2 required the belt installation space and There were problems with weight and a decrease in the durability of the belt, and in Patent Document 3, the method of using alkali metal carbonate in the polyvinyl alcohol coating layer had problems of reduced water resistance and contamination of the polyvinyl alcohol coating process by alkali metal carbonate. there was.

따라서, 기상 그라프팅 반응에 필요한 반응 열의 전달 효율을 향상시켜 기상 그라프팅 반응의 효율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 염화 수소 가스를 효과적으로 제거하여 친수성 기재가 변색되는 현상을 방지할 수 있는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치가 요구된다.Therefore, not only can the efficiency of the vapor phase grafting reaction be improved by improving the transfer efficiency of the reaction heat required for the vapor phase grafting reaction, but also the hydrophilic substrate is discolored by effectively removing the hydrogen chloride gas generated during the vapor phase grafting reaction. A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source that can prevent this phenomenon is required.

미국 공개특허공보 2013-0236647(Machine and treatment process via chromatogenous grafting of a hydroxylated substrate)(2013년 9월 12일 공개)U.S. Patent Publication No. 2013-0236647 (Machine and treatment process via chromatogenous grafting of a hydroxylated substrate) (published on September 12, 2013) 국내 공개특허공보 제10-2016-0141920호(기상 그라프팅을 이용한 기재의 친수성 표면의 소수화 처리 방법 및 장치)(2016년 12월 12일 공개)Domestic Patent Publication No. 10-2016-0141920 (Method and device for hydrophobizing the hydrophilic surface of a substrate using vapor phase grafting) (published on December 12, 2016) 국내 등록특허공보 제10-1908335호(기상그라프팅을 이용하여 소수화된 PVA 코팅 종이의 화학적 변색방지 방법)(2018년 10월 10일 공고)Domestic Registered Patent Publication No. 10-1908335 (Method for preventing chemical discoloration of hydrophobized PVA coated paper using vapor-phase grafting) (announced on October 10, 2018)

본 발명은 상기한 문제점을 개선하기 위해 발명된 것으로, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 이용하여 친수성 기재의 표면에서 기상 그라프팅 공정이 수행되는 동안 친수성 기재의 표면으로부터 이격되도록 배치된 비접촉식 열원을 이용하여 기상 그라프팅 시약이 도포된 친수성 기재의 표면을 가열함으로써, 기상 그라프팅 반응에 필요한 반응 열의 전달 효율을 향상시켜 기상 그라프팅 반응의 효율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 염화 수소 가스를 효과적으로 제거할 수 있으므로 친수성 기재가 변색되는 현상을 방지할 수 있는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치를 제공하는 것이다.The present invention was invented to improve the above-mentioned problems, and the problem to be solved by the present invention is that while the vapor phase grafting process is performed on the surface of the hydrophilic substrate using a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acids, the hydrophilic substrate By heating the surface of the hydrophilic substrate to which the vapor phase grafting reagent is applied using a non-contact heat source arranged to be spaced apart from the surface of the vapor phase grafting reaction, the efficiency of the vapor phase grafting reaction can be improved by improving the transfer efficiency of the reaction heat required for the vapor phase grafting reaction. In addition, the present invention provides a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source that can effectively remove hydrogen chloride gas generated during the vapor phase grafting reaction and thus prevent discoloration of the hydrophilic substrate.

본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제는 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems of the present invention are not limited to those mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치는, 친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서, 롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더; 상기 언와인더로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러; 상기 도포 롤러로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제2 면에 접촉한 상태에서 상기 친수성 기재의 제2 면을 가열하는 히팅 롤러; 상기 히팅 롤러의 외주면에 감겨진 상기 친수성 기재로부터 이격된 상태에서 상기 기상 그라프팅 시약이 도포된 상기 친수성 기재의 제1 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원; 상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 상기 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 상기 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 흡입부; 상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물을 제거하는 스크러버; 및 상기 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 상기 친수성 기재의 제1 면에 상기 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above problem, the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the first embodiment of the present invention is a vapor phase grafting (Gas) using fatty acid chloride on the surface of a hydrophilic substrate. A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source for hydrophobization treatment by a grafting process, comprising: an unwinder that continuously unwinds and supplies a hydrophilic substrate wound in a roll; an application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder; a heating roller that heats the second side of the hydrophilic substrate while in contact with the second side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller; a plurality of non-contact heat sources that heat the first surface of the hydrophilic substrate to which the vapor phase grafting reagent is applied while being spaced apart from the hydrophilic substrate wound around the outer peripheral surface of the heating roller; It is located adjacent to the heating roller, and while a vapor phase grafting reaction occurs and a vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate, hydrogen chloride, a by-product generated from the surface of the hydrophilic substrate, is Suction part to remove; a scrubber located adjacent to the heating roller and removing by-products generated during the gas phase grafting reaction; and a rewinder that continuously winds the vapor phase grafting substrate on which the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate after completing the vapor phase grafting reaction.

이 때, 상기 친수성 기재는 백상지(Woodfree paper), 크라프트지(Kraft paper), 탄소 코팅 용지(Clay coated paper, CCK), 박리지(Release paper), 및 글라신지(Glassine paper), 아트지(Art paper) 중 적어도 하나를 사용하거나, 백상지(Woodfree paper), 크라프트지(Kraft paper), 탄소 코팅 용지(Clay coated paper, CCK), 박리지(Release paper), 및 글라신지(Glassine paper), 아트지(Art paper) 중 적어도 하나의 표면에 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)을 코팅하여 형성된 것을 사용하는 것을 특징으로 한다.At this time, the hydrophilic substrate is woodfree paper, Kraft paper, clay coated paper (CCK), release paper, glassine paper, and art paper. ), or use at least one of Woodfree paper, Kraft paper, Clay coated paper (CCK), Release paper, Glassine paper, and Art paper. It is characterized in that it is formed by coating polyvinyl alcohol (PVA) on at least one surface of the paper.

또한, 상기 염화 지방산은 미리스토레인산(Myristoleic acid), 팔미토인산(Palmitoleic acid), 팔미토일 클로라이드(Palmitoyl chloride), 사피엔산(Sapienic acid), 올레인산(Oleic acid), 엘라딕산(Eladic acid), 바세닉산(Vaccenic acid), 리놀레인산(Linoleic acid), 리노엘라이딕산(Linoelaidic acid), 알파-리놀레인산(α-linolenic acid), 아라키돈산(Arachidonic acid), 에이코사펜타노인산(Eicosapentanoic acid), 에루쿠산(Erucic acid), 도코사헥사노익산(Docosahexaenoic acid), 카프릴릭산(Caprylic acid), 카프르산(Capric acid), 라우르산(Lauric acid), 미리스트산(Myristic acid), 팔미트산(Palmitic acid), 스테아린산(Stearic acid), 스테로일 클로라이드(Stearoyl chloride), 아라키딕산(Arachidic acid), 베헨산(Behenic acid), 리그노세르산(Lignoceric acid), 및 세로틴산(Cerotic acid) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the chlorinated fatty acids include Myristoleic acid, Palmitoic acid, Palmitoyl chloride, Sapienic acid, Oleic acid, and Eladic acid. , Vaccenic acid, Linoleic acid, Linoelaidic acid, α-linolenic acid, Arachidonic acid, Eicosapentanoic acid ( Eicosapentanoic acid, Erucic acid, Docosahexaenoic acid, Caprylic acid, Capric acid, Lauric acid, Myristic acid acid, palmitic acid, stearic acid, Stearoyl chloride, Arachidic acid, Behenic acid, Lignoceric acid, and It is characterized by containing at least one of serotinic acid.

또한, 상기 도포 롤러는, 아니록스 롤러(Anilox roller) 및 그라비아 롤러(Gravure roller) 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 한다.In addition, the application roller is characterized by using either an anilox roller or a gravure roller.

또한, 상기 복수의 비접촉식 열원은, 상기 히팅 롤러의 외주면을 따라 미리 설정된 간격으로 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the plurality of non-contact heat sources are characterized in that they are radially arranged at preset intervals along the outer peripheral surface of the heating roller.

또한, 상기 비접촉식 열원은, 석영관 히터, 카본 히터, 할로겐 히터, PTC 히터, 근적외선 히터 및 세라믹 히터 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 한다.In addition, the non-contact heat source is characterized by using any one of a quartz tube heater, a carbon heater, a halogen heater, a PTC heater, a near-infrared heater, and a ceramic heater.

또한, 상기 흡입부는, 상기 복수의 비접촉식 열원 중 상기 친수성 기재의 공급 방향을 따라 마지막에 배치된 비접촉식 열원과 인접한 위치에 배치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the suction unit is characterized in that it is disposed adjacent to a non-contact heat source disposed last along the supply direction of the hydrophilic substrate among the plurality of non-contact heat sources.

한편, 상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치는, 친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서, 롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더; 상기 언와인더로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러; 상기 도포 롤러로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제2 면에 접촉한 상태에서 상기 친수성 기재의 제2 면을 가열하는 히팅 롤러; 상기 히팅 롤러의 외주면에 감겨진 상기 친수성 기재로부터 이격된 상태에서 상기 기상 그라프팅 시약이 도포된 상기 친수성 기재의 제1 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원; 상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 도포 롤러로부터 상기 히팅 롤러로 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 도포된 상기 기상 그라프팅 시약을 매끈하게 처리하는 스무딩 롤러(Smoothing roller); 상기 스무딩 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 스무딩 롤러에 누적된 상기 기상 그라프팅 시약을 제거하는 크리닝 롤러(Cleaning roller); 상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 상기 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 상기 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 흡입부; 상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물을 제거하는 스크러버; 및 상기 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 상기 친수성 기재의 제1 면에 상기 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 한다.Meanwhile, in order to achieve the above problem, the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the second embodiment of the present invention involves vapor grafting the surface of a hydrophilic substrate using fatty acid chloride. (Gas grafting) A gas-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source for hydrophobization treatment through a process, comprising: an unwinder that continuously unwinds and supplies a hydrophilic substrate wound in a roll; an application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder; a heating roller that heats the second side of the hydrophilic substrate while in contact with the second side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller; a plurality of non-contact heat sources that heat the first surface of the hydrophilic substrate to which the vapor phase grafting reagent is applied while being spaced apart from the hydrophilic substrate wound around the outer peripheral surface of the heating roller; A smoothing roller located adjacent to the heating roller and smoothing the vapor phase grafting reagent applied to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller to the heating roller; a cleaning roller located adjacent to the smoothing roller and removing the vapor phase grafting reagent accumulated on the smoothing roller; It is located adjacent to the heating roller, and while a vapor phase grafting reaction occurs and a vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate, hydrogen chloride, a by-product generated from the surface of the hydrophilic substrate, is Suction part to remove; a scrubber located adjacent to the heating roller and removing by-products generated during the gas phase grafting reaction; and a rewinder that continuously winds the vapor phase grafting substrate on which the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate after completing the vapor phase grafting reaction.

이 때, 상기 흡입부는, 상기 스무딩 롤러와 인접한 위치에 배치되는 것을 특징으로 한다.At this time, the suction unit is disposed adjacent to the smoothing roller.

한편, 상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 제3 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치는, 친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서, 롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더; 상기 언와인더로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러; 상기 친수성 기재의 공급 방향을 따라 미리 설정된 간격으로 배치되며, 상기 도포 롤러로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면 및 제2 면으로부터 이격된 상태에서 상기 친수성 기재의 제1 면 및 제2 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원; 상기 복수의 비접촉식 열원과 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 스크러버; 및 상기 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 상기 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 한다.Meanwhile, in order to achieve the above problem, the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the third embodiment of the present invention involves vapor grafting the surface of a hydrophilic substrate using fatty acid chloride. (Gas grafting) A gas-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source for hydrophobization treatment through a process, comprising: an unwinder that continuously unwinds and supplies a hydrophilic substrate wound in a roll; an application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder; It is disposed at preset intervals along the supply direction of the hydrophilic substrate, and heats the first and second sides of the hydrophilic substrate in a state spaced apart from the first and second sides of the hydrophilic substrate supplied from the application roller. a plurality of non-contact heat sources; a scrubber located adjacent to the plurality of non-contact heat sources and removing hydrogen chloride, a by-product generated during the gas phase grafting reaction; and a rewinder that continuously winds the vapor phase grafting substrate on which the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate after completing the vapor phase grafting reaction.

또한, 상기 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치는, 상기 복수의 비접촉식 열원과 인접하게 위치하며, 상기 기상 그라프팅 반응이 발생하여 상기 친수성 기재의 제1 면에 상기 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 상기 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 염화 수소를 제거하는 흡입부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the vapor phase grafting hydrophobization device using the non-contact heat source is located adjacent to the plurality of non-contact heat sources while the vapor phase grafting reaction occurs and the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate. , characterized in that it further comprises a suction unit for removing hydrogen chloride generated from the surface of the hydrophilic substrate.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 따르면, 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 이용하여 친수성 기재의 표면에서 기상 그라프팅 공정이 수행되는 동안 친수성 기재의 표면으로부터 이격되도록 배치된 비접촉식 열원을 이용하여 기상 그라프팅 시약이 도포된 친수성 기재의 표면을 가열함으로써, 기상 그라프팅 반응에 필요한 반응 열의 전달 효율을 향상시켜 기상 그라프팅 반응의 효율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 염화 수소 가스를 효과적으로 제거할 수 있으므로 친수성 기재가 변색되는 현상을 방지할 수 있다.According to the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention, while the vapor phase grafting process is performed on the surface of the hydrophilic substrate using a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid, By heating the surface of the hydrophilic substrate to which the vapor phase grafting reagent is applied using a non-contact heat source arranged to be spaced apart, the efficiency of the vapor phase grafting reaction can be improved by improving the transfer efficiency of the reaction heat required for the vapor phase grafting reaction. , the hydrogen chloride gas generated during the vapor phase grafting reaction can be effectively removed, thereby preventing discoloration of the hydrophilic substrate.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 의해 제조되는 기상 그라프팅 기재의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치를 이용하여 기상 그라프팅 기재를 제조하는 과정을 나타내는 순서도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.
1 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting substrate manufactured by a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention.
Figure 2 is a flowchart showing the process of manufacturing a vapor phase grafting substrate using a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention.
Figure 3 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the first embodiment of the present invention.
Figure 4 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to a second embodiment of the present invention.
Figure 5 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to a third embodiment of the present invention.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily practice the present invention.

실시예를 설명함에 있어서 본 발명이 속하는 기술 분야에 익히 알려져 있고 본 발명과 직접적으로 관련이 없는 기술 내용에 대해서는 설명을 생략한다. 이는 불필요한 설명을 생략함으로써 본 발명의 요지를 흐리지 않고 더욱 명확히 전달하기 위함이다.In describing the embodiments, description of technical content that is well known in the technical field to which the present invention belongs and that is not directly related to the present invention will be omitted. This is to convey the gist of the present invention more clearly without obscuring it by omitting unnecessary explanation.

마찬가지 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 개략적으로 도시되었다. 또한, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것이 아니다. 각 도면에서 동일한 또는 대응하는 구성요소에는 동일한 참조 번호를 부여하였다.For the same reason, some components are exaggerated, omitted, or schematically shown in the accompanying drawings. Additionally, the size of each component does not entirely reflect its actual size. In each drawing, identical or corresponding components are assigned the same reference numbers.

또한, 장치 또는 요소 방향(예를 들어 "전(front)", "후(back)", "위(up)", "아래(down)", "상(top)", "하(bottom)", "좌(left)", "우(right)", "횡(lateral)")등과 같은 용어들에 관하여 본원에 사용된 표현 및 술어는 단지 본 발명의 설명을 단순화하기 위해 사용되고, 관련된 장치 또는 요소가 단순히 특정 방향을 가져야 함을 나타내거나 의미하지 않는다는 것을 알 수 있을 것이다.Additionally, device or element orientation (e.g. “front”, “back”, “up”, “down”, “top”, “bottom”). The expressions and predicates used herein with respect to terms such as ", "left", "right", "lateral", etc. are merely used to simplify the description of the invention and related devices. Alternatively, you may notice that it does not simply indicate or imply that an element should have a particular orientation.

이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings for explaining a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 의해 제조되는 기상 그라프팅 기재의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting substrate manufactured by a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 기상 그라프팅 기재(10)는 수산기(Hydroxyl group, -OH)를 가지는 친수성 기재(Hydrophilic substrate)(11)의 제1 면이 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화(疏水化) 처리되어 형성될 수 있다.As shown in FIG. 1, the vapor phase grafting substrate 10 is a hydrophilic substrate 11 having a hydroxyl group (-OH). The first side is a vapor phase grafting using fatty acid chloride. It can be formed by hydrophobization treatment through a gas grafting process.

도 1에 도시된 바와 같이, 기상 그라프팅 기재(10)는 수산기를 가지는 친수성 기재(11)와, 친수성 기재(11)에 기상 그라프팅 시약(Gas grafting reagent)을 이용하여 형성된 기상 그라프팅 층(12)으로 구분될 수 있다. 설명의 편의상, 도 1에서는 친수성 기재(11)와 기상 그라프팅 층(12)으로 명확히 구분되는 것으로 과장하여 도시하고 있다.As shown in FIG. 1, the gas phase grafting substrate 10 includes a hydrophilic substrate 11 having a hydroxyl group, and a gas phase grafting layer (Gas grafting reagent) formed on the hydrophilic substrate 11 using a gas grafting reagent. 12). For convenience of explanation, the hydrophilic substrate 11 and the vapor phase grafting layer 12 are clearly distinguished in FIG. 1 and are exaggerated.

기상 그라프팅 기재(10)를 구성하는 친수성 기재(11)는 셀룰로오스(Cellulose)를 포함하는 기재이며, 바람직하게는, 종이 또는 판지일 수 있다. 이 때, 종이 또는 판지는 백상지(Woodfree paper), 크라프트지(Kraft paper), 탄소 코팅 용지(Clay coated paper, CCK), 박리지(Release paper), 및 글라신지(Glassine paper), 아트지(Art paper) 중 적어도 하나를 사용할 수 있다.The hydrophilic substrate 11 constituting the vapor phase grafting substrate 10 is a substrate containing cellulose, and may preferably be paper or cardboard. At this time, paper or cardboard includes Woodfree paper, Kraft paper, Clay coated paper (CCK), Release paper, Glassine paper, and Art paper. ) can be used.

바람직하게는, 기상 그라프팅 기재(10)를 구성하는 친수성 기재(11)는 종이 또는 판지(11a), 예를 들어, 백상지(Woodfree paper), 크라프트지(Kraft paper), 탄소 코팅 용지(Clay coated paper, CCK), 박리지(Release paper), 및 글라신지(Glassine paper), 아트지(Art paper) 중 적어도 하나(11a)의 표면에 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)(11b)을 코팅하여 형성될 수 있다.Preferably, the hydrophilic substrate 11 constituting the vapor phase grafting substrate 10 is paper or cardboard 11a, for example, woodfree paper, Kraft paper, or carbon coated paper. Formed by coating polyvinyl alcohol (PVA) (11b) on the surface of at least one (11a) of paper, CCK, release paper, glassine paper, and art paper. It can be.

또한, 친수성 기재(11)의 제1 면에 기상 그라프팅 공정을 수행하기 위해 친수성 기재(11)에 도포되는 기상 그라프팅 시약(12)을 구성하는 염화 지방산은, 미리스토레인산(Myristoleic acid), 팔미토인산(Palmitoleic acid), 팔미토일 클로라이드(Palmitoyl chloride), 사피엔산(Sapienic acid), 올레인산(Oleic acid), 엘라딕산(Eladic acid), 바세닉산(Vaccenic acid), 리놀레인산(Linoleic acid), 리노엘라이딕산(Linoelaidic acid), 알파-리놀레인산(α-linolenic acid), 아라키돈산(Arachidonic acid), 에이코사펜타노인산(Eicosapentanoic acid), 에루쿠산(Erucic acid), 도코사헥사노익산(Docosahexaenoic acid), 카프릴릭산(Caprylic acid), 카프르산(Capric acid), 라우르산(Lauric acid), 미리스트산(Myristic acid), 팔미트산(Palmitic acid), 스테아린산(Stearic acid), 스테로일 클로라이드(Stearoyl chloride), 아라키딕산(Arachidic acid), 베헨산(Behenic acid), 리그노세르산(Lignoceric acid), 또는, 세로틴산(Cerotic acid)으로부터 선택된 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.In addition, the chlorinated fatty acid constituting the vapor phase grafting reagent 12 applied to the hydrophilic substrate 11 to perform the vapor phase grafting process on the first side of the hydrophilic substrate 11 is myristoleic acid. , Palmitoic acid, Palmitoyl chloride, Sapienic acid, Oleic acid, Eladic acid, Vaccinic acid, Linoleic acid acid), Linoelaidic acid, alpha-linolenic acid, Arachidonic acid, Eicosapentanoic acid, Erucic acid, docosahexa Docosahexaenoic acid, Caprylic acid, Capric acid, Lauric acid, Myristic acid, Palmitic acid, Stearic acid acid, Stearoyl chloride, Arachidic acid, Behenic acid, Lignoceric acid, or Cerotic acid. can be used.

상술한 바와 같이, 도 1에 도시된 기상 그라프팅 기재(10)는 친수성 기재(11)의 제1 면에 염화 지방산을 이용한 기상 그라프팅 공정을 수행하여 제조될 수 있다.As described above, the vapor phase grafting substrate 10 shown in FIG. 1 can be manufactured by performing a vapor phase grafting process using chlorinated fatty acid on the first side of the hydrophilic substrate 11.

도 2는 본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치를 이용하여 기상 그라프팅 기재를 제조하는 과정을 나타내는 순서도이다.Figure 2 is a flowchart showing the process of manufacturing a vapor phase grafting substrate using a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 기상 그라프팅 기재(10)를 제조하는 과정은, 종이 또는 판지(11a)의 일면에 폴리비닐 알코올(11b)을 코팅하여 친수성 기재(11)를 형성하여 공급하는 단계(S11), 친수성 기재(11)의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약(12)을 도포하여 기상 그라프팅 반응을 발생시키는 단계(S12), 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안, 친수성 기재(11) 및 기상 그라프팅 시약(12)을 가열하는 단계(S13), 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안, 친수성 기재(11)의 제1 면으로부터 발생하는 염화 수소(Hydrogen chloride, HCl) 가스를 제거하는 단계(S14), 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안, 기상 그라프팅 반응의 부산물을 제거하는 단계(S15) 및 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층을 형성된 기상 그라프팅 기재(10)를 회수하는 단계(S16)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 2, the process of manufacturing the vapor phase grafting substrate 10 involves coating one side of paper or cardboard 11a with polyvinyl alcohol 11b to form a hydrophilic substrate 11 and supplying it. (S11), applying a vapor phase grafting reagent (12) containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate (11) to generate a vapor phase grafting reaction (S12), while the vapor phase grafting reaction occurs, Heating the hydrophilic substrate 11 and the vapor phase grafting reagent 12 (S13), while the vapor phase grafting reaction occurs, hydrogen chloride (HCl) generated from the first side of the hydrophilic substrate 11 A step of removing gas (S14), a step of removing by-products of the gas phase grafting reaction while the gas phase grafting reaction is occurring (S15), and after completing the gas phase grafting reaction, vapor phase grafting on the first side of the hydrophilic substrate. It may be configured to include a step (S16) of recovering the layered vapor phase grafting substrate 10.

한편, 도 2에 도시된 기상 그라프팅 기재(10)를 제조하는 공정(단계 S11 내지 단계 S15)은 롤투롤(Roll-to-Roll) 방식의 기상 그라프팅 소수화 장치에 의해 순차적으로 수행될 수 있다. 이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조 및 동작에 대해 설명하기로 한다.Meanwhile, the process of manufacturing the vapor phase grafting substrate 10 shown in FIG. 2 (steps S11 to S15) may be sequentially performed by a roll-to-roll vapor phase grafting hydrophobization device. . Hereinafter, with reference to FIGS. 3 to 5, the structure and operation of the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention will be described.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.Figure 3 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the first embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(100)는 언와인더(110), 도포 롤러(120), 히팅 롤러(130), 복수의 비접촉식 열원(140), 흡입부(150), 스크러버(160) 및 리와인더(170)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in Figure 3, the vapor phase grafting hydrophobization device 100 using a non-contact heat source according to the first embodiment of the present invention includes an unwinder 110, an application roller 120, a heating roller 130, and a plurality of It may be configured to include a non-contact heat source 140, a suction unit 150, a scrubber 160, and a rewinder 170.

언와인더(110)는 롤(Roll) 형태로 감겨 있는 친수성 기재(11)를 연속적으로 풀어주어 도포 롤러(120)로 공급할 수 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 언와인더(110)부로부터 공급되는 친수성 기재(11)는 종이 또는 판지(11a)의 일면(도 3의 예에서, 하부면)에 폴리비닐 알코올(11b)이 코팅된 상태이다.The unwinder 110 can continuously unwind the hydrophilic substrate 11 wound in the form of a roll and supply it to the application roller 120. As shown in FIG. 3, the hydrophilic substrate 11 supplied from the unwinder 110 has polyvinyl alcohol 11b on one side (the lower side in the example of FIG. 3) of paper or cardboard 11a. It is in a coated state.

도포 롤러(120)는 수산기(-OH)가 노출된 친수성 기재(11)의 제1 면(도 3의 예에서, 하부면)에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약(12)을 도포할 수 있다. 이러한 도포 롤러(120)는 플렉소그래피(Flexography) 또는 헬리오그래피(Heliography) 인쇄를 위한 롤러가 사용될 수 있으며, 바람직하게는 아니록스 롤러(Anilox roller) 또는 그라비아 롤러(Gravure roller)로 구성될 수 있다.The application roller 120 can apply the vapor phase grafting reagent 12 containing chlorinated fatty acid to the first side (in the example of FIG. 3, the lower side) of the hydrophilic substrate 11 where the hydroxyl group (-OH) is exposed. there is. This application roller 120 may be a roller for flexography or heliography printing, and may preferably be composed of an Anilox roller or a Gravure roller. .

히팅 롤러(130)는 도포 롤러(120)로부터 공급되는 친수성 기재(11)의 제2 면(도 3의 예에서, 상부면)에 접촉한 상태에서 친수성 기재(11)의 제2 면을 가열할 수 있다.The heating roller 130 heats the second side of the hydrophilic substrate 11 while in contact with the second side (top surface in the example of FIG. 3) of the hydrophilic substrate 11 supplied from the application roller 120. You can.

비접촉식 열원(140)은 히팅 롤러(130)의 외주면에 감겨진 친수성 기재(11)로부터 이격된 상태에서 기상 그라프팅 시약(12)이 도포된 친수성 기재(11)의 제1 면을 가열할 수 있다.The non-contact heat source 140 can heat the first side of the hydrophilic substrate 11 to which the vapor phase grafting reagent 12 is applied while being spaced apart from the hydrophilic substrate 11 wound around the outer peripheral surface of the heating roller 130. .

바람직하게는, 도 3에 도시된 바와 같이, 비접촉식 열원(140)은 복수개 구비되며, 히팅 롤러의 외주면을 따라 미리 설정된 간격으로 방사상으로 배치될 수 있다. 이 때, 비접촉식 열원(140)은 기상 그라프팅 반응 영역에서 폭 방향으로 90 내지 100 %, 길이 방향으로는 30 % 이상 설치하는 것으로, 바람직하게는 폭방향으로 90 % 이상, 길이 방향으로 50 % 이상의 면적에 설치할 수 있다. 비접촉식 열원(140)은 모듈로 구성할 수 있으면 1 개 내지 10 개로 사용할 수 있으며, 바람직하게는 4 개 이상을 사용할 수 있다.Preferably, as shown in FIG. 3, a plurality of non-contact heat sources 140 are provided and may be radially arranged at preset intervals along the outer peripheral surface of the heating roller. At this time, the non-contact heat source 140 is installed at 90 to 100% in the width direction and 30% or more in the longitudinal direction in the gas phase grafting reaction area, preferably at least 90% in the width direction and 50% or more in the longitudinal direction. It can be installed in any area. If the non-contact heat source 140 can be configured as a module, 1 to 10 units can be used, and preferably 4 or more units can be used.

바람직하게는, 비접촉식 열원(140)은 석영관 히터, 카본 히터, 할로겐 히터, PTC 히터, 근적외선 히터 및 세라믹 히터 중 어느 하나를 사용할 수 있다. 특히, 비접촉식 열원(140)은 내구성이 뛰어나고 온도 조절이 용이한 세라믹 히터를 사용할 수 있다.Preferably, the non-contact heat source 140 may use any one of a quartz tube heater, a carbon heater, a halogen heater, a PTC heater, a near-infrared heater, and a ceramic heater. In particular, the non-contact heat source 140 may use a ceramic heater that is highly durable and has easy temperature control.

비접촉식 열원(140)의 소비 전력은 1 ㎾로 사용할 수 있으며, 바람직하게는 15 ㎾ 이상의 열원을 가지도록 한다. 또한, 비접촉식 열원(140)의 구동 온도는 150℃ 내지 600℃로 사용할 수 있으며, 바람직하게는 200℃ 내지 400℃의 온도를 사용하도록 한다.The power consumption of the non-contact heat source 140 can be 1 kW, and preferably has a heat source of 15 kW or more. Additionally, the operating temperature of the non-contact heat source 140 can be 150°C to 600°C, and is preferably used at a temperature of 200°C to 400°C.

한편, 도 3에 도시된 바와 같이, 비접촉식 열원(140)은 열원의 교체 및 청소, 기재의 교체 등을 원활하게 하기 위하여 이송 장치 등 구동부(141)가 설치되며, 구동부(141)는 친수성 기재(11)와의 간격을 조절할 수 있도록 수동 또는 자동으로 작동될 수 있다. 이 때, 히팅 롤러(130)와 비접촉식 열원(140) 사이의 간격은 5 cm 내지 20 cm로 조절될 수 있으며, 바람직하게는 5 cm 내지 10 cm로 조절될 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 3, the non-contact heat source 140 is equipped with a driving unit 141 such as a transfer device to facilitate replacement and cleaning of the heat source and replacement of the substrate, and the driving unit 141 is a hydrophilic substrate ( 11) It can be operated manually or automatically to adjust the spacing. At this time, the distance between the heating roller 130 and the non-contact heat source 140 can be adjusted to 5 cm to 20 cm, and preferably can be adjusted to 5 cm to 10 cm.

한편, 히팅 롤러(130) 및 복수의 비접촉식 열원(140)은 도포 롤러(120)로부터 공급되는 친수성 기재(11)의 제1 면에 도포된 기상 그라프팅 시약(12)에 기상 그라프팅 반응을 발생시켜 친수성 기재(11)의 제1 면을 소수화 처리함으로써, 친수성 기재(11) 상에 기상 그라프팅 층(12)을 형성할 수 있다.Meanwhile, the heating roller 130 and the plurality of non-contact heat sources 140 generate a vapor phase grafting reaction in the vapor phase grafting reagent 12 applied to the first side of the hydrophilic substrate 11 supplied from the application roller 120. By hydrophobizing the first side of the hydrophilic substrate 11, the vapor phase grafting layer 12 can be formed on the hydrophilic substrate 11.

히팅 롤러(130) 및 복수의 비접촉식 열원(140)에 의해 수행되는 기상 그라프팅 반응은 아래 [반응식 1]과 같이 기체 상태의 염화 지방산이 친수성 기재(11)의 제1 면에 노출된 수산기와 반응하여 지방산 에스테르(Fatty acid methyl ester)가 형성되고, 부산물로 염화 수소가 발생하는 반응이다. 이 때, 친수성 기재(11)는 지방산 에스테르에 의해 소수성(hydrophobic)을 가질 수 있다.The gas phase grafting reaction performed by the heating roller 130 and the plurality of non-contact heat sources 140 is a reaction between chlorinated fatty acid in the gaseous state and the hydroxyl group exposed on the first side of the hydrophilic substrate 11, as shown in [Reaction Formula 1] below. This is a reaction in which fatty acid methyl ester is formed and hydrogen chloride is generated as a by-product. At this time, the hydrophilic substrate 11 may be hydrophobic due to fatty acid ester.

[반응식 1][Scheme 1]

한편, 상기 [반응식 1]에 의한 기상 그라프팅 반응의 부산물인 염화 수소는 친수성 기재(11)의 제1 면을 변색시키므로 신속히 제거되어야 할 필요가 있다.Meanwhile, hydrogen chloride, a by-product of the vapor phase grafting reaction according to [Scheme 1], discolors the first side of the hydrophilic substrate 11 and needs to be removed quickly.

흡입부(150)는 히팅 롤러(130)와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 친수성 기재(11)의 제1 면에 기상 그라프팅 층(12)이 형성되는 동안, 친수성 기재(11)의 표면으로부터 발생하는 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거할 수 있다. 이 때, 흡입부(150)는 염화 수소 가스 이외에 기상 그라프팅 반응이 발생하지 않은 염화 지방산 기체도 제거할 수 있다.The suction unit 150 is located adjacent to the heating roller 130, and while the vapor phase grafting reaction occurs and the vapor phase grafting layer 12 is formed on the first side of the hydrophilic substrate 11, the hydrophilic substrate 11 ) can remove hydrogen chloride generated from the surface. At this time, the suction unit 150 can remove chlorinated fatty acid gas in which no vapor phase grafting reaction has occurred in addition to hydrogen chloride gas.

바람직하게는, 도 3에 도시된 바와 같이, 흡입부(150)는 복수의 비접촉식 열원(140) 중 친수성 기재(11)의 공급 방향을 따라 마지막에 배치된 비접촉식 열원(140)과 인접한 위치에 배치될 수 있다.Preferably, as shown in FIG. 3, the suction unit 150 is disposed adjacent to the non-contact heat source 140 disposed last along the supply direction of the hydrophilic substrate 11 among the plurality of non-contact heat sources 140. It can be.

스크러버(160)는 히팅 롤러(130)와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물을 제거할 수 있다. 이 때, 스크러버(160)는 친수성 기재(11)의 표면으로부터 발생하는 염화 수소 가스 중 흡입부(150)에 의해 제거되지 않은 염화 수소 가스도 동시에 제거할 수 있다.The scrubber 160 is located adjacent to the heating roller 130 and can remove by-products generated during the vapor phase grafting reaction. At this time, the scrubber 160 can simultaneously remove hydrogen chloride gas that is not removed by the suction unit 150 among the hydrogen chloride gas generated from the surface of the hydrophilic substrate 11.

리와인더(170)는 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 친수성 기재(11)의 제1 면에 기상 그라프팅 층(12)이 형성된 기상 그라프팅 기재(10)를 연속적으로 감아줄 수 있다.After completing the vapor phase grafting reaction, the rewinder 170 can continuously wind the vapor phase grafting substrate 10 on which the vapor phase grafting layer 12 is formed on the first side of the hydrophilic substrate 11.

한편, 언와인더(110)로부터 연속적으로 풀어져 리와인더(170)로 감겨지는 친수성 기재(11)는 롤투롤(Roll-to-Roll) 방식으로 공급될 때에 복수의 안내 롤러(131)에 의해 장력이 유지된 상태에서 이송될 수 있다.Meanwhile, the hydrophilic substrate 11, which is continuously unwound from the unwinder 110 and wound around the rewinder 170, is tensioned by a plurality of guide rollers 131 when supplied in a roll-to-roll manner. It can be transported while maintained.

한편, 비록 도시되지는 않았으나, 본 발명의 제1 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(100)는 기상 그라프팅 반응을 마친 친수성 기재(11)의 제1 면에 잔류하는 기상 그라프팅 시약(12)을 제거하기 위해 고온의 공기를 분사하는 에어 나이프 노즐(도시되지 않음)을 더 포함할 수 있다.Meanwhile, although not shown, the vapor phase grafting hydrophobization device 100 using a non-contact heat source according to the first embodiment of the present invention is a vapor phase grafting reaction remaining on the first side of the hydrophilic substrate 11 after the vapor phase grafting reaction. It may further include an air knife nozzle (not shown) that sprays high-temperature air to remove the drying reagent 12.

이하, 도 4를 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조 및 동작에 대해 설명하기로 한다. 설명의 편의상, 도 3에 도시된 제1 실시예와 동일한 구조 및 동작에 대한 설명은 생략하며, 이하 차이점 만을 위주로 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to FIG. 4, the structure and operation of the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the second embodiment of the present invention will be described. For convenience of explanation, description of the same structure and operation as the first embodiment shown in FIG. 3 will be omitted, and only the differences will be described below.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.Figure 4 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to a second embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(200)는 스무딩 롤러(Smoothing roller) 및 크리닝 롤러(Cleaning roller)를 더 포함한다는 점에서 도 3에 도시된 제1 실시예와 차이가 있다.The vapor phase grafting hydrophobization device 200 using a non-contact heat source according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 4 is shown in FIG. 3 in that it further includes a smoothing roller and a cleaning roller. There is a difference from the first embodiment.

즉, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(200)는 언와인더(210), 도포 롤러(220), 히팅 롤러(230), 복수의 비접촉식 열원(240), 스무딩 롤러(250), 크리닝 롤러(260), 흡입부(270), 스크러버(280) 및 리와인더(290)를 포함하여 구성될 수 있다.That is, as shown in FIG. 4, the vapor phase grafting hydrophobization device 200 using a non-contact heat source according to the second embodiment of the present invention includes an unwinder 210, an application roller 220, and a heating roller 230. , may be configured to include a plurality of non-contact heat sources 240, a smoothing roller 250, a cleaning roller 260, a suction unit 270, a scrubber 280, and a rewinder 290.

도 4에 도시된 언와인더(210), 도포 롤러(220), 히팅 롤러(230), 복수의 비접촉식 열원(240), 흡입부(270), 스크러버(280) 및 리와인더(290)는 도 3에 도시된 언와인더(110), 도포 롤러(120), 히팅 롤러(130), 복수의 비접촉식 열원(140), 흡입부(150), 스크러버(160) 및 리와인더(170)의 구조와 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다.The unwinder 210, application roller 220, heating roller 230, a plurality of non-contact heat sources 240, suction unit 270, scrubber 280, and rewinder 290 shown in FIG. 4 are shown in FIG. 3. The structure and substantially of the unwinder 110, the application roller 120, the heating roller 130, the plurality of non-contact heat sources 140, the suction unit 150, the scrubber 160, and the rewinder 170 shown in Since they are the same, duplicate explanations will be omitted.

스무딩 롤러(Smoothing roller)(250)는 히팅 롤러(230)와 인접하게 위치하며, 도포 롤러(220)로부터 히팅 롤러(230)로 공급되는 친수성 기재(11)의 제1 면(도 4의 예에서, 하부면)에 도포된 기상 그라프팅 시약(120)을 매끈하게 처리할 수 있다.The smoothing roller 250 is located adjacent to the heating roller 230, and is located on the first side of the hydrophilic substrate 11 supplied from the application roller 220 to the heating roller 230 (in the example of FIG. 4). , the lower surface) can be treated smoothly.

즉, 스무딩 롤러(250)는 도포 롤러(220)에 의해 도포된 기상 그라프팅 시약(12)을 친수성 기재(11)의 제1 면에 고르게 전개하여 기상 그라프팅 반응의 반응 효율을 향상시킬 수 있다. 이 때, 스무딩 롤러(250)는 염화 지방산 및 염화 수소에 대해 내성을 가지는 금속으로 제조될 수 있다.That is, the smoothing roller 250 can improve the reaction efficiency of the vapor phase grafting reaction by evenly spreading the vapor phase grafting reagent 12 applied by the application roller 220 on the first surface of the hydrophilic substrate 11. . At this time, the smoothing roller 250 may be made of a metal that is resistant to chlorinated fatty acids and hydrogen chloride.

도 4에 도시된 바와 같이, 스무딩 롤러(250)는 친수성 기재(11)의 제2 면(도 4의 예에서, 상부면)이 히팅 롤러(230)의 외주면에 감져질 수 있도록 친수성 기재(11)의 공급 방향을 변경하는 역할도 수행할 수 있다.As shown in FIG. 4, the smoothing roller 250 is a hydrophilic substrate 11 so that the second side (in the example of FIG. 4, the upper surface) of the hydrophilic substrate 11 can be wrapped around the outer peripheral surface of the heating roller 230. ) can also play a role in changing the supply direction.

크리닝 롤러(Cleaning roller)(260)는 스무딩 롤러(250)와 인접하게 위치하며, 스무딩 롤러(250)에 누적된 기상 그라프팅 시약(120)을 제거할 수 있다. 따라서, 크리닝 롤러(260)는 기상 그라프팅 반응이 발생하지 않은 염화 지방산이 친수성 기재에 전이되는 현상을 방지할 수 있다.The cleaning roller 260 is located adjacent to the smoothing roller 250 and can remove the vapor phase grafting reagent 120 accumulated on the smoothing roller 250. Accordingly, the cleaning roller 260 can prevent chlorinated fatty acids in which a vapor phase grafting reaction has not occurred from being transferred to a hydrophilic substrate.

바람직하게는, 크리닝 롤러(260)는 염화 지방산 및 염화 수소에 내성을 가지는 폴리 우레탄(polyurethane), 실리콘 고무(Silicone rubber), EPDM(Ethylene-Propylene Diene Monomer) 재질로 구성될 수 있다.Preferably, the cleaning roller 260 may be made of polyurethane, silicone rubber, or Ethylene-Propylene Diene Monomer (EPDM) material that is resistant to chlorinated fatty acids and hydrogen chloride.

한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 흡입부(270)는 기상 그라프팅 반응이 발생하는 동안, 친수성 기재(11)의 표면으로부터 발생하는 염화 수소와 기상 그라프팅 반응이 발생하지 않은 염화 지방산 기체를 제거할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 4, the suction unit 270 absorbs hydrogen chloride generated from the surface of the hydrophilic substrate 11 while the vapor phase grafting reaction occurs and chlorinated fatty acid gas in which the vapor phase grafting reaction has not occurred. It can be removed.

바람직하게는, 흡입부(270)는 스무딩 롤러(250)와 인접한 위치에 배치될 수 있다. 도 4에서는 흡입부(270)가 스무딩 롤러(250)의 상부에 배치된 예를 도시하고 있으나, 크리닝 롤러(260)의 하부에 배치될 수도 있다.Preferably, the suction unit 270 may be disposed adjacent to the smoothing roller 250. FIG. 4 shows an example in which the suction unit 270 is disposed above the smoothing roller 250, but it may also be disposed below the cleaning roller 260.

한편, 언와인더(210)로부터 연속적으로 풀어져 리와인더(290)로 감겨지는 친수성 기재(11)는 롤투롤(Roll-to-Roll) 방식으로 공급될 때에 복수의 안내 롤러(231)에 의해 장력이 유지된 상태에서 이송될 수 있다.Meanwhile, the hydrophilic substrate 11, which is continuously unwound from the unwinder 210 and wound around the rewinder 290, is tensioned by a plurality of guide rollers 231 when supplied in a roll-to-roll manner. It can be transported while maintained.

이하, 도 5를 참조하여, 본 발명의 제3 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조 및 동작에 대해 설명하기로 한다. 설명의 편의상, 도 3에 도시된 제1 실시예 및 도 4에 도시된 제2 실시예와 동일한 구조 및 동작에 대한 설명은 생략하며, 이하 차이점 만을 위주로 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to FIG. 5, the structure and operation of the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to the third embodiment of the present invention will be described. For convenience of explanation, the description of the same structure and operation as the first embodiment shown in FIG. 3 and the second embodiment shown in FIG. 4 will be omitted, and only the differences will be described below.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.Figure 5 is a diagram schematically showing the structure of a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to a third embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(300)는 친수성 기재(11)의 제2 면에 접촉한 상태에서 친수성 기재(11)의 제2 면을 가열하는 히팅 롤러(130, 230)를 사용하지 않는다는 점에서 도 3에 도시된 제1 실시예 및 도 4에 도시된 제2 실시예와 차이가 있다.The vapor phase grafting hydrophobization device 300 using a non-contact heat source according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 5 is a second surface of the hydrophilic substrate 11 in a state in contact with the second surface of the hydrophilic substrate 11. It is different from the first embodiment shown in FIG. 3 and the second embodiment shown in FIG. 4 in that it does not use heating rollers 130 and 230 for heating.

즉, 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(300)는 언와인더(310), 도포 롤러(320), 복수의 비접촉식 열원(330), 스크러버(340) 및 리와인더(350)를 포함하여 구성될 수 있다.That is, as shown in Figure 5, the vapor phase grafting hydrophobization device 300 using a non-contact heat source according to the third embodiment of the present invention includes an unwinder 310, an application roller 320, and a plurality of non-contact heat sources ( 330), a scrubber 340, and a rewinder 350.

도 5에 도시된 언와인더(310), 도포 롤러(320) 및 리와인더(350)는 도 3에 도시된 언와인더(110), 도포 롤러(120) 및 리와인더(170)의 구조와 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다.The unwinder 310, application roller 320, and rewinder 350 shown in FIG. 5 are substantially similar to the structures of the unwinder 110, application roller 120, and rewinder 170 shown in FIG. 3. Since they are the same, duplicate explanations will be omitted.

비접촉식 열원(330)은 도포 롤러(320)로부터 공급되는 친수성 기재(11)의 제1 면(도 5의 예에서, 상부면) 및 제2 면으로부터 이격된 상태에서 친수성 기재(11)의 제1 면 및 제2 면을 가열할 수 있다. 즉, 비접촉식 열원(330)은 친수성 기재(11)의 제1 면 및 제2 면과 모두 접촉하지 않은 상태에서 친수성 기재(11)의 제1 면 및 제2 면을 가열할 수 있다.The non-contact heat source 330 is applied to the first surface of the hydrophilic substrate 11 in a state spaced apart from the first side (in the example of FIG. 5, the top surface) and the second side of the hydrophilic substrate 11 supplied from the application roller 320. The first side and the second side can be heated. That is, the non-contact heat source 330 can heat the first and second surfaces of the hydrophilic substrate 11 without contacting both the first and second surfaces of the hydrophilic substrate 11.

바람직하게는, 도 5에 도시된 바와 같이, 비접촉식 열원(330)은 복수개 구비되며, 친수성 기재(11)의 공급 방향을 따라 미리 설정된 간격으로 복수개 배치될 수 있다. 이 때, 복수의 비접촉식 열원(330)은 친수성 기재(11)를 사이에 두고 친수성 기재(11)의 제1 면 및 제2 면을 바라보는 양측에 나란하게 배치될 수 있다.Preferably, as shown in FIG. 5, a plurality of non-contact heat sources 330 are provided, and a plurality of non-contact heat sources 330 may be arranged at preset intervals along the supply direction of the hydrophilic substrate 11. At this time, the plurality of non-contact heat sources 330 may be arranged side by side on both sides facing the first and second surfaces of the hydrophilic substrate 11 with the hydrophilic substrate 11 interposed therebetween.

한편, 도 5에 도시된 바와 같이, 비접촉식 열원(330)은 친수성 기재(11)의 제1 면 및 제2 면까지의 간격을 조절할 수 있도록 수동 또는 자동으로 작동되는 구동부(331)가 설치될 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 5, the non-contact heat source 330 may be equipped with a driving unit 331 that is operated manually or automatically to adjust the distance between the first and second surfaces of the hydrophilic substrate 11. there is.

스크러버(340)는 복수의 비접촉식 열원(330)과 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 염화 수소 및 부산물을 제거할 수 있다.The scrubber 340 is located adjacent to the plurality of non-contact heat sources 330 and can remove hydrogen chloride and by-products generated during the gas phase grafting reaction.

즉, 도 3에 도시된 제1 실시예 및 도 4에 도시된 제2 실시예와는 달리, 도 5에 도시된 제3 실시예에서는 친수성 기재(11)의 제2 면을 가열하기 위해 접촉식의 히팅 롤러(130, 230) 대신 비접촉식의 비접촉식 열원(330)을 사용하고, 이로 인해 언와인더(310)로부터 리와인더(350)로 공급되는 친수성 기재(11)는 직선 구간을 가지므로, 별도의 보조 흡입부를 설치하기 않고도 스크러버(340)에 의해 친수성 기재(11)의 제1 면으로부터 발생하는 염화 수소도 용이하게 제거할 수 있다.That is, unlike the first embodiment shown in FIG. 3 and the second embodiment shown in FIG. 4, in the third embodiment shown in FIG. 5, a contact type is used to heat the second side of the hydrophilic substrate 11. A non-contact heat source 330 is used instead of the heating rollers 130 and 230, and as a result, the hydrophilic substrate 11 supplied from the unwinder 310 to the rewinder 350 has a straight section, so a separate Hydrogen chloride generated from the first surface of the hydrophilic substrate 11 can also be easily removed by the scrubber 340 without installing an auxiliary suction unit.

비록 도시되지는 않았으나, 본 발명의 제3 실시예에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치(300)는 필요에 따라 복수의 비접촉식 열원과 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하기 위한 흡입부를 더 포함할 수도 있다.Although not shown, the vapor phase grafting hydrophobization device 300 using a non-contact heat source according to the third embodiment of the present invention is located adjacent to a plurality of non-contact heat sources as needed, and a vapor phase grafting reaction occurs to form a hydrophilic substrate. It may further include a suction unit for removing hydrogen chloride generated from the surface of the hydrophilic substrate while the vapor phase grafting layer is formed on the first surface of the.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The present invention can be better understood by the following examples, which are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of protection defined by the appended claims.

[실시예 1][Example 1]

친수성 기재(11)는 70 g/㎡의 평량을 가지는 백상지와 35 g/㎡의 평량을 갖는 크라프트지(Kraft paper)에 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)을 코팅하여 형성하였으며, 친수성 기재(11)에 도포되는 기상 그라프팅 시약(12)을 구성하는 염화 지방산은 팔미토일 클로라이드(Palmitoyl chloride)(C16)을 사용하였다.The hydrophilic substrate 11 was formed by coating polyvinyl alcohol (PVA) on white paper with a basis weight of 70 g/m2 and Kraft paper with a basis weight of 35 g/m2, and the hydrophilic substrate 11 ) Palmitoyl chloride (C16) was used as the chlorinated fatty acid constituting the vapor phase grafting reagent (12) applied.

또한, 도포 롤러(120, 220)는 아니록스 롤러(anilox roller)를 사용하였으며, 아니록스 롤러의 온도는 60 ℃로 설정하고, 도포량은 0.5 g/㎡으로 설정하여 친수성 기재(11)에 기상 그라프팅 시약(12)을 도포하였다.In addition, the application rollers 120 and 220 used an anilox roller, and the temperature of the anilox roller was set to 60 ° C. and the application amount was set to 0.5 g / ㎡ to apply a gas phase graph to the hydrophilic substrate 11. Tinting reagent (12) was applied.

또한, 히팅 롤러(130, 230)의 온도는 200 ℃로 설정하고, 비접촉식 열원(140, 240)은 소비 전력이 1 kW의 세라믹 히터를 5 ㎝ 간격으로 60 개 설치하고, 세라믹 히터의 온도는 200 ℃로 설정하였다.In addition, the temperature of the heating rollers 130 and 230 is set to 200 ° C., the non-contact heat source 140 and 240 is installed with 60 ceramic heaters with a power consumption of 1 kW at intervals of 5 cm, and the temperature of the ceramic heaters is 200. It was set at ℃.

또한, 기상 그라프팅 소수화 장치(100, 200)의 운전 속도는 50 m/min로 설정하여 기상 그라프팅 공정에 의한 소수화 처리를 실시하여 기상 그라프팅 기재(10)를 제조하였다.In addition, the operating speed of the vapor phase grafting hydrophobization devices (100, 200) was set to 50 m/min, and hydrophobization treatment by the vapor phase grafting process was performed to manufacture the vapor phase grafting substrate (10).

[비교예 1][Comparative Example 1]

친수성 기재(11)는 70 g/㎡의 평량을 가지는 백상지와 35 g/㎡의 평량을 갖는 크라프트지(Kraft paper)에 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)을 코팅하여 형성하였으며, 친수성 기재(11)에 도포되는 기상 그라프팅 시약(12)을 구성하는 염화 지방산은 팔미토일 클로라이드(Palmitoyl chloride)(C16)을 사용하였다.The hydrophilic substrate 11 was formed by coating polyvinyl alcohol (PVA) on white paper with a basis weight of 70 g/m2 and Kraft paper with a basis weight of 35 g/m2, and the hydrophilic substrate 11 ) Palmitoyl chloride (C16) was used as the chlorinated fatty acid constituting the vapor phase grafting reagent (12) applied.

또한, 도포 롤러(120, 220)는 아니록스 롤러(anilox roller)를 사용하였으며, 아니록스 롤러의 온도는 60 ℃로 설정하고, 도포량은 0.5 g/㎡으로 설정하여 친수성 기재(11)에 기상 그라프팅 시약(12)을 도포하였다.In addition, the application rollers 120 and 220 used an anilox roller, the temperature of the anilox roller was set to 60 ° C, and the application amount was set to 0.5 g / ㎡ to apply a gas phase graph to the hydrophilic substrate 11. Tinting reagent (12) was applied.

또한, 히팅 롤러(130, 230)의 온도는 200 ℃로 설정하고, 기상 그라프팅 소수화 장치(100, 200)의 운전 속도는 50 m/min로 설정하여 기상 그라프팅 공정에 의한 소수화 처리를 실시하여 기상 그라프팅 기재(10)를 제조하였다.In addition, the temperature of the heating rollers 130 and 230 is set to 200°C, and the operating speed of the vapor phase grafting hydrophobization device (100 and 200) is set to 50 m/min to perform hydrophobization treatment by the vapor phase grafting process. A vapor phase grafting substrate (10) was prepared.

[실험예] [Experimental example]

먼저, [실시예 1]에 따라 제조된 기상 그라프팅 기재(10)와 [비교예 1]에 따라 제조된 기상 그라프팅 기재(10)에 대하여 색차 측정 시험을 수행하였다. 색차 측정 시험 결과는 CIE L*a*b* 표색계와 WI(CIE/ASTM E313-96) 표색치로 나타내었으며, 그 결과는 [표 1]과 같다.First, a color difference measurement test was performed on the vapor phase grafting substrate 10 manufactured according to [Example 1] and the vapor phase grafting substrate 10 manufactured according to [Comparative Example 1]. The color difference measurement test results were expressed in the CIE L*a*b* colorimetric system and WI (CIE/ASTM E313-96) colorimetric values, and the results are shown in [Table 1].

L*a*b*
표색계
L*a*b*
colorimetric system
WI(CIE/ASTM E313-96) 표색치WI(CIE/ASTM E313-96) colorimetric value 사진picture
L* L * a* a * b* b * WIWI YIY.I. ΔE* ab ΔE * ab 원지Wonji 92.492.4 -0.1-0.1 -0.9-0.9 85.985.9 -2.0-2.0 -- 실시예
(비접촉식 열원)
Example
(Non-contact heat source)
91.891.8 -0.1-0.1 0.10.1 81.581.5 0.20.2 1.141.14
비교예
(접촉식 열원)
Comparative example
(Contact heat source)
86.686.6 2.62.6 8.08.0 3030 18.218.2 10.9910.99

[표 1]을 참조하면, [실시예 1]의 기상 그라프팅 기재(10)가 [비교예 1]에 따라 제조된 기상 그라프팅 기재(10)와 비교해 볼 때, 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)로 코팅된 친수성 기재(110)의 변색 방지가 우수하다는 것을 확인할 수 있다. 이는 [실시예 1]의 기상 그라프팅 기재(10)가 비접촉식 열원에 의해 염화 수소 가스의 제거가 탁월하여 변색 방지에 효과적인 것을 의미한다.Referring to [Table 1], when compared to the vapor phase grafting substrate 10 of [Example 1] prepared according to [Comparative Example 1], polyvinyl alcohol (Polyvinyl Alcohol) It can be confirmed that the discoloration prevention of the hydrophilic substrate 110 coated with PVA) is excellent. This means that the vapor phase grafting substrate 10 of [Example 1] is effective in preventing discoloration by excellently removing hydrogen chloride gas by a non-contact heat source.

또한, [실시예 1]에 따라 제조된 기상 그라프팅 기재(10)와 [비교예 1]에 따라 제조된 기상 그라프팅 기재(10)에 대하여 수분에 대한 흡수도 측정 시험을 수행하였다. 수분 흡수도 측정을 위해 콥 사이즈도(Cobb size degree) 측정 시험을 수행하였으며, 그 결과는 [표 2]와 같다.In addition, a moisture absorption measurement test was performed on the vapor phase grafting substrate 10 manufactured according to [Example 1] and the vapor phase grafting substrate 10 manufactured according to [Comparative Example 1]. A Cobb size degree measurement test was performed to measure moisture absorption, and the results are shown in [Table 2].

콥 사이즈도(Cobb size degree) 1800s (g/㎡)Cobb size degree 1800s (g/㎡) 실시예
(비접촉식 열원)
Example
(Non-contact heat source)
비교예
(접촉식 열원)
Comparative example
(Contact heat source)
70 g/㎡ 백상지70 g/㎡ white paper 5.95.9 11.411.4 35 g/㎡ 크라프트지35 g/㎡ kraft paper 3.53.5 6.86.8

[표 2]를 참조하면, [실시예 1]의 기상 그라프팅 기재(10)가 [비교예 1]에 따라 제조된 기상 그라프팅 기재(10)와 비교해 볼 때 내수성(수분 차단 성능)이 훨씬 우수하다는 확인할 수 있다. 이는 [실시예 1]의 기상 그라프팅 기재(10)가 비접촉식 열원에 의해 열 전달 효율 및 반응 효율이 향상하여 내수성 향상에 효과적인 것을 의미한다.Referring to [Table 2], the vapor phase grafting substrate 10 of [Example 1] has much higher water resistance (moisture barrier performance) compared to the vapor phase grafting substrate 10 manufactured according to [Comparative Example 1]. You can confirm that it is excellent. This means that the vapor phase grafting substrate 10 of [Example 1] is effective in improving water resistance by improving heat transfer efficiency and reaction efficiency by a non-contact heat source.

이와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치의 경우, 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약(12)을 이용하여 친수성 기재(11)의 표면에서 기상 그라프팅 공정이 수행되는 동안 친수성 기재(11)의 표면으로부터 이격되도록 배치된 비접촉식 열원(140, 240, 330)을 이용하여 기상 그라프팅 시약(12)이 도포된 친수성 기재(11)의 표면을 가열함으로써, 기상 그라프팅 반응에 필요한 반응 열의 전달 효율을 향상시켜 기상 그라프팅 반응의 효율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 염화 수소 가스를 효과적으로 제거할 수 있으므로 친수성 기재(11)가 변색되는 현상을 방지할 수 있다.As such, in the case of the vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source according to embodiments of the present invention, a vapor phase grafting process is performed on the surface of the hydrophilic substrate 11 using a vapor phase grafting reagent 12 containing chlorinated fatty acid. While this is being performed, the surface of the hydrophilic substrate 11 on which the vapor phase grafting reagent 12 is applied is heated using a non-contact heat source 140, 240, 330 arranged to be spaced apart from the surface of the hydrophilic substrate 11, thereby forming a vapor phase. Not only can the efficiency of the vapor phase grafting reaction be improved by improving the transfer efficiency of the reaction heat required for the grafting reaction, but also the hydrogen chloride gas generated during the vapor phase grafting reaction can be effectively removed, so the hydrophilic substrate (11) It can prevent discoloration.

한편, 본 명세서와 도면에는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 개시하였으며, 비록 특정 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명의 기술 내용을 쉽게 설명하고 발명의 이해를 돕기 위한 일반적인 의미에서 사용된 것이지, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예 외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.Meanwhile, in this specification and drawings, preferred embodiments of the present invention are disclosed, and although specific terms are used, they are used only in a general sense to easily explain the technical content of the present invention and aid understanding of the present invention. It is not intended to limit the scope of the invention. It is obvious to those skilled in the art that in addition to the embodiments disclosed herein, other modifications based on the technical idea of the present invention can be implemented.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10: 기상 그라프팅 기재
11: 친수성 기재 12: 기상 그라프팅 층
100: 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치 (제1 실시예)
110: 언와인더 120: 도포 롤러
130: 히팅 롤러 140: 비접촉식 열원
150: 흡입부 160: 스크러버
170: 리와인더
200: 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치 (제2 실시예)
210: 언와인더 220: 도포 롤러
230: 히팅 롤러 240: 비접촉식 열원
250: 스무딩 롤러 260: 크리닝 롤러
270: 흡입부 280: 스크러버
290: 리와인더
300: 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치 (제3 실시예)
310: 언와인더 320: 도포 롤러
330: 비접촉식 열원 340: 스크러버
350: 리와인더
<Explanation of symbols for main parts of the drawing>
10: Vapor phase grafting substrate
11: Hydrophilic substrate 12: Vapor phase grafting layer
100: Vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source (first embodiment)
110: Unwinder 120: Application roller
130: Heating roller 140: Non-contact heat source
150: suction part 160: scrubber
170: Rewinder
200: Vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source (second embodiment)
210: Unwinder 220: Application roller
230: Heating roller 240: Non-contact heat source
250: Smoothing roller 260: Cleaning roller
270: suction part 280: scrubber
290: Rewinder
300: Vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source (third embodiment)
310: Unwinder 320: Application roller
330: Non-contact heat source 340: Scrubber
350: Rewinder

Claims (11)

친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서,
롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더;
상기 언와인더로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러;
상기 도포 롤러로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제2 면에 접촉한 상태에서 상기 친수성 기재의 제2 면을 가열하는 히팅 롤러;
상기 히팅 롤러의 외주면에 감겨진 상기 친수성 기재로부터 이격된 상태에서 상기 기상 그라프팅 시약이 도포된 상기 친수성 기재의 제1 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원;
상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 상기 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 상기 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 흡입부;
상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물을 제거하는 스크러버; 및
상기 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 상기 친수성 기재의 제1 면에 상기 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
In the gas-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, which hydrophobicizes the surface of a hydrophilic substrate by a gas-phase grafting process using fatty acid chloride,
An unwinder that continuously unwinds and supplies hydrophilic substrates wound in rolls;
an application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder;
a heating roller that heats the second side of the hydrophilic substrate while in contact with the second side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller;
a plurality of non-contact heat sources that heat the first surface of the hydrophilic substrate to which the vapor phase grafting reagent is applied while being spaced apart from the hydrophilic substrate wound around the outer peripheral surface of the heating roller;
It is located adjacent to the heating roller, and while a vapor phase grafting reaction occurs and a vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate, hydrogen chloride, a by-product generated from the surface of the hydrophilic substrate, is Suction part to remove;
a scrubber located adjacent to the heating roller and removing by-products generated during the gas phase grafting reaction; and
After completing the vapor phase grafting reaction, a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, comprising a rewinder that continuously winds the vapor phase grafting substrate on which the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate. .
제 1 항에 있어서,
상기 친수성 기재는,
백상지(Woodfree paper), 크라프트지(Kraft paper), 탄소 코팅 용지(Clay coated paper, CCK), 박리지(Release paper), 및 글라신지(Glassine paper), 아트지(Art paper) 중 적어도 하나를 사용하거나,
백상지(Woodfree paper), 크라프트지(Kraft paper), 탄소 코팅 용지(Clay coated paper, CCK), 박리지(Release paper), 및 글라신지(Glassine paper), 아트지(Art paper) 중 적어도 하나의 표면에 폴리비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)을 코팅하여 형성된 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 1,
The hydrophilic substrate is,
Use at least one of Woodfree paper, Kraft paper, Clay coated paper (CCK), Release paper, Glassine paper, and Art paper. ,
On the surface of at least one of Woodfree paper, Kraft paper, Clay coated paper (CCK), Release paper, Glassine paper, and Art paper A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, characterized in that it is formed by coating polyvinyl alcohol (PVA).
제 1 항에 있어서,
상기 염화 지방산은,
미리스토레인산(Myristoleic acid), 팔미토인산(Palmitoleic acid), 팔미토일 클로라이드(Palmitoyl chloride), 사피엔산(Sapienic acid), 올레인산(Oleic acid), 엘라딕산(Eladic acid), 바세닉산(Vaccenic acid), 리놀레인산(Linoleic acid), 리노엘라이딕산(Linoelaidic acid), 알파-리놀레인산(α-linolenic acid), 아라키돈산(Arachidonic acid), 에이코사펜타노인산(Eicosapentanoic acid), 에루쿠산(Erucic acid), 도코사헥사노익산(Docosahexaenoic acid), 카프릴릭산(Caprylic acid), 카프르산(Capric acid), 라우르산(Lauric acid), 미리스트산(Myristic acid), 팔미트산(Palmitic acid), 스테아린산(Stearic acid), 스테로일 클로라이드(Stearoyl chloride), 아라키딕산(Arachidic acid), 베헨산(Behenic acid), 리그노세르산(Lignoceric acid), 및 세로틴산(Cerotic acid) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 1,
The chlorinated fatty acid is,
Myristoleic acid, Palmitoic acid, Palmitoyl chloride, Sapienic acid, Oleic acid, Eladic acid, Vaccinic acid acid), Linoleic acid, Linoelaidic acid, alpha-linolenic acid, Arachidonic acid, Eicosapentanoic acid, erucic acid (Erucic acid), Docosahexaenoic acid, Caprylic acid, Capric acid, Lauric acid, Myristic acid, palmitic acid (Palmitic acid), Stearic acid, Stearoyl chloride, Arachidic acid, Behenic acid, Lignoceric acid, and Cerotic acid. A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, comprising at least one of the following:
제 1 항에 있어서,
상기 도포 롤러는,
아니록스 롤러(Anilox roller) 및 그라비아 롤러(Gravure roller) 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 1,
The application roller is,
A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, characterized in that it uses either an anilox roller or a gravure roller.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 비접촉식 열원은,
상기 히팅 롤러의 외주면을 따라 미리 설정된 간격으로 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 1,
The plurality of non-contact heat sources are,
A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, characterized in that it is radially disposed at preset intervals along the outer peripheral surface of the heating roller.
제 1 항에 있어서,
상기 비접촉식 열원은,
석영관 히터, 카본 히터, 할로겐 히터, PTC 히터, 근적외선 히터 및 세라믹 히터 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 1,
The non-contact heat source is,
A vapor-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, characterized by using any one of a quartz tube heater, a carbon heater, a halogen heater, a PTC heater, a near-infrared heater, and a ceramic heater.
제 1 항에 있어서,
상기 흡입부는,
상기 복수의 비접촉식 열원 중 상기 친수성 기재의 공급 방향을 따라 마지막에 배치된 비접촉식 열원과 인접한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 1,
The suction part,
A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, characterized in that it is disposed adjacent to a non-contact heat source disposed last along the supply direction of the hydrophilic substrate among the plurality of non-contact heat sources.
친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서,
롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더;
상기 언와인더로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러;
상기 도포 롤러로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제2 면에 접촉한 상태에서 상기 친수성 기재의 제2 면을 가열하는 히팅 롤러;
상기 히팅 롤러의 외주면에 감겨진 상기 친수성 기재로부터 이격된 상태에서 상기 기상 그라프팅 시약이 도포된 상기 친수성 기재의 제1 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원;
상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 도포 롤러로부터 상기 히팅 롤러로 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 도포된 상기 기상 그라프팅 시약을 매끈하게 처리하는 스무딩 롤러(Smoothing roller);
상기 스무딩 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 스무딩 롤러에 누적된 상기 기상 그라프팅 시약을 제거하는 크리닝 롤러(Cleaning roller);
상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생하여 상기 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 상기 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 흡입부;
상기 히팅 롤러와 인접하게 위치하며, 상기 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물을 제거하는 스크러버; 및
상기 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 상기 친수성 기재의 제1 면에 상기 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
In the gas-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, which hydrophobicizes the surface of a hydrophilic substrate by a gas-phase grafting process using fatty acid chloride,
An unwinder that continuously unwinds and supplies hydrophilic substrates wound in rolls;
an application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder;
a heating roller that heats the second side of the hydrophilic substrate while in contact with the second side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller;
a plurality of non-contact heat sources that heat the first surface of the hydrophilic substrate to which the vapor phase grafting reagent is applied while being spaced apart from the hydrophilic substrate wound around the outer peripheral surface of the heating roller;
A smoothing roller located adjacent to the heating roller and smoothing the vapor phase grafting reagent applied to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the application roller to the heating roller;
a cleaning roller located adjacent to the smoothing roller and removing the vapor phase grafting reagent accumulated on the smoothing roller;
It is located adjacent to the heating roller, and while a vapor phase grafting reaction occurs and a vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate, hydrogen chloride, a by-product generated from the surface of the hydrophilic substrate, is Suction part to remove;
a scrubber located adjacent to the heating roller and removing by-products generated during the gas phase grafting reaction; and
After completing the vapor phase grafting reaction, a vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, comprising a rewinder that continuously winds the vapor phase grafting substrate on which the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate. .
제 8 항에 있어서,
상기 흡입부는,
상기 스무딩 롤러와 인접한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 8,
The suction part,
A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, characterized in that it is disposed adjacent to the smoothing roller.
친수성 기재(Hydrophilic substrate)의 표면을 염화 지방산(Fatty acid chloride)을 이용한 기상 그라프팅(Gas grafting) 공정에 의해 소수화 처리하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치에 있어서,
롤 형태로 감겨 있는 친수성 기재를 연속적으로 풀어주어 공급하는 언와인더;
상기 언와인더로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면에 염화 지방산이 포함된 기상 그라프팅 시약을 도포하는 도포 롤러;
상기 친수성 기재의 공급 방향을 따라 미리 설정된 간격으로 배치되며, 상기 도포 롤러로부터 공급되는 상기 친수성 기재의 제1 면 및 제2 면으로부터 이격된 상태에서 상기 친수성 기재의 제1 면 및 제2 면을 가열하는 복수의 비접촉식 열원;
상기 복수의 비접촉식 열원과 인접하게 위치하며, 기상 그라프팅 반응이 발생되는 동안 발생하는 부산물인 염화 수소(Hydrogen chloride)를 제거하는 스크러버; 및
상기 기상 그라프팅 반응을 마친 후, 상기 친수성 기재의 제1 면에 기상 그라프팅 층이 형성된 기상 그라프팅 기재를 연속적으로 감아주는 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
In the gas-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, which hydrophobicizes the surface of a hydrophilic substrate by a gas-phase grafting process using fatty acid chloride,
An unwinder that continuously unwinds and supplies hydrophilic substrates wound in rolls;
an application roller for applying a vapor phase grafting reagent containing chlorinated fatty acid to the first side of the hydrophilic substrate supplied from the unwinder;
It is disposed at preset intervals along the supply direction of the hydrophilic substrate, and heats the first and second sides of the hydrophilic substrate in a state spaced apart from the first and second sides of the hydrophilic substrate supplied from the application roller. a plurality of non-contact heat sources;
a scrubber located adjacent to the plurality of non-contact heat sources and removing hydrogen chloride, a by-product generated during the gas phase grafting reaction; and
A vapor-phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, comprising a rewinder that continuously winds the vapor-phase grafting substrate on which the vapor-phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate after completing the vapor-phase grafting reaction.
제 10 항에 있어서,
상기 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치는,
상기 복수의 비접촉식 열원과 인접하게 위치하며, 상기 기상 그라프팅 반응이 발생하여 상기 친수성 기재의 제1 면에 상기 기상 그라프팅 층이 형성되는 동안, 상기 친수성 기재의 표면으로부터 발생하는 염화 수소를 제거하는 흡입부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비접촉식 열원을 이용한 기상 그라프팅 소수화 장치.
According to claim 10,
The vapor phase grafting hydrophobization device using the non-contact heat source,
It is located adjacent to the plurality of non-contact heat sources, and removes hydrogen chloride generated from the surface of the hydrophilic substrate while the vapor phase grafting reaction occurs and the vapor phase grafting layer is formed on the first side of the hydrophilic substrate. A vapor phase grafting hydrophobization device using a non-contact heat source, further comprising a suction portion.
KR1020220190466A 2022-12-30 Gas grafting hydrophobization apparatus using non-contact heat source KR20240107646A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20240107646A true KR20240107646A (en) 2024-07-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101713416B1 (en) Machine for Hydrophobic Treatment of Hydrophilic Surface of the Substrate Through Gas Grafting and Method Using the Same
KR101287784B1 (en) Ink jet application apparatus and method
JP5235469B2 (en) Drying apparatus and optical film manufacturing method
JP4760271B2 (en) Coating / drying equipment and coating / drying method
US9186912B2 (en) Liquid ejection device
WO2012113355A2 (en) Gravure press for manufacturing fire-retardant banded cigarette paper and manufacturing method for same
KR20240107646A (en) Gas grafting hydrophobization apparatus using non-contact heat source
JP5385178B2 (en) Flexible film transport apparatus and barrier film manufacturing method
EP1232875B1 (en) Tissue paper used for heat-sensitive stencil sheet, heat-sensitive stencil sheet, and method of making the same
JP6184170B2 (en) Coating apparatus and coating method
KR102184268B1 (en) Method of manufacturing white knitted fabric with excellent anti-dirt property
KR101996990B1 (en) Rupture-resistable and Easy-wrappable Wrinkled Paper Bag for Fruit
CA2418880C (en) Wide nip calendar arrangement and process for glazing a paper or cardboard web
US20220333307A1 (en) Method and a system for a yankee cylinder in a tissue machine
JP4297817B2 (en) Coating method and coating machine
JP4163157B2 (en) Surface modification method and surface modification apparatus
JP2009024305A (en) Apparatus for producing paper or paperboard, and production method using the same
JP7281366B2 (en) Green sheet manufacturing method
JP4544552B2 (en) Barrier film production method and barrier film substrate
KR102571838B1 (en) Polyvinyl Alcohol-Inorganic Pigment Double Coated Hydrophobic Paper And Manufacturing Method Thereof
JP2010144260A (en) Tension control device
TWI677462B (en) Paper made from wood pulp, laminate, method for protecting metal plates, printing plates or glass plates, and method for feeding paper made from wood pulp
FI117402B (en) Method and arrangement for cooling the fibrous web
KR20220014180A (en) Hydrophobic Paper by Hot Pressed Gas Grafting of Fatty Acids and Method of Producing The Same
KR20240065961A (en) Dry apparatus for manufacturing electrode and manufacturing methode for electrode using the same