KR20240098219A - 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법 - Google Patents

기판 검사 장치 및 기판 검사 방법 Download PDF

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KR20240098219A
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    • G01N2021/1765—Method using an image detector and processing of image signal

Abstract

기판 검사 장치는 촬영 유닛 및 분석 유닛을 포함한다. 촬영 유닛은 챔버 내에 배치되고 용액이 도포 된 기판을 촬영하여 입력 영상을 획득한다. 분석 유닛은 입력 영상의 밝기 데이터를 계조 데이터로 변환하고, 계조 데이터를 기초로 화소 영역의 막 형상을 분석한다.

Description

기판 검사 장치 및 기판 검사 방법{SUBSTRATE INSPECTION DEVICE AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD}
본 발명은 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 본 발명은 감압 건조 장치 내에 위치하는 기판을 검사하는 장치 및 이를 이용한 기판 검사 방법에 관한 것이다.
정보화 기술이 발달함에 따라 사용자와 정보간의 연결 매체인 표시 장치의 중요성이 부각되고 있다. 이에 따라, 액정 표시 장치(liquid crystal display device), 유기 발광 표시 장치(organic light emitting display device), 플라즈마 표시 장치(plasma display device) 등과 같은 표시 장치의 사용이 증가하고 있다.
최근, 유기물을 포함하는 발광 소자를 포함하는 표시 장치가 연구되고 있다. 상기 발광 소자에 포함된 유기물층은 프린팅 공정으로 형성될 수 있다.
본 발명의 일 목적은 기판 검사 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 기판 검사 장치를 이용하는 기판 검사 방법을 제공하는 것이다.
다만, 본 발명의 목적이 이와 같은 목적들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
전술한 본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치는 촬영 유닛 및 분석 유닛을 포함할 수 있다. 상기 촬영 유닛은 챔버 내에 배치되고 용액이 도포 된 기판을 촬영하여 입력 영상을 획득할 수 있다. 상기 분석 유닛은 상기 입력 영상의 밝기 데이터를 계조 데이터로 변환하고, 상기 계조 데이터를 기초로 화소 영역의 막 형상을 분석할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 분석 유닛은 영역 설정부, 변환부 및 매칭부를 포함할 수 있다. 상기 영역 설정부는 상기 입력 영상에서 적어도 하나의 화소 영역을 관심 영역으로 설정할 수 있다. 상기 변환부는 상기 관심 영역의 밝기 데이터를 상기 계조 데이터로 변환할 수 있다. 상기 매칭부는 상기 화소 영역의 위치 별 상기 계조 데이터의 수평 구간을 상기 챔버의 공정 조건과 매칭시킬 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 화소 영역이 중심 영역 및 이를 둘러싸는 외곽 영역을 포함하고, 상기 중심 영역의 계조 데이터는 상기 외곽 영역의 계조 데이터보다 클 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상 및 상기 계조 데이터를 저장하는 저장부를 포함하는 제어 유닛을 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제어 유닛은 상기 용액의 특성, 최종 막의 형상을 입력하면 상기 저장부에 저장된 데이터를 기초로 공정 레시피를 도출하는 조건 생성부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 최종 막의 형상은, 상기 최종 막의 두께를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 공정 레시피는, 상기 챔버 내의 감압 프로파일을 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제어 유닛은, 상기 조건 생성부에서 생성된 공정 레시피로 감압 건조 공정을 자동으로 진행시키도록 상기 챔버를 제어하는 설비 제어부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 촬영 유닛은 상기 기판의 법선과 교차하는 방향으로 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 분석 유닛은 상기 입력 영상을 기초로 상기 용액의 액적 각도를 산출하는 각도 산출부를 더 포함할 수 있다.
전술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 방법은 챔버 내에 용액이 도포 된 기판을 배치하고, 상기 기판을 촬영하여 입력 영상을 획득하고, 상기 입력 영상의 밝기 데이터를 계조 데이터로 변환하고, 상기 계조 데이터를 기초로 화소 영역의 막 형상을 분석하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 막 형상을 분석하는 단계는, 상기 입력 영상에서 적어도 하나의 화소 영역을 관심 영역으로 설정하고, 상기 관심 영역의 밝기 데이터를 상기 계조 데이터로 변환하고, 상기 화소 영역의 위치 별 상기 계조 데이터의 수평 구간을 상기 챔버의 공정 조건과 매칭시킬 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 화소 영역이 중심 영역 및 이를 둘러싸는 외곽 영역을 포함하고, 상기 중심 영역의 계조 데이터는 상기 외곽 영역의 계조 데이터보다 클 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판 검사 방법은 상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상 및 상기 계조 데이터를 저장하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판 검사 방법은 상기 용액의 특성, 최종 막의 형상을 입력하고, 상기 저장 된 상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상 및 상기 계조 데이터를 기초로 공정 레시피를 도출하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 최종 막의 형상을 입력하는 단계는, 상기 최종 막의 두께를 입력하는 단계일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 공정 레시피를 도출하는 단계는, 상기 챔버 내의 감압 프로파일을 도출하는 단계일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 공정 레시피를 도출하는 단계 후에, 상기 공정 레시피로 감압 건조 공정을 자동으로 진행시키도록 상기 챔버를 제어하는 설비 제어 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 입력 영상은 상기 기판의 법선과 교차하는 방향으로 배치된 상기 촬영 유닛으로부터 획득할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 막 형상을 분석하는 단계는, 상기 입력 영상을 기초로 상기 용액의 액적 각도를 산출하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치는 촬영 유닛 및 분석 유닛을 포함할 수 있다. 촬영 유닛은 챔버 내에 배치되고 용액이 도포 된 기판을 촬영하여 입력 영상을 획득할 수 있다. 분석 유닛은 입력 영상의 밝기 데이터를 계조 데이터로 변환하고, 계조 데이터를 기초로 화소 영역의 막 형상을 분석할 수 있다. 그에 따라, 기판 검사 장치는 화소 영역 내 건조 공정을 정밀하게 제어하여 막 두께의 균일도를 향상시킬 수 있다.
다만, 본 발명의 효과가 상기 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치를 설명하기 위한 도면들 이다.
도 3은 도 1의 기판 검사 장치에 포함된 촬영 유닛에 의해 획득 된 입력 영상의 일 예시이다.
도 4는 도 1의 기판 검사 장치에 포함된 분석 유닛에 의해 변환 된 계조 데이터의 일 예시이다.
도 5 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면 상의 동일한 구성 요소에 대하여는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치를 설명하기 위한 도면들 이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 감압 건조 장치(RPDE)는 챔버(CH), 챔버(CH)와 연결되는 펌프(PU) 및 챔버(CH)의 내부에 위치하는 배플(BA)을 포함할 수 있다.
챔버(CH)는 서로 평행하게 배치되는 상면, 하면 및 챔버(CH) 내부를 외부로부터 밀봉시키는 측면들을 포함할 수 있다.
챔버(CH)에는 기판(SUB)이 배치될 수 있다. 기판(SUB)은 베이스 플레이트(BP) 상에 배치될 수 있다. 베이스 플레이트(BP)는 구동 유닛(DU)에 의해 상하로 이동할 수 있다.
펌프(PU)는 챔버(CH) 내부의 가스를 챔버(CH) 외부로 배출할 수 있다. 이를 통해, 펌프(PU)는 챔버(CH) 내부 압력을 낮출 수 있다. 예를 들어, 펌프(PU)는 드라이 펌프, 터보 펌프 등을 포함할 수 있다. 펌프(PU)는 상기 가스뿐만 아니라 기판(SUB) 상의 용액으로부터 증발 된 물질도 챔버(CH) 외부로 배출할 수 있다.
예를 들어, 배플(BA)은 평탄한 상면을 가질 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 예를 들어, 배플(BA)은 중앙부에서 상기 중앙부를 둘러싸는 외곽부로 갈수록 하향 경사지는 'ㅅ'자 형상을 가질 수 있다. 구체적으로, 배플(BA)의 상기 중앙부와 챔버(CH)의 상기 상면 사이의 이격 거리는 배플(BA)의 상기 외곽부와 챔버(CH)의 상기 상면 사이의 이격 거리보다 클 수 있다.
배플(BA)은 기판(SUB) 상의 상기 용액이 빠르게 증발하는 것을 방지할 수 있다. 배플(BA)은 상기 증발 된 물질을 포획하고 일정한 증기압을 유지함으로써 기판(SUB) 상에 균일한 두께의 유기물층(예를 들어, 건조 막)이 형성되도록 할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치(1)는 감압 건조 장치(RPDE)에 배치된 기판(SUB) 상의 액적을 관찰하여 상기 건조 막의 형상을 정밀하게 제어할 수 있다. 이를 위해, 기판 검사 장치(1)는 촬영 유닛(100), 분석 유닛(200) 및 제어 유닛(300)을 포함할 수 있다.
촬영 유닛(100)은 챔버(CH) 내에 배치될 수 있다. 촬영 유닛(100)은 상기 용액이 도포 된 기판(SUB)을 촬영하여 입력 영상(ID)을 획득할 수 있다. 이를 위해, 촬영 유닛(100)은 촬상부(110) 및 촬상 제어부(120)를 포함할 수 있다. 촬상부(110)는 제1 촬상부(102) 및 제2 촬상부(104)를 포함할 수 있다.
촬상부(110)는 빛을 전기로 변환할 수 있다. 일 예로, 촬상부(110)는 정지 영상을 촬영할 수 있는 장치일 수 있다. 예를 들어, 촬상부(110)는 카메라, 휴대폰, 스마트폰, 태블릿 PC, 노트북, 캠코더 등 다양한 촬상 장치일 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 촬상부(110)는 동적 영상을 촬영할 수 있는 장치일 수도 있다.
촬상부(110)는 챔버(CH)의 투과창을 통해 기판(SUB)을 촬영할 수 있다. 촬상부(110)는 다양한 각도로 설치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제1 촬상부(102)는 기판(SUB)의 법선과 나란한 방향으로 배치될 수 있고, 제2 촬상부(104)는 기판(SUB)의 법선과 교차하는 방향으로 배치될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 실시예에 있어서, 제1 촬상부(102) 및 제2 촬상부(104) 각각은 동일한 방향으로 배치될 수 있다. 일 예로, 제1 촬상부(102) 및 제2 촬상부(104) 각각은 기판(SUB)의 법선과 나란한 방향으로 배치될 수 있다. 다른 예로, 제1 촬상부(102) 및 제2 촬상부(104) 각각은 기판(SUB)의 법선과 교차하는 방향으로 배치될 수 있다.
촬상부(110)는 적어도 2개 이상 설치될 수 있다. 예를 들어, 촬상부(110)는 기판(SUB)의 중앙부 및 상기 중앙부를 둘러싸는 외곽부를 촬영할 수 있는 위치들에 설치될 수 있다.
촬상 제어부(120)는 촬상부(110)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 촬상 제어부(120)는 촬상부(110)의 상기 촬영 각도, 셔터 속도 등을 제어할 수 있다. 상기 촬영 각도는 촬상부(110)의 설치 각도 또는 촬상부(110)에 포함된 렌즈의 구동 각도를 조절하여 변경될 수 있다.
분석 유닛(200)은 입력 영상(ID)의 밝기 데이터를 계조 데이터(GD)로 변환할 수 있다. 또한, 계조 데이터(GD)에 기초하여 화소 영역(예를 들어, 도 3의 화소 영역(POS))의 막 형상을 분석할 수 있다. 이를 위해, 분석 유닛(200)은 영역 설정부(210), 변환부(220), 분석부(230) 및 매칭부(240)를 포함할 수 있다.
영역 설정부(210)는 입력 영상(ID)에서 적어도 하나의 상기 화소 영역을 관심 영역(예를 들어, 도 3의 관심 영역(ROI))으로 설정할 수 있다. 일 예로, 적색 화소 영역, 녹색 화소 영역 및 청색 화소 영역 각각을 관심 영역으로 설정할 수 있다. 다른 예로, 복수의 적색 화소 영역들을 관심 영역으로 설정하여 평균화 할 수 있다.
변환부(220)는 상기 관심 영역의 상기 밝기 데이터를 계조 데이터(GD)로 변환할 수 있다. 일 예로, 상기 액적은 곡률을 가질 수 있다. 그에 따라 상기 밝기 데이터는 상기 화소 영역 내 위치 별로 다른 값을 가질 수 있다. 상기 계조 데이터는 백색(white)일 때 가장 큰 값인 255를 가질 수 있고, 흑색(black)일 때 가장 작은 값인 0을 가질 수 있다. 다른 예로, 상기 화소 영역 내의 위치 별 상기 밝기 데이터는 동일한 값을 가질 수도 있다. 상기 건조 막의 표면이 평평한 경우, 상기 평평한 위치들의 계조 데이터(GD) 값들은 동일할 수 있다.
분석부(230)는 계조 데이터(GD)를 해석 및 분석할 수 있다. 상기 공정이 진행되는 동안 계조 데이터(GD)는 상기 화소 영역 내 위치 별로 다른 값을 가질 수 있다. 계조 데이터(GD)를 분석함으로써 상기 건조 막 형상의 변화를 분석할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 분석부(230)는 상기 화소 영역 내 상기 위치 별 상기 액적의 두께를 계조 데이터(GD)로 변환시킬 수 있다. 역으로, 분석부(230)는 상기 화소 영역 내 위치 별 계조 데이터(GD)를 상기 액적의 상기 두께로 변환시킬 수도 있다. 이를 통해, 공정이 진행되는 동안 상기 화소 영역 내 상기 위치 별 상기 건조 막의 두께를 확인하고, 저장할 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 분석부(230)는 각도 산출부를 더 포함할 수 있다. 상기 각도 산출부는 입력 영상(ID)에 기초하여 상기 용액의 액적 각도를 산출할 수 있다. 전술한 바와 같이, 촬상부(110)는 다양한 각도로 상기 액적을 촬영할 수 있다. 분석부(230)는 상기 다양한 각도로 촬영 된 입력 영상(ID)을 상기 액적 각도에 관한 데이터로 변환시킬 수 있다. 분석부(230)는 상기 액적 각도에 관한 데이터를 이용하여 상기 액적의 두께를 산출할 수도 있다.
매칭부(240)는 상기 화소 영역 내 상기 위치 별 계조 데이터(GD)의 수평 구간을 상기 공정 조건에 매칭할 수 있다. 예를 들어, 분석부(230)는 건조가 진행되는 동안 챔버(CH) 내의 압력 변화에 따른 상기 화소 영역 에서의 상기 건조 막의 형상 변화를 분석할 수 있다. 보다 자세하게는, 건조가 시작되는 챔버(CH)의 내부 압력 조건, 상기 건조 막의 형상이 평탄해지는 감압 프로파일, 상기 건조 공정을 진행한 후의 상기 건조 막의 형상(예를 들어, 상기 건조 막의 두께) 등을 분석할 수 있다. 상기 분석 된 데이터들은 저장부(310)에서 데이터 베이스로 구축될 수 있고, 조건 생성부(320)에서 공정 레시피 생성 시 활용될 수 있다.
제어 유닛(300)은 각종 데이터들을 저장하고, 상기 저장된 데이터들을 기초로 공정 레시피를 생성하고, 상기 생성된 공정 레시피를 적용하여 상기 건조 공정을 자동으로 진행함으로써 원하는 막 형상의 형성을 제어할 수 있다. 이를 위해, 제어 유닛(300)은 저장부(310), 조건 생성부(320) 및 설비 제어부(330)를 포함할 수 있다.
저장부(310)는 촬영 유닛(100), 분석 유닛(200) 및 제어 유닛(300)의 다른 구성요소들로부터 각종 데이터들을 수집하여 저장할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 저장부(310)는 촬영 유닛(100)의 동작에 필요한 각종 데이터들을 수집하여 저장할 수 있다. 예를 들어, 저장부(310)는 셔터 스피드 등을 수집하여 저장할 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 저장부(310)는 분석 유닛(200)에서 변환 및 분석된 데이터들을 수집하여 저장할 수 있다. 예를 들어, 저장부(310)는 챔버(CH)의 공정 조건, 기판(SUB) 상에 토출 되는 용액의 특성, 입력 영상(ID) 및 계조 데이터(GD) 등을 수집하여 저장할 수 있다. 상기 공정 조건에 포함되는 공정 인자들의 예로는, 기판(SUB)의 높이(H1), 배플(BA)과 기판(SUB) 사이의 거리(H2), 챔버(CH)의 내부 압력, 기판(SUB)의 온도 등을 포함할 수 있다. 상기 공정 인자들은 상기 공정 조건을 찾기 위한 과정에서 변경될 수 있다.
제어 유닛(300)은 머신 러닝 시스템을 더 포함할 수 있다. 상기 머신 러닝 시스템은 하나 이상의 데이터 수집 회로 및 분석 시스템을 포함할 수 있다.
상기 데이터 수집 회로는 다양한 데이터 표본들을 수집할 수 있다. 예를 들어, 상기 데이터 수집 회로는 촬영 유닛(100)에 의해 촬영된 이미지(예를 들어, 도 3의 입력 영상(ID)), 상기 촬영된 이미지로부터 변환 된 계조 데이터(예를 들어, 도 4 및 도 5의 계조 데이터들(GD1, GD2)), 상기 촬영 이미지와 상기 계조 데이터의 융합 데이터(image fusion data), 챔버(CH) 내의 압력 데이터, 기판(SUB)의 온도 데이터, 기판(SUB) 상에 토출 된 용액의 특성 등을 수집할 수 있다.
상기 데이터 수집 회로는 상기 건조 공정의 한 주기 동안 데이터 표본을 여러 번 수집할 수 있다. 예를 들어, 상기 데이터 수집 회로는 매 초당 400 프레임으로 상기 데이터 표본을 수집할 수 있다.
상기 분석 시스템은 훈련 모듈 및 분석 모듈을 포함할 수 있다.
상기 분석 시스템은 연관 메모리를 갖는 하나 이상의 프로세서를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 프로세서는 응용 주문형 집적 회로(application specific integrated circuit, ASIC), 범용 또는 특수 목적의(general or special purpose) 중앙 처리 장치(central processing unit, CPU), 디지털 신호 처리기(digital signal processor, DSP), 그래픽 처리 장치(graphics processing unit, GPU), FPGA(field programmable gate array) 등을 포함할 수 있다.
상기 훈련 모듈은 상기 용액의 특성, 챔버(CH)의 상기 공정 조건에 따라 형성 된 상기 화소 영역의 상기 막 형상을 분류하기 위한 복수의 기계 학습 모델들을 생성 및 훈련시킬 수 있다.
상기 복수의 기계 학습 모델들의 생성 및 훈련은 상기 데이터 수집 회로가 제공한 훈련 데이터에 기초할 수 있다. 예를 들어, 상기 훈련 모듈은 상기 데이터 수집 회로에서 상기 훈련 데이터 세트를 수집하고, 상기 훈련 데이터 세트를 이용하여 상기 화소 영역의 상기 막 형상을 분석하는 상기 분석 모델을 훈련시킬 수 있다.
상기 분석 모델은 서로 다른 유형의 상기 데이터 수집 회로에서 수집된 데이터를 이용하여 독립적으로 훈련 된 둘 이상의 신경망(neural network)이 통합된 동시 융합 모델(joint fusion model)일 수 있다. 선택적으로, 상기 분석 모델은 상기 데이터 수집 회로로부터 수집된 단일 데이터 소스를 사용하여 훈련된 심층 신경망(deep neural network)일 수도 있다.
조건 생성부(320)는 상기 용액의 특성 및 원하는 최종 막(즉, 상기 건조 막)의 형상이 입력되면, 저장부(310)에 저장된 데이터를 기초로 공정 레시피를 생성할 수 있다. 상기 공정 레시피는 상기 공정 조건을 찾기 위한 과정에서 변경 된 상기 공정 인자들이 적용된 공정 과정으로 정의될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 최종 막의 형상은 상기 최종 막의 두께를 포함할 수 있고, 상기 공정 레시피는 상기 챔버 내의 감압 프로파일을 포함할 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 기존 데이터를 기초로 상기 공정 조건에 대한 신규 잉크의 반응 정도를 분석하여 상기 신규 잉크에 적합한 신규 공정 레시피를 생성할 수 있다.
설비 제어부(330)는 조건 생성부(320)에서 생성된 상기 공정 레시피 를 적용하여 감압 건조 장치(RPDE)의 동작을 자동으로 제어할 수 있다. 예를 들어, 설비 제어부(330)는 감압 건조 장치(RPDE)로 출력 데이터(OD)를 전송할 수 있다. 출력 데이터(OD)는 상기 신규 공정 레시피를 포함할 수 있다. 출력 데이터(OD)를 수신한 감압 건조 장치(RPDE)는 상기 신규 공정 레시피에 따라 자동으로 상기 건조 공정을 수행할 수 있다.
도 3은 도 1의 기판 검사 장치에 포함된 촬영 유닛에 의해 획득 된 입력 영상의 일 예시이다. 도 4는 도 1의 기판 검사 장치에 포함된 분석 유닛에 의해 변환 된 계조 데이터의 일 예시이다.
도 3을 참조하면, 기판(SUB)은 복수의 화소들을 포함할 수 있다. 기판(SUB)은 표시 영역 및 비표시 영역으로 구획될 수 있다. 상기 표시 영역은 상기 복수의 화소들에서 방출된 광이 조합되어 영상이 표시되는 영역일 수 있다. 상기 비표시 영역은 상기 표시 영역을 둘러싸는 영역일 수 있다.
상기 복수의 화소들은 기판(SUB) 상에 매트릭스 형태로 배열될 수 있다. 상기 복수의 화소들은 적색 광을 방출하는 적색 화소, 녹색 광을 방출하는 녹색 화소 및 청색 광을 방출하는 청색 화소를 포함할 수 있다.
입력 영상(ID) 중 적어도 하나의 화소 영역(POS)을 관심 영역(ROI)으로 설정할 수 있다. 일 예로, 적색 화소 영역, 녹색 화소 영역 및 청색 화소 영역 각각을 관심 영역으로 설정할 수 있다. 다른 예로, 복수의 적색 화소 영역들을 관심 영역으로 설정하여 평균화 할 수 있다.
입력 영상(ID)은 기판(SUB) 상에 배열된 복수의 화소 영역(POS)들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 입력 영상(ID)은 24개의 화소 영역(POS)들을 포함할 수 있다.
잉크 액적(DR)은 기판(SUB) 상의 화소 영역(POS)에 형성될 수 있다. 잉크 액적(DR)은 토출 공정을 통해 형성될 수 있다. 자세하게는, 잉크 액적(DR)은 잉크젯 헤드에서 잉크가 토출 되어 형성될 수 있다.
잉크 액적(DR)은 발광층 형성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 잉크 액적(DR)은 양자점을 포함할 수 있다.
잉크 액적(DR)은 상기 토출 공정 후 상기 건조 공정을 거칠 수 있다. 예를 들어, 상기 건조 공정은 경화 공정을 포함할 수 있다. 상기 건조 공정은 잉크 액적(DR) 내의 용매가 증발하는 것을 의미할 수 있다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 입력 영상(ID)은 계조 데이터(GD)로 변환될 수 있다. 화소 영역(POS)은 중심 영역(A1) 및 중심 영역(A1)을 둘러싸는 외곽 영역(A2)을 포함할 수 있다.
중심 영역(A1)의 계조 데이터는 외곽 영역(A2)의 계조 데이터보다 클 수 있다. 예를 들어, 중심 영역(A1)은 가장 큰 값인 255를 가질 수 있고, 외곽 영역(A2)은 중심 영역(A1)의 계조 데이터보다 작은 값인 10을 가질 수 있다.
도 1 내지 도 4를 참조하여 전술한 바와 같이, 기판 검사 장치(1)는 촬상부(110) 및 변환부(220)를 포함할 수 있다. 촬상부(110)는 기판(SUB)을 촬영하여 입력 영상(ID)을 획득할 수 있다. 변환부(220)는 입력 영상(ID)을 계조 데이터(GD)로 변환하여 기판(SUB)의 각 위치 별 건조 상태 및 화소 영역(POS) 내 위치 별 건조 상태를 분석할 수 있다. 그에 따라, 기판 검사 장치(1)는 화소 영역(POS) 내 상기 건조 공정을 정밀하게 제어하여 상기 건조 막 두께의 균일도를 향상시킬 수 있다.
또한, 기판 검사 장치(1)는 분석부(230), 매칭부(240), 저장부(310) 및 조건 생성부(320)를 포함할 수 있다. 분석부(230)는 상기 공정 조건의 변화에 따른 상기 액적 형상의 변화를 자동으로 분석할 수 있다. 또는 분석부(230)는 상기 용액의 특성의 변화에 따른 상기 액적 형상의 변화를 자동으로 분석할 수 있다. 매칭부(240)는 상기 분석 데이터를 상기 공정 조건과 매칭할 수 있다. 저장부(310)는 입력 영상(ID), 계조 데이터(GD) 및 공정 조건(PCD) 등을 포함하는 데이터 베이스를 구축할 수 있다. 조건 생성부(320)는 상기 용액의 종류, 상기 공정 조건 등이 변경되더라도 상기 데이터 베이스를 이용하여 상기 원하는 건조 막의 형상을 형성하기 위한 상기 공정 레시피를 자동으로 생성할 수 있다.
또한, 기판 검사 장치(1)는 설비 제어부(330)를 포함할 수 있다. 설비 제어부(330)는 조건 생성부(320)에서 생성된 상기 공정 레시피를 적용하여 감압 건조 장치(RPDE)의 동작을 자동으로 제어할 수 있다.
도 5 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 방법을 설명하기 위한 도면들이다. 이하에서는, 도 1 내지 도 4를 참조하여 전술한 기판 검사 장치(1)와 중복된 설명은 생략하거나 간략히 한다.
도 5를 참조하면, 챔버(CH)에 용액이 도포 된 기판(SUB)을 배치시킬 수 있다(S100).
용액이 도포 된 기판(SUB)은 프린팅 공정을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 기판(SUB) 상에 소자 배선층, 제1 전극, 화소 정의막을 순차로 형성한 후, 유기물층을 상기 프린팅 공정을 통해 형성할 수 있다.
기판(SUB)은 절연 물질을 포함할 수 있다. 일 예로, 리지드 한 특성을 갖는 기판(SUB)은 글라스(glass)를 포함할 수 있다. 다른 예로, 플렉서블 한 특성을 갖는 기판(SUB)은 폴리이미드(polyimide)를 포함할 수 있다.
상기 소자 배선층은 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 박막 트랜지스터는 산화물 반도체를 포함하는 액티브 영역을 포함할 수 있다. 다른 예로, 상기 박막 트랜지스터는 실리콘을 포함하는 액티브 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 박막 트랜지스터는 비정질 실리콘, 다결정 실리콘, 단결정 실리콘 등을 포함할 수 있다.
상기 제1 전극은 포토리소그래피 방법으로 형성될 수 있다. 일 예로, 상기 제1 전극은 투명 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 투명 산화물은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(Zinc Oxide) 등을 포함할 수 있다. 다른 예로, 상기 제1 전극은 금속을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 금속은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 등을 포함할 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 서로 조합되어 사용될 수 있다.
상기 제1 전극은 상기 박막 트랜지스터에 포함된 적어도 하나의 전극에 연결될 수 있다. 일 예로, 상기 제1 전극은 애노드 전극일 수 있다. 상기 애노드 전극은 상기 박막 트랜지스터에 포함된 적어도 하나의 전극으로부터 인가 된 신호를 전달받아 상기 유기물층에 포함된 발광층으로 정공을 제공할 수 있다. 다른 예로, 상기 제1 전극은 캐소드 전극일 수 있다. 상기 캐소드 전극은 상기 발광층으로 전자를 제공할 수 있다.
상기 화소 정의막은 포토리소그래피 방법으로 형성될 수 있다. 일 예로, 상기 화소 정의막은 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 화소 정의막은 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB), 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리아마이드(polyamide, PA), 아크릴 수지, 페놀 수지 등을 포함할 수 있다. 다른 예로, 상기 화소 정의막은 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 화소 정의막은 실리콘 질화물 등을 포함할 수 있다.
상기 화소 정의막은 발액성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 화소 정의막은 유기 용액에 대한 접촉각이 약 40도 이상인 절연 물질을 포함할 수 있다. 상기 절연 물질은 플루오린을 포함하는 고분자 수지 등을 포함할 수 있다.
상기 화소 정의막은 기판(SUB) 상에 상기 제1 전극을 노출하는 개구부를 가질 수 있다. 상기 화소 정의막은 복수의 화소들 각각을 구획할 수 있다.
상기 유기물층은 용액 도포 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 유기물층은 잉크젯 프린트 방법, 노즐 프린트 방법 등으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 기판(SUB) 상에 복수의 노즐들을 포함하는 잉크젯 헤드로부터 용액을 토출하여 상기 유기물층을 형성할 수 있다.
상기 용액은 유기 물질 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 용액은 상기 화소 정의막에 의해 정의된 상기 개구부로 토출 되어 정공 주입층, 정공 수송층, 상기 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층을 형성할 수 있다.
다음으로, 배기 공정을 통해 챔버(CH)의 내부 압력을 감소시킬 수 있다. 상기 배기 공정은 펌프(PU)를 이용하여 챔버(CH) 내부의 상기 가스를 챔버(CH) 외부로 배출하는 공정일 수 있다. 상기 배기 공정은 상기 용액을 건조시키는 공정일 수 있다.
기판(SUB)의 상기 중앙부에서의 증발 속도와 및 상기 중앙부를 둘러싸는 기판(SUB)의 상기 외곽부에서의 증발 속도는 서로 다를 수 있다. 예를 들어, 기판(SUB)의 상기 외곽부에서의 상기 증발 속도가 기판(SUB)의 상기 중앙부에서의 상기 증발 속도보다 더 빠를 수 있다. 이로 인해, 기판(SUB)의 상기 중앙부 상에 형성된 상기 유기물층의 두께와 기판(SUB)의 상기 외곽부 상에 형성된 상기 유기물층의 두께는 서로 다를 수 있다. 상기 증발 속도 차이가 클수록 상기 유기물층의 두께 차이도 커질 수 있다.
불활성 가스를 기판(SUB)을 향한 방향으로 분사하여 기판(SUB) 상의 상기 용액에서 상기 용매가 증발할 때 발생하는 상기 가스의 배기 경로를 단축시키는 기류를 형성 할 수 있다. 예를 들어, 상기 불활성 가스는 N2 가스, Ar 가스, H2 가스, CO 가스 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 서로 조합되어 사용될 수 있다. 상기 불활성 가스를 기판(SUB)에 분사하여 상기 유기물층을 평탄하게 형성할 수 있다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 기판(SUB)을 촬영한 입력 영상이 획득될 수 있다(S200).
기판(SUB) 상에 액적을 도포하면, 상기 액적의 단면은 상면이 볼록한 형상(도 6(a) 참고)에서 시작하고, 평탄한 상면(도 6(c) 참고)을 가진 후, 오목한 형상(도 6(e) 참고)을 가질 수 있다.
도 7 내지 도 10을 참조하면, 입력 영상(ID)의 밝기 데이터를 계조 데이터(GD)로 변환하고, 계조 데이터(GD)를 기초로 화소 영역(POS)의 막 형상이 분석될 수 있다. 상기 막 형상은 상기 건조 공정을 거치면서 변화되는 화소 영역(POS) 내에 도포 된 액적(예를 들어, 도 6의 액적(DR)) 표면의 형상들을 의미할 수 있다.
도 7에 도시된 바와 같이, 입력 영상(ID)에서 적어도 하나의 화소 영역(POS)이 관심 영역(ROI)으로 설정될 수 있다(S310).
입력 영상(ID)에는 복수의 액적(DR)들이 포착될 수 있다. 복수의 액적(DR)들 각각은 상기 건조 공정을 거친 후 동일한 막 두께를 갖는 상기 건조 막을 형성할 수 있다. 선택적으로, 복수의 액적(DR)들 각각은 서로 다른 막 두께를 갖는 상기 건조 막을 형성할 수도 있다.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 관심 영역(ROI)의 밝기 데이터는 계조 데이터(GD)로 변환될 수 있다(S320).
관심 영역(ROI)은 적어도 하나의 화소 영역(POS)을 포함할 수 있다. 화소 영역(POS)은 중심 영역(A1) 및 중심 영역(A1)을 둘러싸는 외곽 영역(A2)을 포함할 수 있다.
중심 영역(A1)에서 반사된 빛의 강도와 외곽 영역(A2)에서 반사된 빛의 강도는 서로 다를 수 있다. 예를 들어, 중심 영역(A1)에서 반사된 빛의 강도는 외곽 영역(A2)에서 반사된 빛의 강도보다 클 수 있다. 그에 따라, 중심 영역(A1)의 계조 데이터(GD) 값은 외곽 영역(A2)의 계조 데이터(GD) 값보다 클 수 있다.
도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 화소 영역(POS)의 위치 별 계조 데이터(GD)의 수평 구간(L1)은 공정 조건과 매칭될 수 있다(S330).
예를 들어, 화소 영역(POS)의 위치 별 계조 데이터(GD)의 수평 구간(L1)의 길이 변화는 챔버(CH) 내부의 압력 변화(즉, 감압 프로파일(PP)과 매칭될 수 있다.
건조 공정이 시작 될 때(T0), 상기 챔버의 내압은 표준 상태(STP)와 같을 수 있다(도 7(a) 참고).
초기 건조 단계(T1)에서, 상기 챔버의 내압은 제1 압력(P1)을 가질 수 있다(도 7(b) 참고). 초기 건조 단계(T1)에서 액적의 상면은 볼록한 형상으로부터 평탄한 형상으로 변할 수 있다. 그에 따라, 계조 데이터(GD)의 수평 구간(L1)의 길이는 증가하는 경향을 가질 수 있다.
중간 건조 단계(T2)에서, 상기 액적의 상면은 상기 평탄한 형상으로부터 오목한 형상으로 변할 수 있다. 그에 따라, 계조 데이터(GD)의 수평 구간(L1)의 길이는 감소하는 경향을 가질 수 있다(도 7(d) 참고). 이 때, 상기 챔버의 내압은 제2 압력(P2)을 가질 수 있다.
상기 건조 공정을 거치면서 상기 챔버의 내압은 감소될 수 있다. 다시 말하면, 중간 건조 단계(T2)의 제2 압력(P2)은 초기 건조 단계(T1)의 제1 압력(P1)보다 더 작은 값을 가질 수 있다. 상기 공정 인자들을 변경하면서 감압 프로파일(PP)과 액적(예를 들어, 도 7의 액적(DR)) 표면의 형상 변화(즉, 화소 영역(POS)의 위치 별 계조 데이터(GD)의 수평 구간(L1)의 길이 변화)를 매칭시키는 단계가 반복될 수 있다. 이를 통해, 상기 공정 인자들과 상기 건조 막의 형상과의 관계가 분석될 수 있다.
다시 도 5를 참조하면, 상기 기판 검사 방법은 데이터들을 저장하는 단계, 신규 공정 레시피를 도출하는 단계 및 설비를 자동으로 제어하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 데이터들은 제어 유닛(300)의 저장부(예를 들어, 도 2의 저장부(310))에 저장될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 저장부는 상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상, 상기 계조 데이터 등을 저장할 수 있다.
상기 신규 공정 레시피는 제어 유닛(300)의 조건 생성부(예를 들어, 도 2의 조건 생성부(320))에서 생성할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 신규 공정 레시피는 상기 용액의 특성, 최종 막의 형상을 입력하고, 상기 저장부에 저장된 데이터들을 기초로 생성될 수 있다. 이를 위해, 상기 저장부는 표준 공정 레시피들을 더 포함할 수 있다. 상기 표준 공정 레시피들은 소정의 막 형상을 형성하기 위한 공정 조건들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 신규 공정 레시피는 감압 프로파일을 포함할 수 있다. 상기 감압 프로파일은 시간에 따른 상기 챔버 내압의 변화를 의미할 수 있다.
도 11을 참조하면, 상기 신규 공정 레시피를 통해 상기 최종 막의 형상을 정밀하게 제어할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 신규 공정 레시피는 발광 면적이 큰 공정 조건들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 신규 공정 레시피는 잉크(INK) 종류에 따라 평탄면의 길이(LE1)가 가장 큰 최종 막을 생성할 수 있는 공정 조건들을 포함할 수 있다. 상기 발광 면적은 평탄면의 길이(LE1)가 클수록 커질 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 최종 막의 형상을 입력 하는 단계는 상기 최종 막의 두께를 입력 하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 신규 공정 레시피는 상기 최종 막이 소정의 두께(LE2)를 갖는 공정 조건들을 포함하도록 생성될 수 있다. 소정의 두께(LE2)는 공진 두께에 해당할 수 있다. 상기 공진 두께는 보강 간섭을 일으켜 발광 효율을 개선할 수 있는 상기 최종 막의 두께를 의미할 수 있다.
즉, 상기 신규 공정 레시피는 상기 최종 막이 상기 공진 두께를 가질 수 있는 공정 조건들을 포함할 수 있다. 이 때, 상기 신규 공정 레시피는 상기 저장부에 저장된 데이터들을 기초로 생성될 수 있다. 상기 신규 공정 레시피는 화소 정의막(PDL)에 의해 정의되는 상기 개구부 내에 토출 되어야 하는 잉크(INK) 양을 포함할 수 있다.
도 12를 참조하면, 상기 신규 공정 레시피를 적용한 건조 공정이 자동으로 진행될 수 있다.
기판(SUB) 상에 복수의 유기물층들(LA1, LA2)이 순차로 형성될 수 있다. 복수의 유기물층들(LA1, LA2) 각각은 화소 정의막(PDL)에 의해 정의된 상기 개구부에 잉크(INK)가 토출 되어 형성될 수 있다.
제1 유기물층(LA1)은 화소 정의막(PDL)에 의해 정의되는 개구부의 위치 별로 두께가 다를 수 있다. 예를 들어, 제1 위치(PO1)에서 제1 유기물층(LA1)의 두께는 제2 위치(PO2)에서 제1 유기물층(LA1)의 두께보다 클 수 있다. 제2 위치(PO2)는 상기 개구부의 중앙부일 수 있다. 제1 위치(PO1)는 상기 중앙부를 둘러싸고, 화소 정의막(PDL)에 인접한 위치일 수 있다.
상기 발광 영역의 상면이 평탄하기 위해, 제2 유기물층(LA2)은 상기 위치 별로 두께가 다를 수 있다. 예를 들어, 제1 위치(PO1)에서 제2 유기물층(LA2)의 두께는 제2 위치(PO2)에서 제2 유기물층(LA2)의 두께보다 클 수 있다. 상기 신규 공정 레시피는 상기 위치 별 두께를 갖도록 제2 유기물층(LA2)을 형성하기 위한 공정 조건들을 포함할 수 있다.
감압 건조 장치(예를 들어, 도 5의 감압 건조 장치(RPDE))는 상기 신규 공정 레시피를 적용한 건조 공정을 자동으로 진행 할 수 있다.
도 13을 참조하면, 입력 영상(예를 들어, 도 9의 입력 영상(ID))을 기초로 액적 각도가 산출될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 입력 영상은 다양한 각도에서 획득될 수 있다. 예를 들어, 상기 입력 영상은 다양한 각도로 설치된 촬영 유닛들(100a, 100b)로부터 획득될 수 있다.
상기 다양한 각도에서 획득 된 상기 입력 영상은 계조 데이터(예를 들어, 도 10의 계조 데이터(GD))로 변환될 수 있다. 상기 계조 데이터의 수평 구간(예를 들어, 도 11의 수평 구간(L1))의 길이를 통해 잉크(INK) 액적 각도가 산출될 수 있다.
계조 데이터의 수평 구간(L1)의 길이는 잉크(INK) 액적 각도와 상기 입력 영상의 촬영 각도가 동일할 때 가장 클 수 있다. 상기 액적 각도를 통해 최종 막의 두께가 산출될 수 있다.
상술한 바에서는, 본 발명의 예시적인 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 것이다.
본 발명은 표시 장치를 구비할 수 있는 다양한 디스플레이 기기들의 제조 공정에 적용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명은 고해상도 스마트폰, 휴대폰, 스마트패드, 스마트 워치, 태블릿 PC, 차량용 네비게이션 시스템, 텔레비전, 컴퓨터 모니터, 노트북 등에 적용될 수 있다.
100 : 촬영 유닛 200 : 분석 유닛
300 : 제어 유닛 CH : 챔버
SUB : 기판 DR : 액적
GD1 : 제1 계조 데이터 GD2 : 제2 계조 데이터
POS : 화소 영역 A1 : 중심 영역
A2 : 외곽 영역 ROI : 관심 영역
RPDE : 감압 건조 장치

Claims (20)

  1. 챔버 내에 배치되고 용액이 도포 된 기판을 촬영하여 입력 영상을 획득하는 촬영 유닛; 및
    상기 입력 영상의 밝기 데이터를 계조 데이터로 변환하고, 상기 계조 데이터를 기초로 화소 영역의 막 형상을 분석하는 분석 유닛을 포함하는 기판 검사 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 분석 유닛은,
    상기 입력 영상에서 적어도 하나의 화소 영역을 관심 영역으로 설정하는 영역 설정부;
    상기 관심 영역의 밝기 데이터를 상기 계조 데이터로 변환하는 변환부; 및
    상기 화소 영역의 위치 별 상기 계조 데이터의 수평 구간을 상기 챔버의 공정 조건과 매칭시키는 매칭부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 화소 영역이 중심 영역 및 이를 둘러싸는 외곽 영역을 포함하고,
    상기 중심 영역의 계조 데이터는 상기 외곽 영역의 계조 데이터보다 큰 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상 및 상기 계조 데이터를 저장하는 저장부를 포함하는 제어 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제어 유닛은
    상기 용액의 특성, 최종 막의 형상을 입력하면 상기 저장부에 저장된 데이터를 기초로 공정 레시피를 도출하는 조건 생성부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 최종 막의 형상은, 상기 최종 막의 두께를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 공정 레시피는, 상기 챔버 내의 감압 프로파일을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  8. 제5항에 있어서, 상기 제어 유닛은,
    상기 조건 생성부에서 생성된 공정 레시피로 감압 건조 공정을 자동으로 진행시키도록 상기 챔버를 제어하는 설비 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 촬영 유닛은 상기 기판의 법선과 교차하는 방향으로 배치된 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 분석 유닛은,
    상기 입력 영상을 기초로 상기 용액의 액적 각도를 산출하는 각도 산출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
  11. 챔버 내에 용액이 도포 된 기판을 배치하는 단계;
    상기 기판을 촬영하여 입력 영상을 획득하는 단계; 및
    상기 입력 영상의 밝기 데이터를 계조 데이터로 변환하고, 상기 계조 데이터를 기초로 화소 영역의 막 형상을 분석하는 단계를 포함하는 기판 검사 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 막 형상을 분석하는 단계는,
    상기 입력 영상에서 적어도 하나의 화소 영역을 관심 영역으로 설정하는 단계;
    상기 관심 영역의 밝기 데이터를 상기 계조 데이터로 변환하는 단계; 및
    상기 화소 영역의 위치 별 상기 계조 데이터의 수평 구간을 상기 챔버의 공정 조건과 매칭시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 화소 영역이 중심 영역 및 이를 둘러싸는 외곽 영역을 포함하고,
    상기 중심 영역의 계조 데이터는 상기 외곽 영역의 계조 데이터보다 큰 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상 및 상기 계조 데이터를 저장하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 용액의 특성, 최종 막의 형상을 입력하는 단계; 및
    상기 챔버의 공정 조건, 상기 용액의 특성, 상기 입력 영상 및 상기 계조 데이터를 기초로 공정 레시피를 도출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 최종 막의 형상을 입력하는 단계는,
    상기 최종 막의 두께를 입력하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 공정 레시피를 도출하는 단계는,
    상기 챔버 내의 감압 프로파일을 도출하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  18. 제15항에 있어서, 상기 공정 레시피를 도출하는 단계 후에,
    상기 공정 레시피로 감압 건조 공정을 자동으로 진행시키도록 상기 챔버를 제어하는 설비 제어 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  19. 제11항에 있어서, 상기 입력 영상은 상기 기판의 법선과 교차하는 방향으로 배치된 촬영 유닛으로부터 획득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 막 형상을 분석하는 단계는,
    상기 입력 영상을 기초로 상기 용액의 액적 각도를 산출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
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