KR20240072041A - Retardation film-forming composition, method for producing retardation film and retardation plate - Google Patents

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히로키 나카타
도시유키 우에노
노부유키 하타나카
나오코 이누이
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스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
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Abstract

(과제) 종래보다 낮은, 예를 들어 100 ℃ 를 하회하는 낮은 온도에서 용제를 제거하는 공정을 채용하여 제막하는 것이 가능하고, 또한, 제막시의 불균일의 발생을 억제하여, 광학 특성이 우수한 위상차막을 형성할 수 있는 위상차막 형성용 조성물을 제공하는 것.
(해결 수단) 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하에 네마틱 액정 상전이 온도를 갖는 중합성 액정 화합물과, 서로 상이한 비점을 갖는 적어도 2 종의 유기 용제 A 와 유기 용제 B 를 포함하고,
상기 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도를 X (℃), 유기 용제 A 의 비점을 Ta (℃), 유기 용제 B 의 비점을 Tb (℃) 로 한 경우에, 하기 식 (1) ∼ (3) :
Tb - Ta ≥ 10 (℃) (1)
Ta < X - 30 (℃) (2)
Tb > X - 70 (℃) (3)
을 만족하는, 위상차막 형성용 조성물.
(Problem) It is possible to form a film by employing a process for removing the solvent at a lower temperature than before, for example, below 100°C, and suppress the occurrence of unevenness during film formation to form a retardation film with excellent optical properties. Providing a composition for forming a phase contrast film that can be formed.
(Solution) A polymerizable liquid crystal compound having a nematic liquid crystal phase transition temperature of 100°C or higher and 200°C or lower, and at least two organic solvents A and organic solvent B having different boiling points from each other,
When the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound is set to 3):
Tb - Ta ≥ 10 (℃) (1)
Ta < X - 30 (℃) (2)
Tb > X - 70 (℃) (3)
A composition for forming a phase contrast film that satisfies the above.

Description

위상차막 형성용 조성물, 위상차막의 제조 방법 및 위상차판{RETARDATION FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RETARDATION FILM AND RETARDATION PLATE}Composition for forming a phase contrast film, a method for manufacturing a phase contrast film, and a retardation plate {RETARDATION FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RETARDATION FILM AND RETARDATION PLATE}

본 발명은, 위상차막 형성용 조성물, 상기 위상차막 형성용 조성물을 사용하는 위상차막의 제조 방법, 상기 위상차막 형성용 조성물의 경화막을 포함하는 위상차판에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for forming a retardation film, a method for producing a retardation film using the composition for forming a retardation film, and a retardation plate comprising a cured film of the composition for forming a retardation film.

각종 화상 표시 장치에 사용되는 위상차막 (위상차 필름) 에는, 그 특성의 하나로서 전파장 영역에 있어서 편광 변환 가능한 것이 요구되어 있고, 예를 들어 [Re(450)/Re(550)] < 1 의 역파장 분산성을 나타내는 파장역에서는, 이론상, 균일한 편광 변환이 가능하다는 것이 알려져 있다. 예를 들어, 이른바 T 자형이나 H 형의 분자 구조를 갖는 중합성 액정 화합물은, 중합하여 경화시켰을 때에 역파장 분산성을 발현하는 경향이 있어, 위상차막의 형성용 재료로서 사용되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1).Retardation films (retardation films) used in various image display devices are required to be able to convert polarization in the full-wave range as one of their characteristics, for example, [Re(450)/Re(550)] < 1. It is known that, in theory, uniform polarization conversion is possible in a wavelength range showing reverse wavelength dispersion. For example, polymerizable liquid crystal compounds having so-called T-shaped or H-shaped molecular structures tend to exhibit reverse wavelength dispersion when polymerized and cured, and are used as materials for forming retardation films (e.g., Patent Document 1).

일본 공개특허공보 2019-191504호Japanese Patent Publication No. 2019-191504

중합성 액정 화합물로 형성되는 위상차막은, 예를 들어, 중합성 액정 화합물을 용제에 용해시켜 얻어지는 도공액을 지지 기재에 도포하여 도막을 형성한 후, 도막에 포함되는 중합성 액정 화합물을 액정상 상태로 전이시키고, 용제를 증류 제거함으로써 얻을 수 있다. 통상, 이러한 제막 (製膜) 방법은 용제를 증류 제거하기 위한 가열 건조 공정을 포함하지만, 최근, 환경 부하 저감의 관점에서 제막시의 저온화가 요구되고 있다.The retardation film formed from a polymerizable liquid crystal compound is, for example, formed by applying a coating solution obtained by dissolving a polymerizable liquid crystal compound in a solvent to a support substrate to form a coating film, and then forming a coating film by placing the polymerizable liquid crystal compound contained in the coating film in a liquid crystalline state. It can be obtained by transferring to and distilling off the solvent. Usually, such a film forming method includes a heat drying process to distill off the solvent, but in recent years, there has been a demand for lowering the temperature during film forming from the viewpoint of reducing environmental load.

그러나, 본 발명자 등의 검토에 의하면, 예를 들어 네마틱 상전이 온도가 100 ℃ 를 초과하는, 네마틱 상전이 온도가 비교적 높은 중합성 액정 화합물을 사용하는 종래의 위상차막 형성용 조성물에 있어서는, 용제 제거시의 건조 온도를 낮추면, 얻어지는 위상차막의 면내 위상차의 분포가 악화되기 쉬워져, 위상차 불균일을 발생시키는 경우가 있는 것을 알 수 있었다.However, according to studies by the present inventors and others, in the conventional composition for forming a retardation film using a polymerizable liquid crystal compound with a relatively high nematic phase transition temperature, for example, the nematic phase transition temperature exceeding 100°C, solvent removal is required. It was found that when the drying temperature of the poem is lowered, the distribution of the in-plane retardation of the obtained retardation film tends to deteriorate, causing retardation non-uniformity in some cases.

본 발명은, 종래보다 낮은, 예를 들어 100 ℃ 를 하회하는 낮은 온도에서 용제를 제거하는 공정을 채용하여 제막하는 것이 가능하고, 또한, 제막시의 불균일의 발생을 억제하여, 광학 특성이 우수한 위상차막을 형성할 수 있는 위상차막 형성용 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention makes it possible to form a film by employing a process for removing the solvent at a lower temperature than before, for example, less than 100°C, and also suppresses the occurrence of unevenness during film formation, thereby producing a phase difference film with excellent optical properties. The purpose is to provide a composition for forming a phase contrast film that can form a film.

본 발명은 이하의 바람직한 양태를 제공하는 것이다.The present invention provides the following preferred aspects.

[1] 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하에 네마틱 액정 상전이 온도를 갖는 중합성 액정 화합물과, 서로 상이한 비점을 갖는 적어도 2 종의 유기 용제 A 와 유기 용제 B 를 포함하고,[1] A polymerizable liquid crystal compound having a nematic liquid crystal phase transition temperature of 100°C or higher and 200°C or lower, and at least two organic solvents A and organic solvent B having different boiling points from each other,

중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도를 X (℃), 유기 용제 A 의 비점을 Ta (℃), 유기 용제 B 의 비점을 Tb (℃) 로 한 경우에, 하기 식 (1) ∼ (3) :When the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound is set to ) :

Tb - Ta ≥ 10 (℃) (1)Tb - Ta ≥ 10 (℃) (One)

Ta < X - 30 (℃) (2)Ta < X - 30 (℃) (2)

Tb > X - 70 (℃) (3)Tb > X - 70 (℃) (3)

을 만족하는, 위상차막 형성용 조성물.A composition for forming a phase contrast film that satisfies the above.

[2] 중합성 액정 화합물이 하기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (I) 을 포함하는, 상기 [1] 에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[2] The composition for forming a retardation film according to [1] above, wherein the polymerizable liquid crystal compound contains a polymerizable liquid crystal compound (I) represented by the following formula (I).

[화학식 1][Formula 1]

P1-E1-(B1-G1)k-L1-Ar-L2-(G2-B2)l-E2-P2 (I)P 1 -E 1 -(B 1 -G 1 ) k -L 1 -Ar-L 2 -(G 2 -B 2 ) l -E 2 -P 2 (I)

[식 (I) 중,[In formula (I),

L1, L2, B1 및 B2 는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,L 1 , L 2 , B 1 and B 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group,

G1 및 G2 는, 각각 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, and the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom or a C 1 to C 4 hydrocarbon group. It may be substituted with an alkyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group, oxygen atom, or sulfur It may be substituted with an atom or a nitrogen atom,

k 및 l 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수 (整數) 를 나타내고, 1 ≤ k + l 의 관계를 만족하고,k and l each independently represent an integer from 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≤ k + l,

E1 및 E2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -S-, -C(=O)- 로 치환되어 있어도 되고,E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 contained in the alkanediyl group - may be substituted with -O-, -S-, -C(=O)-,

P1 및 P2 는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고 (단, P1 및 P2 중의 적어도 1 개는 중합성기이다),P 1 and P 2 independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom (provided that at least one of P 1 and P 2 is a polymerizable group),

Ar 은, 식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중 어느 것으로 나타내는 기이다Ar is a group represented by any of the formulas (Ar-1) to (Ar-5)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00001
Figure pat00001

[식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중,[In formula (Ar-1) to (Ar-5),

* 는, 결합부를 나타낸다 ;* indicates a coupling part;

Q1 은 -S-, -O- 또는 -NR11- 를 나타내고, R11 은 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타내고,Q 1 represents -S-, -O- or -NR 11 -, R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent,

Q2 는 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다 ; Q 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent;

W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -NR11- 를 나타내고, R11 은 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다 ;W 1 and W 2 each independently represent -O-, -S-, -CO-, and -NR 11 -, and R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent;

Y1 은 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타내고,Y 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group,

Y2 는 CN 기 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -CO-, -O-CO- 또는 -CO-O- 로 치환되어 있어도 되고 ;Y 2 represents a CN group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 - contained in the alkyl group is -O- , -CO-, -O-CO- or -CO-O- may be substituted;

Z1, Z2 및 Z3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족 탄화수소기 또는 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 20 의 지환식 탄화수소기, 1 가의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR12R13 또는 -SR14 를 나타내고, Z1 및 Z2 는, 서로 결합하여 방향 고리 또는 방향족 복소 고리를 형성해도 되고, R12 ∼ R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다 ;Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -NR 12 R 13 or -SR 14 , Z 1 and Z 2 may combine with each other to form an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and R 12 to R 14 each represent Independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;

Ax 는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, Ay 는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, Ax 와 Ay 는 결합하여 고리를 형성해도 된다 ;Ax represents an organic group of 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle, and Ay is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms that may have a substituent, or represents an organic group of 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle; Ax and Ay may combine to form a ring;

Y3 및 Y4 는, 각각 독립적으로, 하기 식 (Y3-1) :Y 3 and Y 4 are each independently represented by the following formula (Y 3 -1):

[화학식 3][Formula 3]

[식 (Y3-1) 중,[In equation (Y 3 -1),

RY1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기는, 1 개 이상의 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고, 치환기 X3 은, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로술푸라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 하이드록실기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C- 로 치환되어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 직사슬형 또는 분기형 알킬기를 나타내고, 그 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 혹은, -B3-F3-P3 으로 나타내는 기여도 되고 (여기서, B3 은, -CR16R17-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR18-, -NR18-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-, -S-CH2-, -CH2-S- 또는 단결합을 나타내고, R13 및 R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고 ; F3 은, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR19 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, R19 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고 ; P3 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다),R Y1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms , and the alkyl group may be substituted by one or more substituents Fluorosulfuranyl group, nitro group, cyano group, isocyano group, amino group, hydroxyl group, mercapto group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, diisopropylamino group, trimethylsilyl group, dimethylsilyl group, thioi Isocyano group, or one -CH 2 - or two or more non-adjacent -CH 2 - are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S -, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH -, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C- represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted, and any of the alkyl groups The hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, or may be a group represented by -B 3 -F 3 -P 3 (where B 3 is -CR 16 R 17 -, -CH 2 -CH 2 -, -O- , -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -OC(=S)-, -OC(=S)- O-, -CO-NR 18 -, -NR 18 -CO-, -O-CH 2 -, -CH 2 -O-, -S-CH 2 -, -CH 2 -S- or a single bond, R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms; F 3 represents an alkanediyl group with 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with -OR 19 or a halogen atom, R 19 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, or -CH contained in the alkanediyl group. 2- may be substituted with -O- or -CO-; P 3 represents a hydrogen atom or a polymerizable group),

U1 은, 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기의 임의의 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어 있어도 되고, 방향족 탄화수소기는, 1 개 이상의 상기 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고 ;U 1 represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms having an aromatic hydrocarbon group, any carbon atom of the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hetero atom, and the aromatic hydrocarbon group may be substituted with one or more of the above substituents become ;

T1 은, -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -NU2-, -N=CU2-, -CO-NU2-, -OCO-NU2- 또는 O-NU2- 를 나타내고, U2 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기, 방향족 탄화수소기 (그 방향족 탄화수소기의 임의의 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어 있어도 된다) 를 갖는 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기, 또는 (E3-A3)q-B3-F3-P3 을 나타내고, 그 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알케닐기 및 방향족 탄화수소기는 각각, 무치환이거나 또는 1 개 이상의 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기는 그 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기 중의 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -SO2-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C- 로 치환되어도 되고, 그 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기 중의 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 는, 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO-, -OCO- 또는 O-CO-O- 로 치환되어도 되고, E3 은 상기 B3 과 동일하게 정의되고, A3 은, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기 및 그 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R20, -OR21, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R20 은, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, R21 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, B3, F3 및 P3 은, 각각, 상기 B3, F3 및 P3 과 동일한 의미를 갖고, q 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, E3 및/또는 A3 이 복수 존재하는 경우에는, 각각 동일해도 해도 상이해도 되고, U1 과 U2 가 결합하여 고리를 구성하고 있어도 된다]T 1 is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -NU 2 -, -N=CU 2 -, -CO-NU 2 -, -OCO-NU 2 - or O-NU 2 -, and U 2 is a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group with 3 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group with 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group (any of the aromatic hydrocarbon groups). The carbon atom of may be substituted with a hetero atom), an organic group having 2 to 30 carbon atoms, or (E 3 -A 3 ) q -B 3 -F 3 -P 3 , and its alkyl group, cycloalkyl group, or cycloalke The nyl group and the aromatic hydrocarbon group may each be unsubstituted or substituted with one or more substituents Or two or more non-adjacent -CH 2 - are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -SO 2 -, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, - OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C- may be substituted, and one -CH 2 - in the cycloalkyl group or cycloalkenyl group or two non-adjacent ones. The above -CH 2 - may each independently be substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO- or O-CO-O-, E 3 is defined the same as B 3 above, and A 3 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms or a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the alicyclic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group are a halogen atom, -R 20 , -OR 21 may be substituted with a cyano group or a nitro group, R 20 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, and R 21 represents an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, and the alkyl group contains The hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, B 3 , F 3 and P 3 each have the same meaning as B 3 , F 3 and P 3 above, q represents an integer from 0 to 4, and E 3 and/or when there are multiple A 3s , they may be the same or different, and U 1 and U 2 may combine to form a ring]

에서 선택되는 기를 나타낸다.]Indicates the group selected from.]

[3] 유기 용제 A 의 한센 용해도 파라미터 (δDA, δPA, δHA) 와, 유기 용제 B 의 한센 용해도 파라미터 (δDB, δPB, δHB) 를 사용하여 산출되는 한센 용해도 파라미터 거리가 10 이하인, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[3] The Hansen solubility parameter distance calculated using the Hansen solubility parameters (δD A , δP A , δH A ) of organic solvent A and the Hansen solubility parameters (δD B , δP B , δH B ) of organic solvent B is 10. The composition for forming a retardation film according to [1] or [2] above.

[4] 중합성 액정 화합물이, 봉상 중합성 액정 화합물을 추가로 포함하는, 상기 [2] 또는 [3] 에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[4] The composition for forming a retardation film according to [2] or [3] above, wherein the polymerizable liquid crystal compound further contains a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound.

[5] 고형분 농도가 5 질량% 이상인, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[5] The composition for forming a retardation film according to any one of [1] to [4] above, wherein the composition has a solid content of 5% by mass or more.

[6] 위상차막 형성용 조성물 중에 포함되는 용제의 총질량에 대한, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 합계 함유량이 80 질량% 이상인, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[6] Retardation film formation according to any one of [1] to [5] above, wherein the total content of organic solvent A and organic solvent B relative to the total mass of solvents contained in the composition for forming a retardation film is 80% by mass or more. Composition for.

[7] 유기 용제 A 가 에테르계 유기 용제 또는 케톤계 용제인, 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[7] The composition for forming a retardation film according to any one of [1] to [6] above, wherein the organic solvent A is an ether-based organic solvent or a ketone-based solvent.

[8] 레벨링제를 포함하는, 상기 [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 위상차막 형성용 조성물.[8] The composition for forming a retardation film according to any one of [1] to [7] above, comprising a leveling agent.

[9] 상기 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 위상차막 형성용 조성물의 도막을 형성하는 공정,[9] A process of forming a coating film of the composition for forming a retardation film according to any one of [1] to [8] above,

상기 도막을 건조 온도 Td (℃) 에서 건조시켜 건조 도막을 얻는 공정, 및A process of drying the coating film at a drying temperature Td (°C) to obtain a dry coating film, and

상기 건조 도막을 경화시켜 위상차막을 얻는 공정,A process of curing the dried coating film to obtain a retardation film,

을 포함하고, 상기 건조 온도 Td (℃) 가, 식 (4) 및 (5) :, and the drying temperature Td (°C) is expressed in equations (4) and (5):

Ta < Td < Tb (4)Ta < Td < Tb (4)

X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)

를 만족하는, 위상차막의 제조 방법.A method for manufacturing a phase contrast film that satisfies the following.

[10] 건조 온도 Td 가 70 ℃ 이상 130 ℃ 미만인, 상기 [9] 에 기재된 제조 방법.[10] The production method according to [9] above, wherein the drying temperature Td is 70°C or more and less than 130°C.

[11] 상기 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 위상차막 형성용 조성물의 경화막을 포함하는 위상차판.[11] A retardation plate comprising a cured film of the composition for forming a retardation film according to any one of [1] to [8] above.

본 발명에 의하면, 종래보다 낮은, 예를 들어 100 ℃ 를 하회하는 낮은 온도에서 용제를 제거하는 공정을 채용하여 제막하는 것이 가능하고, 또한, 제막시의 불균일의 발생을 억제하여, 광학 특성이 우수한 위상차막을 형성할 수 있는 위상차막 형성용 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to form a film by employing a process for removing the solvent at a lower temperature than before, for example, less than 100° C., and the occurrence of unevenness during film formation is suppressed, resulting in excellent optical properties. A composition for forming a phase contrast film capable of forming a phase contrast film can be provided.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 취지를 저해하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without impairing the spirit of the present invention.

<위상차막 형성용 조성물><Composition for forming phase contrast film>

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하에 네마틱 액정 상전이 온도를 갖는 중합성 액정 화합물과, 서로 상이한 비점을 갖는 적어도 2 종의 유기 용제 A 와 유기 용제 B 를 포함한다. 본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물의 네마틱 상전이 온도를 X ℃, 상기 유기 용제 A 의 비점을 Ta ℃, 상기 유기 용제 B 의 비점을 Tb ℃ 로 한 경우에, 하기 식 (1) ∼ (3) 을 만족한다.The composition for forming a retardation film of the present invention includes a polymerizable liquid crystal compound having a nematic liquid crystal phase transition temperature of 100°C or more and 200°C or less, and at least two types of organic solvent A and organic solvent B having different boiling points from each other. The composition for forming a retardation film of the present invention has the following formula ( 1) ~ (3) are satisfied.

Tb - Ta ≥ 10 (℃) (1)Tb - Ta ≥ 10 (℃) (One)

Ta < X - 30 (℃) (2)Ta < X - 30 (℃) (2)

Tb > X - 70 (℃) (3)Tb > X - 70 (℃) (3)

또한, 본 개시에 있어서는, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 용제 중, 비점이 낮은 쪽의 유기 용제를 「유기 용제 A」 로 하고, 비점이 높은 쪽의 유기 용제를 「유기 용제 B」 로 한다. 위상차막 형성용 조성물에 3 종 이상의 유기 용제가 포함되는 경우, 그 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도 X ℃ 와의 관계에 있어서, 상기 식 (1) ∼ (3) 을 모두 만족하는 관계에 있는 적어도 2 종의 유기 용제를 포함하는 것이 필요하다.In addition, in the present disclosure, among the solvents contained in the composition for forming a retardation film, the organic solvent with a lower boiling point is referred to as “organic solvent A,” and the organic solvent with a higher boiling point is referred to as “organic solvent B.” When the composition for forming a retardation film contains three or more organic solvents, in the relationship with the nematic liquid crystal phase transition temperature ) It is necessary to include at least two organic solvents in a relationship that satisfy all of the following.

또, 위상차막 형성용 조성물이 복수의 중합성 액정 화합물을 포함하는 경우, 상기 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도는, 위상차막 형성용 조성물을 구성하는 모든 중합성 액정 화합물을 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 조성과 동일한 비율로 혼합한 중합성 액정 화합물의 혼합물을 사용하여 측정되는 온도를 의미한다.In addition, when the composition for forming a retardation film includes a plurality of polymerizable liquid crystal compounds, the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound is such that all polymerizable liquid crystal compounds constituting the composition for forming a retardation film are used for forming a retardation film. It means the temperature measured using a mixture of polymerizable liquid crystal compounds mixed in the same ratio as the composition.

통상, 중합성 액정 화합물과 유기 용제를 포함하는 조성물 (도공액) 의 도포막으로부터 유기 용제를 제거하기 위한 건조 온도가 낮아지면, 유기 용제의 휘발 속도가 느려져, 건조로 내에 있어서 풍량 등의 영향을 받기 쉬워지고, 도공면에 풍문 불균일이 발생하는 등 외관 결함을 발생하기 쉬워진다. 역파장 분산성을 발현할 수 있는 T 자형이나 H 형 등의 분자 구조를 갖는 중합성 액정 화합물을 용해시키기 위해서 종래 사용되고 있는 유기 용제의 상당수는, 100 ℃ 를 초과하는 높은 비점을 가지고 있고, 제막시의 풍문 불균일 등의 외관 결함을 발생시키는 일 없이 건조 온도를 낮추는 것은 곤란하였다. 이에 대해, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서, 상기 식 (1) ∼ (3) 을 만족하는 유기 용제 A 와 유기 용제 B 를 포함함으로써, 종래, 동일한 중합성 액정 화합물을 사용한 경우와 비교하여, 낮은 온도에서 용제 제거의 건조 공정을 실시해도, 도공면에 있어서의 불균일이나 배향 결함의 발생을 억제하면서, 외관 및 광학 특성이 우수한 위상차막을 형성할 수 있다.Normally, when the drying temperature for removing the organic solvent from the coating film of the composition (coating solution) containing the polymerizable liquid crystal compound and the organic solvent is lowered, the volatilization rate of the organic solvent becomes slower, and the effect of air volume, etc. in the drying furnace is reduced. It becomes easy to get scratches, and it becomes easy for appearance defects to occur, such as scratches and irregularities on the coated surface. Many of the organic solvents conventionally used to dissolve polymerizable liquid crystal compounds having molecular structures such as T-type or H-type that can exhibit reverse wavelength dispersion have a high boiling point exceeding 100°C, and when forming a film, It was difficult to lower the drying temperature without causing appearance defects such as uneven winding. In contrast, the composition for forming a retardation film of the present invention contains an organic solvent A and an organic solvent B that satisfy the above formulas (1) to (3) in the relationship with the polymerizable liquid crystal compound, thereby performing the same polymerization as in the past. Compared to the case of using a liquid crystal compound, even if the drying process of solvent removal is performed at a low temperature, a retardation film with excellent appearance and optical properties can be formed while suppressing the occurrence of unevenness or orientation defects on the coated surface.

식 (1) 은, 유기 용제 B 의 비점이, 유기 용제 A 의 비점보다 10 ℃ 이상 높은 것을 의미한다. 비점이 10 ℃ 이상 상이한 적어도 2 종의 유기 용제를 포함함으로써, 각 유기 용제의 휘발되는 속도에 차가 발생하여, 건조 온도에 대해 조성물 전체로서의 용제의 휘발 속도를 제어하기 쉬워진다. 이로써, 건조 온도가 낮아도, 건조로 내의 바람 등의 영향을 받기 어렵고, 이것에서 기인하는 풍문 불균일의 발생을 억제할 수 있음과 함께, 유기 용제의 휘발이 필요 이상으로 빨라지는 것을 방지하여, 용제의 휘발에서 기인하는 액정 화합물의 결정화나 배향 결함의 발생을 억제할 수 있다. Ta 와 Tb 의 차가 적당히 있으면, 건조 공정에 있어서 유기 용제 A 및 유기 용제 B 가 제거되는 타이밍을 제어할 수 있고, 상기 효과를 얻기 쉬워지는 점에서, 그 차는, 바람직하게는 20 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 30 ℃ 이상이고, 예를 들어 40 ℃ 이상 또는 50 ℃ 이상이어도 된다. 한편, Ta 와 Tb 의 차가 지나치게 커지면, 바람직한 건조 온도 범위에 있어서, 각 유기 용제의 충분한 제거가 어려워지는 경우가 있다. 그 때문에, Ta 와 Tb 의 차는, 통상 150 ℃ 이하이고, 바람직하게는 120 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 100 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는 90 ℃ 이하이고, 예를 들어 80 ℃ 이하여도 된다. 또한, 위상차막 형성용 조성물이 3 종 이상의 유기 용제를 포함하는 경우, 식 (2) 를 만족하는 유기 용제와 식 (3) 을 만족하는 유기 용제의 관계에 있는 2 개의 유기 용제의 조합 중의 적어도 1 개에 있어서의 비점의 차가 상기 범위 내에 있는 것이 바람직하다.Formula (1) means that the boiling point of the organic solvent B is 10°C or more higher than the boiling point of the organic solvent A. By containing at least two organic solvents whose boiling points differ by 10°C or more, a difference occurs in the volatilization rate of each organic solvent, making it easier to control the volatilization rate of the solvent as a whole with respect to the drying temperature. As a result, even if the drying temperature is low, it is difficult to be influenced by wind in the drying furnace, etc., and the occurrence of wind unevenness resulting from this can be suppressed. In addition, volatilization of the organic solvent is prevented from becoming more rapid than necessary, and the solvent It is possible to suppress the crystallization of liquid crystal compounds and the occurrence of orientation defects caused by volatilization. If there is an appropriate difference between Ta and Tb, the timing at which organic solvent A and organic solvent B are removed can be controlled in the drying process, and the above effect is easily obtained. Therefore, the difference is preferably 20° C. or more, more preferably. Typically, it may be 30°C or higher, for example, 40°C or higher or 50°C or higher. On the other hand, if the difference between Ta and Tb becomes too large, sufficient removal of each organic solvent may become difficult in the preferred drying temperature range. Therefore, the difference between Ta and Tb is usually 150°C or less, preferably 120°C or less, more preferably 100°C or less, further preferably 90°C or less, and may be, for example, 80°C or less. In addition, when the composition for forming a retardation film contains three or more types of organic solvents, at least one of the combination of two organic solvents in the relationship of an organic solvent satisfying Formula (2) and an organic solvent satisfying Formula (3) It is preferable that the difference in boiling point in dogs is within the above range.

상기 식 (1) 을 만족하는 것에 더하여, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도와의 관계에 있어서, 유기 용제 A 의 비점이 식 (2) 를 만족하고, 유기 용제 B 의 비점이 식 (3) 을 만족하면 중합성 액정 화합물의 상전이 온도보다 일정 정도 이상 낮은 비점의 용제 (유기 용제 A) 와, 그 용제보다 일정 정도 이상 높은 비점을 갖는 용제 (유기 용제 B) 가 혼재되는 상태가 된다. 이로써, 제막시의 건조 공정에 있어서 용제 제거가 적당히 진행되어, 액정 화합물의 결정화나 배향 결함의 발생을 억제하면서, 건조로 내의 열풍에서 기인하는 풍문 불균일을 억제하여, 외관 및 광학 특성이 우수한 위상차막을 얻을 수 있다.In addition to satisfying the above equation (1), in the relationship with the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a retardation film, the boiling point of the organic solvent A satisfies equation (2), and the organic If the boiling point of solvent B satisfies equation (3), a solvent (organic solvent A) with a boiling point that is at least a certain degree lower than the phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound, and a solvent (organic solvent B) with a boiling point that is at least a certain degree higher than that of the solvent. becomes a mixed state. As a result, solvent removal proceeds appropriately during the drying process at the time of film formation, suppressing crystallization of the liquid crystal compound and the occurrence of orientation defects, suppressing unevenness of airflow caused by hot air in the drying furnace, and producing a retardation film with excellent appearance and optical properties. You can get it.

유기 용제 A 의 비점 Ta 는, 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도 X ℃ 보다, 예를 들어 40 ℃ 이상, 50 ℃ 이상 또는 60 ℃ 이상 낮아도 된다. Ta 가 지나치게 낮으면, 바람직한 건조 온도 범위에 있어서, 용제의 휘발 속도가 빨라져, 중합성 액정 화합물의 결정화나 배향 결함은 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, Ta 가 지나치게 높으면, 바람직한 건조 온도 범위에 있어서, 풍문 불균일 등의 외관 결함이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 이 때문에, 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도에 따라서도 상이하지만, Ta 는, 통상 40 ℃ 이상이고, 바람직하게는 50 ℃ 이상이고, 예를 들어 60 ℃ 이상이어도 된다.The boiling point Ta of the organic solvent A may be lower than the nematic liquid crystal phase transition temperature If Ta is too low, the volatilization rate of the solvent increases within the preferred drying temperature range, and crystallization and orientation defects in the polymerizable liquid crystal compound tend to occur easily. On the other hand, if Ta is too high, appearance defects such as wind unevenness tend to occur easily in the preferred drying temperature range. For this reason, although it varies depending on the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound, Ta is usually 40°C or higher, preferably 50°C or higher, and may be, for example, 60°C or higher.

유기 용제 B 의 비점 Tb 는, 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도 X ℃ 와의 차가 Ta 와 X ℃ 와의 차보다 작은 것이 바람직하고, Tb 가 X ℃ 보다 낮고, 또한, Tb 와 X ℃ 의 차는 60 ℃ 이내인 것이 보다 바람직하고, 50 ℃ 이내인 것이 더욱 바람직하다. 또, Tb 가 지나치게 낮으면, 건조 공정에 있어서의 중합성 액정 화합물의 결정화나 배향 결함이 발생하기 쉬워지는 경향이 있고, Tb 가 지나치게 높으면, 바람직한 건조 온도 범위에 있어서, 용제 제거가 진행되기 어려워져, 풍문 불균일 등의 외관 결함이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 이 때문에, Tb 는, 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도에 따라서도 상이하지만, 상전이 온도 X ℃ 보다 낮고, 또한 X - 40 ℃ 이상의 범위 내에 있는 것이 바람직하다.The boiling point Tb of the organic solvent B is preferably smaller than the difference between Ta and It is more preferable that it is within ℃, and it is even more preferable that it is within 50℃. Moreover, if Tb is too low, crystallization or orientation defects of the polymerizable liquid crystal compound in the drying process tend to occur easily, and if Tb is too high, it becomes difficult to proceed with solvent removal in the preferred drying temperature range. , appearance defects such as irregularities in wind marks tend to occur easily. For this reason, although Tb varies depending on the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound, it is preferably lower than the phase transition temperature

상기 서술한 결정화나 풍문 불균일 등의 억제 효과는, 특히, 위상차막 형성용 조성물로부터 위상차막을 형성할 때의 용제 제거를 위한 건조 온도 (이하, 「Td」 라고 기재하는 경우도 있다) 보다 유기 용제 A 의 비점 Ta 가 낮고, 또한, 유기 용제 B 의 비점 Tb 가 건조 온도 Td 보다 높은 경우에, 보다 한층 얻어지기 쉬워진다. 따라서, 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 유기 용제 A 의 비점 Ta 및 유기 용제 B 의 비점 Tb 는, 건조 온도 Td 와의 관계에 있어서, 식 (4) :The above-mentioned suppressing effect of crystallization, winding irregularity, etc. is particularly achieved by the organic solvent A rather than the drying temperature (hereinafter sometimes referred to as "Td") for solvent removal when forming a phase contrast film from the composition for forming a phase contrast film. When the boiling point Ta of the organic solvent B is low and the boiling point Tb of the organic solvent B is higher than the drying temperature Td, it becomes easier to obtain. Therefore, in one embodiment of the present invention, the boiling point Ta of the organic solvent A and the boiling point Tb of the organic solvent B are in the relationship with the drying temperature Td, using the formula (4):

Ta < Td < Tb (4)Ta < Td < Tb (4)

를 만족하는 관계에 있는 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 용제 제거를 위한 건조 온도가 Ta 보다 높고 Tb 보다 낮은 제막 공정으로의 적용에 바람직하다.It is desirable to have a relationship that satisfies. In other words, the composition for forming a retardation film of the present invention is suitable for application to a film forming process in which the drying temperature for solvent removal is higher than Ta and lower than Tb.

본 발명의 일 실시양태에서는, 건조 공정에 있어서, 배향성이나 저헤이즈 등의 광학 특성을 향상시킬 수 있는 관점에서, 도포막 중의 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도가 유기 용제 B 의 비점 미만인 것이 바람직하고, 건조 온도 미만인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도는, 유기 용제 중에서는 저하되는 경향이 있기 때문에, 중합성 액정 화합물 (단독) 로 측정된 네마틱 액정 상전이 온도는, 도포막 중 (유기 용제를 포함한다) 의 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도보다 높아지는 경향이 있다.In one embodiment of the present invention, in the drying process, from the viewpoint of improving optical properties such as orientation and low haze, the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound in the coating film is lower than the boiling point of the organic solvent B. It is preferable, and it is more preferable that it is below the drying temperature. Here, since the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound tends to decrease in an organic solvent, the nematic liquid crystal phase transition temperature measured with the polymerizable liquid crystal compound (alone) is in the coating film (including the organic solvent). ) tends to be higher than the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound.

본 발명에 있어서, 건조 온도 Td 는, 사용하는 중합성 액정 화합물의 네마틱 상전이 온도나 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 유기 용제의 비점 등을 고려하여 적절히 결정될 수 있는 것이다. 건조 온도로는, 예를 들어, 사용하는 중합성 액정 화합물의 네마틱 상전이 온도보다 20 ∼ 80 ℃ 정도 낮은 온도 범위가 상정되고, 구체적으로는, 바람직하게는 70 ∼ 140 ℃, 보다 바람직하게는 80 ∼ 130 ℃ 의 범위 내이고, 예를 들어 120 ℃ 이하, 110 ℃ 이하, 나아가서는 100 ℃ 이하, 100 ℃ 미만, 95 ℃ 이하 또는 90 ℃ 이하여도 된다. 각 유기 용제의 비점과 중합성 액정 화합물의 네마틱 상전이 온도가 상기 식 (1) ∼ (3) 을 만족하도록, 서로의 비점이 상이한 적어도 2 종의 유기 용제를 포함하는 본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 상기 온도 범위에서 건조 공정을 실시하는 경우에, 그 건조 온도와의 관계에 있어서 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 휘발·제거가 적당히 진행되어, 액정 화합물의 결정화나 배향 결함의 발생을 억제하면서, 건조로 내의 열풍에서 기인하는 풍문 불균일을 억제하는 효과를 특히 얻기 쉽다.In the present invention, the drying temperature Td can be appropriately determined in consideration of the nematic phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound used and the boiling point of the organic solvent contained in the composition for forming a retardation film. The drying temperature is assumed to be, for example, a temperature range that is approximately 20 to 80°C lower than the nematic phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound used, and is specifically preferably 70 to 140°C, more preferably 80°C. It is within the range of -130°C, and may be, for example, 120°C or less, 110°C or less, and further 100°C or less, less than 100°C, 95°C or less, or 90°C or less. For forming a retardation film of the present invention comprising at least two organic solvents having different boiling points so that the boiling point of each organic solvent and the nematic phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound satisfy the above equations (1) to (3). In the composition, when a drying process is performed in the above temperature range, the volatilization and removal of the organic solvent A and the organic solvent B progress appropriately in relation to the drying temperature, thereby suppressing crystallization of the liquid crystal compound and the occurrence of orientation defects. While doing so, it is particularly easy to obtain the effect of suppressing wind unevenness caused by hot air in the drying furnace.

유기 용제 A 는, 사용하는 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도, 중합성 액정 화합물의 용해성, 원하는 건조 공정의 온도 조건 등을 고려하여 적절히 선택하면 된다. 본 발명의 일 양태에 있어서, 유기 용제 A 의 비점 Ta 의 온도 범위로는, 구체적으로, 예를 들어 100 ℃ 이하여도 되고, 바람직하게는 40 ∼ 100 ℃, 보다 바람직하게는 50 ∼ 100 ℃, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 90 ℃, 보다 더 바람직하게는 65 ∼ 80 ℃ 이다. 상기 범위의 비점을 갖는 유기 용제 A 를 포함하는 경우, 예를 들어, 환경 부하 저감의 관점에서 바람직하다고 생각되는 100 ℃ 이하, 바람직하게는 95 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 90 ℃ 이하와 같은 비교적 낮은 건조 온도에서 제막을 실시해도, 건조시의 풍문 불균일의 발생을 억제하는 효과가 얻어진다.The organic solvent A may be appropriately selected in consideration of the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound used, the solubility of the polymerizable liquid crystal compound, the temperature conditions of the desired drying process, etc. In one aspect of the present invention, the temperature range of the boiling point Ta of the organic solvent A may be specifically, for example, 100°C or lower, preferably 40 to 100°C, more preferably 50 to 100°C. Preferably it is 60 to 90°C, and even more preferably 65 to 80°C. When containing the organic solvent A having a boiling point in the above range, for example, a relatively low boiling point such as 100°C or lower, preferably 95°C or lower, more preferably 90°C or lower, which is considered desirable from the viewpoint of reducing environmental load. Even if film forming is performed at a drying temperature, the effect of suppressing the occurrence of wind unevenness during drying is obtained.

유기 용제 B 는, 사용하는 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도, 중합성 액정 화합물의 용해성, 원하는 건조 공정의 온도 조건 등을 고려하여 적절히 선택하면 된다. 본 발명의 일 양태에 있어서, 유기 용제 B 의 비점 Tb 의 온도 범위로는, 구체적으로, 예를 들어 100 ℃ 를 초과해도 되고, 바람직하게는 100 ℃ 초과 300 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 120 ∼ 250 ℃, 더욱 바람직하게는 120 ∼ 200 ℃, 보다 더 바람직하게는 120 ∼ 150 ℃ 이다. 상기 범위의 비점을 갖는 유기 용제 B 를 포함하는 경우, 예를 들어, 100 ℃ 이하와 같은 저비점의 유기 용제 A 와의 조합에 있어서도, 액정 화합물의 결정화나 배향 결함의 발생을 억제할 수 있고, 환경 부하 저감의 관점에서 바람직하다고 생각되는 100 ℃ 이하, 바람직하게는 95 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 90 ℃ 이하와 같은 비교적 낮은 건조 온도에서 제막을 실시해도, 외관 특성이 우수한 위상차막이 얻어진다.The organic solvent B may be appropriately selected in consideration of the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound used, the solubility of the polymerizable liquid crystal compound, the temperature conditions of the desired drying process, etc. In one aspect of the present invention, the temperature range of the boiling point Tb of the organic solvent B specifically may be, for example, greater than 100°C, preferably greater than 100°C and less than or equal to 300°C, more preferably 120 to 250°C. ℃, more preferably 120 to 200 ℃, even more preferably 120 to 150 ℃. When the organic solvent B having a boiling point in the above range is included, for example, even in combination with the organic solvent A having a low boiling point such as 100° C. or lower, crystallization of the liquid crystal compound and the occurrence of orientation defects can be suppressed, reducing environmental impact. Even if film formation is performed at a relatively low drying temperature, such as 100°C or lower, preferably 95°C or lower, and more preferably 90°C or lower, which is considered desirable from the viewpoint of reduction, a retardation film with excellent appearance characteristics can be obtained.

유기 용제 A 의 한센 용해도 파라미터 (δDA, δPA, δHA) 와, 유기 용제 B 의 한센 용해도 파라미터 (δDB, δPB, δHB) 를 사용하여 산출되는 한센 용해도 파라미터 거리 (이하, 「HSP 거리」 로 약기하는 경우가 있다) 는 10 이하인 것이 바람직하다. 용제끼리의 상용성이 낮으면, 용제의 건조 공정에 있어서 용제가 부분적으로 분리된 것과 같은 상태가 되고, 용제의 상용성이 낮은 것에서 기인한 망목 모양의 불균일 (망목상 불균일) 이 발생하기 쉬워져, 전술한 건조로 중의 바람의 영향에 의한 풍문 불균일과는 다른 외관 결함을 가져올 가능성이 있다. 상기 HSP 거리가 10 이하이면, 유기 용제 A 와 유기 용제 B 의 상용성이 높아져, 용제의 상용성에서 기인하는 망목상 불균일의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다. 망목상 불균일의 억제 관점에서, HSP 거리는, 바람직하게는 9.5 이하, 보다 바람직하게는 9.0 이하이다. HSP 거리의 하한값은, 특별히 한정되는 것은 아니며, 통상 1.0 이상, 바람직하게는 2.0 이상이다.Hansen solubility parameter distance (hereinafter referred to as “HSP”) calculated using the Hansen solubility parameters (δD A , δP A , δH A ) of organic solvent A and the Hansen solubility parameters (δD B , δP B , δH B ) of organic solvent B It is preferable that the distance (sometimes abbreviated as “distance”) is 10 or less. If the compatibility between solvents is low, the solvent will be in a state of partial separation during the solvent drying process, and mesh-like unevenness due to low solvent compatibility will easily occur. , there is a possibility of causing appearance defects different from the wind unevenness caused by the influence of wind in the drying furnace described above. When the HSP distance is 10 or less, the compatibility between the organic solvent A and the organic solvent B increases, and the occurrence of mesh-like unevenness resulting from the compatibility of the solvents can be effectively suppressed. From the viewpoint of suppressing network unevenness, the HSP distance is preferably 9.5 or less, more preferably 9.0 or less. The lower limit of the HSP distance is not particularly limited and is usually 1.0 or more, preferably 2.0 or more.

한센 (Hansen) 용해도 파라미터는, 힐데브란드 (Hildebrand) 에 의해 도입된 용해도 파라미터를, 분산항 (δD), 극성항 (δP), 수소 결합항 (δH) 의 3 성분으로 분할하여, 3 차원 공간에 나타낸 것이다. 분산항 (δD) 은 분산력에 의한 효과, 극성항 (δP) 은 쌍극자간력에 의한 효과, 수소 결합항 (δH) 은 수소 결합력의 효과를 나타낸다.The Hansen solubility parameter divides the solubility parameter introduced by Hildebrand into three components: the dispersion term (δD), the polarity term (δP), and the hydrogen bonding term (δH), and is expressed in three-dimensional space. It is shown. The dispersion term (δD) represents the effect due to the dispersion force, the polarity term (δP) represents the effect due to the inter-dipole force, and the hydrogen bonding term (δH) represents the effect of the hydrogen bonding force.

한센 용해도 파라미터의 정의와 계산은, Charles M. Hansen 저, Hansen Solubility Parameters : A Users Handbook (CRC 프레스, 2007년) 에 기재되어 있다. 또, 컴퓨터 소프트웨어 Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP) 를 사용함으로써, 문헌값 등이 알려져 있지 않은 용제에 관해서도, 그 화학 구조로부터 간편하게 한센 용해도 파라미터를 추산할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 한센 용해도 파라미터를 결정할 때, 데이터베이스에 등록되어 있는 용제에 관해서는 등록된 한센 용해도 파라미터의 값을 사용하였다.The definition and calculation of Hansen solubility parameters are described in Charles M. Hansen, Hansen Solubility Parameters: A Users Handbook (CRC Press, 2007). Additionally, by using the computer software Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP), the Hansen solubility parameter can be easily estimated from its chemical structure even for solvents for which literature values, etc. are unknown. In the present invention, when determining the Hansen solubility parameters of organic solvent A and organic solvent B, the values of the registered Hansen solubility parameters for solvents registered in the database were used.

예를 들어, 유기 용제 A 의 한센 용해도 파라미터의 좌표를 δDA, δPA, δHA 로 하고, 유기 용제 B 의 한센 용해도 파라미터의 좌표를 δDB, δPB, δHB 로 한 경우, HSP 거리는, 이하의 식으로 산출할 수 있다.For example, if the coordinates of the Hansen solubility parameters of organic solvent A are δD A , δP A , and δH A , and the coordinates of the Hansen solubility parameters of organic solvent B are δD B , δP B , and δH B , the HSP distance is: It can be calculated using the formula below.

HSP 거리 = [4(δDA - δDB)2 + (δPA - δPB)2 + (δHA - δHB)2]1/2 HSP distance = [4(δD A - δD B ) 2 + (δP A - δP B ) 2 + (δH A - δH B ) 2 ] 1/2

본 발명에 있어서, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 는, 전술한 식 (1) ∼ (3) 을 만족하도록, 또, 바람직하게는 HSP 거리가 상기 범위 내가 되도록, 각각, 사용하는 중합성 액정 화합물에 따라 그 상전이 온도나 상정하는 건조 온도 등에 기초하여, 중합성 액정 화합물을 용해 가능한 공지된 유기 용제에서 적절히 선택할 수 있다. 유기 용제 A 및 B 로는, 예를 들어, 이하의 용제를 들 수 있다 (() 안의 수치는 비점) :In the present invention, organic solvent A and organic solvent B are each added to the polymerizable liquid crystal compound to be used so that the above-mentioned formulas (1) to (3) are satisfied, and preferably, the HSP distance is within the above range. Accordingly, based on the phase transition temperature, the assumed drying temperature, etc., the polymerizable liquid crystal compound can be appropriately selected from known organic solvents capable of dissolving it. Organic solvents A and B include, for example, the following solvents (numbers in () are boiling points):

메틸이소부틸케톤 (116 ℃), 시클로헥사논 (156 ℃), 시클로펜타논 (130 ℃), 메틸아밀케톤 (151 ℃), 이소포론 (215 ℃), γ-부티로락톤 (GBL) (204 ℃) 등의 케톤계 용제 ;Methyl isobutyl ketone (116 ℃), cyclohexanone (156 ℃), cyclopentanone (130 ℃), methyl amyl ketone (151 ℃), isophorone (215 ℃), γ-butyrolactone (GBL) (204 ℃) and other ketone-based solvents;

자일렌 (144 ℃), 메시틸렌 (165 ℃), 쿠멘 (152 ℃), 에틸벤젠 (136 ℃), 아니솔 (154 ℃), 아닐린 (184 ℃), 벤즈알데히드 (178 ℃), 벤질알코올 (205 ℃), 벤조산메틸 (199 ℃), 벤조산에틸 (213 ℃), 벤조산프로필 (230 ℃), 벤조산부틸 (250 ℃), 니트로벤젠 (211 ℃), 테트랄린 (207 ℃) 등의 방향족계 용제 ;Xylene (144 ℃), mesitylene (165 ℃), cumene (152 ℃), ethylbenzene (136 ℃), anisole (154 ℃), aniline (184 ℃), benzaldehyde (178 ℃), benzyl alcohol (205 ℃) ℃), methyl benzoate (199 ℃), ethyl benzoate (213 ℃), propyl benzoate (230 ℃), butyl benzoate (250 ℃), nitrobenzene (211 ℃), tetralin (207 ℃), etc. ;

옥탄 (125 ℃), 노난 (151 ℃), 데칸 (174 ℃), 운데칸 (196 ℃), 도데칸 (216 ℃) 등의 장사슬 탄화수소계 용제 ; long-chain hydrocarbon solvents such as octane (125°C), nonane (151°C), decane (174°C), undecane (196°C), and dodecane (216°C);

에틸렌글리콜모노메틸에테르 (124 ℃), 에틸렌글리콜모노에틸에테르 (135 ℃), 에틸렌글리콜-n-프로필에테르 (151 ℃), 에틸렌글리콜-i-프로필에테르 (141 ℃), 에틸렌글리콜-n-부틸에테르 (171 ℃), 디에틸렌글리콜디메틸에테르 (162 ℃), 디에틸렌글리콜디에틸에테르 (189 ℃), 디프로필렌글리콜디메틸에테르 (171 ℃), 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 (194 ℃), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 (202 ℃), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 (230 ℃), 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 (176 ℃), 디에틸렌글리콜부틸메틸에테르 (212 ℃), 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (120 ℃), 프로필렌글리콜디메틸에테르 (97 ℃), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 (188 ℃), 디프로필렌글리콜디메틸에테르 (171 ℃), 트리프로필렌글리콜디메틸에테르 (215 ℃), 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르 (249 ℃), 트리에틸렌글리콜디메틸에테르 (216 ℃), 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르 (276 ℃), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (146 ℃), 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (145 ℃), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 (217 ℃), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (245 ℃) 등의 글리콜계 용제 ;Ethylene glycol monomethyl ether (124 ℃), ethylene glycol monoethyl ether (135 ℃), ethylene glycol-n-propyl ether (151 ℃), ethylene glycol-i-propyl ether (141 ℃), ethylene glycol-n-butyl Ether (171 ℃), diethylene glycol dimethyl ether (162 ℃), diethylene glycol diethyl ether (189 ℃), dipropylene glycol dimethyl ether (171 ℃), diethylene glycol monomethyl ether (194 ℃), diethylene Glycol monoethyl ether (202 ℃), diethylene glycol monobutyl ether (230 ℃), diethylene glycol ethyl methyl ether (176 ℃), diethylene glycol butyl methyl ether (212 ℃), propylene glycol monomethyl ether (120 ℃) ), propylene glycol dimethyl ether (97 ℃), dipropylene glycol monomethyl ether (188 ℃), dipropylene glycol dimethyl ether (171 ℃), tripropylene glycol dimethyl ether (215 ℃), triethylene glycol monomethyl ether (249 ℃) ℃), triethylene glycol dimethyl ether (216 ℃), tetraethylene glycol dimethyl ether (276 ℃), propylene glycol monomethyl ether acetate (146 ℃), ethylene glycol monomethyl ether acetate (145 ℃), diethylene glycol monoethyl Glycol-based solvents such as ether acetate (217°C) and diethylene glycol monobutyl ether acetate (245°C);

아세트산프로필 (102 ℃), 아세트산부틸 (126 ℃), 아세트산아밀 (142 ℃), 락트산에틸 (155 ℃), 메틸메톡시프로피오네이트 (143 ℃), 에틸에톡시프로피오네이트 (170 ℃), 이소아밀프로피오네이트 (156 ℃), 이소아밀이소부틸레이트 (170 ℃), 부티르산에틸 (121 ℃), 부티르산프로필 (143 ℃), 부티르산부틸 (165 ℃), 에틸렌카보네이트 (244 ℃), 프로필렌카보네이트 (242 ℃) 등의 에스테르계 용제 ;Propyl acetate (102 ℃), butyl acetate (126 ℃), amyl acetate (142 ℃), ethyl lactate (155 ℃), methyl methoxypropionate (143 ℃), ethyl ethoxypropionate (170 ℃), Isoamyl propionate (156 ℃), isoamyl isobutyrate (170 ℃), ethyl butyrate (121 ℃), propyl butyrate (143 ℃), butyl butyrate (165 ℃), ethylene carbonate (244 ℃), propylene carbonate Ester solvents such as (242°C);

N,N-디메틸포름아미드 (153 ℃), N,N-디메틸아세트아미드 (165 ℃), N-메틸-2-피롤리돈 (202 ℃), γ-부티로락탐 (245 ℃) 등의 아미드계 용제 ; 및Amides such as N,N-dimethylformamide (153°C), N,N-dimethylacetamide (165°C), N-methyl-2-pyrrolidone (202°C), and γ-butyrolactam (245°C) System solvent; and

모노클로로벤젠 (132 ℃), 1,1,2,2,-테트라클로로에탄 (147 ℃) 등의 할로겐계 용제Halogenated solvents such as monochlorobenzene (132 ℃) and 1,1,2,2,-tetrachloroethane (147 ℃)

디메틸술폭사이드 (189 ℃), 디메틸술폰 (238 ℃) 등의 함황계 용제,Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide (189 ℃) and dimethyl sulfone (238 ℃),

테트라하이드로푸란 (66 ℃), 1,3-디옥솔란 (77 ℃), 2-메틸테트라하이드로푸란 (80 ℃), 1,4-디옥산 (101 ℃), 시클로펜틸메틸에테르 (106 ℃), 테트라하이드로피란 (88 ℃) 등의 에테르계 용제.Tetrahydrofuran (66 ℃), 1,3-dioxolane (77 ℃), 2-methyltetrahydrofuran (80 ℃), 1,4-dioxane (101 ℃), cyclopentylmethyl ether (106 ℃), Ether-based solvents such as tetrahydropyran (88°C).

유기 용제 A 및 B 로는, 각각, 사용하는 중합성 액정 화합물에 대한 용해성이 높고, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 것을 선택하는 것이 보다 유리하다. 본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서, 유기 용제 A 는 에테르계 유기 용제 또는 케톤계 용제이고, 보다 바람직하게는 에테르계 용제, 더욱 바람직하게는 고리형 에테르계 용제이다. 본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서, 유기 용제 B 는, 케톤계 용제, 방향족계 용제, 할로겐계 용제 및 아미드계 용제로 이루어지는 군에서 선택되고, 보다 바람직하게는 케톤계 용제 또는 할로겐계 용제이고, 더욱 바람직하게는 케톤계 용제이다. 또한, 본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서는, 유기 용제 A 가 에테르계 용제이며, 유기 용제 B 가 케톤계 용제인 조합이 바람직하다.It is more advantageous to select organic solvents A and B that have high solubility in the polymerizable liquid crystal compound to be used and are inert in the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound. In a preferred embodiment of the present invention, the organic solvent A is an ether-based organic solvent or a ketone-based solvent, more preferably an ether-based solvent, and even more preferably a cyclic ether-based solvent. In a preferred embodiment of the present invention, the organic solvent B is selected from the group consisting of ketone solvents, aromatic solvents, halogen solvents, and amide solvents, and is more preferably a ketone solvent or a halogen solvent, More preferably, it is a ketone-based solvent. In addition, in a preferred embodiment of the present invention, a combination in which organic solvent A is an ether-based solvent and organic solvent B is a ketone-based solvent is preferred.

유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 함유 비율은, 사용하는 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 종류, 그들의 비점, 상정하는 건조 온도나 건조 조건 등에 맞추어 적절히 설정할 수 있다. 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 종류, 그들의 비점이나 건조 조건 등에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로, 유기 용제 A 의 비율이 높아지면 풍문 불균일의 발생 억제 효과가 향상되는 경향이 있고, 유기 용제 B 의 비율이 높아지면 액정 화합물의 결정화나 배향 결함의 발생 억제 효과가 향상되는 경향이 있다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 유기 용제 A 와 유기 용제 B 의 함유 비율 (질량비, 유기 용제 A : 유기 용제 B) 은, 바람직하게는 20 : 80 ∼ 80 : 20, 보다 바람직하게는 30 : 70 ∼ 70 : 30, 더욱 바람직하게는 35 : 65 ∼ 65 : 35, 특히 바람직하게는 40 : 60 ∼ 60 : 40 이다.The content ratio of organic solvent A and organic solvent B can be set appropriately according to the types of organic solvent A and organic solvent B used, their boiling points, assumed drying temperature and drying conditions, etc. Although it may vary depending on the types of organic solvent A and organic solvent B, their boiling points, drying conditions, etc., in general, the effect of suppressing the occurrence of wind unevenness tends to improve as the proportion of organic solvent A increases, and the proportion of organic solvent B tends to improve. As this increases, the effect of suppressing the crystallization of the liquid crystal compound and the occurrence of orientation defects tends to improve. In one embodiment of the present invention, the content ratio (mass ratio, organic solvent A:organic solvent B) of organic solvent A and organic solvent B is preferably 20:80 to 80:20, more preferably 30:70. to 70:30, more preferably 35:65 to 65:35, and particularly preferably 40:60 to 60:40.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 본 발명의 효과에 영향을 미치지 않는 한 유기 용제 A 및 유기 용제 B 이외의 다른 유기 용제 (이하, 「다른 유기 용제」 라고도 한다) 를 포함하고 있어도 된다. 위상차막 형성용 조성물이 3 종 이상의 유기 용제를 포함하는 경우, 식 (1) ∼ (3) 을 만족하는 관계에 있는 한, 그 관계에 있는 2 종의 용제 모두가 유기 용제 A 와 유기 용제 B 가 될 수 있다. 본 개시에 있어서는, 식 (2) 를 만족하는 유기 용제와 식 (3) 을 만족하는 유기 용제의 관계에 있는 2 개의 유기 용제의 조합 중, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 전체 용제의 총질량에 대한 비율이 가장 많아지는 2 종의 조합을 유기 용제 A 와 유기 용제 B 로 간주하고, 그것들 이외의 유기 용제는 다른 유기 용제로 간주할 수 있다. 이 경우, 유기 용제 A 와 유기 용제 B 가, 비점이 낮은 것으로부터 순서대로 나열하여 이웃하는 관계에 있는 것이 바람직하다. 복수종의 용제간에 있어서의 비점 등의 제어가 번잡해질 수 있는 점에서, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 유기 용제의 종류는, 통상 4 종 이하이고, 바람직하게는 3 종 이하, 보다 바람직하게는 2 종이다.The composition for forming a retardation film of the present invention may contain an organic solvent other than organic solvent A and organic solvent B (hereinafter also referred to as “other organic solvent”) as long as it does not affect the effect of the present invention. When the composition for forming a retardation film contains three or more types of organic solvents, as long as there is a relationship that satisfies equations (1) to (3), both of the two types of solvents in the relationship are organic solvent A and organic solvent B. It can be. In the present disclosure, among the combination of two organic solvents in a relationship, an organic solvent satisfying Formula (2) and an organic solvent satisfying Formula (3), the total mass of all solvents contained in the composition for forming a retardation film is The combination of the two types with the largest ratio can be regarded as organic solvent A and organic solvent B, and organic solvents other than those can be regarded as other organic solvents. In this case, it is preferable that the organic solvent A and the organic solvent B are next to each other in order from lowest boiling point. Since control of boiling points, etc. between multiple types of solvents may become complicated, the types of organic solvents contained in the composition for forming a retardation film of the present invention are usually 4 types or less, preferably 3 types or less, and more. Preferably there are two types.

다른 유기 용제는, 사용하는 유기 용제 A 및 유기 용제 B 와는 상이한 유기 용제로서, 예를 들어, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 로서 앞서 예시한 유기 용제 등의 이미 알려진 유기 용제에서 선택할 수 있다. 다른 유기 용제로는, 중합성 액정 화합물에 대한 용해성이 높고, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 것을 선택하는 것이 보다 유리하다.The other organic solvent is an organic solvent different from the organic solvent A and organic solvent B used, and can be selected from known organic solvents such as the organic solvents previously exemplified as organic solvent A and organic solvent B, for example. As for other organic solvents, it is more advantageous to select one that has high solubility in the polymerizable liquid crystal compound and is inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound.

본 발명의 효과를 충분히 얻는 관점에서, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 용제의 총질량에 대한, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 합계 함유량은 80 질량% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 85 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 100 질량% 여도 된다 (즉, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 유기 용제는 유기 용제 A 및 유기 용제 B 만이어도 된다). 바꾸어 말하면, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 용제의 총질량에 대한 다른 유기 용제의 함유량은, 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하이고, 다른 유기 용제를 실질적으로 포함하지 않아도 된다. 다른 유기 용제의 함유량이 상기의 범위이면, 건조 공정에 있어서, 필요 이상의 가열을 하는 일 없이 용제를 제거할 수 있어, 잔류 용제의 양을 저감시킬 수 있기 때문에, 외관이 우수한 위상차막을 얻을 수 있다.From the viewpoint of sufficiently obtaining the effect of the present invention, the total content of organic solvent A and organic solvent B relative to the total mass of solvents contained in the composition for forming a retardation film is preferably 80% by mass or more, more preferably 85% by mass. % or more, more preferably 90 mass% or more, and may be 100 mass% (that is, the organic solvent contained in the composition for forming a retardation film may be only organic solvent A and organic solvent B). In other words, the content of other organic solvents relative to the total mass of the solvent contained in the composition for forming a retardation film is preferably 20 mass% or less, more preferably 15 mass% or less, and still more preferably 10 mass% or less. , it is not necessary to substantially contain other organic solvents. If the content of the other organic solvent is within the above range, the solvent can be removed in the drying process without unnecessary heating, and the amount of residual solvent can be reduced, so that a retardation film with excellent appearance can be obtained.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 그 고형분 농도가 5 질량% 이상이 되는 양으로 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 고형분 농도가 5 질량% 이상이면, 풍문 불균일의 발생 억제 효과가 향상되기 쉬워진다. 이러한 관점에서, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 고형분 농도는, 보다 바람직하게는 8 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이상이다. 고형분 농도의 상한은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 도공성 등의 관점에서, 통상 40 질량% 이하이고, 바람직하게는 30 질량% 이하이다. 바꾸어 말하면, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 유기 용제의 함유량 (유기 용제 A 및 B, 그리고, 포함하는 경우에는 다른 유기 용제의 합계량) 은, 위상차막 형성용 조성물의 총질량에 대하여 60 ∼ 95 질량% 이하인 것이 바람직하다. 유기 용제의 함유량이 상기 범위이면, 풍문 불균일이 발생하기 어렵고, 건조 공정에 있어서는 필요 이상의 가열을 하는 일 없이 용제를 건조 제거할 수 있고, 잔류 용제의 양을 저감시킬 수 있기 때문에, 외관 및 광학 특성이 우수한 위상차막을 얻을 수 있다.The composition for forming a retardation film of the present invention preferably contains an organic solvent in an amount such that the solid content concentration is 5% by mass or more. When the solid content concentration is 5% by mass or more, the effect of suppressing the occurrence of wind unevenness is likely to be improved. From this viewpoint, the solid content concentration in the composition for forming a retardation film of the present invention is more preferably 8% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more. The upper limit of the solid content concentration is not particularly limited, but is usually 40% by mass or less, preferably 30% by mass or less, from the viewpoint of coatability and the like. In other words, the content of the organic solvent (the total amount of organic solvents A and B and, if included, other organic solvents) in the composition for forming a phase contrast film of the present invention is 60% with respect to the total mass of the composition for forming a phase contrast film. It is preferable that it is ~95% by mass or less. If the content of the organic solvent is within the above range, it is difficult for wind unevenness to occur, and in the drying process, the solvent can be dried and removed without using unnecessary heating, and the amount of residual solvent can be reduced, so the appearance and optical properties. This excellent phase contrast film can be obtained.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하에 네마틱 액정 상전이 온도를 갖는 중합성 액정 화합물 (이하, 「중합성 액정 화합물 (x)」 라고도 한다) 을 포함한다. 중합성 액정 화합물 (x) 는, 중합성기, 특히 광 중합성기를 갖는 액정 화합물이고, 그 중합성 액정 화합물 (x) 로서, 광학 필름의 분야에 있어서 종래 공지된 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있다. 중합성 액정 화합물 (x) 가 나타내는 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고 리오트로픽성 액정이어도 되지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (x) 는, 상질서 구조로서 네마틱 액정성을 나타내는 것이고, 이로써 배향 제어를 하기 쉽다는 이점도 있다.The composition for forming a retardation film of the present invention contains a polymerizable liquid crystal compound (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (x)”) having a nematic liquid crystal phase transition temperature of 100°C or more and 200°C or less. The polymerizable liquid crystal compound (x) is a liquid crystal compound having a polymerizable group, especially a photopolymerizable group, and as the polymerizable liquid crystal compound (x), a polymerizable liquid crystal compound conventionally known in the field of optical films can be used. The liquid crystallinity shown by the polymerizable liquid crystal compound (x) may be thermotropic liquid crystal or lyotropic liquid crystal, but thermotropic liquid crystal is preferable because it allows precise film thickness control. The polymerizable liquid crystal compound (x) exhibits nematic liquid crystallinity as a phase-order structure, and thus has the advantage of being easy to control orientation.

중합성 액정 화합물 (x) 로는, 하기 (가) ∼ (라) 를 모두 만족하는 화합물을 들 수 있다.Examples of the polymerizable liquid crystal compound (x) include compounds that satisfy all of the following (a) to (d).

(가) 네마틱상을 형성할 수 있는 화합물이다 ;(a) It is a compound capable of forming a nematic phase;

(나) 그 중합성 액정 화합물의 장축 방향 (a) 상에 π 전자를 갖는다.(b) The polymerizable liquid crystal compound has π electrons in the long axis direction (a).

(다) 장축 방향 (a) 에 대해 교차하는 방향 [교차 방향 (b)] 상에 π 전자를 갖는다.(c) It has π electrons in the direction [crossing direction (b)] that crosses the major axis direction (a).

(라) 장축 방향 (a) 에 존재하는 π 전자의 합계를 N(πa), 장축 방향에 존재하는 분자량의 합계를 N(Aa) 로 하여 하기 식 (i) 로 정의되는 중합성 액정 화합물의 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도 :(d) The long axis of the polymerizable liquid crystal compound defined by the formula (i) below, with the sum of π electrons existing in the long axis direction (a) being N(πa) and the sum of molecular weights existing in the long axis direction being N(Aa). π electron density in direction (a):

D(πa) = N(πa)/N(Aa) (i)D(πa) = N(πa)/N(Aa) (i)

와, 교차 방향 (b) 에 존재하는 π 전자의 합계를 N(πb), 교차 방향 (b) 에 존재하는 분자량의 합계를 N(Ab) 로 하여 하기 식 (ii) 로 정의되는 중합성 액정 화합물의 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도 :and a polymerizable liquid crystal compound defined by the following formula (ii) where the sum of π electrons existing in the crossing direction (b) is N(πb) and the sum of molecular weights existing in the crossing direction (b) is N(Ab). π electron density in the cross direction (b):

D(πb) = N(πb)/N(Ab) (ii)D(πb) = N(πb)/N(Ab) (ii)

가,go,

0 ≤ [D(πa)/D(πb)] ≤ 10 ≤ [D(πa)/D(πb)] ≤ 1

의 관계에 있다 [즉, 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도가 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도보다 크다].There is a relationship [that is, the π electron density in the cross direction (b) is greater than the π electron density in the long axis direction (a)].

또한, 상기 (가) ∼ (라) 를 모두 만족하는 중합성 액정 화합물은, 예를 들어 배향막 상에 도포하고, 상전이 온도 이상으로 가열함으로써, 네마틱상을 형성하는 것이 가능하다. 이 중합성 액정 화합물이 배향하여 형성된 네마틱상에서는 통상, 중합성 액정 화합물의 장축 방향이 서로 평행이 되도록 배향하고 있고, 이 장축 방향이 네마틱상의 배향 방향이 된다.In addition, the polymerizable liquid crystal compound that satisfies all of the above (a) to (d) can form a nematic phase by, for example, applying it on an alignment film and heating it above the phase transition temperature. In the nematic phase formed by aligning the polymerizable liquid crystal compounds, the major axes of the polymerizable liquid crystal compounds are generally aligned to be parallel to each other, and this major axis direction becomes the orientation direction of the nematic phase.

상기 특성을 갖는 중합성 액정 화합물은, 일반적으로, 이것을 단독으로 중합하여 얻어지는 액정 경화막이 역파장 분산성을 나타내는 것인 경우가 많다. 중합성 액정 화합물로는, 역파장 분산성 발현의 관점에서 분자 장축 방향에 대해 수직 방향으로 추가로 복굴절성을 갖는 T 자형 혹은 H 형에 메소겐 구조를 갖는 액정이 바람직하고, 보다 강한 분산이 얻어지는 관점에서 T 자형 액정이 보다 바람직하다. 상기 (가) ∼ (라) 의 특성을 만족하는 화합물로서 구체적으로는, 예를 들어, 하기 식 (I) :In general, the polymerizable liquid crystal compound having the above properties often exhibits reverse wavelength dispersion in the liquid crystal cured film obtained by polymerizing it alone. As the polymerizable liquid crystal compound, from the viewpoint of developing reverse wavelength dispersion, a liquid crystal having a T-shaped or H-shaped mesogenic structure with additional birefringence in the direction perpendicular to the long axis direction of the molecule is preferable, and stronger dispersion is obtained. From this point of view, T-shaped liquid crystal is more preferable. Specifically, a compound that satisfies the properties (a) to (d) above includes, for example, the following formula (I):

[화학식 4][Formula 4]

P1-E1-(B1-G1)k-L1-Ar-L2-(G2-B2)l-E2-P2 (I)P 1 -E 1 -(B 1 -G 1 ) k -L 1 -Ar-L 2 -(G 2 -B 2 ) l -E 2 -P 2 (I)

로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Compounds represented by can be mentioned.

역파장 분산성을 나타내는 위상차막에서는, 균일한 편광 변환이 얻어지기 쉽고, 광학 특성이 우수한 점에서, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물에 있어서, 중합성 액정 화합물 (x) 는 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하, 「중합성 액정 화합물 (I)」 이라고도 한다) 을 포함하는 것이 바람직하다. 이들 중합성 액정 화합물은, 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In a retardation film showing reverse wavelength dispersion, uniform polarization conversion is easy to be obtained and the optical properties are excellent. Therefore, in the composition for forming a retardation film of the present invention, the polymerizable liquid crystal compound (x) has the formula (I) It is preferable to include a polymerizable liquid crystal compound (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (I)”) represented by . These polymerizable liquid crystal compounds can be used individually or in combination of two or more types.

식 (I) 중, L1, L2, B1 및 B2 는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타낸다.In formula (I), L 1 , L 2 , B 1 and B 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group.

L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra1ORa2-, -Ra3COORa4-, -Ra5OCORa6-, -Ra7OC=OORa8-, -N=N-, -CRc=CRd-, 또는 -C≡C- 이다. 여기서, Ra1 ∼ Ra8 은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, Rc 및 Rd 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa2-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa4-1-, 또는 OCORa6-1- 이다. 여기서, Ra2-1, Ra4-1, Ra6-1 은 각각 독립적으로, 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 더욱 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, 또는 -OCO- 이다.L 1 and L 2 are each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a1 OR a2 -, -R a3 COOR a4 -, -R a5 OCOR a6 -, -R a7 OC=OOR a8 -, -N=N-, -CR c =CR d -, or -C≡C-. Here, R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d represent an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 4 carbon atoms. L 1 and L 2 are each independently, more preferably a single bond, -OR a2-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a4-1 -, or OCOR a6-1 - . Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -. L 1 and L 2 are each independently, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, or -OCO-.

B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra9ORa10-, -Ra11COORa12-, -Ra13OCORa14-, 또는 -Ra15OC=OORa16- 이다. 여기서, Ra9 ∼ Ra16 은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa10-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa12-1-, 또는 OCORa14-1- 이다. 여기서, Ra10-1, Ra12-1, Ra14-1 은 각각 독립적으로, 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 더욱 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, -OCO-, 또는 -OCOCH2CH2- 이다.B 1 and B 2 are each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a9 OR a10 -, -R a11 COOR a12 -, -R a13 OCOR a14 -, or -R a15 OC=OOR a16 -. Here, R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, -OR a10-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a12-1 -, or OCOR a14-1 - . Here, R a10-1 , R a12-1 , and R a14-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, -OCO-, or -OCOCH 2 CH 2 - am.

G1 및 G2 는, 각각 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자는, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. G1 및 G2 는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-페닐렌디일기, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-시클로헥산디일기이고, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐렌디일기, 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이고, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이다.G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group with 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. It may be substituted, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom. G 1 and G 2 are each independently, preferably a 1,4-phenylenediyl group, a halogen atom, and It is a 1,4-cyclohexanediyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a 1,4-phenylenediyl group substituted with a methyl group, or an unsubstituted group. 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, especially preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted 1,4-trans-cyclo It is a hexanediyl group.

또, 복수 존재하는 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또, L1 또는 L2 에 결합하는 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that at least one of the plurality of G 1 and G 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group. It is more preferable to be

k 및 l 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 1 ≤ k + l 의 관계를 만족한다. k 및 l 은, 역파장 분산성 발현의 관점에서 2 ≤ k + l ≤ 6 의 범위가 바람직하고, k + l = 4 인 것이 바람직하고, k = 2 또한 l = 2 인 것이 보다 바람직하다. k = 2 또한 l = 2 이면 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다.k and l each independently represent an integer from 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≤ k + l. From the viewpoint of developing reverse wavelength dispersion, k and l are preferably in the range of 2 ≤ k + l ≤ 6, preferably k + l = 4, and more preferably k = 2 and l = 2. k = 2 and l = 2 are also desirable because it results in a symmetrical structure.

E1 및 E2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -S-, -C(=O)- 로 치환되어 있어도 된다. E1 및 E2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 12 의 알칸디일기가 보다 바람직하다.E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 contained in the alkanediyl group - may be substituted with -O-, -S-, or -C(=O)-. E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.

P1 및 P2 는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타낸다. 단, P1 및 P2 중의 적어도 1 개는 중합성기이고, P1 및 P2 가 모두 중합성기인 것이, 얻어지는 위상차막의 막경도의 관점에서 바람직하다. P1 또는 P2 로 나타내는 중합성기로는, 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 라디칼 중합성기 또는 카티온 중합성기가 바람직하고, 취급성이나 제조의 용이성의 관점에서, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.P 1 and P 2 independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom. However, it is preferable that at least one of P 1 and P 2 is a polymerizable group, and that both P 1 and P 2 are polymerizable groups from the viewpoint of the film hardness of the resulting retardation film. The polymerizable group represented by P 1 or P 2 includes epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, and oxiranyl group. , and oxetanyl group. Among them, a radical polymerizable group or a cationic polymerizable group is preferable, and from the viewpoint of handling and ease of manufacture, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group are preferable. , an acryloyloxy group is more preferable.

Ar 은, 식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중 어느 것으로 나타내는 기이다. 이들 기는, 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물에 있어서, 장축 방향에 대해 교차하는 방향으로 벌키한 분자 구조를 부여하고, 단축 방향의 흡수 파장이 장파장이 되고, 배향한 액정 분자에 의해 발생하는 위상차가 역파장 분산성을 가지기 쉬운 점에 있어서 공통된다.Ar is a group represented by any of the formulas (Ar-1) to (Ar-5). In the polymerizable liquid crystal compound represented by formula (I), these groups impart a bulky molecular structure in the direction crossing the major axis direction, the absorption wavelength in the minor axis direction becomes a long wavelength, and the absorption wavelength generated by the aligned liquid crystal molecules They have something in common in that the phase difference tends to have reverse wavelength dispersion.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00003
Figure pat00003

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-5) 로 나타내는 방향족 탄화수소 고리 또는 방향족 복소 고리를 포함하는 2 가의 기에 포함되는 π 전자의 합계수 Nπ 는, 바람직하게는 12 이상, 보다 바람직하게는 16 이상, 더욱 바람직하게는 18 이상, 특히 바람직하게는 20 이상이다. 또, 바람직하게는 36 미만, 보다 바람직하게는 32 이하, 더욱 바람직하게는 30 이하, 특히 바람직하게는 26 이하이다.The total number of π electrons N π contained in the divalent group containing an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle represented by formula (Ar-1) to formula (Ar-5) is preferably 12 or more, more preferably 16. or more, more preferably 18 or more, particularly preferably 20 or more. Moreover, it is preferably less than 36, more preferably 32 or less, further preferably 30 or less, and particularly preferably 26 or less.

식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중 * 는, 식 (I) 중의 L1 또는 L2 와의 결합부를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-5), * represents a bonding portion with L 1 or L 2 in formula (I).

식 (Ar-1) 중, Q1 은 -S-, -O- 또는 -NR11- 를 나타내고, R11 은 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다. 식 (Ar-3) 및 (Ar-4) 중, Q2 는 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.In the formula (Ar-1), Q 1 represents -S-, -O-, or -NR 11 -, and R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. In formulas (Ar-3) and (Ar-4), Q 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.

식 (Ar-2) 중, W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -NR11- 를 나타내고, R11 은 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.In the formula (Ar-2), W 1 and W 2 each independently represent -O-, -S-, -CO-, and -NR 11 -, and R 11 is a hydrogen atom or a carbon number that may have a substituent. Represents an alkyl group of 1 to 6.

식 (Ar-1) 중, Y1 은 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다. 식 (Ar-2) 중, Y2 는 CN 기 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기를 나타낸다. 여기서, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -CO-, -O-CO- 또는 -CO-O- 로 치환되어 있어도 된다.In formula (Ar-1), Y 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group. In formula (Ar-2), Y 2 represents a CN group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Here, the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 - contained in the alkyl group may be substituted with -O-, -CO-, -O-CO-, or -CO-O-. It can be done.

식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중, Z1, Z2 및 Z3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족 탄화수소기 또는 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 20 의 지환식 탄화수소기, 1 가의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR12R13 또는 -SR14 를 나타내고, Z1 및 Z2 는, 서로 결합하여 방향 고리 또는 방향족 복소 고리를 형성해도 된다. R12 ∼ R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-5), Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -NR 12 R 13 or -SR 14 , and Z 1 and Z 2 are bonded to each other to form an aromatic ring or aromatic complex. You may form a ring. R 12 to R 14 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

식 (Ar-3) 및 (Ar-4) 중, Ax 는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, Ay 는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, Ax 와 Ay 는 결합하여 고리를 형성해도 된다.In formulas (Ar-3) and (Ar-4), Ax represents an organic group of 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle, and Ay is a hydrogen atom. , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, or an organic group having 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle, and Ax and Ay are combined You may form a ring.

식 (Ar-1) 중, Y1 은, 바람직하게는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기이고, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 12 의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 12 의 방향족 복소 고리기가 보다 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기이다. 본 개시에 있어서 「다고리계 방향족 탄화수소기」 는, 적어도 2 개의 방향 고리를 갖는 방향족 탄화수소기를 의미하고, 2 개 이상의 방향 고리가 축합하여 형성되는 축합 방향족 탄화수소기 및 2 개 이상의 방향 고리가 결합하여 형성되는 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 「다고리계 방향족 복소 고리기」 는, 적어도 1 개의 복소 방향 고리를 갖고, 방향 고리 및 복소 방향 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 고리를 갖는 방향족 복소 고리기를 의미하고, 1 개 이상의 방향족 복소 고리와 방향 고리 및 복소 방향 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 고리가 축합하여 형성되는 방향족 복소 고리기 및 적어도 1 개의 복소 방향 고리와 방향 고리 및 복소 방향 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 고리가 결합하여 형성되는 방향족 복소 고리기를 들 수 있다.In the formula (Ar-1), Y 1 is preferably an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group that may have a substituent, and is an aromatic hydrocarbon group with 6 to 12 carbon atoms or an aromatic group with 3 to 12 carbon atoms that may have a substituent. Heterocyclic groups are more preferred. The aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group that may have a substituent is preferably a polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group that may be substituted. In the present disclosure, “polycyclic aromatic hydrocarbon group” refers to an aromatic hydrocarbon group having at least two aromatic rings, a condensed aromatic hydrocarbon group formed by condensation of two or more aromatic rings, and a condensed aromatic hydrocarbon group formed by condensation of two or more aromatic rings. An aromatic hydrocarbon group formed may be mentioned. “Polycyclic aromatic heterocyclic group” means an aromatic heterocyclic group having at least one heteroaromatic ring, having at least one ring selected from the group consisting of aromatic rings and heteroaromatic rings, and having at least one aromatic heterocyclic ring. An aromatic heterocyclic ring group formed by condensation of one or more rings selected from the group consisting of a ring, an aromatic ring, and a heteroaromatic ring, and at least one heteroaromatic ring and at least one group selected from the group consisting of an aromatic ring and a heteroaromatic ring An aromatic heterocyclic group formed by combining rings can be mentioned.

상기 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기가 가질 수 있는 치환기로는, 예를 들어, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 니트로소기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술파닐기, 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬아미노기, 술파모일기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 및 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 들 수 있다.Substituents that the aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group may have include, for example, a halogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a nitroso group, an alkylsulfinyl group with 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom. Alkylsulfonyl group with 6 to 6 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group with 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, alkylsulfanyl group with 1 to 6 carbon atoms, N-alkylamino group with 1 to 4 carbon atoms, and 2 to 8 carbon atoms. Examples include N,N-dialkylamino group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group with 1 to 6 carbon atoms, and N,N-dialkylsulfamoyl group with 2 to 12 carbon atoms.

Y1 로는, 예를 들어, 하기 식 (Y1-1) ∼ (Y1-7) 로 나타내는 기를 들 수 있다.Examples of Y 1 include groups represented by the following formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00004
Figure pat00004

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, * 부는 연결부를 나타낸다.In formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7), * represents a connection part.

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, Z4 는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 유기기를 나타내고, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 술폰기, 니트록시키드기, 카르복실기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 티오메틸기, N,N-디메틸아미노기, N-메틸아미노기가 바람직하고, 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기가 보다 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 펜틸기, 헥실기가 특히 바람직하다.In formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7), Z 4 each independently represents a halogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. , methyl group, ethyl group, isopropyl group, sec-butyl group, cyano group, nitro group, sulfone group, nitroxyl group, carboxyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, thiomethyl group, N, N-dimethylamino group, N- Methylamino group is preferable, halogen atom, methyl group, ethyl group, isopropyl group, sec-butyl group, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group are more preferable, methyl group, ethyl group, isopropyl group, sec-butyl group, Pentyl group and hexyl group are particularly preferable.

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, V1 및 V2 는, 각각 독립적으로, -CO-, -S-, -NR15-, -O-, -Se- 또는 -SO2- 를 나타내고, -S-, -NR15- 또는 -O- 인 것이 바람직하다. R15 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7), V 1 and V 2 are each independently -CO-, -S-, -NR 15 -, -O-, -Se- or - It represents SO 2 - and is preferably -S-, -NR 15 - or -O-. R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, W3 ∼ W7 은, 각각 독립적으로, -C= 또는 -N= 를 나타낸다.In formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7), W 3 to W 7 each independently represent -C= or -N=.

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, V1, V2 및 W3 ∼ W7 중 적어도 하나는, S, N 또는 O 를 포함하는 기를 나타내는 것이 바람직하다.In formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7), at least one of V 1 , V 2 and W 3 to W 7 preferably represents a group containing S, N or O.

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, a 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 0 또는 1 인 것이 바람직하다. b 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, 0 인 것이 바람직하다.In formulas (Y 1 -1) to (Y 1 -7), a each independently represents an integer of 0 to 3, and is preferably 0 or 1. b each independently represents an integer of 0 to 2, and is preferably 0.

식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 로 나타내는 어느 기는, 하기 식 (Y1-8) ∼ 식 (Y1-13) 으로 나타내는 어느 기인 것이 바람직하고, 식 (Y1-8) 로 나타내는 기인 것이 보다 바람직하다. 또한, * 부는 연결부를 나타낸다.Any group represented by the formula (Y 1 -1) to (Y 1 -7) is preferably any group represented by the following formula (Y 1 -8) to (Y 1 -13), and is represented by the formula (Y 1 -8 ) is more preferable. Additionally, * indicates a connection part.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00005
Figure pat00005

식 (Y1-8) ∼ 식 (Y1-13) 중, Z4, a, b, V1, V2 및 W3 은, (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중의 Z4, a, b, V1, V2 및 W3 과 동일한 의미를 나타낸다.In formulas (Y 1 -8) to (Y 1 -13), Z 4 , a, b, V 1 , V 2 and W 3 are Z in (Y 1 -1) to formulas (Y 1 -7) 4 , a, b, V 1 , V 2 and W 3 have the same meaning.

Y1 의 구체예로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2019-003177호에 기재된 식 (ar-1) ∼ 식 (ar-840) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 그 중에서도 하기 식으로 나타내는 기가 바람직하다.Specific examples of Y 1 include groups represented by formulas (ar-1) to (ar-840) described in Japanese Patent Application Publication No. 2019-003177. Among these, groups represented by the following formula are preferable.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00006
Figure pat00006

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 식 (Ar-1) 로 나타내는 기로서, 구체적으로는, 하기 식 (Ar1-1) ∼ (Ar1-126) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 식 중 * 부는, 식 (I) 중의 L1 또는 L2 와의 연결부를 나타낸다.In one embodiment of the present invention, the group represented by the formula (Ar-1) specifically includes groups represented by the following formulas (Ar 1-1 ) to (Ar 1-126 ). The * part in the formula represents a connection portion with L 1 or L 2 in the formula (I).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00007
Figure pat00007

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00009
Figure pat00009

[화학식 12][Formula 12]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화학식 13][Formula 13]

Figure pat00011
Figure pat00011

[화학식 14][Formula 14]

Figure pat00012
Figure pat00012

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 식 (Ar-2) 로 나타내는 기로서 구체적으로는, 하기 식 (Ar2-1) ∼ (Ar2-13) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 식 중 * 부는, 식 (I) 중의 L1 또는 L2 와의 연결부를 나타낸다.In one embodiment of the present invention, specific examples of the group represented by the formula (Ar-2) include groups represented by the following formulas (Ar 2 -1) to (Ar2-13). The * part in the formula represents a connection portion with L 1 or L 2 in the formula (I).

[화학식 15][Formula 15]

Figure pat00013
Figure pat00013

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 식 (Ar-3) 으로 나타내는 기로서 구체적으로는, 하기 식 (Ar3-1) ∼ (Ar3-23) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 식 중 * 부는, 식 (I) 중의 L1 또는 L2 와의 연결부를 나타낸다.In one embodiment of the present invention, specific examples of the group represented by the formula (Ar-3) include groups represented by the following formulas (Ar3-1) to (Ar3-23). The * part in the formula represents a connection portion with L 1 or L 2 in the formula (I).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pat00014
Figure pat00014

[화학식 17][Formula 17]

Figure pat00015
Figure pat00015

식 (Ar-1) ∼ (Ar-4) 로 나타내는 기는, 상기 구체적으로 예시한 기 외에, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2011-207765호, 일본 공개특허공보 2008-107767호, WO2014/010325호 등에 기재된 기여도 된다.Groups represented by formulas (Ar-1) to (Ar-4) include, in addition to the groups specifically exemplified above, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-207765, Japanese Patent Application Publication No. 2008-107767, and WO2014/010325. Contributions listed in etc. may also be made.

식 (Ar-5) 중, Y3 및 Y4 는, 각각 독립적으로, 하기 식 (Y3-1) :In formula (Ar-5), Y 3 and Y 4 are each independently represented by the following formula (Y 3 -1):

[화학식 18][Formula 18]

로 나타내는 기에서 선택된다.It is selected from the group represented by .

식 (Y3-1) 중, RY1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기는, 1 개 이상의 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 된다.In the formula (Y 3 -1), R Y1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group may be substituted with one or more substituents

치환기 X3 은, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로술푸라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 하이드록실기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C- 로 치환되어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 직사슬형 또는 분기형 알킬기를 나타내고, 그 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 혹은, -B3-F3-P3 으로 나타내는 기여도 된다. B3 은, -CR16R17-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR18-, -NR18-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-, -S-CH2-, -CH2-S- 또는 단결합을 나타내고, R16 ∼ R18 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고 ; F3 은, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR19 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, R19 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고 ; P3 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다. Substituent Diethylamino group, diisopropylamino group, trimethylsilyl group, dimethylsilyl group, thioisocyano group, or one -CH 2 - or two or more non-adjacent -CH 2 - are each independently -O-, -S -, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH Carbon number that may be substituted with -COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C- It represents a 1 to 20 linear or branched alkyl group, and any hydrogen atom in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, or may be represented by -B 3 -F 3 -P 3 . B 3 is -CR 16 R 17 -, -CH 2 -CH 2 -, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C( =S)-O-, -OC(=S)-, -OC(=S)-O-, -CO-NR 18 -, -NR 18 -CO-, -O-CH 2 -, -CH 2 - O-, -S-CH 2 -, -CH 2 -S- or a single bond, and R 16 to R 18 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; F 3 represents an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with -OR 19 or a halogen atom, and R 19 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and The hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, and -CH 2 - contained in the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-; P 3 represents a hydrogen atom or a polymerizable group.

치환기 X3 으로는, 바람직하게는 불소 원자, 염소 원자, -CF3, -OCF3 또는 시아노기이다. RY1 은, 무치환이거나, 수소 원자 또는 1 개 이상의 불소 원자로 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기가 바람직하고, 보다 바람직하게는 수소 원자이다.The substituent X 3 is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, -CF 3 , -OCF 3 or a cyano group. R Y1 is preferably an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms that is unsubstituted or substituted with a hydrogen atom or one or more fluorine atoms, and more preferably is a hydrogen atom.

식 (Y3-1) 중, U1 은, 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타낸다. 그 방향족 탄화수소기의 임의의 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어 있어도 되고, U1 은, 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기이다. 그 방향족 탄화수소기는, 1 개 이상의 상기 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 된다.In the formula (Y 3 -1), U 1 represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms and having an aromatic hydrocarbon group. Any carbon atom of the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hetero atom, and U 1 is an organic group having 2 to 30 carbon atoms, which has at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle. . The aromatic hydrocarbon group may be substituted with one or more of the above substituents

U1 은, 파장 분산성이 양호해지는 점에서, 탄소 원자의 하나 이상이 헤테로 원자로 치환되어 있는, 방향족 복소 고리를 갖는 유기기인 것이 바람직하다. U1 은, 파장 분산성이 양호하고, 높은 복굴절을 나타내는 바와 같이 되는 점에서, 5 원 고리와 6 원 고리의 축합 고리인 방향족 복소 고리를 갖는 유기기인 것이 보다 바람직하다.U 1 is preferably an organic group having an aromatic heterocycle in which at least one carbon atom is substituted with a hetero atom because wavelength dispersion is improved. U 1 is more preferably an organic group having an aromatic heterocycle, which is a condensed ring of a 5-membered ring and a 6-membered ring, because it has good wavelength dispersion and exhibits high birefringence.

구체적으로 U1 로는, 이하의 식으로 나타내는 기를 갖는 것인 것이 바람직하다. 또한, 하기 식에 있어서 이들 기는 임의의 위치에 T1 과의 결합손을 가지고 있다.Specifically, U 1 preferably has a group represented by the following formula. In addition, in the formula below, these groups have a bond with T 1 at an arbitrary position.

[화학식 19][Formula 19]

Figure pat00017
Figure pat00017

식 (Y3-1) 중, T1 은, -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -NU2-, -N=CU2-, -CO-NU2-, -OCO-NU2- 또는 O-NU2- 를 나타내고, U2 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기, 방향족 탄화수소기 (그 방향족 탄화수소기의 임의의 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어 있어도 된다) 를 갖는 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기, 또는 (E3-A3)q-B3-F3-P3 을 나타낸다. 그 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알케닐기 및 방향족 탄화수소기는 각각, 무치환이거나 또는 1 개 이상의 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기는 그 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 알킬기 중의 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -SO2-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C- 로 치환되어도 되고, 그 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기 중의 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 는, 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO-, -OCO- 또는 O-CO-O- 로 치환되어도 된다. E3 은 상기 B3 과 동일하게 정의되고, A3 은, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기 및 그 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R20, -OR21, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 된다. R20 은, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, R21 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. B3, F3 및 P3 은, 각각, 상기 B3, F3 및 P3 과 동일한 의미를 갖고, q 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. E3 및/또는 A3 이 복수 존재하는 경우에는, 그것들은 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula (Y 3 -1), T 1 is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -NU 2 -, -N=CU 2 -, -CO- Represents NU 2 -, -OCO-NU 2 - or O-NU 2 -, and U 2 is a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group with 3 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group with 3 to 12 carbon atoms, or aromatic. represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms and a hydrocarbon group (any carbon atom of the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hetero atom), or (E 3 -A 3 ) q -B 3 -F 3 -P 3 . The alkyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group and aromatic hydrocarbon group may each be unsubstituted or substituted with one or more substituents One -CH 2 - or two or more non-adjacent -CH 2 - in the alkyl group are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO- S-, -S-CO-, -SO 2 -, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C- may be substituted, and one -CH in the cycloalkyl group or cycloalkenyl group 2 - or two or more nonadjacent -CH 2 - may each independently be substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, or O-CO-O-. E 3 is defined in the same way as B 3 above, and A 3 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms or a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and the alicyclic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group are The hydrogen atom contained may be substituted with a halogen atom, -R 20 , -OR 21 , a cyano group, or a nitro group. R 20 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, and R 21 represents an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom. B 3 , F 3 and P 3 each have the same meaning as B 3 , F 3 and P 3 above, and q represents an integer of 0 to 4. When multiple E 3 and/or A 3 exist, they may be the same or different.

T1 은, 복굴절이 양호하고 합성이 용이한 점에서, -O-, -S-, -N=CU2- 또는 -NU2- 인 것이 바람직하고, 파장 분산성과 복굴절을 향상시키기 쉬운 점에서, -O-, -S- 또는 -NU2- 인 것이 보다 바람직하다.T 1 is preferably -O-, -S-, -N=CU 2 - or -NU 2 - because it has good birefringence and is easy to synthesize, and because it is easy to improve wavelength dispersion and birefringence, -O-, -S- or -NU 2 - is more preferable.

U2 는, 1 개 이상의 상기 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고, 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 가 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO-, -OCO- 또는 -O-CO-O- 로 치환되어도 되는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기 혹은 알케닐기, 탄소 원자수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기, 혹은, 당해 시클로알킬기, 시클로알케닐기, 또는 아릴기에 의해 치환되어 있어도 되는 상기 알킬기 혹은 알케닐기인 것이 바람직하다.U 2 may be substituted by one or more of the above substituents An alkyl group or alkenyl group with 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group with 3 to 12 carbon atoms, or a cycloalkenyl group with 3 to 12 carbon atoms, which may be substituted by -, -OCO- or -O-CO-O-, or, It is preferable that it is the said alkyl group or alkenyl group which may be substituted with the said cycloalkyl group, cycloalkenyl group, or an aryl group.

그 중에서도 U2 는, 복굴절 및 용제 용해성의 점에서, 수소 원자가 불소 원자로 치환되어도 되고, 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 가 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO- 로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 직사슬형 알킬기인 것이 보다 바람직하다.Among them, in terms of birefringence and solvent solubility, U 2 may have a hydrogen atom substituted with a fluorine atom, and one -CH 2 - or two or more non-adjacent -CH 2 - are each independently -O-, -CO It is more preferable that it is a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with -, -COO- or -OCO-.

U1 과 U2 는 결합하여 고리를 구성하고 있어도 된다. 그 경우, 예를 들어, -NU1U2 로 나타내는 고리형기, 또는 -N=CU1U2 로 나타내는 고리형기를 들 수 있다.U 1 and U 2 may combine to form a ring. In that case, examples include a cyclic group represented by -NU 1 U 2 or a cyclic group represented by -N=CU 1 U 2 .

원료가 입수하기 쉽고, 용해성이 양호하고 높은 복굴절률을 나타내는 점에서, Y3 및 Y4 는 각각, 하기 식 (Y3'-1) ∼ 식 (Y3'-47) 에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.Since the raw materials are easy to obtain, have good solubility, and exhibit high birefringence, Y 3 and Y 4 each represent a group selected from the following formulas (Y 3' -1) to (Y 3' -47). Particularly desirable.

[화학식 20][Formula 20]

Figure pat00018
Figure pat00018

[화학식 21][Formula 21]

Figure pat00019
Figure pat00019

[화학식 22][Formula 22]

Figure pat00020
Figure pat00020

중합성 액정 화합물 (x) 의 배향성이 양호해지고, 공업적으로 제조하기 쉬워 생산성을 향상시킬 수 있는 등의 관점에서, 식 (Ar-5) 로 나타내는 기로는, 구체적으로, 이하의 기를 들 수 있다. 하기 (Ar5-1) ∼ (Ar5-20) 중의 * 는, 식 (I) 중의 L1 또는 L2 와의 결합부를 나타낸다.From the viewpoint of improving the orientation of the polymerizable liquid crystal compound (x), making it easy to manufacture industrially, and improving productivity, the following groups can be specifically mentioned as the group represented by the formula (Ar-5). . * in (Ar 5 -1) to (Ar 5 -20) below represents a bonding portion with L 1 or L 2 in formula (I).

[화학식 23][Formula 23]

Figure pat00021
Figure pat00021

[화학식 24][Formula 24]

Figure pat00022
Figure pat00022

[화학식 25][Formula 25]

Figure pat00023
Figure pat00023

식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중에서도, 식 (Ar-1), 식 (Ar-2) 및 식 (Ar-5) 중 어느 것으로 나타내는 기가 보다 바람직하고, 식 (Ar-1) 로 나타내는 기가 더욱 바람직하다. 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2019-003177호, 일본 공개특허공보 2019-073496호 등에 기재되는 바와 같은 화합물을 들 수 있다.Among formulas (Ar-1) to (Ar-5), a group represented by any of formulas (Ar-1), formula (Ar-2) and formula (Ar-5) is more preferable, and is represented by formula (Ar-1) The group represented is more preferable. Examples of the polymerizable liquid crystal compound represented by formula (I) include compounds described in JP2019-003177, JP2019-073496, etc.

중합성 액정 화합물 (I) 은, 단독으로 측정한 경우의 네마틱 액정 상전이 온도가 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (I) 의 상기 네마틱 액정 상전이 온도는, 바람직하게는 110 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 120 ℃ 이상이고, 예를 들어 130 ℃ 이상, 나아가서는 140 ℃ 이상이어도 된다.The polymerizable liquid crystal compound (I) preferably has a nematic liquid crystal phase transition temperature of 100°C or more and 200°C or less when measured alone. The nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound (I) is preferably 110°C or higher, more preferably 120°C or higher, and may be, for example, 130°C or higher, and further may be 140°C or higher.

본 발명에 있어서, 네마틱 액정 상전이 온도는, 예를 들어, 온도 조절 스테이지를 구비한 편광 현미경이나, 시차 주사 열량계 (DSC), 열중량 시차열 분석 장치 (TG-DTA) 등을 사용하여 측정할 수 있다.In the present invention, the nematic liquid crystal phase transition temperature can be measured using, for example, a polarizing microscope equipped with a temperature control stage, differential scanning calorimetry (DSC), thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA), etc. You can.

본 발명에 있어서, 위상차막 형성용 조성물은 중합성 액정 화합물 (I) 이외의 중합성 액정 화합물을 포함하고 있어도 된다. 중합성 액정 화합물 (I) 이외의 중합성 액정 화합물로는, 예를 들어, 봉상 중합성 액정 화합물을 들 수 있다. 여기서, 봉상 중합성 액정 화합물이란, 분자 구조가 봉상으로 간주될 수 있는 중합성 액정 화합물을 의미하고, 본 개시에 있어서는, 일반적으로 배향한 액정 분자에 의해 발생하는 위상차가 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 말한다.In the present invention, the composition for forming a retardation film may contain a polymerizable liquid crystal compound other than the polymerizable liquid crystal compound (I). Examples of polymerizable liquid crystal compounds other than polymerizable liquid crystal compound (I) include rod-shaped polymerizable liquid crystal compounds. Here, the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound refers to a polymerizable liquid crystal compound whose molecular structure can be considered to be rod-shaped, and in the present disclosure, a polymer where the phase difference generated by generally aligned liquid crystal molecules exhibits constant wavelength dispersion. refers to a liquid crystal compound.

본 발명에 있어서 액정 경화막을 형성하는 중합성 액정 화합물로서 예를 들어, 하기 식 (II) 로 나타내는 기를 포함하는 화합물 (이하, 「중합성 액정 화합물 (II)」 라고도 한다) 을 사용해도 된다. 중합성 액정 화합물 (II) 는 일반적으로 정파장 분산성을 나타내는 경향이 있다. 이들 중합성 액정 화합물은 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the polymerizable liquid crystal compound that forms the liquid crystal cured film in the present invention, for example, a compound containing a group represented by the following formula (II) (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (II)”) may be used. Polymerizable liquid crystal compound (II) generally tends to exhibit constant wavelength dispersion. These polymerizable liquid crystal compounds can be used individually or in combination of two or more types.

P4-B4-E4-B5-A4-B6- (II)P 4 -B 4 -E 4 -B 5 -A 4 -B 6 - (II)

[식 (Y) 중, P4 는, 중합성기를 나타낸다.[In formula (Y), P 4 represents a polymerizable group.

A4 는, 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.A 4 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group.

B4 는, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR22-, -NR22-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R22 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.B 4 is -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 22 -, -NR 22 -CO-, -CO-, -CS- or represents a single bond. R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

B5 및 B6 은, 각각 독립적으로, -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR22-, -NR22-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -H, -C≡N 또는 단결합을 나타낸다.B 5 and B 6 are each independently -C≡C-, -CH=CH-, -CH 2 -CH 2 -, -O-, -S-, -C(=O)-, -C( =O)-O-, -OC(=O)-, -OC(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)- NR 22 -, -NR 22 -C(=O)-, -OCH 2 -, -OCF 2 -, -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH=CH-C(=O)-O- , -OC(=O)-CH=CH-, -H, -C≡N or represents a single bond.

E4 는, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 그 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 또, 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다.]E 4 represents an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkoxy group may be substituted with a halogen atom. It can be done. Additionally, -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-.]

A4 의 방향족 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 3 ∼ 18 의 범위인 것이 바람직하고, 5 ∼ 12 의 범위인 것이 보다 바람직하고, 5 또는 6 인 것이 특히 바람직하다. A4 로 나타내는 2 가의 지환식 탄화수소기 및 2 가의 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 및 그 탄소수 1 ∼ 6 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. A4 로는, 시클로헥산-1,4-디일기, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.The carbon number of the aromatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group of A4 is preferably in the range of 3 to 18, more preferably in the range of 5 to 12, and especially preferably in the range of 5 or 6. The hydrogen atom contained in the divalent alicyclic hydrocarbon group and divalent aromatic hydrocarbon group represented by A 4 may be substituted with a halogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. The hydrogen atom contained in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted with a fluorine atom. A 4 is preferably cyclohexane-1,4-diyl group or 1,4-phenylene group.

E4 로는, 직사슬형의 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기가 바람직하다. 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 로 치환되어 있어도 된다.As E 4 , a linear alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be substituted with -O-.

구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기,헥산-1,6-디일기, 헵타-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기 및 도데칸-1,12-디일기 등의 탄소수 1 ∼ 12 의 직사슬형 알칸디일기 ; -CH2-CH2-O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등을 들 수 있다.Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, hepta-1, 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group and dodecane-1,12-diyl group. linear alkanediyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as diyl groups; -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 - and -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 - and the like.

B4 로는, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO- 가 바람직하고, 그 중에서도, -CO-O- 가 보다 바람직하다.As B 4 , -O-, -S-, -CO-O-, and -O-CO- are preferable, and among these, -CO-O- is more preferable.

B5 및 B6 으로는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O- 가 바람직하고, 그 중에서도, -O- 또는 -O-C(=O)-O- 가 보다 바람직하다.B 5 and B 6 are each independently -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -OC(= O)-O- is preferable, and among these, -O- or -OC(=O)-O- is more preferable.

P4 로 나타나는 중합성기로는, 중합성 액정 화합물 (I) 과 중합할 수 있는 기이면 되고, 예를 들어, 비닐기, 비닐옥시기, p-스틸벤기, 아크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크로일기, 메타크로일옥시기, 카르복실기, 아세틸기, 수산기, 카르바모일기, 아미노기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 포르밀기, -N=C=O 또는 -N=C=S 등을 들 수 있다. 중합 반응성, 특히 광 중합 반응성이 높다는 점에서, 라디칼 중합성기 또는 카티온 중합성기가 바람직하다. 취급이 용이한 데다가, 액정 화합물의 제조 자체도 용이하다는 점에서, P4-B4- 로 나타내는 기가, 아크릴로일옥시기, 메타크로일옥시기 또는 비닐옥시기가 바람직하다.The polymerizable group represented by P 4 may be any group that can polymerize with the polymerizable liquid crystal compound (I), for example, vinyl group, vinyloxy group, p-stilbene group, acryloyl group, acryloyloxy group, Metachloryl group, metachloryloxy group, carboxyl group, acetyl group, hydroxyl group, carbamoyl group, amino group, alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms, epoxy group, oxetanyl group, formyl group, -N=C=O or -N=C =S, etc. From the viewpoint of high polymerization reactivity, especially photopolymerization reactivity, a radical polymerizable group or a cationic polymerizable group is preferable. Since it is easy to handle and the production of the liquid crystal compound itself is easy, the group represented by P4-B4- is preferably an acryloyloxy group, a methachloryloxy group, or a vinyloxy group.

중합성 액정 화합물 (II) 로는, 식 (II-1), 식 (II-2), 식 (II-3), 식 (II-4), 식 (II-5) 또는 식 (II-6) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Polymerizable liquid crystal compound (II) includes formula (II-1), formula (II-2), formula (II-3), formula (II-4), formula (II-5), or formula (II-6). Compounds represented by can be mentioned.

P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-A6-B8-A7-B9-E5-B10-P5 (II-1)P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-A6-B8-A7-B9-E5-B10-P5 (II-1)

P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-A6-B8-A7-F4 (II-2)P 4 -B 4 -E 4 -B 5 -A 4 -B 6 -A 5 -B 7 -A 6 -B 8 -A 7 -F 4 (II-2)

P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-A6-B8-E5-B10-P5 (II-3)P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-A6-B8-E5-B10-P5 (II-3)

P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-A6-F4 (II-4)P 4 -B 4 -E 4 -B 5 -A 4 -B 6 -A 5 -B 7 -A 6 -F 4 (II-4)

P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-E5-B10-P5 (II-5)P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-B7-E5-B10-P5 (II-5)

P4-B4-E4-B5-A4-B6-A5-F4 (II-6)P 4 -B 4 -E 4 -B 5 -A 4 -B 6 -A 5 -F 4 (II-6)

[식 중,[During the ceremony,

A4, B4 ∼ B6 및 P4 는 상기와 동일한 의미이고,A 4 , B 4 to B 6 and P 4 have the same meaning as above,

A5 ∼ A7 은 각각 독립적으로, A4 와 동일한 의미이고, B7 ∼ B9 는 각각 독립적으로, B5 와 동일한 의미이고, B10 은 B4 와 동일한 의미이고, E5 는 E4 와 동일한 의미이고, P5 는 P4 와 동일한 의미이다.A 5 to A 7 each independently have the same meaning as A 4 , B 7 to B 9 each independently have the same meaning as B 5 , B 10 has the same meaning as B 4 , and E 5 has the same meaning as E 4 . It has the same meaning, and P 5 has the same meaning as P 4 .

F4 는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 13 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 13 의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 하이드록실기, 메틸올 기, 포르밀기, 술포기 (-SO3H), 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, 그 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 로 치환되어 있어도 된다.]F 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group, dimethylamino group, hydroxyl group, methylol group, formyl group, sulfo group ( -SO 3 H), represents a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and -CH 2 - constituting the alkyl group and alkoxy group may be substituted with -O-.]

중합성 액정 화합물 (II) 의 구체예로는, 액정 편람 (액정 편람 편집 위원회편, 마루젠 (주) 2000년 10월 30일 발행) 의 「3.8.6 네트워크 (완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」 에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물, 일본 공개특허공보 2010-31223호, 일본 공개특허공보 2010-270108호, 일본 공개특허공보 2011-6360호 및 일본 공개특허공보 2011-207765호에 기재된 중합성 액정을 들 수 있다.Specific examples of the polymerizable liquid crystal compound (II) include “3.8.6 Network (fully cross-linked)” and “6.5” in the Liquid Crystal Handbook (Liquid Crystal Handbook Editorial Committee edition, published by Maruzen Co., Ltd., October 30, 2000). .1 liquid crystal material b. Among the compounds described in "Polymerizable nematic liquid crystal materials", compounds having a polymerizable group, JP2010-31223, JP2010-270108, JP2011-6360 and JP2011-A Examples include polymerizable liquid crystals described in No. 207765.

중합성 액정 화합물 (II) 는 네마틱 액정성을 나타내는 액정 화합물인 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (II) 가 네마틱 액정성을 나타내는 경우, 단독으로 측정한 경우의 그 네마틱 액정 상전이 온도는 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하여도 되고, 상기 범위 외에, 예를 들어 100 ℃ 미만이어도 된다.The polymerizable liquid crystal compound (II) is preferably a liquid crystal compound that exhibits nematic liquid crystallinity. When the polymerizable liquid crystal compound (II) exhibits nematic liquid crystallinity, its nematic liquid crystal phase transition temperature when measured alone may be 100°C or more and 200°C or less, and outside the above range may be, for example, less than 100°C. .

본 발명에 있어서, 위상차막 형성용 조성물이 복수의 중합성 액정 화합물을 포함하는 경우, 중합성 액정 화합물의 혼합물의 네마틱 액정 상전이 온도가 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하이면 된다. 상기 혼합물의 네마틱 액정 상전이 온도는, 바람직하게는 110 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 120 ℃ 이상이고, 예를 들어 130 ℃ 이상, 나아가서는 140 ℃ 이상이어도 된다.In the present invention, when the composition for forming a retardation film includes a plurality of polymerizable liquid crystal compounds, the nematic liquid crystal phase transition temperature of the mixture of polymerizable liquid crystal compounds may be 100°C or more and 200°C or less. The nematic liquid crystal phase transition temperature of the mixture is preferably 110°C or higher, more preferably 120°C or higher, and may be, for example, 130°C or higher, and even 140°C or higher.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물 (I) 의 함유량은, 사용하는 중합성 액정 화합물의 종류나 조합 등에 따라 적절히 결정할 수 있지만, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 ∼ 100 질량부, 보다 바람직하게는 40 ∼ 100 질량부, 더욱 바람직하게는 50 ∼ 100 질량부, 특히 바람직하게는 55 ∼ 100 질량부이다. 중합성 액정 화합물 (I) 의 함유량이 상기 범위에 있으면, 얻어지는 위상차막이 역파장 분산성을 가지기 쉽고, 광학 특성에 있어서 유리해질 수 있다. 또한, 위상차막 형성용 조성물이 2 종 이상의 중합성 액정 화합물 (I) 을 포함하는 경우, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 모든 중합성 액정 화합물 (I) 의 총량이 상기 함유량의 범위 내인 것이 바람직하다.The content of the polymerizable liquid crystal compound (I) in the composition for forming a retardation film of the present invention can be appropriately determined depending on the type or combination of the polymerizable liquid crystal compounds used, but the polymerizable liquid crystal contained in the composition for forming a retardation film With respect to 100 parts by mass of the compound, the amount is preferably 20 to 100 parts by mass, more preferably 40 to 100 parts by mass, further preferably 50 to 100 parts by mass, and particularly preferably 55 to 100 parts by mass. When the content of the polymerizable liquid crystal compound (I) is within the above range, the resulting retardation film is likely to have reverse wavelength dispersion, which can be advantageous in terms of optical properties. In addition, when the composition for forming a retardation film contains two or more types of polymerizable liquid crystal compounds (I), it is preferable that the total amount of all polymerizable liquid crystal compounds (I) contained in the composition for forming a retardation film is within the above content range. .

본 발명의 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물 (I) 이외의 중합성 액정 화합물의 함유량은, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 50 질량부 미만, 보다 바람직하게는 40 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량부 이하, 특히 바람직하게는 10 질량부 이하이고, 실질적으로 0 질량부여도 된다. 본 발명의 일 양태에 있어서, 중합성 액정 화합물 (II) 의 함유량이 상기 범위 내에 있는 것이 바람직하다.The content of the polymerizable liquid crystal compound other than the polymerizable liquid crystal compound (I) in the composition for forming a retardation film of the present invention is preferably 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a retardation film. It is less than 40 parts by mass, more preferably 40 parts by mass or less, still more preferably 20 parts by mass or less, especially preferably 10 parts by mass or less, and may be substantially 0 parts by mass. In one aspect of the present invention, the content of polymerizable liquid crystal compound (II) is preferably within the above range.

위상차막 형성용 조성물 중의 중합성 액정 화합물의 총함유량은, 위상차막 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 예를 들어 70 ∼ 99.5 질량부이고, 바람직하게는 80 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 85 ∼ 99 질량부이고, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 98 질량부이다. 중합성 액정 화합물의 함유량이 상기 범위 내이면, 얻어지는 위상차막의 배향 정밀도의 관점에서 유리하다. 또한, 위상차막 형성용 조성물이 2 종 이상의 중합성 액정 화합물을 포함하는 경우, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 모든 액정 화합물의 총량이 상기 함유량의 범위 내인 것이 바람직하다. 또, 본 명세서에 있어서, 위상차막 형성용 조성물의 고형분이란, 위상차막 형성용 조성물로부터 유기 용제 등의 휘발성 성분을 제외한 모든 성분을 의미한다.The total content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming a retardation film is, for example, 70 to 99.5 parts by mass, preferably 80 to 99 parts by mass, and more preferably 80 to 99 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the composition for forming a retardation film. Preferably it is 85 to 99 parts by mass, and more preferably 90 to 98 parts by mass. If the content of the polymerizable liquid crystal compound is within the above range, it is advantageous from the viewpoint of the alignment accuracy of the resulting retardation film. Additionally, when the composition for forming a retardation film includes two or more types of polymerizable liquid crystal compounds, it is preferable that the total amount of all liquid crystal compounds included in the composition for forming a retardation film is within the above content range. In addition, in this specification, the solid content of the composition for forming a retardation film means all components excluding volatile components such as organic solvents from the composition for forming a retardation film.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 중합 개시제는, 중합성 액정 화합물 등의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이고, 서모트로픽 액정의 상 상태에 의존하지 않는다는 관점에서, 광의 작용에 의해 활성 라디칼을 발생시키는 광 중합 개시제가 바람직하다.The composition for forming a retardation film of the present invention may contain a polymerization initiator. The polymerization initiator is a compound capable of initiating a polymerization reaction of a polymerizable liquid crystal compound or the like, and a photopolymerization initiator that generates active radicals by the action of light is preferable from the viewpoint of not being dependent on the phase state of the thermotropic liquid crystal.

광 중합 개시제는, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이면, 공지된 광 중합 개시제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생시킬 수 있는 광 중합 개시제를 들 수 있고, 그 중에서도, 광의 작용에 의해 라디칼을 발생시키는 광 중합 개시제가 바람직하다. 광 중합 개시제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, any known photopolymerization initiator can be used as long as it is a compound capable of initiating the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound. Specifically, photopolymerization initiators that can generate active radicals or acids by the action of light can be mentioned, and among these, photopolymerization initiators that can generate radicals by the action of light are preferable. Photopolymerization initiators can be used individually or in combination of two or more types.

광 중합 개시제로는, 공지된 광 중합 개시제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 활성 라디칼을 발생시키는 광 중합 개시제로는, 자기 개열형의 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 하이드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 아조계 화합물 등을 사용할 수 있고, 수소 인발형의 벤조페논계 화합물, 알킬페논계 화합물, 벤조인에테르계 화합물, 벤질케탈계 화합물, 디벤조수베론계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 할로게노아세토페논계 화합물, 디알콕시아세토페논계 화합물, 할로게노비스이미다졸계 화합물, 할로게노트리아진계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 사용할 수 있다. 산을 발생시키는 광 중합 개시제로는, 요오도늄염 및 술포늄염 등을 사용할 수 있다. 저온에서의 반응 효율이 우수하다는 관점에서 자기 개열형의 광 중합 개시제가 바람직하고, 특히 아세토페논계 화합물, 하이드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물이 바람직하다.As a photopolymerization initiator, a known photopolymerization initiator can be used. For example, photopolymerization initiators that generate active radicals include self-cleavable benzoin-based compounds, acetophenone-based compounds, and hydroxyacetophenone-based compounds. , α-aminoacetophenone-based compounds, oxime ester-based compounds, acylphosphine oxide-based compounds, azo-based compounds, etc. can be used, and hydrogen abstraction-type benzophenone-based compounds, alkylphenone-based compounds, benzoin ether-based compounds, Benzylketal-based compounds, dibenzosuberone-based compounds, anthraquinone-based compounds, xanthone-based compounds, thioxanthone-based compounds, halogenoacetophenone-based compounds, dialkoxyacetophenone-based compounds, halogenobisimidazole-based compounds, Halogenotriazine-based compounds, triazine-based compounds, etc. can be used. As photopolymerization initiators that generate acid, iodonium salts, sulfonium salts, etc. can be used. From the viewpoint of excellent reaction efficiency at low temperatures, self-cleavage type photopolymerization initiators are preferable, and acetophenone-based compounds, hydroxyacetophenone-based compounds, α-aminoacetophenone-based compounds, and oxime ester-based compounds are particularly preferable.

광 중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 종류 및 그 양에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물의 총량 100 질량부에 대하여, 통상, 0.1 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5 질량부 이상 8 질량부 이하이다. 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러트리는 일 없이, 중합성기의 반응이 충분히 진행된다.The content of the photopolymerization initiator can be appropriately adjusted depending on the type and amount of the polymerizable liquid crystal compound, but is usually 0.1 parts by mass or more, 30 parts by mass, based on the total amount of 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a retardation film. It is 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 0.5 parts by mass or more and 8 parts by mass or less. If it is within the above range, the reaction of the polymerizable group sufficiently proceeds without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound.

또, 위상차막 형성용 조성물은, 레벨링제를 포함하고 있어도 된다. 레벨링제란, 조성물의 유동성을 조정하여, 조성물을 도포하여 얻어지는 막을 보다 평탄하게 하는 기능을 갖는 첨가제이고, 예를 들어, 유기 변성 실리콘 오일계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리아크릴레이트계 레벨링제 및 퍼플루오로알킬계 레벨링제가 바람직하다.Moreover, the composition for forming a retardation film may contain a leveling agent. A leveling agent is an additive that has the function of adjusting the fluidity of the composition and making the film obtained by applying the composition more flat. For example, organic modified silicone oil-based, polyacrylate-based, and perfluoroalkyl-based leveling agents. can be mentioned. Among them, polyacrylate-based leveling agents and perfluoroalkyl-based leveling agents are preferable.

위상차막 형성용 조성물에 있어서의 레벨링제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 총량 100 질량부에 대하여, 0.01 ∼ 5 질량부가 바람직하고, 0.05 ∼ 3 질량부가 더욱 바람직하다. 레벨링제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물을 수평 배향시키는 것이 용이해지고, 또한, 얻어지는 경화막이 보다 평활해지는 경향이 있다. 중합성 액정 화합물에 대한 레벨링제의 함유량이 상기 범위를 초과하면, 얻어지는 경화막에 불균일이 생기기 쉬운 경향이 있다. 또한, 위상차막 형성용 조성물은, 레벨링제를 2 종 이상 함유하고 있어도 된다.The content of the leveling agent in the composition for forming a retardation film is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound. When the content of the leveling agent is within the above range, it becomes easy to horizontally align the polymerizable liquid crystal compound, and the resulting cured film tends to become smoother. If the content of the leveling agent in the polymerizable liquid crystal compound exceeds the above range, there is a tendency for unevenness to occur in the resulting cured film. Additionally, the composition for forming a retardation film may contain two or more types of leveling agents.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 유기 용제 및 중합성 액정 화합물, 필요에 따라 중합 개시제나 레벨링제에 더하여, 산화 방지제, 광 증감제, 반응성 첨가제 등의 첨가제를 추가로 포함하고 있어도 된다. 이들 성분은, 각각, 1 종만을 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 위상차막 형성용 조성물이 첨가제를 포함하는 경우, 그 함유량은, 위상차막 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 5 질량% 이다.The composition for forming a retardation film of the present invention may further contain additives such as antioxidants, photosensitizers, and reactive additives, in addition to an organic solvent and a polymerizable liquid crystal compound, and, if necessary, a polymerization initiator or leveling agent. These components may be used individually, or may be used in combination of two or more. When the composition for forming a phase contrast film contains an additive, the content is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, based on the solid content of the composition for forming a phase contrast film.

위상차막 형성용 조성물은, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 와, 중합성 액정 화합물, 필요에 따라 중합 개시제나 레벨링제 등의 성분을 소정 온도에서 혼합함으로써 얻을 수 있다.The composition for forming a retardation film can be obtained by mixing organic solvent A and organic solvent B, a polymerizable liquid crystal compound, and, if necessary, components such as a polymerization initiator and a leveling agent at a predetermined temperature.

<위상차막의 제조 방법><Method for manufacturing phase contrast film>

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 종래보다 낮은, 예를 들어 100 ℃ 를 하회하는 낮은 온도에서 용제를 제거하는 공정을 채용하여 제막하는 것이 가능하고, 제막시의 불균일의 발생을 억제하는 효과가 우수하기 때문에, 광학 특성이 우수한 위상차막을 형성하기 위한 재료 (조성물) 로서 바람직하다.The composition for forming a retardation film of the present invention can be formed into a film by employing a process for removing the solvent at a lower temperature than before, for example, lower than 100°C, and has the effect of suppressing the occurrence of unevenness during film forming. Because it is excellent, it is preferable as a material (composition) for forming a retardation film with excellent optical properties.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물을 사용하여 위상차막을 형성하는 경우, 예를 들어,When forming a retardation film using the composition for forming a retardation film of the present invention, for example,

본 발명의 위상차막 형성용 조성물의 도막을 형성하는 공정,A process of forming a coating film of the composition for forming a retardation film of the present invention,

상기 도막을 건조 온도 Td (℃) 에서 건조시켜 건조 도막을 얻는 공정, 및A process of drying the coating film at a drying temperature Td (°C) to obtain a dry coating film, and

상기 건조 도막을 경화시켜 위상차막을 얻는 공정,A process of curing the dried coating film to obtain a retardation film,

을 포함하고, 상기 건조 온도 Td (℃) 가, 식 (4) 및 (5) :, and the drying temperature Td (°C) is expressed in equations (4) and (5):

Ta < Td < Tb (4)Ta < Td < Tb (4)

X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)

를 만족하는 방법을 채용하는 것이 유리하다.It is advantageous to adopt a method that satisfies .

따라서, 본 발명은,Therefore, the present invention,

본 발명의 위상차막 형성용 조성물의 도막을 형성하는 공정,A process of forming a coating film of the composition for forming a retardation film of the present invention,

상기 도막을 건조 온도 Td (℃) 에서 건조시켜 건조 도막을 얻는 공정, 및A process of drying the coating film at a drying temperature Td (°C) to obtain a dry coating film, and

상기 건조 도막을 경화시켜 위상차막을 얻는 공정,A process of curing the dried coating film to obtain a retardation film,

을 포함하고, 상기 건조 온도 Td (℃) 가, 식 (4) 및 (5) :, and the drying temperature Td (°C) is expressed in equations (4) and (5):

Ta < Td < Tb (4)Ta < Td < Tb (4)

X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)

를 만족하는, 위상차막의 제조 방법도 대상으로 한다.A method for manufacturing a retardation film that satisfies is also targeted.

위상차막 형성용 조성물의 도막은, 기재 상 또는 배향막 상 등에 혼합 조성물을 도포함으로써 형성할 수 있다. 기재로는, 유리 기재나 수지 필름 기재 등의 당해 분야에 있어서 공지된 기재를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 가공성의 관점에서는, 수지 필름 기재가 바람직하다. 수지 필름 기재를 구성하는 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 ; 고리형 올레핀계 수지 ; 폴리비닐알코올 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르 ; 폴리에틸렌나프탈레이트 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술파이드 및 폴리페닐렌옥사이드 등의 수지를 들 수 있다.A coating film of the composition for forming a retardation film can be formed by applying the mixed composition onto a substrate or an alignment film. As the substrate, a substrate known in the field, such as a glass substrate or a resin film substrate, can be appropriately selected and used. From the viewpoint of processability, a resin film substrate is preferable. Examples of the resin constituting the resin film base material include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and norbornene polymers; Cyclic olefin resin; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; Polymethacrylic acid ester; Polyacrylic acid ester; Cellulose esters such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyethersulfone; polyether ketone; Resins such as polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide can be mentioned.

또, 배향막으로는, 위상차막 형성용 조성물의 도포 등에 의해, 유기 용제 A 및 B 에 용해되지 않는 용제 내성을 갖고, 또, 후술하는 건조 공정에 있어서의 가열 처리에 대한 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향막으로는, 배향성 폴리머를 포함하는 러빙 배향막, 광 배향막, 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향막, 연신 필름 등을 들 수 있다. 배향 방향을 보다 정밀하게 제어하기 쉬운 점에서, 광 배향막이 바람직하다. 이와 같은 배향막으로는, 광학 필름 (특히, 위상차 필름) 의 제조에 일반적으로 사용되는 배향막을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2019-191504호 등에 기재되는 러빙 배향막이나 광 배향막, 일본 공개특허공보 2021-196514 등에 기재되는, 광 반응성기를 갖는 구조 단위와 중합성기를 갖는 구조 단위를 포함하는 (공)중합체로 형성되는 광 배향막 등을 채용할 수 있다.In addition, the alignment film preferably has solvent resistance that does not dissolve in organic solvents A and B, such as when applying a composition for forming a retardation film, and also has heat resistance to heat treatment in the drying process described later. Examples of the alignment film include a rubbing alignment film containing an orientation polymer, a photo-alignment film, a groove alignment film having an uneven pattern or a plurality of grooves on the surface, and a stretched film. A photo-alignment film is preferable because it is easy to control the orientation direction more precisely. As such an alignment film, an alignment film generally used in the production of optical films (particularly retardation films) can be appropriately selected and used. Specifically, for example, a rubbing alignment film or photo-alignment film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-191504, etc., a structural unit having a photoreactive group and a structural unit having a polymerizable group described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-196514, etc. A photo-alignment film formed of a (co)polymer containing a photo-alignment film, etc. may be employed.

위상차막 형성용 조성물을 기재 등에 도포하는 방법으로는, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비어 코팅법, 다이 코팅법, 바 코팅법, 어플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.Methods for applying the composition for forming a retardation film to a substrate, etc. include known coating methods such as spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, bar coating, and applicator methods, and printing methods such as flexography. Here are some ways to do it.

이어서, 유기 용제를 건조시켜 제거함으로써, 건조 도막이 형성된다. 건조 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있지만, 효율적으로 위상차막을 형성할 수 있는 점에서 가열 건조가 바람직하고, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물은 풍문 불균일을 억제하는 효과가 우수한 점에서, 건조로 등 열풍을 이용하는 가열 건조를 바람직하게 채용할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 이 때의 건조 온도 Td (℃) 를, 위상차막 형성용 조성물을 구성하는 유기 용제 A 의 비점 Ta (℃) 와 유기 용제 B 의 비점 Tb (℃) 및 중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도 X (℃) 의 관계에 있어서, 식 (4) 및 (5) 를 만족하도록 제어하는 것이 바람직하다.Next, the organic solvent is dried and removed to form a dry coating film. Drying methods include natural drying, ventilation drying, heat drying, and reduced pressure drying. However, heat drying is preferred because it can efficiently form a phase contrast film, and the composition for forming a phase contrast film of the present invention prevents airborne unevenness. Since the suppressing effect is excellent, heat drying using hot air such as a drying furnace can be preferably adopted. In the present invention, the drying temperature Td (°C) at this time is determined by the boiling point Ta (°C) of the organic solvent A constituting the composition for forming a retardation film, the boiling point Tb (°C) of the organic solvent B, and the nema of the polymerizable liquid crystal compound. In the relationship between the tick liquid crystal phase transition temperature

Ta < Td < Tb (4)Ta < Td < Tb (4)

X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)

건조 온도를, Ta 보다 높고 Tb 보다 낮고, 또한, 중합성 액정 화합물의 상전이 온도로부터 일정한 범위 내로 설정함으로써, 상기 서술한 건조로 내의 바람의 영향에 의한 풍문 불균일의 발생이나, 용제의 휘발에서 기인하는 액정 화합물의 결정화 및 배향 결함의 발생의 억제 효과가 얻어진다. 이로써, 외관 특성 및 광학 특성이 우수한 위상차막을 얻을 수 있다.By setting the drying temperature to be higher than Ta and lower than Tb, and within a certain range from the phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound, the occurrence of wind unevenness due to the influence of wind in the drying furnace described above or caused by volatilization of the solvent An effect of suppressing the crystallization of the liquid crystal compound and the occurrence of orientation defects is obtained. As a result, a retardation film with excellent appearance and optical properties can be obtained.

건조 공정에 있어서, 위상차막 형성용 조성물로부터 얻어진 도막을 가열함으로써, 도막으로부터 용제를 건조 제거시킴과 함께, 중합성 액정 화합물을 도막 평면에 대해 원하는 방향 (예를 들어, 수평 방향) 으로 배향시킬 수 있다. 본 발명에 있어서는, 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 용제를 제거하면서, 중합성 액정 화합물을 원하는 배향 상태로 하기 위한 건조 온도로서, 상기 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물의 액정 상전이 온도 (네마틱 액정 상전이 온도) 보다 낮은 온도, 예를 들어, 사용하는 중합성 액정 화합물의 상전이 온도보다 20 ∼ 80 ℃ 정도 낮은 온도를 채용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 조건하에서 건조 공정을 실시함으로써, 그 건조 온도와의 관계에 있어서 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 휘발·제거가 적당히 진행되어, 액정 화합물의 결정화나 배향 결함의 발생을 억제하면서, 건조로 내의 열풍에서 기인하는 풍문 불균일을 억제하는 효과를 특히 얻기 쉽다.In the drying process, by heating the coating film obtained from the composition for forming a retardation film, the solvent can be dried and removed from the coating film, and the polymerizable liquid crystal compound can be oriented in a desired direction (for example, horizontal direction) with respect to the coating film plane. there is. In the present invention, the drying temperature for bringing the polymerizable liquid crystal compound into the desired orientation state while removing the solvent contained in the composition for forming a retardation film is the liquid crystal phase transition temperature (nematic liquid crystal) of the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition. It is preferable to adopt a temperature lower than the phase transition temperature, for example, about 20 to 80° C. lower than the phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound used. By carrying out the drying process under these conditions, the volatilization and removal of the organic solvent A and the organic solvent B proceed appropriately in relation to the drying temperature, suppressing crystallization of the liquid crystal compound and the occurrence of orientation defects, and It is particularly easy to obtain the effect of suppressing unevenness of airflow caused by hot air.

건조 온도 Td 는, 사용하는 중합성 액정 화합물 및 도막을 형성하는 기재 등의 재질 등을 고려하여 적절히 결정할 수 있다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 건조 온도 Td 는 70 ℃ 이상 130 ℃ 미만인 것이 바람직하다. 열에너지의 과잉인 소비를 억제할 수 있고, 생산 효율을 향상시킬 수 있는 관점에서, 건조 온도 Td 는, 보다 바람직하게는 120 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는 110 ℃ 이하, 특히 바람직하게는 100 ℃ 이하이고, 예를 들어 100 ℃ 미만, 나아가서는 90 ℃ 이하여도 된다. 비교적 낮은 가열 온도를 채용함으로써, 위상차막 형성용 조성물을 도포하는 지지 기재의 선택지가 넓어진다는 이점도 있다.The drying temperature Td can be appropriately determined in consideration of materials such as the polymerizable liquid crystal compound used and the base material forming the coating film. In one embodiment of the present invention, the drying temperature Td is preferably 70°C or more and less than 130°C. From the viewpoint of suppressing excessive consumption of heat energy and improving production efficiency, the drying temperature Td is more preferably 120°C or lower, further preferably 110°C or lower, and particularly preferably 100°C or lower. , for example, may be less than 100°C, and may even be less than 90°C. By employing a relatively low heating temperature, there is also an advantage that the selection of support substrates on which the composition for forming a retardation film is applied is expanded.

건조 시간은, 가열 온도, 포함되는 중합성 액정 화합물의 종류, 유기 용제의 종류나 그 비점 및 그 양 등에 따라 적절히 결정할 수 있지만, 통상, 15 초 ∼ 10 분이고, 바람직하게는 0.5 ∼ 5 분이다.The drying time can be appropriately determined depending on the heating temperature, the type of polymerizable liquid crystal compound contained, the type of organic solvent, its boiling point and its amount, etc., but is usually 15 seconds to 10 minutes, and preferably 0.5 to 5 minutes.

이어서, 얻어진 건조 도막에 있어서, 중합성 액정 화합물의 배향 상태를 유지한 채로, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써, 원하는 배향 상태로 존재하는 중합성 액정 화합물의 중합체인 액정 경화막 (위상차막) 이 형성된다. 중합 방법으로는, 통상, 광 중합법이 사용된다. 광 중합에 있어서, 건조 도막에 조사하는 광으로는, 당해 건조 도막에 포함되는 중합 개시제의 종류, 중합성 액정 화합물의 종류 및 그 양에 따라 적절히 선택된다. 그 구체예로는, 가시광, 자외광, 적외광, X 선, α 선, β 선 및 γ 선으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 광이나 활성 전자선을 들 수 있다. 그 중에서도, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉬운 점이나, 광 중합 장치로서 당 분야에서 광범위하게 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다는 점에서, 자외광이 바람직하고, 자외광에 의해, 광 중합 가능하도록, 위상차막 형성용 조성물에 함유되는 중합성 액정 화합물이나 중합 개시제의 종류를 선택해 두는 것이 바람직하다. 또, 중합시에, 적절한 냉각 수단에 의해 건조 도막을 냉각시키면서 광 조사함으로써, 중합 온도를 제어할 수도 있다. 이와 같은 냉각 수단의 채용에 의해, 보다 저온에서 중합성 액정 화합물의 중합을 실시하면, 기재로서 비교적 내열성이 낮은 것을 사용했다고 해도, 적절히 위상차막을 형성할 수 있다. 또, 광 조사시의 열에 의한 문제 (기재의 열에 의한 변형 등) 가 발생하지 않는 범위에서 중합 온도를 높게 함으로써 중합 반응을 촉진할 수도 있다. 광 중합시에, 마스킹이나 현상을 실시하는 등에 의해, 패터닝된 경화막을 얻을 수도 있다.Next, in the obtained dried coating film, the polymerizable liquid crystal compound is polymerized while maintaining the orientation state of the polymerizable liquid crystal compound, thereby forming a liquid crystal cured film (phase contrast film) that is a polymer of the polymerizable liquid crystal compound existing in the desired orientation state. do. As a polymerization method, a photopolymerization method is usually used. In photopolymerization, the light irradiated to the dry coating film is appropriately selected depending on the type of polymerization initiator contained in the dry coating film and the type and amount of the polymerizable liquid crystal compound. Specific examples include one or more types of light or active electron beams selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, infrared light, X-ray, α-ray, β-ray, and γ-ray. Among them, ultraviolet light is preferable because it is easy to control the progress of the polymerization reaction and because it is possible to use a photopolymerization device that is widely used in the field, and a retardation film is used to enable photopolymerization by ultraviolet light. It is desirable to select the type of polymerizable liquid crystal compound or polymerization initiator contained in the forming composition. Also, during polymerization, the polymerization temperature can be controlled by irradiating the dried coating film with light while cooling it using an appropriate cooling means. By employing such a cooling means to polymerize the polymerizable liquid crystal compound at a lower temperature, a retardation film can be appropriately formed even if a material with relatively low heat resistance is used as the substrate. Additionally, the polymerization reaction can be promoted by raising the polymerization temperature within a range that does not cause problems due to heat during light irradiation (such as deformation due to heat of the substrate). During photopolymerization, a patterned cured film can also be obtained by masking or developing.

상기 활성 에너지선의 광원으로는, 예를 들어, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로 웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.Light sources of the active energy rays include, for example, low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, tungsten lamps, gallium lamps, excimer lasers, and wavelength range 380. Examples include LED light sources that emit light at ~440 nm, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, and metal halide lamps.

자외선 조사 강도는, 통상, 10 ∼ 3,000 ㎽/㎠ 이다. 자외선 조사 강도는, 바람직하게는 광 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에 있어서의 강도이다. 광을 조사하는 시간은, 통상 0.1 초 ∼ 10 분이고, 바람직하게는 0.1 초 ∼ 5 분, 보다 바람직하게는 0.1 초 ∼ 3 분, 더욱 바람직하게는 0.1 초 ∼ 1 분이다. 이와 같은 자외선 조사 강도로 1 회 또는 복수회 조사하면, 그 적산 광량은, 10 ∼ 3,000 mJ/㎠, 바람직하게는 50 ∼ 2,000 mJ/㎠, 보다 바람직하게는 100 ∼ 1,000 mJ/㎠ 이다.The ultraviolet irradiation intensity is usually 10 to 3,000 mW/cm2. The ultraviolet irradiation intensity is preferably an intensity in the wavelength range effective for activation of the photopolymerization initiator. The time to irradiate light is usually 0.1 second to 10 minutes, preferably 0.1 second to 5 minutes, more preferably 0.1 second to 3 minutes, and still more preferably 0.1 second to 1 minute. When irradiated with such ultraviolet irradiation intensity once or multiple times, the accumulated light amount is 10 to 3,000 mJ/cm2, preferably 50 to 2,000 mJ/cm2, and more preferably 100 to 1,000 mJ/cm2.

위상차막의 두께는, 적용되는 표시 장치 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 바람직하게는 0.2 ∼ 5 ㎛, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 3 ㎛ 이다. 또한, 두께는, 간섭 막후계, 레이저 현미경 또는 촉침식 막후계에 의해 측정할 수 있다.The thickness of the retardation film can be appropriately selected depending on the display device to be applied, etc. Preferably it is 0.2 to 5 ㎛, more preferably 0.2 to 3 ㎛. Additionally, the thickness can be measured using an interference film thickness meter, a laser microscope, or a stylus film thickness meter.

본 발명의 위상차막 형성용 조성물은, 비교적 낮은 온도 범위에서 위상차막을 형성하는 것이 가능하기 때문에, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물을 사용함으로써, 중합성 액정 화합물이 본래 발현할 수 있는 광학 특성을 저하시키는 일 없이 저온하에서 제막화하는 것이 가능해져, 우수한 광학 특성을 갖는 위상차막이 얻어진다. 따라서, 본 발명은, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물의 경화막으로서, 그 조성물 중의 중합성 액정 화합물이 배향한 상태로 경화되어 이루어지는 위상차막을 포함하는 위상차판에 관한 것이기도 하다. 상기 위상차막 형성용 조성물의 경화막으로 구성되는 위상차판은, 사용하는 중합성 액정 화합물이 본래 발휘할 수 있는 광학 특성을 충분히 발현할 수 있고, 높은 광학 성능을 갖는 위상차판이 될 수 있다.Since the composition for forming a retardation film of the present invention can form a retardation film in a relatively low temperature range, the optical properties that the polymerizable liquid crystal compound can naturally exhibit are reduced by using the composition for forming a retardation film of the present invention. It becomes possible to form a film at a low temperature without having to do anything, and a retardation film with excellent optical properties can be obtained. Therefore, the present invention also relates to a retardation plate including a retardation film formed by curing the polymerizable liquid crystal compound in the composition in an oriented state as a cured film of the composition for forming a retardation film of the present invention. A retardation plate composed of a cured film of the composition for forming a retardation film can sufficiently express the optical properties originally exhibited by the polymerizable liquid crystal compound used, and can be a retardation plate with high optical performance.

본 발명의 위상차판을 구성하는 액정 경화막 (위상차막) 은, 배향 상태의 중합성 액정 화합물 (I) 의 호모폴리머로 구성되어 있어도 되고, 중합성 액정 화합물 (I) 및 중합성 액정 화합물 (II) 등의 다른 중합성 액정 화합물의 혼합물의 배향 상태에 있어서의 공중합체로 구성되어 있어도 된다.The liquid crystal cured film (retardation film) constituting the retardation film of the present invention may be composed of a homopolymer of polymerizable liquid crystal compound (I) in an aligned state, and may be composed of polymerizable liquid crystal compound (I) and polymerizable liquid crystal compound (II) ) may be composed of a copolymer in an aligned state of a mixture of other polymerizable liquid crystal compounds such as ).

본 발명의 일 양태에 있어서, 본 발명의 위상차판을 구성하는 위상차막은, 본 발명의 위상차막 형성용 조성물의 경화막이고, 하기 식 (a), (b) 및 (c) 로 나타내는 광학 특성을 만족하는 것이 바람직하다. 이와 같은 액정 경화막은, 통상, 중합성 액정 화합물이 그 액정 경화막 평면에 대해 수평 방향으로 배향한 상태로 경화되어 이루어지는 경화막이다.In one aspect of the present invention, the retardation film constituting the retardation film of the present invention is a cured film of the composition for forming a retardation film of the present invention, and has optical properties expressed by the following formulas (a), (b), and (c). It is desirable to be satisfied. Such a liquid crystal cured film is usually a cured film formed by curing a polymerizable liquid crystal compound in a state oriented in a horizontal direction with respect to the plane of the liquid crystal cured film.

Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (a)Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (a)

1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (b)1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (b)

100 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 180 ㎚ (c)100 nm ≤ Re(550) ≤ 180 nm (c)

[식 중, Re(λ) 는 위상차막의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 면내 위상차값을 나타내고, Re = (nx(λ) - ny(λ)) × d 이다 (d 는 위상차막의 두께를 나타내고, nx 는, 위상차막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 위상차막의 평면에 평행한 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 주굴절률을 나타내고, ny 는, 위상차막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 위상차막의 평면에 대해 평행이고, 또한, 상기 nx 의 방향에 대해 직교하는 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 굴절률을 나타낸다).][In the formula, Re(λ) represents the in-plane retardation value at the wavelength λ nm of the retardation film, and Re = (nx(λ) - ny(λ)) × d (d represents the thickness of the retardation film, and nx is , in the refractive index ellipsoid formed by the retardation film, represents the main refractive index at a wavelength λ nm in a direction parallel to the plane of the retardation film, and ny is parallel to the plane of the retardation film in the refractive index ellipsoid formed by the retardation film, and , represents the refractive index at the wavelength λ nm in the direction orthogonal to the direction of nx).]

위상차막이 식 (a) 및 (b) 를 만족하는 경우, 당해 위상차막은, 단파장에서의 면내 위상차값이 장파장에서의 면내 위상차값보다 작아지는, 이른바 역파장 분산성을 나타낸다. 역파장 분산성이 향상되고, 위상차막의 광학 특성이 보다 향상되므로, Re(450)/Re(550) 은, 바람직하게는 0.80 이상 1.0 미만이고, 보다 바람직하게는 0.80 이상 0.92 미만이다. 또, Re(650)/Re(550) 은, 바람직하게는 1.00 이상, 보다 바람직하게는 1.01 이상이다.When the retardation film satisfies equations (a) and (b), the retardation film exhibits so-called reverse wavelength dispersion, in which the in-plane retardation value at a short wavelength becomes smaller than the in-plane retardation value at a long wavelength. Since reverse wavelength dispersion is improved and the optical properties of the retardation film are further improved, Re(450)/Re(550) is preferably 0.80 or more and less than 1.0, and more preferably 0.80 or more and less than 0.92. Moreover, Re(650)/Re(550) is preferably 1.00 or more, more preferably 1.01 or more.

상기 면내 위상차값은, 위상차막의 두께 d 에 의해 조정할 수 있다. 면내 위상차값은, 상기 식 Re(λ) = (nx(λ) - ny(λ)) × d 에 의해 결정되므로, 원하는 면내 위상차값 (Re(λ) : 파장 λ (㎚) 에 있어서의 위상차막의 면내 위상차값) 을 얻기 위해서는, 3 차원 굴절률과 막두께 d 를 조정하면 된다.The in-plane retardation value can be adjusted by the thickness d of the retardation film. Since the in-plane retardation value is determined by the above equation Re(λ) = (nx(λ) - ny(λ)) × d, the desired in-plane retardation value (Re(λ): of the retardation film at the wavelength λ (nm) To obtain the in-plane retardation value, the three-dimensional refractive index and film thickness d can be adjusted.

또, 위상차막이 식 (c) 를 만족하는 경우, 그 위상차막을 포함하는 위상차판은 λ/4 판으로서 기능하고, 그 위상차막을 포함하는 위상차판을 구비하는 원 편광판을 광학 디스플레이 등에 적용한 경우의 정면 반사 색상의 향상 효과 (착색을 억제시키는 효과) 가 우수하다. 면내 위상차값의 보다 바람직한 범위는 120 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 170 ㎚ 이고, 더욱 바람직한 범위는 130 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 150 ㎚ 이다.In addition, when the retardation film satisfies equation (c), the retardation film including the retardation film functions as a λ/4 plate, and front reflection occurs when a circularly polarizing plate including the retardation film including the retardation film is applied to an optical display, etc. The color improvement effect (effect of suppressing coloring) is excellent. A more preferable range of the in-plane retardation value is 120 nm ≤ Re(550) ≤ 170 nm, and a more preferable range is 130 nm ≤ Re(550) ≤ 150 nm.

본 발명의 위상차판은, 예를 들어, 편광 기능을 갖는 편광 필름과 조합하여 원 편광판으로서, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 플렉시블 화상 표시 장치, 터치 패널 표시 장치, 전자 방출 표시 장치 (예를 들어 전기장 방출 표시 장치 (FED), 표면 전계 방출 표시 장치 (SED)), 전자 페이퍼 (전자 잉크나 전기 영동 소자를 사용한 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 투사형 표시 장치 (예를 들어 그레이팅 라이트 밸브 (GLV) 표시 장치, 디지털 마이크로 미러 디바이스 (DMD) 를 갖는 표시 장치) 및 압전 세라믹 디스플레이 등의 다양한 표시 장치에 사용할 수 있다. 특히 본 발명의 위상차판은 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치 및 무기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치에 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 표시 장치 (광학 디스플레이) 는, 광학 특성이 우수한 본 발명의 위상차판을 구비함으로써, 양호한 화상 표시 특성을 발현할 수 있다.The retardation plate of the present invention, for example, can be used as a circularly polarizing plate in combination with a polarizing film having a polarizing function, such as a liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, an inorganic electroluminescence (EL) display device, Flexible image display devices, touch panel displays, electronic emission display devices (e.g. electric field emission display devices (FED), surface field emission displays (SED)), electronic paper (display devices using electronic ink or electrophoretic elements, In particular, the present invention can be used in various display devices such as plasma display devices, projection display devices (for example, display devices with a grating light valve (GLV) display device, and digital micromirror device (DMD)) and piezoelectric ceramic displays. The retardation plate can be suitably used in organic electroluminescence (EL) display devices and inorganic electroluminescence (EL) display devices (optical displays) using the retardation plate of the present invention having excellent optical properties. By providing this, good image display characteristics can be achieved.

원 편광판이나 표시 장치에 있어서의 각종 부재 (예를 들어, 편광 필름, 표시 소자 등) 나 구성은, 공지된 재료 및 기술 등을 적절히 선택하여, 채용할 수 있다.Various members (eg, polarizing film, display elements, etc.) and structures in a circularly polarizing plate or a display device can be appropriately selected and employed using known materials and techniques.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 또한, 예 중의 「%」 및 「부」 는, 특별히 기재가 없는 한, 각각 질량% 및 질량부를 의미한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. In addition, “%” and “part” in the examples mean mass% and mass part, respectively, unless otherwise specified.

[광 배향막 형성용 조성물의 조제][Preparation of composition for forming photo-alignment film]

하기 구조의 광 배향성 재료 (중량 평균 분자량 : 50000, m : n = 50 : 50) 는 일본 공개특허공보 2021-196514에 기재된 방법에 준하여 제조하였다. 광 배향성 재료 2 부와 시클로펜타논 (용제) 98 부를 성분으로서 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 조제하였다.A photo-alignment material with the following structure (weight average molecular weight: 50000, m:n = 50:50) was manufactured according to the method described in Japanese Patent Application Publication No. 2021-196514. 2 parts of the photo-alignment material and 98 parts of cyclopentanone (solvent) were mixed as components, and the resulting mixture was stirred at 80°C for 1 hour to prepare a composition for forming a photo-alignment film.

광 배향성 재료 :Photo-alignable materials:

[화학식 26][Formula 26]

Figure pat00024
Figure pat00024

[중합성 액정 화합물의 제조][Manufacture of polymerizable liquid crystal compound]

하기에 나타내는 구조를 갖는 중합성 액정 화합물 (A1) ∼ (A3) 을 각각 조제하였다. 중합성 액정 화합물 (A1) 은, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법과 동일하게 준비하였다. 중합성 액정 화합물 (A2) 는, 일본 공개특허공보 2019-73496호에 기재된 방법과 동일하게 준비하였다. 중합성 액정 화합물 (A3) 은 일본 공개특허공보 2016-81035호에 기재된 방법과 동일하게 준비하였다.Polymerizable liquid crystal compounds (A1) to (A3) each having the structures shown below were prepared. Polymerizable liquid crystal compound (A1) was prepared in the same manner as described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-31223. The polymerizable liquid crystal compound (A2) was prepared in the same manner as the method described in Japanese Patent Application Publication No. 2019-73496. Polymerizable liquid crystal compound (A3) was prepared in the same manner as described in Japanese Patent Application Publication No. 2016-81035.

중합성 액정 화합물 (A1)Polymerizable liquid crystal compound (A1)

[화학식 27][Formula 27]

Figure pat00025
Figure pat00025

중합성 액정 화합물 (A2)Polymerizable liquid crystal compound (A2)

[화학식 28][Formula 28]

Figure pat00026
Figure pat00026

중합성 액정 화합물 (A3)Polymerizable liquid crystal compound (A3)

[화학식 29][Formula 29]

Figure pat00027
Figure pat00027

[중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도 측정][Measurement of nematic liquid crystal phase transition temperature of polymerizable liquid crystal compound]

제조한 중합성 액정 화합물 (A1) ∼ (A3) 을, 각각, 바이알관에 1 g 칭량하여 취하고, 또한 2 g 의 클로로포름을 첨가하여 용해시켰다. 얻어진 용액을, 러빙 처리를 실시한 PVA 배향막이 형성된 유리 기판에 도포하고, 건조시켰다. 이 기판을 냉각 가열 장치 (재팬 하이테크 주식회사 제조 「LNP94-2」) 에 얹고 실온에서부터 180 ℃ 까지 승온시킨 후, 실온까지 냉각시켰다. 온도 변화시의 모습을 편광 현미경 (LEXT, 올림푸스 주식회사 제조) 으로 관찰하고, 네마틱 액정상이 되는 온도를 측정하여, 네마틱 액정 상전이 온도로 하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.1 g of each of the prepared polymerizable liquid crystal compounds (A1) to (A3) was weighed into a vial tube and dissolved by adding 2 g of chloroform. The obtained solution was applied to a glass substrate with a rubbing treatment and a PVA alignment film formed thereon, and dried. This substrate was placed on a cooling and heating device (“LNP94-2” manufactured by Japan Hi-Tech Co., Ltd.), the temperature was raised from room temperature to 180°C, and then cooled to room temperature. The state at the time of temperature change was observed with a polarizing microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation), and the temperature at which the nematic liquid crystal phase was formed was measured and set as the nematic liquid crystal phase transition temperature. The obtained results are shown in Table 1.

또한, 실시예에 있어서 중합성 액정 화합물로서 2 종 이상을 조합하여 사용하는 경우, 상기 네마틱 액정 상전이 온도는, 위상차막 형성용 조성물을 구성하는 전체 중합성 액정 화합물을 그 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 조성과 동일한 비율로 혼합한 중합성 액정 화합물의 혼합물을 사용하여, 1 종의 중합성 액정 화합물을 사용하는 경우와 동일하게 하여 측정하였다.In addition, when two or more types of polymerizable liquid crystal compounds are used in combination in an embodiment, the nematic liquid crystal phase transition temperature is determined by adding all of the polymerizable liquid crystal compounds constituting the composition for forming a retardation film to the composition for forming a retardation film. A mixture of polymerizable liquid crystal compounds mixed in the same ratio as the composition was used to measure the same as in the case of using one type of polymerizable liquid crystal compound.

Figure pat00028
Figure pat00028

<실시예 1><Example 1>

[위상차막 형성용 조성물 (1) 의 조제][Preparation of composition (1) for forming a phase contrast film]

표 2 에 따라, 중합성 액정 화합물 (A1) 100 부에 대하여, 레벨링제 「BYK-361N」 (BM Chemie 사 제조) 0.1 부와, 광 중합 개시제로서 「이르가큐어 OXE-03」 (BASF 재팬 주식회사 제조) 3 부를 첨가하였다. 또한, 고형분 농도가 9 % 가 되도록 유기 용제 A : 테트라하이드로푸란 (Ta : 66 ℃)/유기 용제 B : 시클로펜타논 (Tb : 130 ℃) 혼합 용제 (질량비로 20/80) 를 첨가하였다. 이 혼합물을 온도 50 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 위상차막 형성용 조성물 (1) 을 조제하였다. 또한, 테트라하이드로푸란과 시클로펜타논의 HSP 거리를 하기 방법에 따라 산출하면, 7.1 이었다.According to Table 2, based on 100 parts of polymerizable liquid crystal compound (A1), 0.1 part of leveling agent "BYK-361N" (manufactured by BM Chemie) and "Irgacure OXE-03" (BASF Japan Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator. preparation) 3 parts were added. Additionally, a mixed solvent of organic solvent A: tetrahydrofuran (Ta: 66°C)/organic solvent B: cyclopentanone (Tb: 130°C) (20/80 by mass ratio) was added so that the solid content concentration was 9%. Composition (1) for forming a retardation film was prepared by stirring this mixture at a temperature of 50°C for 1 hour. Additionally, when the HSP distance between tetrahydrofuran and cyclopentanone was calculated according to the method below, it was 7.1.

Figure pat00029
Figure pat00029

[HSP 거리의 산출 방법][How to calculate HSP distance]

HSP 거리는, 데이터베이스에 등록된 테트라하이드로푸란의 한센 용해도 파라미터 (δDA : 16.8, δPA : 5.7, δHA : 8.0) 와 시클로펜타논의 한센 용해도 파라미터 (δDB : 17.9, δPB : 11.9, δHB : 5.2) 를 사용하여, 이하의 식에 의해 산출하였다.The HSP distance is based on the Hansen solubility parameters of tetrahydrofuran (δD A : 16.8, δP A : 5.7, δH A : 8.0) and the Hansen solubility parameters of cyclopentanone (δD B : 17.9, δP B : 11.9, δH B) registered in the database. : 5.2) was used to calculate it using the formula below.

HSP 거리 = [4(δDA - δDB)2 + (δPA - δPB)2 + (δHA - δHB)2]1/2 HSP distance = [4(δD A - δD B ) 2 + (δP A - δP B ) 2 + (δH A - δH B ) 2 ] 1/2

[위상차 필름의 제조][Manufacture of retardation film]

기재로서 2 축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (다이아포일 미츠비시 수지 (주) 제조) 에, 상기 광 배향막 형성용 조성물을 바 코터에 의해 도포하였다. 얻어진 도포막을 120 ℃ 의 건조 오븐에서 2 분간 건조시킨 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 형성하였다. 그 후, UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-9 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 편광 자외광 100 mJ/㎠ (313 ㎚ 기준) 를 조사하여 광 배향막을 얻었다. 니혼 분광 주식회사 제조의 엘립소미터 M-220 을 사용하여 측정한 광 배향막의 막두께는 200 ㎚ 였다.The composition for forming a photo-alignment film was applied to a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Diafoil Mitsubishi Plastics Co., Ltd.) as a substrate using a bar coater. The obtained coating film was dried in a drying oven at 120°C for 2 minutes, and then cooled to room temperature to form a dry film. Then, using a UV irradiation device (SPOT CURE SP-9; manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.), 100 mJ/cm2 (based on 313 nm) of polarized ultraviolet light was irradiated to obtain a photo-alignment film. The film thickness of the photo-alignment film measured using an ellipsometer M-220 manufactured by Nippon Spectroscope Co., Ltd. was 200 nm.

얻어진 광 배향막 상에, 상기 위상차막 형성용 조성물 (1) 을 바 코터에 의해 도포하여, 도포막을 형성하였다. 이 도포막을 90 ℃ 의 건조 오븐으로 1 분간 가열 건조 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 얻었다. 이어서, 고압 수은 램프 (우시오 전기 주식회사 제조 「유니큐어 VB-15201BY-A」) 를 사용하여, 질소 분위기하에서 노광량 500 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외광을 상기 건조 피막에 조사함으로써, 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 위상차막을 형성하여, 기재/광 배향막/위상차막으로 이루어지는 위상차판 (1) 을 얻었다. 올림푸스 주식회사 제조의 레이저 현미경 LEXT OLS4100 을 사용하여 측정한 위상차막의 막두께는 2.0 ㎛ 였다.On the obtained photo-alignment film, the composition (1) for forming a retardation film was applied using a bar coater to form a coating film. This coating film was heated and dried in a 90°C drying oven for 1 minute, and then cooled to room temperature to obtain a dry film. Next, using a high-pressure mercury lamp (“Unicure VB-15201BY-A” manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.), the dried film is irradiated with ultraviolet light at an exposure dose of 500 mJ/cm2 (based on 365 nm) in a nitrogen atmosphere, thereby producing polymerizable liquid crystal. A cured retardation film was formed with the compound oriented horizontally with respect to the substrate surface, thereby obtaining a retardation film (1) consisting of a substrate/photo-alignment film/retardation film. The film thickness of the phase contrast film measured using a laser microscope LEXT OLS4100 manufactured by Olympus Corporation was 2.0 μm.

<풍문에 의한 불균일의 평가><Evaluation of unevenness due to hearsay>

라이트 테이블 상에 1 쌍의 직선 편광자를 크로스 니콜이 되도록 겹쳤다. 실시예 및 비교예에서 얻어진 위상차판을, 상기와 같이 라이트 테이블 상에 설치한 직선 편광자의 사이에 두었다. 이 때, 위상차막의 지상축은, 두께 방향에서 보았을 때 편광자의 흡수축에 대해 실질적으로 45°가 되도록 설정하였다. 그 후, 육안으로 관찰하고, 관찰된 이미지에서의 균일성 (위상차의 균일성) 에 의해, 풍문에 의한 불균일의 정도를 관찰하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.On the light table, a pair of linear polarizers were overlapped so that they were crossed nicol. The retardation plates obtained in Examples and Comparative Examples were placed between linear polarizers installed on a light table as described above. At this time, the slow axis of the retardation film was set to be substantially 45° with respect to the absorption axis of the polarizer when viewed in the thickness direction. After that, it was observed with the naked eye, and the degree of unevenness due to wind noise was observed based on the uniformity (uniformity of phase difference) in the observed image. The results are shown in Table 4.

≪평가 기준≫≪Evaluation criteria≫

A : 풍문 불균일이 전혀 보이지 않는다A: No unevenness of wind pattern is visible at all.

B : 위상차판의 면적의 30 % 미만에 약간의 풍문 불균일이 보였다B: Slight wind irregularity was observed in less than 30% of the area of the retardation plate.

C : 위상차판의 면적의 30 % 미만에 풍문 불균일이 보였다C: Wind irregularity was observed in less than 30% of the area of the retardation plate.

D : 위상차판 전체에 풍문 불균일이 보였다D: Wind pattern unevenness was seen throughout the retardation plate.

E : 위상차판 전체에 강한 풍문 불균일이 보였다E: Strong wind irregularity was seen throughout the retardation plate.

<배향성의 평가><Evaluation of orientation>

얻어진 위상차판을, 편광 현미경 (BX51, 올림푸스 주식회사 제조) 을 사용하여 400 배의 배율로 관찰하였다. 하기 기준에 따라, 배향성에 대해 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.The obtained retardation plate was observed at a magnification of 400 times using a polarizing microscope (BX51, manufactured by Olympus Corporation). Orientation was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 4.

≪평가 기준≫≪Evaluation criteria≫

A : 액정 화합물의 결정화나 배향의 흐트러짐이 없다A: There is no crystallization or orientation disturbance of the liquid crystal compound.

B : 액정 화합물의 결정화나 배향의 흐트러짐이 약간 보였다B: Crystallization and orientation of the liquid crystal compound were slightly disturbed.

C : 액정 화합물의 결정화나 배향의 흐트러짐이 강하게 보였다C: Crystallization and orientation of the liquid crystal compound were strongly disturbed.

<망목상 불균일의 평가><Evaluation of mesh unevenness>

라이트 테이블 상에 1 쌍의 직선 편광자를, 크로스 니콜이 되도록 겹쳤다. 실시예 및 비교예에서 얻어진 위상차판을, 상기와 같이 라이트 테이블 상에 설치한 직선 편광자의 사이에 두었다. 이 때, 위상차 필름의 지상축은, 두께 방향에서 보았을 때 편광자의 흡수축에 대해 실질적으로 45°가 되도록 설정하였다. 그 후, 육안으로 관찰하고, 관찰된 이미지에서의 균일성 (위상차의 균일성) 에 의해, 망목상 불균일의 정도를 관찰하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.A pair of linear polarizers were overlapped on a light table so that they were crossed Nicols. The retardation plates obtained in Examples and Comparative Examples were placed between linear polarizers installed on a light table as described above. At this time, the slow axis of the retardation film was set to be substantially 45° with respect to the absorption axis of the polarizer when viewed in the thickness direction. After that, it was observed with the naked eye, and the degree of mesh unevenness was observed based on the uniformity (uniformity of phase difference) in the observed image. The results are shown in Table 4.

≪평가 기준≫≪Evaluation criteria≫

A : 망목상 불균일이 전혀 보이지 않는다A: No unevenness is visible on the mesh screen.

B : 약간의 망목상 불균일이 보였다B: Slight mesh unevenness was observed.

C : 강한 망목상 불균일이 보였다C: Strong mesh unevenness was observed.

<파장 분산성 측정><Wavelength dispersion measurement>

위상차판에 있어서의 두께 방향에 대해 수직인 면 중, 광 배향막측과는 반대측의 표면에 점접착제층 (아크릴계 폴리머를 포함하는 점착제) 및 유리 기재를 이 순서로 첩합 (貼合) 한 후, 위상차판을 구성하는 기재 (PET 필름) 와 광 배향막을 함께 박리하고, 이어서, 그 위상차판의 표면에, 점접착제층, 및 코로나 처리를 실시한 COP 필름 (피전사체) 을 이 순서로 첩합하였다. 이로써, 유리 기재, 점접착제층, 위상차막, 점접착제층, COP 필름 (피전사체) 을 이 순서로 갖는 적층체를 얻었다. 이 적층체의 파장 450 ㎚, 파장 550 ㎚, 그리고 파장 650 ㎚ 의 광에 대한 면내 위상차값을 오지 계측 기기 주식회사 제조의 KOBRA-WR 을 사용하여 측정하였다. 또한, 파장 450 ㎚, 550 ㎚ 및 650 ㎚ 의 광에 대한 면내 위상차값은 파장 448.2 ㎚, 498.6 ㎚, 548.4 ㎚, 587.3 ㎚, 628.7 ㎚, 748.6 ㎚ 의 광에 대한 면내 위상차값의 측정 결과로부터 얻어진 코시의 분산 공식으로부터 구하였다.After bonding the adhesive layer (adhesive containing an acrylic polymer) and the glass substrate in this order to the surface on the side opposite to the photo-alignment film side among the planes perpendicular to the thickness direction of the retardation plate, the phase difference The base material (PET film) constituting the plate and the photo-alignment film were peeled together, and then the adhesive layer and the corona-treated COP film (transfer target) were bonded to the surface of the retardation plate in this order. As a result, a laminate having the glass substrate, adhesive layer, retardation film, adhesive layer, and COP film (transfer target) in this order was obtained. The in-plane retardation value of this laminate for light with a wavelength of 450 nm, 550 nm, and 650 nm was measured using KOBRA-WR manufactured by Oji Measuring Equipment Co., Ltd. In addition, the in-plane retardation values for light with wavelengths of 450 ㎚, 550 ㎚, and 650 ㎚ are obtained from the measurement results of the in-plane retardation values for light with wavelengths of 448.2 ㎚, 498.6 ㎚, 548.4 ㎚, 587.3 ㎚, 628.7 ㎚, and 748.6 ㎚. poetry It was obtained from the dispersion formula.

측정한 Re(450)/Re(550) 의 값 [Re(450) 은 파장 450 ㎚ 의 광에 대한 면내 위상차값을, Re(550) 은 파장 550 ㎚ 의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다] 에 대해, 0.80 이상 0.92 미만인 것을 A, 0.92 이상 1.0 미만인 것을 B, 1.0 이상인 것을 C 로 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.The measured value of Re(450)/Re(550) [Re(450) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 450 nm, and Re(550) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 550 nm] In relation to this, those between 0.80 and less than 0.92 were evaluated as A, those between 0.92 and less than 1.0 were evaluated as B, and those above 1.0 were evaluated as C. The results are shown in Table 4.

<실시예 2 및 3><Example 2 and 3>

표 4 의 기재에 따라, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 혼합 비율을 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물(2), (3) 및 위상차판 (2), (3) 을 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.According to the description in Table 4, the compositions (2) and (3) for forming a retardation film and the retardation plate (2) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of organic solvent A and organic solvent B was changed, ( 3) obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<실시예 4><Example 4>

표 4 의 기재에 따라, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 혼합 비율을 40/60 (질량비) 으로 변경하고, 고형분 농도를 5 % 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (4) 및 위상차판 (4) 를 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.According to the description in Table 4, the mixing ratio of organic solvent A and organic solvent B was changed to 40/60 (mass ratio) and the solid content concentration was changed to 5%, and the same procedure as in Example 1 was performed to obtain a composition for forming a retardation film. (4) and retardation plate (4) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<실시예 5><Example 5>

표 4 의 기재에 따라, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 혼합 비율을 40/60 (질량비) 으로 변경하고, 고형분 농도를 12 % 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (5) 및 위상차판 (5) 를 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.According to the description in Table 4, the mixing ratio of organic solvent A and organic solvent B was changed to 40/60 (mass ratio), and the solid content concentration was changed to 12%. In the same manner as in Example 1, a composition for forming a retardation film was prepared. (5) and retardation plate (5) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<실시예 6 ∼ 9><Examples 6 to 9>

용제로서, 표 4 에 기재된 혼합 비율로 유기 용제 A : 테트라하이드로푸란/유기 용제 B ; 시클로펜타논/다른 유기 용제 : N-메틸-2-피롤리돈 (NMP, 비점 : 202 ℃) 을 포함하는 혼합 용제를 사용하여, 고형분 농도를 12 % 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (6) ∼ (9) 및 위상차판 (6) ∼ (9) 를 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.As a solvent, organic solvent A: tetrahydrofuran/organic solvent B in the mixing ratio shown in Table 4; Cyclopentanone/other organic solvent: A mixed solvent containing N-methyl-2-pyrrolidone (NMP, boiling point: 202°C) was used, and the same procedure as in Example 1 was carried out except that the solid concentration was set to 12%. , compositions (6) to (9) for forming a retardation film and retardation plates (6) to (9) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<실시예 10 ∼ 12><Examples 10 to 12>

표 4 의 기재에 따라, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 혼합 비율을 변경하고, 고형분 농도를 12 % 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (10) ∼ (12) 및 위상차판 (10) ∼ (12) 를 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.Compositions (10) to (12) for forming a retardation film were prepared in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of organic solvent A and organic solvent B was changed according to the description in Table 4 and the solid content concentration was changed to 12%. and retardation plates (10) to (12) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<실시예 13 ∼ 18><Examples 13 to 18>

표 4 의 기재에 따라, 유기 용제의 종류 및 혼합 비율을 변경하고, 고형분 농도를 12 % 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (13) ∼ (18) 및 위상차판 (13) ∼ (18) 을 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.According to the description in Table 4, the type and mixing ratio of the organic solvent were changed and the solid content concentration was changed to 12%. In the same manner as in Example 1, the retardation film forming compositions (13) to (18) and the retardation plate were prepared. (13) to (18) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

또한, 사용한 용제의 비점은 이하와 같다.In addition, the boiling points of the solvents used are as follows.

2-메틸테트라하이드로푸란 : 80 ℃2-Methyltetrahydrofuran: 80℃

1,3-디옥솔란 : 77 ℃1,3-dioxolane: 77℃

모노클로로벤젠 : 132 ℃Monochlorobenzene: 132℃

아니솔 : 154 ℃Anisole: 154℃

디메틸술폭사이드 (DMSO) : 189 ℃Dimethyl sulfoxide (DMSO): 189 °C

또, 각각의 실시예에 있어서의 유기 용제 A 와 유기 용제 B 의 HSP 거리를 산출하였다. 산출 결과는 표 4 에 나타내는 바와 같다.In addition, the HSP distance of organic solvent A and organic solvent B in each example was calculated. The calculation results are as shown in Table 4.

<실시예 19 및 20><Examples 19 and 20>

중합성 액정 화합물로서, 각각, 중합성 액정 화합물 (A2), 중합성 액정 화합물 (A3) 을 사용한 것 이외에는, 실시예 5 와 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (19), (20) 및 위상차판 (19), (20) 을 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.In the same manner as in Example 5, except that polymerizable liquid crystal compound (A2) and polymerizable liquid crystal compound (A3) were used as the polymerizable liquid crystal compounds, respectively, compositions (19) and (20) for forming a retardation film and a retardation film were prepared. Plates (19) and (20) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<실시예 21 ∼ 24><Examples 21 to 24>

중합성 액정 화합물로서, 하기 식 (LC242) 에 나타내는 액정 화합물 LC242 (BASF 사 등록상표) 를 사용하였다. 또한, LC242 의 네마틱 액정 상전이 온도는 63 ℃ 였다.As the polymerizable liquid crystal compound, liquid crystal compound LC242 (registered trademark of BASF Corporation) represented by the following formula (LC242) was used. Additionally, the nematic liquid crystal phase transition temperature of LC242 was 63°C.

[화학식 30][Formula 30]

Figure pat00030
Figure pat00030

중합성 액정 화합물 (A1) 과 중합성 액정 화합물 (LC242) 를 표 3 에 기재된 질량비로 혼합하여 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (21) ∼ (24) 및 위상차판 (21) ∼ (24) 를 얻었다. 얻어진 위상차판을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 또한, 중합성 액정 화합물의 혼합물의 네마틱 액정 상전이 온도는 표 4 에 기재된 바와 같았다.The compositions (21) to (24) for forming a retardation film and the retardation plate were prepared in the same manner as in Example 5, except that the polymerizable liquid crystal compound (A1) and the polymerizable liquid crystal compound (LC242) were mixed and used in the mass ratio shown in Table 3. (21) to (24) were obtained. The obtained retardation plate was evaluated in the same manner as in Example 1. In addition, the nematic liquid crystal phase transition temperature of the mixture of polymerizable liquid crystal compounds was as shown in Table 4.

Figure pat00031
Figure pat00031

<참고예><Reference example>

중합성 액정 화합물로서 LC242 를 사용하고, 용제를 테트라하이드로푸란만, 고형분 농도를 12 % 로 하고, 건조 온도를 70 ℃ 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 위상차막 형성용 조성물 (25) 및 위상차판 (25) 를 얻었다. 얻어진 위상차 필름을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.In the same manner as in Example 1 except that LC242 was used as a polymerizable liquid crystal compound, the solvent was only tetrahydrofuran, the solid content concentration was 12%, and the drying temperature was 70°C, a composition for forming a retardation film (25) was prepared. and a retardation plate (25) was obtained. The obtained retardation film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<비교예 1><Comparative Example 1>

용제를 NMP 만, 고형분 농도를 12 % 로 하고, 건조 온도를 120 ℃ 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 위상차막 형성용 조성물 (26) 및 위상차판 (26) 을 얻었다. 얻어진 위상차 필름을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.A composition for forming a retardation film (26) and a retardation plate (26) were obtained in the same manner as in Example 1 except that the solvent was NMP only, the solid content concentration was 12%, and the drying temperature was 120°C. The obtained retardation film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

<비교예 2 ∼ 5><Comparative Examples 2 to 5>

표 4 의 기재에 따라, 용제의 종류 및 고형분 농도를 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 위상차막 형성용 조성물 (27) ∼ (30) 및 위상차판 (27) ∼ (30) 을 얻었다. 얻어진 위상차 필름을 실시예 1 과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.According to the description in Table 4, compositions (27) to (30) for forming a retardation film and retardation plates (27) to (30) were obtained in the same manner as in Example 1 except that the type of solvent and the solid content concentration were changed. The obtained retardation film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

Claims (11)

100 ℃ 이상 200 ℃ 이하에 네마틱 액정 상전이 온도를 갖는 중합성 액정 화합물과, 서로 상이한 비점을 갖는 적어도 2 종의 유기 용제 A 와 유기 용제 B 를 포함하고,
중합성 액정 화합물의 네마틱 액정 상전이 온도를 X (℃), 유기 용제 A 의 비점을 Ta (℃), 유기 용제 B 의 비점을 Tb (℃) 로 한 경우에, 하기 식 (1) ∼ (3) :
Tb - Ta ≥ 10 (℃) (1)
Ta < X - 30 (℃) (2)
Tb > X - 70 (℃) (3)
을 만족하는, 위상차막 형성용 조성물.
A polymerizable liquid crystal compound having a nematic liquid crystal phase transition temperature of 100°C or higher and 200°C or lower, and at least two organic solvents A and B having different boiling points,
When the nematic liquid crystal phase transition temperature of the polymerizable liquid crystal compound is set to ):
Tb - Ta ≥ 10 (℃) (1)
Ta < X - 30 (℃) (2)
Tb > X - 70 (℃) (3)
A composition for forming a phase contrast film that satisfies the above.
제 1 항에 있어서,
중합성 액정 화합물이 하기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (I) 을 포함하는, 위상차막 형성용 조성물.
P1-E1-(B1-G1)k-L1-Ar-L2-(G2-B2)l-E2-P2 (I)
[식 (I) 중,
L1, L2, B1 및 B2 는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,
G1 및 G2 는, 각각 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,
k 및 l 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 1 ≤ k + l 의 관계를 만족하고,
E1 및 E2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -S-, -C(=O)- 로 치환되어 있어도 되고,
P1 및 P2 는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고 (단, P1 및 P2 중의 적어도 1 개는 중합성기이다),
Ar 은, 식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중 어느 것으로 나타내는 기이다
Figure pat00033

[식 (Ar-1) ∼ (Ar-5) 중,
* 는, 결합부를 나타낸다 ;
Q1 은 -S-, -O- 또는 -NR11- 를 나타내고, R11 은 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타내고,
Q2 는 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다 ;
W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -NR11- 를 나타내고, R11 은 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다 ;
Y1 은 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타내고,
Y2 는 CN 기 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -CO-, -O-CO- 또는 -CO-O- 로 치환되어 있어도 되고 ;
Z1, Z2 및 Z3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족 탄화수소기 또는 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 20 의 지환식 탄화수소기, 1 가의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR12R13 또는 -SR14 를 나타내고, Z1 및 Z2 는, 서로 결합하여 방향 고리 또는 방향족 복소 고리를 형성해도 되고, R12 ∼ R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다 ;
Ax 는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, Ay 는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 복소 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는, 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, Ax 와 Ay 는 결합하여 고리를 형성해도 된다 ;
Y3 및 Y4 는, 각각 독립적으로, 하기 식 (Y3-1) :

[식 (Y3-1) 중,
RY1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기는, 1 개 이상의 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고, 치환기 X3 은, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로술푸라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 하이드록실기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는, 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C- 로 치환되어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 직사슬형 또는 분기형 알킬기를 나타내고, 그 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 혹은, -B3-F3-P3 으로 나타내는 기여도 되고 (여기서, B3 은, -CR16R17-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR18-, -NR18-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-, -S-CH2-, -CH2-S- 또는 단결합을 나타내고, R13 및 R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고 ; F3 은, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR19 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, R19 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고 ; P3 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다),
U1 은, 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기의 임의의 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어 있어도 되고, 방향족 탄화수소기는, 1 개 이상의 상기 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고 ;
T1 은, -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -NU2-, -N=CU2-, -CO-NU2-, -OCO-NU2- 또는 O-NU2- 를 나타내고, U2 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기, 방향족 탄화수소기 (그 방향족 탄화수소기의 임의의 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어 있어도 된다) 를 갖는 탄소수 2 ∼ 30 의 유기기, 또는 (E3-A3)q-B3-F3-P3 을 나타내고, 그 알킬기, 시클로알킬기, 시클로알케닐기 및 방향족 탄화수소기는 각각, 무치환이거나 또는 1 개 이상의 치환기 X3 에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기는 그 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기 중의 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -SO2-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C- 로 치환되어도 되고, 그 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기 중의 1 개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2 개 이상의 -CH2- 는, 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO-, -OCO- 또는 O-CO-O- 로 치환되어도 되고, E3 은 상기 B3 과 동일하게 정의되고, A3 은, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기 및 그 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R20, -OR21, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R20 은, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, R21 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, B3, F3 및 P3 은, 각각, 상기 B3, F3 및 P3 과 동일한 의미를 갖고, q 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, E3 및/또는 A3 이 복수 존재하는 경우에는, 각각 동일해도 해도 상이해도 되고, U1 과 U2 가 결합하여 고리를 구성하고 있어도 된다]
에서 선택되는 기를 나타낸다.]
According to claim 1,
A composition for forming a retardation film, wherein the polymerizable liquid crystal compound contains a polymerizable liquid crystal compound (I) represented by the following formula (I).
P 1 -E 1 -(B 1 -G 1 ) k -L 1 -Ar-L 2 -(G 2 -B 2 ) l -E 2 -P 2 (I)
[In formula (I),
L 1 , L 2 , B 1 and B 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group,
G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, and the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom or a C 1 to C 4 hydrocarbon group. It may be substituted with an alkyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group, oxygen atom, or sulfur It may be substituted with an atom or a nitrogen atom,
k and l each independently represent an integer from 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≤ k + l,
E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 contained in the alkanediyl group - may be substituted with -O-, -S-, -C(=O)-,
P 1 and P 2 independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom (provided that at least one of P 1 and P 2 is a polymerizable group),
Ar is a group represented by any of the formulas (Ar-1) to (Ar-5)
Figure pat00033

[In formula (Ar-1) to (Ar-5),
* indicates a coupling part;
Q 1 represents -S-, -O- or -NR 11 -, R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent,
Q 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent;
W 1 and W 2 each independently represent -O-, -S-, -CO-, and -NR 11 -, and R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent;
Y 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group,
Y 2 represents a CN group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 - contained in the alkyl group is -O- , -CO-, -O-CO- or -CO-O- may be substituted;
Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -NR 12 R 13 or -SR 14 , Z 1 and Z 2 may combine with each other to form an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and R 12 to R 14 each represent Independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
Ax represents an organic group of 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle, and Ay is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms that may have a substituent, or represents an organic group of 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle; Ax and Ay may combine to form a ring;
Y 3 and Y 4 are each independently represented by the following formula (Y 3 -1):

[In equation (Y 3 -1),
R Y1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms , and the alkyl group may be substituted by one or more substituents Fluorosulfuranyl group, nitro group, cyano group, isocyano group, amino group, hydroxyl group, mercapto group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, diisopropylamino group, trimethylsilyl group, dimethylsilyl group, thioi An isocyano group, or one -CH 2 - or two or more non-adjacent -CH 2 - are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO- S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH= CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C- represents a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may be substituted by Any hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, or may be a group represented by -B 3 -F 3 -P 3 (where B 3 is -CR 16 R 17 -, -CH 2 -CH 2 -, -O -, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -OC(=S)-, -OC(=S) -O-, -CO-NR 18 -, -NR 18 -CO-, -O-CH 2 -, -CH 2 -O-, -S-CH 2 -, -CH 2 -S- or a single bond , R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; F 3 represents an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in the alkanediyl group The atom may be substituted with -OR 19 or a halogen atom, R 19 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, or - contained in the alkanediyl group. CH 2 - may be substituted with -O- or -CO-; P 3 represents a hydrogen atom or a polymerizable group),
U 1 represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms having an aromatic hydrocarbon group, any carbon atom of the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hetero atom, and the aromatic hydrocarbon group may be substituted with one or more of the above substituents become ;
T 1 is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -NU 2 -, -N=CU 2 -, -CO-NU 2 -, -OCO-NU 2 - or O-NU 2 -, and U 2 is a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group with 3 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group with 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group (any of the aromatic hydrocarbon groups). The carbon atom of may be substituted with a hetero atom), an organic group having 2 to 30 carbon atoms, or (E 3 -A 3 ) q -B 3 -F 3 -P 3 , and its alkyl group, cycloalkyl group, or cycloalke The nyl group and the aromatic hydrocarbon group may each be unsubstituted or substituted with one or more substituents Or two or more -CH 2 - that are not adjacent are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -SO 2 -, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, - OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C- may be substituted, and one -CH 2 - in the cycloalkyl group or cycloalkenyl group or two non-adjacent ones. The above -CH 2 - may each independently be substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO- or O-CO-O-, E 3 is defined the same as B 3 above, and A 3 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms or a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the alicyclic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group are a halogen atom, -R 20 , -OR 21 may be substituted with a cyano group or a nitro group, R 20 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, and R 21 represents an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, and the alkyl group contains The hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, B 3 , F 3 and P 3 each have the same meaning as B 3 , F 3 and P 3 above, q represents an integer from 0 to 4, and E 3 and/or when there are multiple A 3s , they may be the same or different, and U 1 and U 2 may combine to form a ring]
Indicates the group selected from.]
제 1 항에 있어서,
유기 용제 A 의 한센 용해도 파라미터 (δDA, δPA, δHA) 와, 유기 용제 B 의 한센 용해도 파라미터 (δDB, δPB, δHB) 를 사용하여 산출되는 한센 용해도 파라미터 거리가 10 이하인, 위상차막 형성용 조성물.
According to claim 1,
Phase difference where the Hansen solubility parameter distance calculated using the Hansen solubility parameters (δD A , δP A , δH A ) of organic solvent A and the Hansen solubility parameters (δD B , δP B , δH B ) of organic solvent B is 10 or less. Composition for film formation.
제 2 항에 있어서,
중합성 액정 화합물이, 봉상 중합성 액정 화합물을 추가로 포함하는, 위상차막 형성용 조성물.
According to claim 2,
A composition for forming a retardation film, wherein the polymerizable liquid crystal compound further includes a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound.
제 1 항에 있어서,
고형분 농도가 5 질량% 이상인, 위상차막 형성용 조성물.
According to claim 1,
A composition for forming a phase contrast film having a solid content concentration of 5% by mass or more.
제 1 항에 있어서,
위상차막 형성용 조성물 중에 포함되는 용제의 총질량에 대한, 유기 용제 A 및 유기 용제 B 의 합계 함유량이 80 질량% 이상인, 위상차막 형성용 조성물.
According to claim 1,
A composition for forming a phase contrast film, wherein the total content of organic solvent A and organic solvent B is 80% by mass or more with respect to the total mass of solvents contained in the composition for forming a phase contrast film.
제 1 항에 있어서,
유기 용제 A 가 에테르계 유기 용제 또는 케톤계 용제인, 위상차막 형성용 조성물.
According to claim 1,
A composition for forming a retardation film, wherein the organic solvent A is an ether-based organic solvent or a ketone-based solvent.
제 1 항에 있어서,
레벨링제를 포함하는, 위상차막 형성용 조성물.
According to claim 1,
A composition for forming a phase contrast film, comprising a leveling agent.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 위상차막 형성용 조성물의 도막을 형성하는 공정,
상기 도막을 건조 온도 Td (℃) 에서 건조시켜 건조 도막을 얻는 공정, 및
상기 건조 도막을 경화시켜 위상차막을 얻는 공정,
을 포함하고, 상기 건조 온도 Td (℃) 가, 식 (4) 및 (5) :
Ta < Td < Tb (4)
X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)
를 만족하는, 위상차막의 제조 방법.
A process of forming a coating film of the composition for forming a retardation film according to any one of claims 1 to 8,
A process of drying the coating film at a drying temperature Td (°C) to obtain a dry coating film, and
A process of curing the dried coating film to obtain a retardation film,
, and the drying temperature Td (°C) is expressed in equations (4) and (5):
Ta < Td < Tb (4)
X - 80 ≤ Td ≤ X - 20 (5)
A method for manufacturing a phase contrast film that satisfies the following.
제 9 항에 있어서,
건조 온도 Td 가 70 ℃ 이상 130 ℃ 미만인, 제조 방법.
According to clause 9,
A manufacturing method wherein the drying temperature Td is 70°C or more and less than 130°C.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 위상차막 형성용 조성물의 경화막을 포함하는 위상차판.A retardation plate comprising a cured film of the composition for forming a retardation film according to any one of claims 1 to 8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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