KR20190128123A - Substrate and optical film - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a substrate having high adhesion and an optical film. Provided are the substrate having a surface nitrogen present ratio of 0.1 to 1 atom%, a laminate in which an alignment film is formed on the surface of the substrate, and the optical film in which an optically anisotropic layer is formed on the alignment film of the laminate.

Description

기재 및 광학 필름{SUBSTRATE AND OPTICAL FILM}Substrate and Optical Film {SUBSTRATE AND OPTICAL FILM}

본 발명은 기재 및 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate and an optical film.

플랫 패널 표시 장치(FPD)에는 편광판, 위상차판 등의 광학 필름을 포함하는 부재가 이용되고 있다. 이러한 광학 필름으로서, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기재 상에 도포함으로써 제조된 광학 필름이 알려져 있다. 예컨대, 특허문헌 1에는, 배향 처리를 행한 기재 상에 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포함으로써 도포막을 얻고, 이 도포막 중의 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 광학 필름이 기재되어 있다. As flat panel display apparatus FPD, the member containing optical films, such as a polarizing plate and a phase difference plate, is used. As such an optical film, the optical film manufactured by apply | coating the composition containing a polymeric liquid crystal compound on a base material is known. For example, Patent Document 1 describes an optical film formed by applying a composition containing a polymerizable liquid crystal compound on a substrate subjected to an alignment treatment to obtain a coating film and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound in the coating film.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2007-148098호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-148098

중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기재 상에 도포함으로써 제조된 광학 필름에서는, 기재와 광학 필름 사이의 밀착성이 불충분하면, 가공시에 박리 등의 문제가 일어나고 있었다. 그 때문에, 가공시의 박리를 억제한다는 관점에서, 높은 밀착성을 갖춘 기재의 개발이 요구되고 있었다.In the optical film manufactured by apply | coating the composition containing a polymeric liquid crystal compound on a base material, when adhesiveness between a base material and an optical film was inadequate, problems, such as peeling, arose at the time of processing. Therefore, development of the base material with high adhesiveness was calculated | required from the viewpoint of suppressing peeling at the time of processing.

이러한 상황 하에, 본 발명자는 예의 검토한 결과, 본 발명에 이르렀다. 즉, 본 발명은 이하의 발명을 포함한다.Under these circumstances, the present inventors came to the present invention as a result of earnestly examining. That is, this invention includes the following inventions.

[1] 표면 질소 존재 비율이 0.1∼1 atom%인 기재.[1] A substrate having a surface nitrogen present ratio of 0.1 to 1 atom%.

[2] 표면 탄소 존재 비율이 54.9∼70 atom%이고, 표면 산소 존재 비율이 29∼45 atom%인 [1]에 기재된 기재.[2] The substrate according to [1], wherein the surface carbon abundance ratio is 54.9 to 70 atom% and the surface oxygen abundance ratio is 29 to 45 atom%.

[3] 기재가 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름인 [1] 또는 [2]에 기재된 기재.[3] The substrate according to [1] or [2], wherein the substrate is a saponified triacetyl cellulose film.

[4] 기재가 질소 및 산소를 포함하는 분위기 하에서 표면 처리가 행해진 기재인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 기재.[4] The substrate according to any one of [1] to [3], wherein the substrate is a substrate on which surface treatment is performed under an atmosphere containing nitrogen and oxygen.

[5] 표면 처리가 플라즈마 처리인 [4]에 기재된 기재.[5] The substrate according to [4], wherein the surface treatment is a plasma treatment.

[6] 질소 및 산소를 포함하는 분위기 하에서 플라즈마로 표면 처리된 기재로서, 200 mJ/㎠ 이하의 에너지로 표면 처리된 기재.[6] A substrate surface-treated with a plasma under an atmosphere containing nitrogen and oxygen, the substrate being surface-treated with an energy of 200 mJ / cm 2 or less.

[7] 기재가 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름인 [6]에 기재된 기재.[7] The substrate according to [6], wherein the substrate is a saponified triacetylcellulose film.

[8] [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 기재 표면에, 배향막이 형성된 적층체.[8] A laminate in which an alignment film is formed on the surface of the base material according to any one of [1] to [7].

[9] 배향막이 광배향성 폴리머로 형성된 배향막인 [8]에 기재된 적층체.[9] The laminate according to [8], wherein the alignment film is an alignment film formed of a photoalignable polymer.

[10] 광배향성 폴리머가 광조사에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 광배향성 폴리머인 [9]에 기재된 적층체.[10] The laminate according to [9], wherein the photo-alignment polymer is a photo-alignment polymer capable of forming a crosslinked structure by light irradiation.

[11] JIS-K5600에 따른 밀착성 시험에 있어서, 면적 기준으로, 배향막의 36% 이상이 박리되지 않는 [8]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 적층체.[11] The laminate according to any one of [8] to [10], wherein in the adhesion test according to JIS-K5600, 36% or more of the alignment film is not peeled off on an area basis.

[12] [8]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 적층체의 배향막 상에 광학 이방성층이 형성된 광학 필름.[12] An optical film having an optically anisotropic layer formed on the alignment film of the laminate according to any one of [8] to [11].

[13] 광학 이방성층이 1 이상의 중합성 액정을 중합함으로써 형성된 [12]에 기재된 광학 필름.[13] The optical film according to [12], wherein the optically anisotropic layer is formed by polymerizing one or more polymerizable liquid crystals.

[14] JIS-K5600에 따른 밀착성 시험에 있어서, 면적 기준으로, 광학 이방성층 및 배향막의 36% 이상이 박리되지 않는 [12] 또는 [13]에 기재된 광학 필름.[14] The optical film according to [12] or [13], wherein in the adhesion test according to JIS-K5600, 36% or more of the optically anisotropic layer and the alignment film are not separated on an area basis.

[15] 위상차성을 갖는 [12]∼[14] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.[15] The optical film according to any one of [12] to [14], having retardation.

[16] [12]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 포함하는 편광판.[16] A polarizing plate comprising the optical film according to any one of [12] to [15].

[17] [15]에 기재된 광학 필름을 포함하는 위상차판.[17] A retardation plate comprising the optical film described in [15].

[18] [12]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.[18] A flat panel display device comprising the optical film according to any one of [12] to [15].

[19] 하기 공정 (1)∼(4)를 포함하는 광학 필름의 제조 방법.[19] A method for producing an optical film, comprising the following steps (1) to (4).

공정 (1): [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 기재 상에 광배향성 폴리머를 도포하는 공정Process (1): The process of apply | coating a photo-alignment polymer on the base material in any one of [1]-[7].

공정 (2): 기재 상의 광배향성 폴리머를 가교시켜 배향막을 형성하는 공정Step (2): a step of forming an alignment film by crosslinking the photo-alignment polymer on the substrate

공정 (3): 배향막 상에 중합성 액정을 포함하는 조성물을 더 도포하여, 도포막을 형성하는 공정Process (3): The process of further apply | coating the composition containing a polymeric liquid crystal on an oriented film, and forming a coating film.

공정 (4): 도포막 중의 중합성 액정을 중합시켜 광학 필름을 형성하는 공정.Step (4): A step of polymerizing the polymerizable liquid crystal in the coating film to form an optical film.

본 발명의 기재는 밀착성이 우수하며, 그 때문에, 가공시에 박리가 쉽게 일어나지 않는 광학 필름을 제공할 수 있다.The base material of this invention is excellent in adhesiveness, and can therefore provide the optical film which does not produce peeling easily at the time of processing.

도 1은 본 발명에 따른 편광판의 일례를 도시한 단면 모식도이다.
도 2는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 일례를 도시한 단면 모식도이다.
도 3은 본 발명에 따른 유기 EL 표시 장치의 일례를 도시한 단면 모식도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a polarizing plate according to the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a liquid crystal display device according to the present invention.
3 is a cross-sectional schematic diagram showing an example of an organic EL display device according to the present invention.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명을 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated, referring drawings.

<본 발명의 제1 기재><1st description of this invention>

본 발명의 제1 기재는 표면 질소 존재 비율이 0.1∼1 atom%인 기재이다.The 1st base material of this invention is a base material whose surface nitrogen presence ratio is 0.1-1 atom%.

기재의 밀착성의 관점에서, 제1 기재의 표면 탄소 존재 비율이 55∼70 atom%인 것이 바람직하고, 제1 기재의 표면 산소 존재 비율이 30∼45 atom%인 것이 바람직하다.From the viewpoint of the adhesion of the substrate, the surface carbon abundance ratio of the first substrate is preferably 55 to 70 atom%, and the surface oxygen abundance ratio of the first substrate is preferably 30 to 45 atom%.

표면 질소 존재 비율이 0.1∼1 atom%이고, 표면 탄소 존재 비율이 54.9∼70 atom%이며, 표면 산소 존재 비율이 29∼45 atom%인 기재가 보다 바람직하다. 단, 이들 표면 원소 존재 비율의 합은 100을 넘지 않는다.The base material whose surface nitrogen present ratio is 0.1-1 atom%, the surface carbon present rate is 54.9-70 atom%, and surface oxygen present rate is 29-45 atom% is more preferable. However, the sum of these surface element abundances does not exceed 100.

표면 질소 존재 비율, 표면 탄소 존재 비율 및 표면 산소 존재 비율은, X선 광전자 분광 분석법(XPS)에 의해 기재의 표면을 분석함으로써 측정할 수 있다.The surface nitrogen abundance ratio, surface carbon abundance ratio, and surface oxygen abundance ratio can be measured by analyzing the surface of a base material by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

이러한 기재는 예컨대 진공 하에 또는 대기압 하에서, 플라즈마로 기재의 표면을 처리하는 방법, 기재 표면을 레이저 처리하는 방법, 기재 표면을 오존 처리하는 방법, 기재 표면을 비누화 처리하는 방법 또는 기재 표면을 화염 처리하는 방법에 의해 조제할 수 있다. 또한, 수산기 또는 그 전구기를 갖지 않는 재료로 이루어진 필름을 준비하여, 이 필름 표면에 커플링제를 도포하는 프라이머 처리 방법이나 수산기를 갖는 모노머나 수산기를 갖는 폴리머를 기재 표면에 부착시킨 후, 방사선, 플라즈마 또는 자외선을 조사하여 반응시키는 그라프트 중합법에 의해 조제할 수도 있다. 그 중에서도 진공 하에서나 대기압 하에서 기재 표면을 플라즈마 처리하는 방법이 바람직하다. Such substrates may be treated by, for example, vacuum or under atmospheric pressure, a method of treating the surface of the substrate with plasma, a method of laser treating the substrate surface, a method of ozone treating the substrate surface, a method of saponifying the substrate surface, or a flame treatment of the substrate surface. It can prepare by the method. Furthermore, after preparing the film which consists of a material which does not have a hydroxyl group or its precursor group, and adheres to the surface of a base material the primer processing method which apply | coates a coupling agent to this film surface, or attaches the monomer which has a hydroxyl group, or the polymer which has a hydroxyl group to the surface of a base material, Or it may prepare by the graft polymerization method which irradiates and reacts with an ultraviolet-ray. Especially, the method of plasma-processing the surface of a base material under vacuum or atmospheric pressure is preferable.

플라즈마로 기재의 표면 처리를 행하는 방법으로서는,As a method of surface-treating a substrate with plasma,

대기압 근방의 압력 하에서, 대향된 전극 사이에 기재를 설치하고, 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법,A method of providing a substrate between opposing electrodes under a pressure near atmospheric pressure, generating a plasma, and subjecting the substrate to surface treatment;

대향된 전극 사이에 가스를 흐르게 하여, 전극 사이에서 가스를 플라즈마화하고, 플라즈마화된 가스를 기재에 분사하는 방법, 및A method of causing a gas to flow between opposed electrodes, thereby plasmalizing the gas between the electrodes, and spraying the plasmated gas onto the substrate, and

저압 조건 하에서, 글로 방전 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법을 들 수 있다.The low discharge conditions generate | occur | produce a glow discharge plasma, and the method of surface-treating a base material is mentioned.

그 중에서도, 대기압 근방의 압력 하에서, 대향된 전극 사이에 기재를 설치하고, 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법, 또는, 대향된 전극 사이에 가스를 흐르게 하여, 전극 사이에서 가스를 플라즈마화하고, 플라즈마화된 가스를 기재에 분사하는 방법이 바람직하다. 이러한 플라즈마에 의한 표면 처리는 통상 시판되는 플라즈마 표면 처리 장치에 의해 행해진다.Among them, a method of placing a substrate between opposed electrodes under a pressure near atmospheric pressure, generating a plasma to perform surface treatment of the substrate, or allowing gas to flow between the opposed electrodes, thereby allowing gas to flow between the electrodes. And a method of injecting the plasmaized gas into the substrate is preferred. Surface treatment with such plasma is usually performed by a commercially available plasma surface treatment apparatus.

특히, 질소 및 산소를 포함하는 분위기 하에서, 200 mJ/㎠ 이하의 에너지로, 기재의 표면을 플라즈마 처리함으로써 조제되는 기재가 바람직하다. 기재를 표면 처리할 때의 처리 에너지는, 플라즈마를 발생시킬 때의 전력, 전극의 방전 폭 및 기재의 라인 속도로부터 산출할 수 있다. 기재의 밀착성이라는 관점에서, 기재를 120 mJ/㎠ 이하의 에너지로 처리하는 것이 바람직하고, 100 mJ/㎠ 이하의 에너지로 처리하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 기재를 30 mJ/㎠ 이상의 에너지로 처리하는 것이 바람직하다. In particular, a substrate prepared by plasma-treating the surface of the substrate with an energy of 200 mJ / cm 2 or less under an atmosphere containing nitrogen and oxygen is preferable. The processing energy at the time of surface treatment of a base material can be computed from the electric power at the time of generating a plasma, the discharge width of an electrode, and the line speed of a base material. From the viewpoint of the adhesion of the substrate, it is preferable to treat the substrate with energy of 120 mJ / cm 2 or less, and more preferably to treat the energy with energy of 100 mJ / cm 2 or less. Moreover, it is preferable to process a base material with energy of 30 mJ / cm <2> or more.

질소 및 산소를 포함하는 분위기 중의 질소에 대한 산소의 체적 함유비(산소:질소)는 0.01:99.99∼15:85가 바람직하고, 0.05:99.95∼10:90이 보다 바람직하며, 0.05:99.95∼5:95가 더욱 바람직하고, 0.05:99.95∼1:99가 특히 바람직하다.As for the volume content ratio (oxygen: nitrogen) of oxygen with respect to nitrogen in the atmosphere containing nitrogen and oxygen, 0.01: 99.99-15: 85 are preferable, 0.05: 99.95-10: 90 are more preferable, 0.05: 99.95-5 : 95 is more preferable, and 0.05: 99.95-1: 99 are especially preferable.

<본 발명의 제2 기재><2nd description of this invention>

본 발명의 제2 기재는, 질소 및 산소를 포함하는 분위기 하에서, 플라즈마로 표면 처리된 기재로서, 200 mJ/㎠ 이하의 에너지로 표면 처리된 기재이다.The 2nd base material of this invention is a base material surface-treated with plasma in the atmosphere containing nitrogen and oxygen, and is the surface-treated with the energy of 200 mJ / cm <2> or less.

질소 및 산소를 포함하는 분위기 중의 질소에 대한 산소의 체적 함유비(산소:질소)는 0.01:99.99∼15:85가 바람직하고, 0.05:99.95∼10:90이 보다 바람직하며, 0.05:99.95∼5:95가 더욱 바람직하고, 0.05:99.95∼1:99가 특히 바람직하다.As for the volume content ratio (oxygen: nitrogen) of oxygen with respect to nitrogen in the atmosphere containing nitrogen and oxygen, 0.01: 99.99-15: 85 are preferable, 0.05: 99.95-10: 90 are more preferable, 0.05: 99.95-5 : 95 is more preferable, and 0.05: 99.95-1: 99 are especially preferable.

플라즈마로 기재의 표면 처리를 행하는 방법으로는, <본 발명의 제1 기재>에 있어서 설명한 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.As a method of performing surface treatment of a base material by plasma, the method similar to the method demonstrated in <the 1st base material of this invention> is mentioned.

제2 기재는 200 mJ/㎠ 이하의 에너지로 표면 처리된다. 처리 에너지는, 플라즈마를 발생시킬 때의 전력, 전극의 방전 폭 및 기재의 라인 속도부터 산출할 수 있다. 기재의 밀착성의 관점에서, 기재를 120 mJ/㎠ 이하의 에너지로 처리하는 것이 바람직하고, 100 mJ/㎠ 이하의 에너지로 처리하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 기재를 30 mJ/㎠ 이상의 에너지로 처리하는 것이 바람직하다.The second substrate is surface treated with an energy of 200 mJ / cm 2 or less. The processing energy can be calculated from the power at the time of generating the plasma, the discharge width of the electrode, and the line speed of the substrate. From the viewpoint of the adhesion of the substrate, the substrate is preferably treated with energy of 120 mJ / cm 2 or less, and more preferably treated with energy of 100 mJ / cm 2 or less. Moreover, it is preferable to process a base material with energy of 30 mJ / cm <2> or more.

<본 발명의 제1 기재 및 본 발명의 제2 기재><1st description of this invention and 2nd description of this invention>

이하, 본 발명의 제1 기재 및 본 발명의 제2 기재를 총칭하여 「기재」라고 하는 경우가 있다.Hereinafter, the 1st base material of this invention and the 2nd base material of this invention may be collectively called "base material."

기재에는 통상 투명 기재가 이용된다. 투명 기재란, 빛, 특히 가시광을 투과할 수 있는 투광성을 갖는 기재를 의미하며, 투광성이란, 파장 380∼780 ㎚에 걸친 광선에 대한 투과율이 80% 이상이 되는 특성을 말한다. 구체적인 투명 기재로서는 유리 및 투광성 수지 기재를 들 수 있고, 투광성 수지 기재가 바람직하다. 기재는 통상 필름형인 것이 이용된다.As the substrate, a transparent substrate is usually used. A transparent base material means the base material which can transmit light, especially visible light, and the light transmittance means the characteristic that the transmittance | permeability with respect to the light ray over wavelength 380-780 nm becomes 80% or more. As a specific transparent base material, glass and a translucent resin base material are mentioned, A translucent resin base material is preferable. As a base material, a film type is used normally.

투광성 수지 기재를 구성하는 수지로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌술피드; 및 폴리페닐렌옥사이드를 들 수 있다. 그 중에서도, 트리아세틸셀룰로오스가 바람직하다. 트리아세틸셀룰로오스는 비누화한 트리아세틸셀룰로오스와 비누화하지 않은 트리아세틸셀룰로오스를 포함한다. 기재는 비누화한 트리아세틸셀룰로오스 필름인 것이 바람직하다.As resin which comprises a translucent resin base material, Polyolefin, such as polyethylene, a polypropylene, norbornene-type polymer; Polyvinyl alcohol; Polyethylene terephthalate; Polymethacrylic acid ester; Polyacrylic acid ester; Cellulose esters; Polyethylene naphthalate; Polycarbonate; Polysulfones; Polyether sulfone; Polyether ketones; Polyphenylene sulfide; And polyphenylene oxides. Especially, triacetyl cellulose is preferable. Triacetyl cellulose includes saponified triacetyl cellulose and unsaponified triacetyl cellulose. It is preferable that a base material is a saponified triacetyl cellulose film.

<본 발명의 적층체><Laminated body of the present invention>

본 발명의 적층체는, 본 발명의 기재의 표면에 배향막이 형성되어 있다. 배향막은 한정되지 않지만, 후술하는 광학 이방성층을 형성하기 위한 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않을 정도의 용제 내성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 용제 제거 등의 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 배향막으로서는 배향성 폴리머로 형성된 배향막을 들 수 있고, 광배향성 폴리머로 형성된 배향막이 바람직하다.In the laminated body of this invention, the alignment film is formed in the surface of the base material of this invention. Although the oriented film is not limited, It is preferable to have solvent tolerance of the grade which does not melt | dissolve by application | coating of the composition for forming the optically anisotropic layer mentioned later, etc. Moreover, it is preferable to have heat resistance in heat processing, such as solvent removal. Examples of such an alignment film include an alignment film formed of an alignment polymer, and an alignment film formed of a photoalignable polymer is preferable.

배향막에 배향 규제력을 부여하는 방법으로는 러빙에 의한 방법을 들 수 있다. 또한, 광배향성 폴리머로 형성된 배향막의 경우는 편광을 조사하는 방법도 들 수 있다.The method by rubbing is mentioned as a method of providing an orientation regulation force to an alignment film. Moreover, in the case of the orientation film formed from the photo-alignment polymer, the method of irradiating polarization is also mentioned.

광배향성 폴리머로서는 감광성 구조를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 감광성 구조를 갖는 광배향성 폴리머에 편광을 조사하면, 조사된 부분의 감광성 구조가 이성화 또는 가교가 일어나고, 이에 의해, 광배향성 폴리머가 배향하여, 배향 규제력이 부여된 배향막을 얻을 수 있다.As a photo-alignment polymer, the polymer which has a photosensitive structure is mentioned. When polarized light is irradiated to the photo-alignment polymer which has a photosensitive structure, the photosensitive structure of the irradiated part will be isomerized or bridge | crosslinked, by which the photo-alignment polymer is orientated and the orientation film to which the orientation regulation force was provided can be obtained.

감광성 구조로서는 아조벤젠 구조, 말레이미드 구조, 칼콘 구조, 계피산 구조, 1,2-비닐렌 구조, 1,2-아세틸렌 구조, 스피로피란 구조, 스피로벤조피란 구조 및 풀기드 구조를 들 수 있다. 2종 이상의 감광성 구조를 갖는 폴리머를 조합하여 이용하여도 좋다. 광배향성 폴리머는, 1종 이상의 감광성 구조를 갖는 단량체를, 탈수, 탈아민 등에 의한 중축합이나 라디칼 중합, 음이온 중합, 양이온 중합 등의 연쇄 중합, 배위 중합 또는 개환 중합시킴으로써 얻을 수 있다.Examples of the photosensitive structure include an azobenzene structure, a maleimide structure, a chalcone structure, a cinnamic acid structure, a 1,2-vinylene structure, a 1,2-acetylene structure, a spiropyran structure, a spirobenzopyran structure, and a full gid structure. You may use combining the polymer which has 2 or more types of photosensitive structures. The photo-orientable polymer can be obtained by subjecting a monomer having at least one photosensitive structure to chain polymerization, coordination polymerization or ring-opening polymerization such as polycondensation, radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization by dehydration, deamine, or the like.

광배향성 폴리머로서는, 일본 특허 제4450261호, 일본 특허 제4011652호, 일본 특허 공개 제2010-49230호 공보, 일본 특허 제4404090호, 일본 특허 공개 제2007-156439호 공보 및 일본 특허 공개 제2007-232934호 공보에 기재된 광배향성 폴리머를 들 수 있다.As a photo-orientation polymer, Unexamined-Japanese-Patent No. 4450261, Unexamined-Japanese-Patent No. 4011652, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-49230, Unexamined-Japanese-Patent No. 4404090, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-156439, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-232934 The photo-alignment polymer as described in a publication is mentioned.

광배향성 폴리머로서는, 후술하는 광학 이방성층 형성시의 내구성의 관점에서, 광조사에 의해 가교 구조를 형성하는 폴리머인 것이 바람직하다.As a photo-alignment polymer, it is preferable that it is a polymer which forms a crosslinked structure by light irradiation from a viewpoint of the durability at the time of forming the optically anisotropic layer mentioned later.

배향막은 통상 배향성 폴리머(바람직하게는 광배향성 폴리머)를 포함하는 조성물을 본 발명의 제1 기재의 표면 질소 존재 비율이 0.1∼1 atom%인 면, 또는, 본 발명의 제2 기재의 플라즈마로 표면 처리된 면에 도포함으로써 형성되며, 상기 조성물에 있어서의 광배향성 폴리머의 함유량은 조성물의 총 질량에 대하여 0.1∼30 질량%가 바람직하고, 0.2∼15 질량%가 보다 바람직하다.The alignment film is usually a surface containing a composition containing an orientation polymer (preferably a photo-alignment polymer) with a surface having a surface nitrogen present ratio of 0.1 to 1 atom% of the first substrate of the present invention or a plasma of the second substrate of the present invention. It is formed by apply | coating to the process surface, 0.1-30 mass% is preferable with respect to the gross mass of a composition, and, as for content of the photo-alignment polymer in the said composition, 0.2-15 mass% is more preferable.

광배향성 폴리머를 포함하는 조성물은 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 용제는 광배향성 폴리머의 종류 등에 따라 적절하게 선택할 수 있는데, 물; 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-헵타논, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 2종 이상의 용제를 조합하여 이용하여도 좋다.It is preferable that the composition containing a photo-alignment polymer contains a solvent. The solvent can be appropriately selected depending on the kind of the photo-alignment polymer and the like, and water; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; And chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. You may use combining 2 or more types of solvents.

광배향성 폴리머를 포함하는 조성물은 첨가제를 포함하여도 좋다. 첨가제로서는, 후술하는 광학 이방성층과의 밀착성 향상이나 상기 조성물의 점도 조정의 관점에서, 그 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 것이 바람직하다. "활성수소 반응성 기"란, 카르복실기(-COOH), 수산기(-OH), 아미노기(-NH2) 등의 활성 수소를 갖는 기에 대하여 반응성을 갖는 기를 의미하며, 구체적으로는 글리시딜기, 옥사졸린기, 카르보디이미드기, 아지리딘기, 이미드기, 이소시아네이토기, 티오이소시아네이토기 및 무수 말레산기를 들 수 있다. 첨가제가 갖는 탄소-탄소 불포화 결합의 개수는 1∼20개가 바람직하고, 1∼10개가 보다 바람직하다. 첨가제가 갖는 활성 수소 반응성 기의 개수는 1∼20개가 바람직하고, 1∼10개가 보다 바람직하다.The composition containing the photo-alignment polymer may include an additive. As an additive, it is preferable to have a carbon-carbon unsaturated bond and an active hydrogen reactive group in the molecule | numerator from a viewpoint of adhesive improvement with the optically anisotropic layer mentioned later and viscosity adjustment of the said composition. "Active hydrogen reactive group" means a group having a reactivity with a group having active hydrogen such as carboxyl group (-COOH), hydroxyl group (-OH), amino group (-NH 2 ), and specifically, glycidyl group, oxazoline A group, a carbodiimide group, an aziridine group, an imide group, an isocyanato group, a thioisocyanato group, and a maleic anhydride group are mentioned. 1-20 are preferable and, as for the number of carbon-carbon unsaturated bonds which an additive has, 1-10 are more preferable. 1-20 are preferable and, as for the number of the active hydrogen reactive groups which an additive has, 1-10 are more preferable.

첨가제는 활성 수소 반응성 기를 적어도 2개 갖는 것이 바람직하고, 활성 수소 반응성 기는 동일하여도 좋고, 상이하여도 좋다.The additive preferably has at least two active hydrogen reactive groups, and the active hydrogen reactive groups may be the same or different.

첨가제가 갖는 탄소-탄소 불포화 결합은 탄소-탄소 이중 결합이어도 좋고, 탄소-탄소 삼중 결합이어도 좋지만, 탄소-탄소 이중 결합이 바람직하다. 비닐기 및/또는 (메트)아크릴기를 포함하는 첨가제가 바람직하다. 활성 수소 반응성 기가 에폭시기, 글리시딜기 및 이소시아네이토기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 첨가제가 바람직하고, 아크릴기와 이소시아네이토기를 갖는 첨가제가 보다 바람직하다.Although the carbon-carbon unsaturated bond which the additive has may be a carbon-carbon double bond or a carbon-carbon triple bond, a carbon-carbon double bond is preferable. Additives containing vinyl groups and / or (meth) acryl groups are preferred. The additive whose active hydrogen reactive group is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an epoxy group, a glycidyl group, and an isocyanato group is preferable, and the additive which has an acryl group and an isocyanato group is more preferable.

첨가제의 구체예로서는 메타크릴옥시글리시딜에테르나 아크릴옥시글리시딜에테르 등의, (메트)아크릴기와 에폭시기를 갖는 화합물; 옥세탄아크릴레이트나 옥세탄메타크릴레이트 등의, (메트)아크릴기와 옥세탄기를 갖는 화합물; 락톤아크릴레이트나 락톤메타크릴레이트 등의, (메트)아크릴기와 락톤기를 갖는 화합물; 비닐옥사졸린이나 이소프로페닐옥사졸린 등의, 비닐기와 옥사졸린기를 갖는 화합물; 이소시아네이토메틸아크릴레이트, 이소시아네이토메틸메타크릴레이트, 2-이소시아네이토에틸아크릴레이트, 2-이소시아네이토에틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 이소시아네이토기를 갖는 화합물의 올리고머를 들 수 있다. 또한, 메타크릴산 무수물, 아크릴산 무수물, 무수 말레산, 비닐 무수 말레산 등의, 비닐기나 비닐렌기와 산무수물 구조를 갖는 화합물도 들 수 있다. 그 중에서도, 메타크릴옥시글리시딜에테르, 아크릴옥시글리시딜에테르, 이소시아네이토메틸아크릴레이트, 이소시아네이토메틸메타크릴레이트, 비닐옥사졸린, 2-이소시아네이토에틸아크릴레에트, 2-이소시아네이토에틸메타크릴레이트 및 이들의 올리고머가 바람직하고, 이소시아네이토메틸아크릴레이트, 2-이소시아네이토에틸아크릴레이트 및 이들의 올리고머가 보다 바람직하다.As a specific example of an additive, The compound which has a (meth) acryl group and epoxy groups, such as methacryloxyglycidyl ether and acryloxyglycidyl ether; Compounds having a (meth) acryl group and an oxetane group, such as oxetane acrylate and oxetane methacrylate; Compounds having a (meth) acryl group and a lactone group, such as lactone acrylate and lactone methacrylate; Compounds having a vinyl group and an oxazoline group such as vinyl oxazoline and isopropenyl oxazoline; Having a (meth) acryl group, such as isocyanatomethyl acrylate, isocyanatomethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, and 2-isocyanatoethyl methacrylate, isocyanate group Oligomers of the compounds. Moreover, the compound which has a vinyl group, a vinylene group, and an acid anhydride structure, such as methacrylic anhydride, acrylic anhydride, maleic anhydride, and a vinyl maleic anhydride, is also mentioned. Above all, methacryloxyglycidyl ether, acryloxyglycidyl ether, isocyanatomethyl acrylate, isocyanatomethyl methacrylate, vinyl oxazoline, 2-isocyanatoethyl acrylate, 2- Isocyanatoethyl methacrylate and oligomers thereof are preferable, and isocyanatomethyl acrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate and oligomers thereof are more preferable.

이소시아네이토기를 갖는 첨가제의 구체예로서는 하기 화학식 (1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As a specific example of the additive which has an isocyanato group, the compound represented by following General formula (1) is mentioned.

Figure pat00001
Figure pat00001

[상기 화학식 (1)에서,[In Formula (1),

n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 혹은 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 5∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2는 한쪽이 -NH-이고, 다른 쪽이n represents the integer of 1-10, R <1> represents a C2-C20 divalent aliphatic or alicyclic hydrocarbon group, or a C5-C20 divalent aromatic hydrocarbon group. The two R 2 in each repeating unit are -NH- on one side and the other on

Figure pat00002
Figure pat00002

로 표시되는 기이다. R3은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다. 단, 화학식 (1)에서의 R3 중, 적어도 하나의 R3은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]Is represented by. R 3 represents a group having a hydroxyl group or a carbon-carbon unsaturated bond. However, R 3 of at least one of R 3 in the general formula (1) is a carbon, a group having a carbon unsaturated bond.

그 중에서도 하기 화학식 (2)로 표시되는 화합물이 보다 바람직하다.Especially, the compound represented by following General formula (2) is more preferable.

Figure pat00003
Figure pat00003

[상기 화학식 (2)에서, n은 1∼10의 정수를 나타낸다.][In Formula (2), n represents an integer of 1 to 10.]

화학식 (2)로 표시되는 화합물은 Laromer(등록상표) LR-9000(BASF사 제조) 등의 시판 제품을 그대로 이용하여도 좋고, 필요에 따라 정제한 후에 이용하여도 좋다.The compound represented by General formula (2) may use a commercial item, such as Laromer (trademark) LR-9000 (made by BASF Corporation) as it is, and may be used after refine | purifying as needed.

광배향성 폴리머를 포함하는 조성물 중의 첨가제의 함유량은 그 조성물의 총 질량에 대하여 0.01∼10 질량%의 범위가 바람직하고, 0.02∼5 질량%의 범위가 보다 바람직하다. 상기 범위 내라면, 조성물 중의 광배향성 폴리머의 반응성을 저하시키는 일이 없다.As for content of the additive in the composition containing a photo-alignment polymer, the range of 0.01-10 mass% is preferable with respect to the gross mass of the composition, and the range of 0.02-5 mass% is more preferable. If it is in the said range, it will not reduce the reactivity of the photo-alignment polymer in a composition.

광배향성 폴리머를 포함하는 조성물을 상기 기재 상에 도포하고, 얻어진 도포막을 건조시키기 전에 또는 건조시킨 후에 편광 조사함으로써 본 발명의 적층체를 제작할 수 있다. 기재 상에 상기 조성물을 도포하는 방법으로서는 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP(캡) 코팅법, 다이 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 스핀 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 롤투롤(Roll to Roll) 형식으로 연속적으로 기재 상에 조성물을 도포할 수 있다는 점에서, CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법이 바람직하다.The laminated body of this invention can be produced by apply | coating the composition containing a photo-alignment polymer on the said base material, and irradiating polarized light before drying or after drying the obtained coating film. As a method for applying the composition on the substrate, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, CAP (cap) coating, die coating, inkjet, dip coating, slit coating, spin coating, and The coating method by a bar coater is mentioned. Among them, the composition can be continuously applied to the substrate in a roll to roll format, and thus, the coating is applied by the CAP coating method, the inkjet method, the dip coating method, the slit coating method, the die coating method, and the bar coater. The method is preferred.

기재 상의 도포막을 건조시킴으로써, 도포막에 포함되는 용제 등의 저비점 성분이 제거된다.By drying the coating film on a base material, low boiling point components, such as a solvent contained in a coating film, are removed.

건조 방법으로서는 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있다. 건조 온도는 10℃∼250℃가 바람직하고, 25℃∼200℃가 보다 바람직하다. 건조 시간은 용제의 종류에 따라 다르기도 하지만, 5초간∼60분간이 바람직하고, 10초간∼30분간이 보다 바람직하다.As a drying method, natural drying, ventilation drying, heat drying, reduced pressure drying, and the method of combining these are mentioned. 10 to 250 degreeC is preferable and 25 to 200 degreeC of drying temperature is more preferable. Although drying time changes with kinds of solvent, 5 second-60 minutes are preferable, and 10 second-30 minutes are more preferable.

편광 조사는 예컨대 일본 특허 공개 제2006-323060호 공보에 기재된 장치를 이용하여 행할 수 있다. 또한, 형성된 도포막 상에서, 원하는 복수 영역에 대응한 포토마스크를 통해 해당 영역마다 직선 편광 자외선 등의 편광의 조사를 반복하여 행함으로써, 패턴화 배향막을 형성할 수도 있다. 포토마스크로서는 통상 석영 유리, 소다석회 유리 또는 폴리에스테르 등의 필름 상에 차광 패턴을 형성한 것이 이용된다. 차광 패턴으로 덮여 있는 부분은 노광되는 빛이 차단되고, 덮여 있지 않은 부분은 노광되는 빛이 투과된다. 열팽창의 영향이 작다고 하는 점에서, 석영 유리가 바람직하다. 광배향성 폴리머의 반응성이라는 점에서, 조사하는 빛은 자외선인 것이 바람직하다.Polarized light irradiation can be performed using the apparatus of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-323060, for example. Moreover, a patterned alignment film can also be formed on the formed coating film by repeatedly irradiating polarized light, such as linearly polarized ultraviolet-ray, for every said area | region through the photomask corresponding to desired multiple area | region. As a photomask, what formed the light shielding pattern on films, such as quartz glass, soda-lime glass, or polyester, is used normally. The portion exposed to the light shielding pattern is blocked from being exposed to light, and the portion not covered is transmitted to the exposed light. Quartz glass is preferable at the point that the influence of thermal expansion is small. In view of the reactivity of the photo-alignment polymer, the light to be irradiated is preferably ultraviolet light.

패턴화 배향막을 포함하는 적층체는 예컨대 하기의 방법에 의해 제작할 수 있다.The laminated body containing a patterned alignment film can be produced, for example by the following method.

(1) 기재 상에 형성된 도포막에, 제1 패턴 영역에 대응한 공극부를 갖는 제1 포토마스크를 통해 제1 편광 방향을 갖는 제1 편광을 조사한다(제1 편광 조사). 제1 편광 조사에 의해 상기 제1 편광 방향에 대응하는 배향 규제력이 부여된 제1 패턴 영역이 형성된다.(1) The 1st polarization which has a 1st polarization direction is irradiated to the coating film formed on the base material through the 1st photomask which has a space | gap part corresponding to a 1st pattern area | region (1st polarization irradiation). The first pattern region to which the alignment regulating force corresponding to the first polarization direction is applied is formed by the first polarization irradiation.

(2) 제2 패턴 영역에 대응한 공극부를 갖는 제2 포토마스크를 통해 상기 제1 편광 방향과는 상이한 편광 방향(예컨대, 제1 편광 방향에 대하여 수직인 방향)을 갖는 제2 편광을 조사한다(제2 편광 조사). 제2 편광 조사에 의해 상기 제2 편광 방향에 대응하는 배향 규제력이 부여된 제2 패턴 영역이 형성된다.(2) A second polarized light having a polarization direction different from the first polarization direction (eg, a direction perpendicular to the first polarization direction) is irradiated through a second photomask having a gap portion corresponding to the second pattern region. (2nd polarization irradiation). By the second polarization irradiation, a second pattern region to which an alignment regulating force corresponding to the second polarization direction is applied is formed.

상기 (1) 및 (2)의 공정을 1회 이상 행함으로써, 서로 배향 규제력의 방향이 상이한 2 이상의 패턴 영역을 갖는 패턴화 배향막을 포함하는 적층체를 얻을 수 있다.By performing the process of said (1) and (2) one or more times, the laminated body containing the patterned alignment film which has two or more pattern areas from which the direction of an orientation regulation force mutually differs can be obtained.

배향막의 막 두께는 통상 10 ㎚∼10000 ㎚이며, 바람직하게는 10 ㎚∼1000 ㎚이다.The film thickness of the alignment film is usually 10 nm to 10000 nm, preferably 10 nm to 1000 nm.

본 발명의 적층체는 높은 밀착성을 갖는 기재를 포함하기 때문에, 배향막의 기재로부터의 박리를 억제할 수 있다. 밀착성의 평가는 JIS-K5600에 따른 밀착성 시험으로 행할 수 있다. 예컨대, 코텍 가부시키가이샤 제조 크로스컷 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 ㎜ 간격, 25 매스용) 등의 시판되는 장치를 이용하여 밀착성 시험을 행하면 된다. 예컨대, 코텍 가부시키가이샤 제조 크로스컷 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 ㎜ 간격, 25 매스용)를 이용하여, 본 발명 적층체의 밀착성 시험을 행하면, 배향막이 기재로부터 박리되지 않고 유지되는 매스는 통상 25 매스 중 9 매스 이상이며, 면적 기준으로 배향막의 36% 이상이 기재로부터 박리되지 않는 상태로 유지된다. Since the laminated body of this invention contains the base material which has high adhesiveness, peeling from the base material of an oriented film can be suppressed. Evaluation of adhesiveness can be performed by the adhesive test according to JIS-K5600. For example, an adhesive test may be performed using commercially available apparatuses, such as Crosscut Guide I series (CCI-1, 1-mm spacing, for 25 masses) by KOTEC Corporation. For example, when the adhesion test of the laminate of the present invention is carried out using Kotec Co., Ltd. crosscut guide I series (CCI-1, 1 mm interval, for 25 masses), the mass of the alignment film is maintained without peeling from the substrate. Usually, it is 9 or more of 25 masses, and 36% or more of an oriented film is maintained in the state which does not peel from a base material on an area basis.

<본 발명의 광학 필름><Optical film of the present invention>

"광학 필름"이란, 빛을 투과할 수 있는 것으로, 굴절, 복굴절 등의 광학적인 기능을 갖는 필름을 의미한다. An "optical film" means a film which can transmit light and has an optical function such as refraction and birefringence.

본 발명의 광학 필름은 상기 적층체의 배향막 상에 광학 이방성층이 형성되어 있어, 위상차성을 발현하는 필름이다.The optical film of this invention is a film in which the optically anisotropic layer is formed on the orientation film of the said laminated body, and expresses phase difference.

광학 이방성층은 예컨대 액정 화합물을 배향시킴으로써 형성할 수 있다. 광학 이방성층의 형성에는 바람직하게는 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물이 이용된다. 액정 화합물로서는 중합성 액정이 바람직하다. 광학 이방성층 형성용 조성물은 2종 이상의 액정 화합물(바람직하게는 중합성 액정)을 포함하여도 좋다.An optically anisotropic layer can be formed, for example by orienting a liquid crystal compound. The formation of the optically anisotropic layer is preferably used for forming an optically anisotropic layer containing a liquid crystal compound. As a liquid crystal compound, a polymeric liquid crystal is preferable. The composition for optically anisotropic layer formation may contain 2 or more types of liquid crystal compounds (preferably polymeric liquid crystal).

중합성 액정으로서는 화학식 (X)로 표시되는 기를 포함하는 화합물[이하 「화합물 (X)」라고 하는 경우가 있음]을 들 수 있다.Examples of the polymerizable liquid crystal include a compound containing a group represented by the general formula (X) (hereinafter sometimes referred to as "compound (X)").

P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13- (X)

[상기 화학식 (X)에서, P11은 중합성 기를 나타낸다.[In Formula (X), P 11 represents a polymerizable group.

A11은 2가의 지환식 탄화수소기 또는 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 상기 2가의 지환식 탄화수소기 및 2가의 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 탄소수 1∼6의 알킬기 및 상기 탄소수 1∼6의 알콕시기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 좋다.A 11 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the bivalent alicyclic hydrocarbon group and the divalent aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, The hydrogen atom contained in the alkyl group of 6 and the said C1-C6 alkoxy group may be substituted by the fluorine atom.

B11은 -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R16은 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.B 11 is -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 16- , -NR 16 -CO-, -CO-,- CS- or a single bond is shown. R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

B12 및 B13은 각각 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- 또는 단결합을 나타낸다.B 12 and B 13 are each independently -C≡C-, -CH = CH-, -CH 2 -CH 2- , -O-, -S-, -C (= O)-, -C (= O ) -O-, -OC (= O)-, -OC (= O) -O-, -CH = N-, -N = CH-, -N = N-, -C (= O) -NR 16 -, -NR 16 -C (= O ) -, -OCH 2 -, -OCF 2 -, -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH = CH-C (= O) -O-, - OC (= O) -CH = CH- or a single bond.

E11은 탄소수 1∼12의 알칸디일기를 나타내며, 이 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1∼5의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알콕시기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다. 또한, 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋다.]E <11> represents a C1-C12 alkanediyl group, the hydrogen atom contained in this alkanediyl group may be substituted by the C1-C5 alkoxy group, and the hydrogen atom contained in the said alkoxy group may be substituted by the halogen atom. . In addition, -CH 2 -constituting the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-.]

A11의 방향족 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 탄소수는 3∼18의 범위인 것이 바람직하고, 5∼12의 범위인 것이 보다 바람직하며, 5 또는 6인 것이 특히 바람직하다. A11로서는 시클로헥산-1,4-디일기, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.It is preferable that carbon number of the aromatic hydrocarbon group and alicyclic hydrocarbon group of A <11> is 3-18, It is more preferable that it is the range of 5-12, It is especially preferable that it is 5 or 6. As A 11, a cyclohexane-1,4-diyl group and a 1,4-phenylene group are preferable.

E11로서는 직쇄상의 탄소수 1∼12의 알칸디일기가 바람직하다. 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O-로 치환되어 있어도 좋다.E 11 as is preferred alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms in the straight. -CH 2 -constituting the alkanediyl group may be substituted with -O-.

구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기 및 도데칸-1,12-디일기 등의 탄소수 1∼12의 직쇄상 알칸디일기; -CH2-CH2-O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등을 들 수 있다.Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1, 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group and dodecane-1,12-di C1-C12 linear alkanediyl groups, such as a diary; -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2- , -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -and -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -and the like.

P11로 표시되는 중합성 기로서는 중합 반응성, 특히 광중합 반응성이 높다고 하는 점에서, 라디칼 중합성 기 또는 양이온 중합성 기가 바람직하고, 취급이 용이한데다 액정 화합물의 제조 자체도 용이하기 때문에, 중합성 기는 하기의 화학식 (P-11)∼화학식 (P-15)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.As the polymerizable group represented by P 11 , since the polymerization reactivity, in particular, the photopolymerization reactivity is high, a radical polymerizable group or a cationic polymerizable group is preferable, and since the handling is easy and the preparation of the liquid crystal compound is easy, the polymerizable group is It is preferable that it is group represented by the following general formula (P-11)-chemical formula (P-15).

Figure pat00004
Figure pat00004

[상기 화학식 (P-11)∼(P-15)에서,[In the above formulas (P-11) to (P-15),

R17∼R21은 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다.]R 17 to R 21 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydrogen atom.]

화학식 (P-11)∼(P-15)로 표시되는 기의 구체예로서는 하기 화학식 (P-16)∼(P-20)으로 표시되는 기를 들 수 있다.Specific examples of the group represented by the formulas (P-11) to (P-15) include groups represented by the following formulas (P-16) to (P-20).

Figure pat00005
Figure pat00005

P11은 화학식 (P-14)∼(P-20)으로 표시되는 기인 것이 바람직하고, 비닐기, p-스틸벤기, 에폭시기 또는 옥세타닐기가 보다 바람직하다.P 11 is preferably a group represented by the formulas (P-14) to (P-20), and more preferably a vinyl group, a p-stilbene group, an epoxy group, or an oxetanyl group.

P11-B11-로 표시되는 기가 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 더욱 바람직하다.More preferably, the group represented by P 11 -B 11 -is an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.

화합물 (X)로서는 화학식 (I), 화학식 (II), 화학식 (III), 화학식 (IV), 화학식 (V) 또는 화학식 (VI)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As compound (X), the compound represented by general formula (I), general formula (II), general formula (III), general formula (IV), general formula (V), or general formula (VI) is mentioned.

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13 -A 12 -B 14 -A 13 -B 15 -A 14 -B 16 -E 12 -B 17 -P 12 (I)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13 -A 12 -B 14 -A 13 -B 15 -A 14 -F 11 (II)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13 -A 12 -B 14 -A 13 -B 15 -E 12 -B 17 -P 12 (III)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13 -A 12 -B 14 -A 13 -F 11 (IV)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13 -A 12 -B 14 -E 12 -B 17 -P 12 (V)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)P 11 -B 11 -E 11 -B 12 -A 11 -B 13 -A 12 -F 11 (VI)

(상기 식에서,(Wherein

A12∼A14는 각각 독립적으로 A11과 동일하며, B14∼B16은 각각 독립적으로 B12와 동일하고, B17은 B11과 동일하며, E12는 E11과 동일하다.A 12 to A 14 are each independently the same as A 11 , B 14 to B 16 are each independently the same as B 12 , B 17 is the same as B 11, and E 12 is the same as E 11 .

F11은 수소 원자, 탄소수 1∼13의 알킬기, 탄소수 1∼13의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 히드록시기, 메틸올기, 포르밀기, 술포기(-SO3H), 카르복시기, 탄소수 1∼10의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2-는 -O-로 치환되어 있어도 좋다.)F 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a dimethylamino group, a hydroxyl group, a methylol group, a formyl group, a sulfo group (-SO 3 H ), A carboxy group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and -CH 2 -constituting the alkyl group and the alkoxy group may be substituted with -O-.

중합성 액정의 구체예로서는 액정편람(액정편람 편집위원회 지음, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보 및 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.As a specific example of a polymeric liquid crystal, "3.8.6 network (complete crosslinking type)" of the liquid crystal handbook (written by the Liquid Crystal Handbook Editing Committee, issued October 30, 2000), "6.5.1 liquid crystal material b. A compound having a polymerizable group among the compounds described in "Polymerizable nematic liquid crystal material", Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-31223, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-270108, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-6360, and Japanese Patent Publication The polymeric liquid crystal compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-207765 is mentioned.

화합물 (X)의 구체예로서는 하기 화학식 (I-1)∼화학식 (I-4), 화학식 (II-1)∼화학식 (II-4), 화학식 (III-1)∼화학식 (III-26), 화학식 (IV-1)∼화학식 (IV-19), 화학식 (V-1)∼화학식 (V-2) 및 화학식 (VI-1)∼화학식 (VI-6)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 한편, 하기 화학식에서, k1 및 k2는 각각 독립적으로 2∼12의 정수를 나타낸다. 이들 화합물 (X)은 그 합성 용이성 또는 입수 용이성의 점에서 바람직하다.Specific examples of the compound (X) include the following general formulas (I-1) to (I-4), (II-1) to (II-4), (III-1) to (III-26), The compound represented by general formula (IV-1)-general formula (IV-19), general formula (V-1)-general formula (V-2), and general formula (VI-1)-general formula (VI-6) is mentioned. In the following formulae, k1 and k2 each independently represent an integer of 2 to 12. These compounds (X) are preferable at the point of the ease of synthesis or the availability.

Figure pat00006
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Figure pat00007
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Figure pat00008
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Figure pat00009
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Figure pat00010
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Figure pat00011
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Figure pat00013
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광학 이방성층 형성용 조성물은 상기 액정 화합물에 더하여, 중합개시제, 중합금지제, 광증감제, 레벨링제, 카이랄제, 용제 등을 포함하여도 좋다. 액정 화합물이 중합성 액정인 경우, 광학 이방성층 형성용 조성물은 중합개시제를 포함하는 것이 바람직하다.In addition to the said liquid crystal compound, the composition for optically anisotropic layer formation may contain a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a leveling agent, a chiral agent, a solvent, etc. When a liquid crystal compound is a polymeric liquid crystal, it is preferable that the composition for optically anisotropic layer formation contains a polymerization initiator.

[중합개시제][Polymerization Initiator]

중합개시제로서는 광중합개시제가 바람직하며, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 광중합개시제가 바람직하다.As a polymerization initiator, a photoinitiator is preferable and the photoinitiator which generate | occur | produces a radical by light irradiation is preferable.

광중합개시제로서는, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 벤질케탈 화합물, α-히드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 트리아진 화합물, 요오드늄염 및 술포늄염을 들 수 있다. 구체적으로는, 이르가큐어(Irgacure) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369(이상, 전부 치바·재팬 가부시키가이샤 제조), 세이크올 BZ, 세이크올 Z, 세이크올 BEE(이상, 전부 세이코가가쿠 가부시키가이샤 제조), 카야큐어(kayacure) BP100(닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조), 카야큐어 UVI-6992(다우사 제조), 아데카옵토마 SP-152, 아데카옵토마 SP-170(이상, 전부 가부시키가이샤 ADEKA 제조), TAZ-A, TAZ-PP(이상, 니혼시이벨헤그나사 제조) 및 TAZ-104(산와케미컬사 제조)를 들 수 있다.As a photoinitiator, a benzoin compound, a benzophenone compound, a benzyl ketal compound, the (alpha)-hydroxy ketone compound, the (alpha)-amino ketone compound, a triazine compound, an iodonium salt, and a sulfonium salt are mentioned. Specifically, Irgacure 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369 (all made by Chiba Japan Co., Ltd.), Sheikh All BZ, shake all Z, shake all BEE (all are manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.), Kayacure BP100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayacure UVI-6992 (manufactured by Dausa), Adeka Optoma SP-152, Adeka Optoma SP-170 (above, all manufactured by ADEKA), TAZ-A, TAZ-PP (above, manufactured by Nihon Seibel Heg Screw Co., Ltd.) and TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) ).

광학 이방성층 형성용 조성물 중의 중합개시제의 함유량은 그 광학 이방성층 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정(바람직하게는 화합물(X)) 100 질량부에 대하여 통상 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다. 상기 범위 내라면, 중합성 액정의 배향을 어지럽히는 일없이 중합성 액정을 중합시킬 수 있다.Content of the polymerization initiator in the composition for optically anisotropic layer formation is 0.1 mass part-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymerizable liquid crystals (preferably compound (X)) contained in the composition for optically anisotropic layer formation, Preferably Preferably it is 0.5 mass part-10 mass parts. Within this range, the polymerizable liquid crystal can be polymerized without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal.

[중합금지제][No Polymerization System]

광학 이방성층 형성용 조성물은 중합성 액정의 중합 반응을 컨트롤하기 위해서 중합금지제를 포함하고 있어도 좋다.The composition for optically anisotropic layer formation may contain the polymerization inhibitor in order to control the polymerization reaction of a polymeric liquid crystal.

중합금지제로서는 히드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 히드로퀴논류; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시 라디칼 등의 라디칼 보충제; 티오페놀류; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류를 들 수 있다.As a polymerization inhibitor, Hydroquinone which has substituents, such as hydroquinone and an alkyl ether; Catechols having substituents such as alkyl ethers such as butyl catechol; Radical supplements such as pyrogallols and 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radicals; Thiophenols; (beta) -naphthylamine and (beta) -naphthol are mentioned.

중합금지제를 이용함으로써, 형성되는 광학 이방성층의 안정성을 향상시킬 수 있다. 광학 이방성층 형성용 조성물에 있어서의 중합금지제의 함유량은 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다. 상기 범위 내라면, 중합성 액정의 배향을 어지럽히는 일없이 중합시킬 수 있다.By using a polymerization inhibitor, the stability of the optically anisotropic layer formed can be improved. Content of the polymerization inhibitor in the composition for optically anisotropic layer formation is 0.1 mass part-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystal compounds, Preferably they are 0.5 mass part-10 mass parts. If it is in the said range, it can superpose | polymerize without disturbing the orientation of a polymeric liquid crystal.

[광증감제][Photosensitizer]

광증감제로서는 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤류; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류; 페노티아진; 루브렌을 들 수 있다.As a photosensitizer, Xanthones, such as xanthone and thioxanthone; Anthracenes having substituents such as anthracene and alkyl ethers; Phenothiazine; Rubrene.

광증감제를 이용함으로써 중합성 액정의 중합을 고감도화할 수 있다. 광증감제의 함유량은 중합성 액정 100 질량부에 대하여 통상 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다.By using a photosensitizer, superposition | polymerization of a polymeric liquid crystal can be made highly sensitive. Content of a photosensitizer is 0.1 mass part-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals, Preferably they are 0.5 mass part-10 mass parts.

[레벨링제][Leveling Agent]

레벨링제로서는 유기 변성 실리콘 오일계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 구체적으로는 DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123[이상, 전부 도오레·다우코닝(주) 제조], KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001[이상, 전부 신에츠카가쿠고교(주) 제조], TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(이상, 전부 모멘티브 퍼포먼스 머트리얼즈 머티리얼즈 재팬 고도가이샤 제조), 플루오리너트(fluorinert)(등록상표) FC-72, 플루오리너트 FC-40, 플루오리너트 FC-43, 플루오리너트 FC-3283[이상, 전부 스미토모쓰리엠(주) 제조], 메가팍(등록상표) R-08, 메가팍 R-30, 메가팍 R-90, 메가팍 F-410, 메가팍 F-411, 메가팍 F-443, 메가팍 F-445, 메가팍 F-470, 메가팍 F-477, 메가팍 F-479, 메가팍 F-482, 메가팍 F-483[이상, 모두 DIC(주) 제조], 에프톱(상품명) EF301, 에프톱 EF303, 에프톱 EF351, 에프톱 EF352[이상, 전부 미쓰비시머티리얼덴시카세이(주) 제조], 서플론(등록상표) S-381, 서플론 S-382, 서플론 S-383, 서플론 S-393, 서플론 SC-101, 서플론 SC-105, KH-40, SA-100[이상, 전부 AGC 세이미케미컬(주) 제조], 상품명 E1830, 서플론 E5844[(주)다이킨파인케미컬겐큐쇼 제조], BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353, BYK-361N(모두 상품명: BMK Chemie사 제조)을 들 수 있다. 2종 이상의 레벨링제를 조합하여 이용하여도 좋다.Examples of the leveling agent include organic modified silicone oil, polyacrylate and perfluoroalkyl leveling agents. Specifically, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (above, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 , X22-161A, KF6001 (above, all manufactured by Shin-Etsukagaku Kogyo Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (above, all Momentary Performance Materials Japan Kogyo Co., Ltd.), fluorinert (registered trademark) FC-72, fluorine nut FC-40, fluorine nut FC-43, fluorine nut FC-3283 [above, all Sumitomo 3M Co., Ltd. Manufacture], Megapak (registered trademark) R-08, Megapak R-30, Megapak R-90, Megapak F-410, Megapak F-411, Megapak F-443, Megapak F-445, Mega Park F-470, Mega Park F-477, Mega Park F-479, Mega Park F-482, Mega Park F-483 (all manufactured by DIC Corporation), F Top (brand name) EF301, F Top EF303, F-top EF351, F-top EF352 [over all, Mitsubishi Materials Shikasei Co., Ltd.], Suplon (registered trademark) S-381, Suplon S-382, Suplon S-383, Suplon S-393, Suplon SC-101, Suplon SC-105, KH- 40, SA-100 [all, more than AGC Seiko Chemical Co., Ltd.], brand name E1830, Suflon E5844 [manufactured by Daikin Fine Chemical Co., Ltd.], BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 and BYK-361N (all are brand-name: BMK Chemie make) are mentioned. You may use combining 2 or more types of leveling agents.

레벨링제를 이용함으로써 보다 평활한 광학 이방성층을 형성할 수 있다. 또한, 광학 이방성층의 제조 과정에서, 광학 이방성층 형성용 조성물의 유동성을 제어하거나 광학 이방성층의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 레벨링제의 함유량은 중합성 액정 100 질량부에 대하여 통상 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.1 질량부∼10 질량부이다.By using a leveling agent, a smoother optically anisotropic layer can be formed. Moreover, in the manufacturing process of an optically anisotropic layer, the fluidity | liquidity of the composition for optically anisotropic layer formation can be controlled, or the crosslinking density of an optically anisotropic layer can be adjusted. Content of a leveling agent is 0.1 mass part-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals, Preferably they are 0.1 mass part-10 mass parts.

[카이랄제][Chiral agent]

카이랄제로서는 공지된 카이랄제(예컨대, 액정 디바이스 핸드북, 제3장 4-3항, TN, STN용 카이랄제, 199 페이지, 일본학술진흥회 제142 위원회 지음, 1989에 기재)를 들 수 있다.Examples of the chiral agent include known chiral agents (e.g., liquid crystal device handbook, Chapter 3, paragraphs 4-3, chiral agent for TN and STN, page 199, written by the Japan Academic Society Association 142 Committee, 1989). have.

카이랄제는 일반적으로 비대칭 탄소 원자를 포함하지만, 비대칭 탄소 원자를 포함하지 않는 축성 비대칭 화합물 혹은 면성 비대칭 화합물도 카이랄제로서 이용할 수 있다. 축성 비대칭 화합물 또는 면성 비대칭 화합물로서는 비나프틸, 헬리센, 파라시클로판 및 이들의 유도체를 들 수 있다.Chiral agents generally contain asymmetric carbon atoms, but axial asymmetric compounds or surface asymmetric compounds that do not contain asymmetric carbon atoms can also be used as chiral agents. Examples of the layered asymmetric compound or the surface asymmetric compound include vinaphthyl, helicene, paracyclophane and derivatives thereof.

구체적으로는 일본 특허 공개 제2007-269640호 공보, 일본 특허 공개 제2007-269639호 공보, 일본 특허 공개 제2007-176870호 공보, 일본 특허 공개 제2003-137887호 공보, 일본 특허 공표 제2000-515496호 공보, 일본 특허 공개 제2007-169178호 공보 및 일본 특허 공표 평성 제9-506088호 공보에 기재되어 있는 바와 같은 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 BASF 재팬(주) 제조의 paliocolor(등록상표) LC756이다.Specifically, Japanese Patent Publication No. 2007-269640, Japanese Patent Publication No. 2007-269639, Japanese Patent Publication No. 2007-176870, Japanese Patent Publication No. 2003-137887, Japanese Patent Publication No. 2000-515496 The compound as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-169178 and Unexamined-Japanese-Patent No. 9-506088 is mentioned, Preferably, paliocolor (trademark) of BASF Japan Co., Ltd. product is mentioned. LC756.

카이랄제를 이용하는 경우, 그 함유량은 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 1.0 질량부∼25 질량부이다. 상기 범위 내라면, 중합성 액정 화합물을 중합할 때에, 그 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히는 것을 보다 억제할 수 있다.When using a chiral agent, the content is 0.1 mass part-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystal compounds, Preferably they are 1.0 mass part-25 mass parts. If it is in the said range, when superposing | polymerizing a polymeric liquid crystal compound, it can suppress more disturbing the orientation of the polymeric liquid crystal compound.

[용제][solvent]

광학 이방성층 형성용 조성물은 광학 이방성층 제조의 조작성을 양호하게 하기 위해서 용제, 특히 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 유기 용제로서는 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 용제이며, 또한, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다. 구체적으로는 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 페놀 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 비염소화 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 비염소화 방향족 탄화수소 용제; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 2종 이상의 유기 용제를 조합하여 이용하여도 좋다. 그 중에서도, 알코올 용제, 에스테르 용제, 케톤 용제, 비염소화 지방족 탄화수소 용제 및 비염소화 방향족 탄화수소 용제가 바람직하다.It is preferable that the composition for optically anisotropic layer formation contains a solvent, especially an organic solvent, in order to make operability of manufacture of an optically anisotropic layer favorable. As an organic solvent, the organic solvent which can melt | dissolve the structural component of the composition for optically anisotropic layer formation, such as a polymeric liquid crystal compound, is preferable, and the solvent which can melt | dissolve the structural component of the composition for optically anisotropic layer formation, such as a polymeric liquid crystal compound. Moreover, the solvent which is inert to the polymerization reaction of a polymeric liquid crystal compound is more preferable. Specific examples include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and phenol; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone and methyl isobutyl ketone; Non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; And chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. You may use combining 2 or more types of organic solvents. Among them, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents and non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents are preferable.

광학 이방성층 형성용 조성물이 유기 용제를 포함하는 경우, 유기 용제의 함유량은 고형분 100 질량부에 대하여 10 질량부∼10000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 질량부∼5000 질량부이다. 광학 이방성층 형성용 조성물 중의 고형분 농도는 바람직하게는 2 질량%∼50 질량%이며, 보다 바람직하게는 5∼50 질량%이다. "고형분"이란, 광학 이방성층 형성용 조성물에서 용제를 제외한 성분의 합계를 의미한다.When the composition for optically anisotropic layer formation contains an organic solvent, 10 mass parts-10000 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of solid content, More preferably, they are 100 mass parts-5000 mass parts. Solid content concentration in the composition for optically anisotropic layer formation becomes like this. Preferably it is 2 mass%-50 mass%, More preferably, it is 5-50 mass%. "Solid content" means the sum total of the component except the solvent in the composition for optically anisotropic layer formation.

본 발명의 적층체의 배향막 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 도포함으로써 미중합 필름이 형성된다. 미중합 필름이 네마틱상 등의 액정상을 나타내는 경우, 모노도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다.An unpolymerized film is formed by apply | coating the composition for optically anisotropic layer formation on the oriented film of the laminated body of this invention. When an unpolymerized film shows liquid crystal phases, such as a nematic phase, it has birefringence by monodomain orientation.

광학 이방성층 형성용 조성물을 배향막 상에 도포하는 방법으로서는, 상기한 광배향성 폴리머를 포함하는 조성물의 도포 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 롤투롤 형식으로 연속적으로 배향막 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 도포할 수 있다는 점에서, CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법이 바람직하다. 롤투롤 형식으로 상기 조성물을 도포하는 경우, 상기 기재 상에 광배향성 폴리머를 포함하는 조성물을 도포하여, 상기 기재 상에 배향막을 형성하고, 또한 얻어진 배향막 상에 광학 이방성층을 형성하는 것을 연속적으로 실시할 수도 있다.As a method of apply | coating the composition for optically anisotropic layer forming on an oriented film, the method similar to the application | coating method of the composition containing said photo-alignment polymer is mentioned. Among them, the CAP coating method, the inkjet method, the dip coating method, the slit coating method, the die coating method and the bar coater are applied in that the composition for forming an optically anisotropic layer can be continuously applied on the alignment film in a roll-to-roll format. The method is preferred. In the case of applying the composition in a roll-to-roll form, a composition containing a photo-alignment polymer is applied on the substrate to form an alignment film on the substrate, and further, to form an optically anisotropic layer on the obtained alignment film. You may.

미중합 필름에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하여 경화시킴으로써, 광학 필름, 특히 위상차성을 갖는 필름을 얻을 수 있다. 이렇게 하여 얻어지는 광학 필름은 중합성 액정 화합물의 배향성이 고정화되어 있어, 열에 의한 복굴절 변화의 영향을 받기 어렵다.By superposing | polymerizing and hardening the polymeric liquid crystal compound contained in an unpolymerized film, the optical film, especially the film which has retardation property can be obtained. The optical film obtained in this way is fixed in the orientation of a polymeric liquid crystal compound, and it is hard to be influenced by the birefringence change by heat.

중합성 액정 화합물을 중합시키는 방법으로서는 광중합법이 바람직하다. 광중합법에 따르면, 저온에서 중합을 실시할 수 있기 때문에, 내열성의 점에서, 이용하는 기재의 선택 폭이 넓어진다. 광중합 반응은 미중합 필름에 가시광, 자외광 또는 레이저광을 조사함으로써 행해지며, 자외광이 바람직하다.As a method of polymerizing a polymerizable liquid crystal compound, a photopolymerization method is preferable. According to the photopolymerization method, since polymerization can be performed at a low temperature, the selection range of the substrate to be used is widened in terms of heat resistance. The photopolymerization reaction is carried out by irradiating the unpolymerized film with visible light, ultraviolet light or laser light, and ultraviolet light is preferable.

미중합 필름에 그대로 광조사를 행하여도 좋지만, 미중합 필름을 건조시켜, 그 미중합 필름으로부터 용제를 제거한 후, 광조사하는 것이 바람직하다. 건조(용제의 제거)는 중합 반응과 병행하여 행하여도 좋지만, 중합을 행하기 전에 대부분의 용제를 제거해 두는 것이 바람직하다. 용제의 제거 방법으로서는 상기한 배향막 형성시의 건조 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 자연 건조 또는 가열 건조가 바람직하다. 건조 온도는 0℃∼250℃의 범위가 바람직하고, 50℃∼220℃의 범위가 보다 바람직하며, 80℃∼170℃의 범위가 더욱 바람직하다. 건조 시간은 10초간∼60분간이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30초간∼30분간이다.Although light irradiation may be performed to the unpolymerized film as it is, it is preferable to irradiate light after drying a unpolymerized film and removing a solvent from the unpolymerized film. Although drying (solvent removal) may be performed in parallel with a polymerization reaction, it is preferable to remove most solvents before superposing | polymerizing. As a removal method of a solvent, the method similar to the drying method at the time of the formation of said orientation film is mentioned. Especially, natural drying or heat drying is preferable. The drying temperature is preferably in the range of 0 ° C to 250 ° C, more preferably in the range of 50 ° C to 220 ° C, and even more preferably in the range of 80 ° C to 170 ° C. The drying time is preferably 10 seconds to 60 minutes, more preferably 30 seconds to 30 minutes.

본 발명의 광학 필름은 직선 편광을 원 편광이나 타원 편광으로 변환하거나, 원 편광 또는 타원 편광을 직선 편광으로 변환하거나, 직선 편광의 편광 방향을 변환하거나 하기 위해서 이용되는 위상차판으로서 유용하다.The optical film of this invention is useful as a phase difference plate used in order to convert linearly polarized light into circularly polarized light or elliptically polarized light, to convert circularly or elliptically polarized light into linearly polarized light, or to convert the polarization direction of linearly polarized light.

본 발명의 광학 필름은 가시광 영역에 있어서의 투명성이 우수하여, 다양한 표시 장치용 부재로서 사용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 두께는 그 용도에 따라 혹은 그 위상차 값에 따라 적절하게 조절하면 되는데, 0.1 ㎛∼10 ㎛인 것이 바람직하고, 광탄성을 작게 한다는 점에서 0.2 ㎛∼5 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.The optical film of this invention is excellent in transparency in visible region, and can be used as a member for various display apparatuses. Although the thickness of the optical film of this invention may be suitably adjusted according to the use or the phase difference value, It is preferable that it is 0.1 micrometer-10 micrometers, It is more preferable that it is 0.2 micrometer-5 micrometers from the point which makes photoelasticity small. .

본 발명의 광학 필름을 여러 장 적층시켜 이용하여도 좋고, 다른 필름과 조합하여 이용하여도 좋다. 다른 필름과 조합하여 이용하는 경우에는, 시야각 보상 필름, 시야각 확대 필름, 반사 방지 필름, 편광 필름(편광판), 원 편광 필름(원 편광판), 타원 편광 필름(타원 편광판) 및 휘도 향상 필름으로서 이용할 수 있다.The optical film of this invention may be laminated | stacked several sheets, and may be used in combination with another film. When used in combination with another film, it can be used as a viewing angle compensation film, a viewing angle expansion film, an antireflection film, a polarizing film (polarizing plate), a circular polarizing film (circular polarizing plate), an elliptical polarizing film (elliptical polarizing plate), and a brightness improving film. .

본 발명의 광학 필름은 광학 이방성층을 형성하는 액정 화합물의 배향 상태에 따라 광학 특성을 변화시킬 수 있으며, VA(vertical alignment) 모드, IPS(in-plane switching) 모드, OCB(optically compensated bend) 모드, TN(twisted nematic) 모드, STN(super twisted nematic) 모드 등의 여러 가지 액정 표시 장치용의 위상차판으로서 사용할 수 있다.The optical film of the present invention can change the optical properties according to the alignment state of the liquid crystal compound forming the optically anisotropic layer, the vertical alignment (VA) mode, in-plane switching (IPS) mode, optically compensated bend (OCB) It can be used as a phase difference plate for various liquid crystal display devices, such as a twisted nematic (TN) mode and a super twisted nematic (STN) mode.

본 발명의 광학 필름은 면내의 지상축 방향의 굴절률을 nx, 면내의 지상축과 직교하는 방향(진상축 방향)의 굴절률을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz로 한 경우, 다음과 같이 분류할 수 있다.In the optical film of the present invention, when the refractive index in the in-plane slow axis direction is n x , the refractive index in the direction orthogonal to the in-plane slow axis (in the fast axis direction) is n y , and the refractive index in the thickness direction is n z , as follows. Can be classified.

nx>ny≒nz의 포지티브 A 플레이트Positive A plate with n x > n y ≒ n z

nx≒ny>nz의 네가티브 C 플레이트Negative C plate of n x ≒ n y > n z

nx≒ny<nz의 포지티브 C 플레이트Positive C plate with n x ≒ n y <n z

nx≠ny≠nz의 포지티브 O 플레이트 및 네가티브 O 플레이트Positive O plate and negative O plate of n x ≠ n y ≠ n z

본 발명의 광학 필름의 위상차 값은 이용되는 표시 장치에 따라 30 ㎚∼300 ㎚의 범위에서 적절하게 선택하면 된다.What is necessary is just to select the phase difference value of the optical film of this invention suitably in the range of 30 nm-300 nm according to the display apparatus used.

본 발명의 광학 필름을 광대역 λ/4판으로서 이용하는 경우는, Re(549)는 113 ㎚∼163 ㎚의 범위로, 바람직하게는 130 ㎚∼150 ㎚의 범위로 조정하면 된다. 광대역 λ/2판으로서 이용하는 경우는, Re(549)는 250 ㎚∼300 ㎚의 범위로, 바람직하게는 265 ㎚∼285 ㎚의 범위로 조정하면 된다. 위상차 값이 상기한 값이면, 광범위한 파장의 빛에 대하여 균일하게 편광 변환할 수 있는 경향이 있다. "광대역 λ/4판"이란, 각 파장의 빛에 대하여 그 1/4의 위상차 값을 발현하는 위상차 필름을 의미하고, "광대역 λ/2판"이란, 각 파장의 빛에 대하여 그 1/2의 위상차 값을 발현하는 위상차 필름을 의미한다.When using the optical film of this invention as a broadband (lambda) / 4 plate, Re (549) may be adjusted in the range of 113 nm-163 nm, Preferably you may adjust in the range of 130 nm-150 nm. When used as a broadband λ / 2 plate, Re (549) may be adjusted in the range of 250 nm to 300 nm, preferably in the range of 265 nm to 285 nm. If the retardation value is the above-described value, there is a tendency to be able to uniformly polarize the light of a wide range of wavelengths. The term "broadband λ / 4 plate" means a retardation film that expresses a 1/4 phase difference value with respect to light of each wavelength, and the term "wideband λ / 2 plate" means 1/2 of the light of each wavelength. The retardation film which expresses retardation value of means.

광학 이방성층 형성용 조성물 중의 액정 화합물의 함유량을 조정함으로써, 광학 이방성층의 층 두께를 조정할 수 있어, 원하는 위상차를 부여하는 광학 필름을 제작할 수 있다. 얻어지는 광학 필름의 위상차 값[리타데이션 값, Re(λ)]은 화학식 (4)와 같이 결정되기 때문에, 원하는 Re(λ)를 얻기 위해서는 Δn(λ)과 막 두께 d를 적절하게 조정하면 된다.By adjusting content of the liquid crystal compound in the composition for optically anisotropic layer formation, the layer thickness of an optically anisotropic layer can be adjusted and the optical film which gives a desired phase difference can be produced. Since the retardation value [retardation value, Re ((lambda))] of the optical film obtained is determined like General formula (4), in order to acquire desired Re ((lambda)), what is necessary is just to adjust (DELTA) n ((lambda)) and film thickness d suitably.

Re(λ)=d×Δn(λ) (4)Re (λ) = d × Δn (λ) (4)

[상기 화학식에서, Re(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 위상차 값을 나타내고, d는 막 두께를 나타내며, Δn(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 복굴절률을 나타낸다.][In the above formula, Re (λ) represents a phase difference value at a wavelength λ nm, d represents a film thickness, and Δn (λ) represents a birefringence at a wavelength λ nm.]

본 발명의 광학 필름은 높은 밀착성을 갖는 기재를 포함하기 때문에, 가공시의 배향막이 기재로부터 박리되는 것을 억제할 수 있다. 밀착성의 평가는 JIS-K5600에 따른 밀착성 시험으로 행할 수 있다. 예컨대, 코텍 가부시키가이샤 제조 크로스컷 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 ㎜ 간격, 25 매스용) 등의 시판되는 장치를 이용하여 밀착성 시험을 행하면 된다. 예컨대, 코텍 가부시키가이샤 제조 크로스컷 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 ㎜ 간격, 25 매스용)를 이용하여, 본 발명의 광학 필름의 밀착성 시험을 행하면, 광학 이방성층 및 배향막이 기재로부터 박리되지 않고 유지되는 매스는 통상 25 매스 중 9 매스 이상이며, 면적 기준으로 광학 이방성층 및 배향막의 36% 이상이 기재로부터 박리되지 않는 상태로 유지된다.Since the optical film of this invention contains the base material which has high adhesiveness, it can suppress that the orientation film at the time of processing peels from a base material. Evaluation of adhesiveness can be performed by the adhesive test according to JIS-K5600. For example, an adhesive test may be performed using commercially available apparatuses, such as Crosscut Guide I series (CCI-1, 1-mm spacing, for 25 masses) by KOTEC Corporation. For example, when the adhesion test of the optical film of this invention is performed using KOTEC Corporation crosscut guide I series (CCI-1, 1-mm spacing, for 25 masses), an optically anisotropic layer and an orientation film will not peel from a base material. The mass to be maintained without is usually 9 or more out of 25 masses, and on an area basis, at least 36% of the optically anisotropic layer and the alignment film are maintained without being peeled from the substrate.

본 발명의 광학 필름은 제조 프로세스의 간략화 및 비용의 관점에서, 배향막은 배향성 폴리머(바람직하게는 광배향성 폴리머)와 1종의 첨가제만으로 구성되어 있는 것이 바람직하고, 광학 이방성층은 중합성 액정과 중합개시제와 레벨링제로 구성되어 있는 것이 바람직하다.In view of the simplification and cost of the manufacturing process, the optical film of the present invention preferably comprises an alignment film composed of an alignment polymer (preferably a photo-alignment polymer) and one type of additive, and the optically anisotropic layer is polymerized with the polymerizable liquid crystal. It is preferable that it consists of an initiator and a leveling agent.

본 발명의 광학 필름은 편광판을 구성하는 부재로서도 유용하다. 본 발명의 편광판은 본 발명의 광학 필름을 적어도 하나 포함한다.The optical film of this invention is also useful as a member which comprises a polarizing plate. The polarizing plate of this invention contains at least one optical film of this invention.

편광판의 구체예로서는 도 1(a)∼도 1(e)에 도시되는 편광판을 들 수 있다. 도 1(a)에 도시되는 편광판(4a)은 본 발명의 광학 필름(1)과 편광 필름층(2)이 직접 적층된 편광판이며, 도 1(b)에 도시된 편광판(4b)은 본 발명의 광학 필름(1)과 편광필름층(2)이 접착제층(3')을 통해 접합된 편광판이다. 도 1(c)에 도시되는 편광판(4c)은 본 발명의 광학 필름(1)과 본 발명의 광학 필름(1')을 적층시키고, 또한, 본 발명의 광학 필름(1')과 편광 필름층(2)을 적층시킨 편광판이며, 도 1(d)에 도시되는 편광판(4d)은 본 발명의 광학 필름(1)과 본 발명의 광학 필름(1')을 접착제층(3)을 통해 접합시키고, 또한, 본 발명의 광학 필름(1') 상에 편광 필름층(2)을 적층시킨 편광판이다. 도 1(e)에 도시되는 편광판(4e)은 본 발명의 광학 필름(1)과 본 발명의 광학 필름(1')을 접착제층(3)을 통해 접합시키고, 또한, 본 발명의 광학 필름(1')과 편광 필름층(2)을 접착제층(3')을 통해 서로 부착시킨 편광판이다. "접착제"란, 접착제 및/또는 점착제의 총칭을 의미한다. As a specific example of a polarizing plate, the polarizing plate shown to FIG. 1 (a)-FIG. 1 (e) is mentioned. The polarizing plate 4a shown in FIG. 1 (a) is a polarizing plate in which the optical film 1 and the polarizing film layer 2 of the present invention are directly laminated, and the polarizing plate 4b shown in FIG. 1 (b) is the present invention. The optical film 1 and the polarizing film layer 2 are the polarizing plates bonded together through the adhesive bond layer 3 '. The polarizing plate 4c shown to FIG. 1 (c) laminate | stacks the optical film 1 of this invention and the optical film 1 'of this invention, and also the optical film 1' and polarizing film layer of this invention. The polarizing plate 4d laminated with (2), and the polarizing plate 4d shown in FIG. 1 (d) is bonded to the optical film 1 of the present invention and the optical film 1 ′ of the present invention through the adhesive layer 3. Moreover, it is a polarizing plate which laminated | stacked the polarizing film layer 2 on the optical film 1 'of this invention. The polarizing plate 4e shown in Fig.1 (e) bonds the optical film 1 of this invention and the optical film 1 'of this invention through the adhesive bond layer 3, and also the optical film of this invention ( 1 ') and the polarizing film layer 2 are attached to each other via the adhesive layer 3'. "Adhesive" means a generic term for an adhesive and / or an adhesive.

편광 필름층(2)은 편광 기능을 갖는 필름이면 되며, 폴리비닐알코올계 필름에 요오드나 이색성 색소를 흡착시켜 연신한 필름 및 폴리비닐알코올계 필름을 연신하여 요오드나 이색성 색소를 흡착시킨 필름을 들 수 있다. The polarizing film layer 2 may be a film having a polarizing function, and a film obtained by adsorbing an iodine or a dichroic dye onto a polyvinyl alcohol-based film and stretching the film and a polyvinyl alcohol-based film to adsorb iodine or a dichroic dye. Can be mentioned.

편광 필름층(2)은 필요에 따라 보호 필름으로 보호되어 있어도 좋다. 보호 필름으로서는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리메타크릴산에스테르 필름, 폴리아크릴산에스테르 필름, 셀룰로오스에스테르 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리에테르케톤 필름, 폴리페닐렌술피드 필름 및 폴리페닐렌옥사이드 필름을 들 수 있다.The polarizing film layer 2 may be protected by the protective film as needed. As a protective film, polyolefin films, such as polyethylene, a polypropylene, and norbornene-type polymer, a polyethylene terephthalate film, a polymethacrylic acid ester film, a polyacrylic acid ester film, a cellulose ester film, a polyethylene naphthalate film, a polycarbonate film, a polysulfone film , Polyether sulfone film, polyether ketone film, polyphenylene sulfide film and polyphenylene oxide film.

접착제층(3) 및 접착제층(3')에 이용되는 접착제는 투명성이 높고, 내열성이 우수한 접착제인 것이 바람직하다. 그와 같은 접착제로서는 아크릴계 접착제, 에폭시계 접착제 및 우레탄계 접착제를 들 수 있다.It is preferable that the adhesive agent used for the adhesive bond layer 3 and the adhesive bond layer 3 'is an adhesive with high transparency and excellent heat resistance. Such adhesives include acrylic adhesives, epoxy adhesives and urethane adhesives.

본 발명의 플랫 패널 표시 장치는 본 발명의 광학 필름을 구비한다. 상기 표시 장치로서는, 본 발명의 광학 필름과 액정 패널이 접합된 액정 패널을 구비하는 액정 표시 장치 및 본 발명의 광학 필름과 발광층이 접합된 유기 일렉트로루미네선스(이하, 「EL」이라고도 함) 패널을 구비하는 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치의 실시형태로서, 액정 표시 장치와 유기 EL 표시 장치에 대해 간단히 설명한다.The flat panel display device of the present invention includes the optical film of the present invention. As said display apparatus, the liquid crystal display device provided with the liquid crystal panel by which the optical film of this invention and the liquid crystal panel were bonded, and the organic electroluminescent panel (henceforth "EL") panel with which the optical film of this invention and the light emitting layer were bonded. An organic electroluminescence display provided with the above is mentioned. As an embodiment of the flat panel display device provided with the optical film of the present invention, a liquid crystal display device and an organic EL display device will be briefly described.

액정 표시 장치로서는 도 2(a) 및 도 2(b)에 도시된 액정 표시 장치(10a 및 10b)를 들 수 있다. 도 2(a)에 도시된 액정 표시 장치(10a)에서는, 본 발명의 편광판(4)과 액정 패널(6)이 접착층(5)을 통해 접합되어 있다. 도 2(b)에 도시된 액정 표시 장치(10b)에서는, 본 발명의 편광판(4)이 액정 패널(6)의 한쪽 면에, 본 발명의 편광판(4')이 액정 패널(6)의 다른 쪽 면에, 접착층(5) 및 접착층(5')을 각각 통해 접합된 구조를 갖고 있다. 이들 액정 표시 장치에서는, 도시하지 않는 전극을 이용하여 액정 패널에 전압을 인가함으로써 액정 분자의 배향이 변화되어, 흑백 표시를 실현할 수 있다.Examples of the liquid crystal display device include liquid crystal display devices 10a and 10b shown in FIGS. 2A and 2B. In the liquid crystal display device 10a illustrated in FIG. 2A, the polarizing plate 4 and the liquid crystal panel 6 of the present invention are bonded through the adhesive layer 5. In the liquid crystal display device 10b shown in FIG. 2B, the polarizing plate 4 of the present invention is on one side of the liquid crystal panel 6, and the polarizing plate 4 ′ of the present invention is different from the liquid crystal panel 6. On one side, it has the structure joined together through the contact bonding layer 5 and the contact bonding layer 5 ', respectively. In these liquid crystal display devices, the alignment of liquid crystal molecules is changed by applying a voltage to the liquid crystal panel using an electrode (not shown), thereby realizing monochrome display.

유기 EL 표시 장치로서는 도 3에 도시된 유기 EL 표시 장치(11)를 들 수 있다. 유기 EL 표시 장치(11)에서는, 본 발명의 편광판(4)과 유기 EL 패널(7)이 접착층(5)을 통해 접합되어 있다. 유기 EL 패널(7)은 도전성 유기 화합물로 이루어진 적어도 하나의 층이다. 이러한 유기 EL 표시 장치에서는, 도시하지 않는 전극을 이용하여 유기 EL 패널에 전압을 인가함으로써, 유기 EL 패널이 갖는 발광층에 포함되는 화합물이 발광하여, 흑백 표시를 실현할 수 있다.Examples of the organic EL display device include the organic EL display device 11 shown in FIG. 3. In the organic EL display device 11, the polarizing plate 4 and the organic EL panel 7 of the present invention are bonded to each other via the adhesive layer 5. The organic EL panel 7 is at least one layer made of a conductive organic compound. In such an organic EL display device, by applying a voltage to the organic EL panel using an electrode (not shown), the compound included in the light emitting layer of the organic EL panel emits light, thereby realizing monochrome display.

유기 EL 표시 장치(11)에 있어서, 편광판(4)은 유기 EL 표시 장치(11)의 표면에 있어서 외광의 반사를 방지한다고 하는 관점에서, 광대역 원 편광판으로서 기능하는 편광판인 것이 바람직하다.In the organic EL display device 11, the polarizing plate 4 is preferably a polarizing plate functioning as a broadband circular polarizing plate from the viewpoint of preventing reflection of external light on the surface of the organic EL display device 11.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 한편, 예에서 「%」 및 「부」는 특별히 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by the following Example. In addition, in an example, "%" and "part" mean a mass% and a mass part, unless there is particular notice.

[광배향성 폴리머의 합성예]Synthesis Example of Photo-Oriented Polymer

화학식 (Z-a)로 표시되는 모노머를 Macromol. Chem. Phys. 197, 1919-1935(1996)에 기재된 방법에 따라 제조하였다.Monomer represented by the formula (Z-a) is Macromol. Chem. Phys. 197, 1919-1935 (1996).

화학식 (Z-a)로 표시되는 모노머 1.5부와 메타크릴산메틸 0.1부를 테트라히드로푸란 16부 중에 용해시켰다. 얻어진 용액을 60℃에서 24시간 동안 가열하여 반응을 행하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 방냉시킨 후, 톨루엔과 메탄올의 혼합 용액 중에 적하하고, 화학식 (Z)로 표시되는 공중합체를 석출시켜, 화학식 (Z)로 표시되는 공중합체를 빼내었다. 화학식 (Z)로 표시되는 공중합체의 수평균 분자량은 33000이었다. 화학식 (Z)로 표시되는 공중합체에 있어서 화학식 (Z-a)로 표시되는 모노머에 유래하는 구조 단위의 함유율은 75 mol%였다.1.5 parts of monomers represented by the formula (Z-a) and 0.1 parts of methyl methacrylate were dissolved in 16 parts of tetrahydrofuran. The obtained solution was heated at 60 ° C. for 24 hours to carry out the reaction. After cooling the obtained reaction mixture to room temperature, it was dripped in the mixed solution of toluene and methanol, and the copolymer represented by general formula (Z) was precipitated, and the copolymer represented by general formula (Z) was taken out. The number average molecular weight of the copolymer represented by the formula (Z) was 33000. In the copolymer represented by the formula (Z), the content rate of the structural unit derived from the monomer represented by the formula (Z-a) was 75 mol%.

Figure pat00014
Figure pat00014

Figure pat00015
Figure pat00015

화학식 (Z)로 표시되는 공중합체의 폴리스티렌 환산 수평균 분자량(Mn)의 측정은 GPC법을 이용하여 이하의 조건에서 행하였다.The polystyrene conversion number average molecular weight (Mn) of the copolymer represented by General formula (Z) was measured on condition of the following using GPC method.

장치; HLC-8220GPC(도소 가부시키가이샤 제조)Device; HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼; TOSOH TSKgel MultiporeHXL-Mcolumn; TOSOH TSKgel MultiporeH XL -M

칼럼 온도; 40℃Column temperature; 40 ℃

용매; THF(테트라히드로푸란)menstruum; THF (tetrahydrofuran)

유속; 1.0 ㎖/minFlow rate; 1.0 ml / min

검출기; RI Detectors; RI

교정용 표준 물질; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-5000, A-500Calibration standards; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-5000, A-500

[조성물의 조제][Preparation of composition]

하기 각 성분을 혼합하여 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 동안 교반한 후, 실온까지 냉각시켜 배향막 형성용 조성물을 조제하였다.The solution obtained by mixing the following components was stirred at 80 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature to prepare a composition for forming an alignment film.

표 2에 나타내는 각 성분을 혼합하여 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 동안 교반한 후, 실온까지 냉각시켜 광학 이방성층 형성용 조성물을 조제하였다.After stirring the solution obtained by mixing each component shown in Table 2 for 1 hour at 80 degreeC, it cooled to room temperature and prepared the composition for optically anisotropic layer formation.

Figure pat00016
Figure pat00016

표 1에 있어서, 혼합 비율은 조제한 조성물 전량에 대한 각 성분의 함유 비율을 의미한다.In Table 1, a mixing ratio means the content rate of each component with respect to the whole composition prepared.

표 1에 있어서의 LR-9000은 BASF 재팬사 제조의 Laromer(등록상표) LR-9000이다.LR-9000 in Table 1 is Laromer (trademark) LR-9000 by BASF Japan.

Figure pat00017
Figure pat00017

표 2에 있어서, 혼합 비율은 조제한 조성물 전량에 대한 각 성분의 함유 비율을 의미한다.In Table 2, a mixing ratio means the content rate of each component with respect to the whole composition prepared.

표 2에 있어서, Irg369는 BASF 재팬사 제조의 이르가큐어 369이며, BYK361N은 빅케미재팬 제조의 레벨링제이고, LC242는 하기 화학식으로 표시되는 BASF사 제조의 액정 화합물이다.In Table 2, Irg369 is Irgacure 369 by BASF Japan, BYK361N is a leveling agent by Big Chemical Japan, and LC242 is a liquid crystal compound by BASF represented by the following chemical formula.

Figure pat00018
Figure pat00018

[표면 원소 비율의 측정][Measurement of Surface Element Ratio]

세키스이카가쿠고교 가부시키가이샤 제조 상압 플라즈마 표면 처리 장치(롤 다이렉트 헤드형 AP-T04S-R890)를 이용하여, 출력 60 W(100 mJ/㎠의 에너지에 상당)의 조건에서 플라즈마를 발생시켜, 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름 표면을 처리하였다. 플라즈마 처리를 행한 표면의 XPS 분석을, Surface Science Instruments사 제조 S-Probe ESCA Model2803을 이용하여 하기 조건에서 실시하였다. 플라즈마 처리를 행하지 않은 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름과, 출력 300 W(500 mJ/㎠의 에너지에 상당)의 조건에서 표면 처리된 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름에 대해서도 마찬가지로 XPS 분석을 행하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.Using a Sekisui Chemical Co., Ltd. atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (roll direct head type AP-T04S-R890), plasma is generated on the conditions of the output 60W (equivalent to 100 mJ / cm <2> energy), and saponification is carried out. Triacetylcellulose film surface was treated. XPS analysis of the surface which carried out the plasma process was performed on condition of the following using S-Probe ESCA Model2803 by Surface Science Instruments. XPS analysis was similarly performed on the saponified triacetylcellulose film which was not subjected to plasma treatment, and the saponified triacetylcellulose film surface-treated on the conditions of 300 W of output (equivalent to energy of 500 mJ / cm <2>). The results are shown in Table 3.

[측정 조건][Measuring conditions]

조사 X선: AlKαIrradiation X-ray: AlKα

X선 스폿 직경: 250×1000 ㎛(타원형)X-ray spot diameter: 250 × 1000 μm (oval)

중화 전자총 사용Use of neutral gun

Figure pat00019
Figure pat00019

실시예 1[본 발명의 광학 필름의 제조예 1]Example 1 [Production Example 1 of Optical Film of the Present Invention]

세키스이카가쿠고교 가부시키가이샤 제조 상압 플라즈마 표면 처리 장치(롤 다이렉트 헤드형 AP-T04S-R890)를 이용하여, 질소와 산소를 포함하는 분위기(체적비 질소:산소=99.9:0.1) 하에서, 출력 60 W(100 mJ/㎠의 에너지에 상당)의 조건에서 플라즈마를 발생시켜, 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름 표면을 처리하였다. 플라즈마 처리를 행한 표면에, 상기에서 조제한 배향막 형성용 조성물을 도포하고, 건조시켜, 두께 300 ㎚의 막을 형성하였다. 이어서, 형성한 막의 표면에 대하여 수직 방향에서 편광 자외광(편광 UV) 조사 지그가 달린 스폿큐어[SP-7, 우시오덴키(주) 제조]를 이용하여, 조도 15 mW/㎠로 5분간 직선 편광 UV를 조사하여, 배향막을 형성하였다. 편광 UV를 조사한 면에, 상기에서 조제한 광학 이방성층 형성용 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 120℃로 가열하여, 미중합 필름을 배향막 상에 형성하였다. 실온까지 냉각시킨 후, 유니큐어(VB-15201BY-A, 우시오덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 자외선을 파장 365 ㎚에 있어서 40 mW/㎠의 조도로 1분간 조사함으로써 중합을 행하여, 광학 필름(X)을 제작하였다.Output 60W under the atmosphere (volume ratio nitrogen: oxygen = 99.9: 0.1) containing nitrogen and oxygen using the atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (roll direct head type AP-T04S-R890) made by Sekisui Chemical Co., Ltd. A plasma was generated under the conditions (equivalent to energy of 100 mJ / cm 2) to treat the saponified triacetylcellulose film surface. The composition for alignment film formation prepared above was apply | coated to the surface which performed the plasma processing, it dried, and the film of thickness 300nm was formed. Subsequently, using a spotcure (SP-7, manufactured by Ushio Denki Co., Ltd.) with polarized ultraviolet light (polarization UV) irradiation jig in the vertical direction with respect to the surface of the formed film, linearly polarized light at 15 mW / cm 2 for 5 minutes. UV was irradiated to form an alignment film. The composition for optically anisotropic layer formation prepared above was apply | coated to the surface which irradiated the polarization UV using the bar coater, it heated at 120 degreeC, and the unpolymerized film was formed on the orientation film. After cooling to room temperature, polymerization was carried out by irradiating ultraviolet light at a wavelength of 365 nm at 40 mW / cm 2 for 1 minute using UniCure (VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Denki Co., Ltd.) to obtain an optical film ( X) was produced.

비교예 1[비교용 광학 필름의 제조예 1]Comparative Example 1 [Manufacture Example 1 of Comparative Optical Film]

상기 실시예 1에 있어서, 플라즈마 표면 처리를 행하지 않은 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일한 조건에서 실시하여, 비교용 광학 필름(1)을 제작하였다.In the said Example 1, it carried out on the same conditions as the said Example 1 except not having performed a plasma surface treatment, and produced the comparative optical film 1.

비교예 2[비교용 광학 필름의 제조예 2]Comparative Example 2 [Manufacture Example 2 of Comparative Optical Film]

상기 실시예 1에 있어서, 플라즈마 표면 처리의 조건을 300 W(500 mJ/㎠의 에너지에 상당)로 한 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일한 조건에서 실시하여, 비교용 광학 필름(2)을 제작하였다.In the said Example 1, the comparative optical film 2 was produced on the same conditions as the said Example 1 except having made the plasma surface treatment conditions into 300 W (equivalent to 500 mJ / cm <2> energy). .

실시예 2[본 발명의 광학 필름의 제조예 2]Example 2 [Manufacture example 2 of the optical film of this invention]

세키스이카가쿠고교 가부시키가이샤 제조 상압 플라즈마 표면 처리 장치(롤 다이렉트 헤드형 AP-T04S-R890)를 이용하여, 질소와 산소를 포함하는 분위기(체적비 질소:산소=99.9:0.1) 하에서, 440 V, 0.1 A(74 mJ/㎠의 에너지에 상당)의 조건에서 플라즈마를 발생시켜, 비누화한 트리아세틸셀룰로오스 필름 표면을 처리하였다. 플라즈마 처리를 행한 표면에, 상기에서 조제한 배향막 형성용 조성물을 도포하고, 건조시켜, 두께 300 ㎚의 막을 형성하였다. 계속해서, 형성한 막의 표면에 대하여 수직 방향에서 편광 자외광(편광 UV) 조사 지그가 달린 스폿큐어[SP-7, 우시오덴키(주) 제조]를 이용하여, 조도 15 mW/㎠로 5분간 직선 편광 UV를 조사하여, 배향막을 형성하였다. 편광 UV를 조사한 면에, 상기에서 조제한 광학 이방성층 형성용 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 120℃로 가열하여, 미중합 필름을 배향막 상에 형성하였다. 실온까지 냉각시킨 후, 유니큐어(VB-15201BY-A, 우시오덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 자외선을 파장 365 ㎚에 있어서 40 mW/㎠의 조도로 1분간 조사함으로써, 중합을 행하여, 광학 필름(X2)을 제작하였다.440 V, using an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (roll direct head type AP-T04S-R890) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. (roll direct head type AP-T04S-R890) in an atmosphere containing nitrogen and oxygen (volume ratio nitrogen: oxygen = 99.9: 0.1) Plasma was generated under the conditions of 0.1 A (equivalent to 74 mJ / cm 2 of energy) to treat the saponified triacetylcellulose film surface. The composition for alignment film formation prepared above was apply | coated to the surface which performed the plasma processing, it dried, and the film of thickness 300nm was formed. Subsequently, using a spot cure (SP-7, manufactured by Ushio Denki Co., Ltd.) with polarized ultraviolet light (polarization UV) irradiation jig in the vertical direction with respect to the surface of the formed film, it is a straight line for 5 minutes at an illuminance of 15 mW / cm 2. Polarized UV was irradiated to form an alignment film. The composition for optically anisotropic layer formation prepared above was apply | coated to the surface which irradiated the polarization UV using the bar coater, it heated at 120 degreeC, and the unpolymerized film was formed on the orientation film. After cooling to room temperature, polymerization was carried out by irradiating the ultraviolet light with a roughness of 40 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm using Unicure (VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Denki Co., Ltd.) for 1 minute to obtain an optical film. (X2) was produced.

비교예 3[비교용 광학 필름의 제조예 3]Comparative Example 3 [Manufacture Example 3 of Comparative Optical Film]

상기 실시예 2에 있어서, 플라즈마 표면 처리를 행하지 않은 것 이외에는 상기 실시예 2와 동일한 조건에서 실시하여, 비교용 광학 필름(3)을 제작하였다.In the said Example 2, it carried out on the conditions similar to the said Example 2 except having not performed the plasma surface treatment, and produced the comparative optical film 3.

비교예 4[비교용 광학 필름의 제조예 4]Comparative Example 4 [Manufacture Example 4 of Comparative Optical Film]

상기 실시예 2에 있어서, 플라즈마 표면 처리의 조건을 300 W(500 mJ/㎠의 에너지에 상당)로 한 것 이외에는 상기 실시예 2와 동일한 조건에서 실시하여, 비교용 광학 필름(4)을 제작하였다.In the said Example 2, the comparative optical film 4 was produced on the same conditions as the said Example 2 except having made the plasma surface treatment conditions into 300 W (equivalent to 500 mJ / cm <2> energy). .

[밀착성 평가] [Adhesive evaluation]

JIS-K5600에 따라, 코텍 가부시키가이샤 제조 크로스컷 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 ㎜ 간격, 25 매스용)를 이용하여, 상기에서 제작한 광학 필름 및 비교용 광학 필름의 박리 내성을 평가하였다. 박리 시험 후, 박리되지 않고 유지된 배향막의 잔존 수를 카운트한 결과를 표 4에 나타낸다.According to JIS-K5600, peeling resistance of the above-mentioned optical film and the comparative optical film was evaluated using the Crosscut guide I series (CCI-1, 1 mm interval, for 25 masses) by KOTEC Corporation. . Table 4 shows the results of counting the remaining number of the alignment film held without peeling after the peeling test.

[광학 특성의 측정][Measurement of Optical Properties]

상기에서 제작한 광학 필름(X), 비교용 광학 필름(1) 및 비교용 광학 필름(2)의 위상차 값을 측정기(KOBRA-WR, 오우지게이소쿠기키사 제조)에 의해 측정하였다. 위상차 값 Re(λ)는 파장(λ) 549 ㎚에 있어서 측정하였다. 결과를 표 4에 나타낸다.The retardation value of the above-mentioned optical film (X), the comparative optical film (1), and the comparative optical film (2) was measured by a measuring instrument (KOBRA-WR, manufactured by Ouji-Igekiki Co., Ltd.). The retardation value Re (λ) was measured at a wavelength λ of 549 nm. The results are shown in Table 4.

Figure pat00020
Figure pat00020

실시예에서 제작한 광학 필름은 밀착성이 우수한 경향을 확인할 수 있었다.The optical film produced in the Example was able to confirm the tendency which was excellent in adhesiveness.

본 발명의 기재는 밀착성이 우수하기 때문에, 가공시의 박리가 억제된 광학 필름을 제작할 수 있다. Since the base material of this invention is excellent in adhesiveness, the optical film in which peeling at the time of processing was suppressed can be produced.

1, 1' : 본 발명의 광학 필름
2 : 편광 필름층
3, 3' : 접착제층
4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4, 4' : 본 발명의 편광판
5, 5' : 접착층
6 : 액정 패널
7 : 유기 EL 패널
10a, 10b : 액정 표시 장치
11 : 유기 EL 표시 장치
1, 1 ': optical film of the present invention
2: polarizing film layer
3, 3 ': adhesive layer
4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4, 4 ': polarizing plate of the present invention
5, 5 ': adhesive layer
6: liquid crystal panel
7: organic EL panel
10a, 10b: liquid crystal display device
11: organic EL display device

Claims (19)

표면 질소 존재 비율이 0.1∼1 atom%인 기재.A substrate having a surface nitrogen present ratio of 0.1 to 1 atom%. 제1항에 있어서, 표면 탄소 존재 비율이 54.9∼70 atom%이고, 표면 산소 존재 비율이 29∼45 atom%인 기재.The substrate according to claim 1, wherein the surface carbon abundance ratio is 54.9 to 70 atom% and the surface oxygen abundance ratio is 29 to 45 atom%. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기재가 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름인 기재.The substrate according to claim 1 or 2, wherein the substrate is a saponified triacetylcellulose film. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 기재가 질소 및 산소를 포함하는 분위기 하에서 표면 처리가 행해진 기재인 기재.The substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the substrate is a substrate subjected to surface treatment in an atmosphere containing nitrogen and oxygen. 제4항에 있어서, 표면 처리가 플라즈마 처리인 기재.The substrate of claim 4, wherein the surface treatment is a plasma treatment. 질소 및 산소를 포함하는 분위기 하에서 플라즈마로 표면 처리된 기재로서, 200 mJ/㎠ 이하의 에너지로 표면 처리된 기재.A substrate surface-treated with a plasma under an atmosphere containing nitrogen and oxygen, the substrate being surface-treated with an energy of 200 mJ / cm 2 or less. 제6항에 있어서, 기재가 비누화된 트리아세틸셀룰로오스 필름인 기재.The substrate of claim 6, wherein the substrate is a saponified triacetylcellulose film. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 기재 표면에, 배향막이 형성된 적층체.The laminated body with which the oriented film was formed in the base material surface in any one of Claims 1-7. 제8항에 있어서, 배향막이 광배향성 폴리머로 형성된 배향막인 적층체.The laminate according to claim 8, wherein the alignment film is an alignment film formed of a photoalignable polymer. 제9항에 있어서, 광배향성 폴리머가 광조사에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 광배향성 폴리머인 적층체.The laminate according to claim 9, wherein the photo-alignment polymer is a photo-alignment polymer capable of forming a crosslinked structure by light irradiation. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, JIS-K5600에 따른 밀착성 시험에 있어서, 면적 기준으로, 배향막의 36% 이상이 박리되지 않는 적층체.The laminate according to any one of claims 8 to 10, wherein in the adhesion test according to JIS-K5600, 36% or more of the alignment film is not peeled off on an area basis. 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 적층체의 배향막 상에 광학 이방성층이 형성된 광학 필름. The optical film in which the optically anisotropic layer was formed on the orientation film of the laminated body in any one of Claims 8-11. 제12항에 있어서, 광학 이방성층이 1 이상의 중합성 액정을 중합함으로써 형성된 광학 필름.The optical film according to claim 12, wherein the optically anisotropic layer is formed by polymerizing one or more polymerizable liquid crystals. 제12항 또는 제13항에 있어서, JIS-K5600에 따른 밀착성 시험에 있어서, 면적 기준으로, 광학 이방성층 및 배향막의 36% 이상이 박리되지 않는 광학 필름.The optical film according to claim 12 or 13, wherein in the adhesion test according to JIS-K5600, 36% or more of the optically anisotropic layer and the alignment film are not separated on an area basis. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 위상차성을 갖는 광학 필름.The optical film of any one of Claims 12-14 which has retardation. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 포함하는 편광판.The polarizing plate containing the optical film of any one of Claims 12-15. 제15항에 기재된 광학 필름을 포함하는 위상차판.Retardation plate containing the optical film of Claim 15. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.The flat panel display provided with the optical film as described in any one of Claims 12-15. 하기 공정 (1)∼(4)를 포함하는 광학 필름의 제조 방법:
공정 (1): 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 기재 상에 광배향성 폴리머를 도포하는 공정
공정 (2): 기재 상의 광배향성 폴리머를 가교시켜 배향막을 형성하는 공정
공정 (3): 배향막 상에 중합성 액정을 포함하는 조성물을 더 도포하여, 도포막을 형성하는 공정
공정 (4): 도포막 중의 중합성 액정을 중합시켜 광학 필름을 형성하는 공정.
The manufacturing method of the optical film containing following process (1)-(4):
Process (1): process of apply | coating photo-alignment polymer on the base material in any one of Claims 1-7.
Step (2): a step of forming an alignment film by crosslinking the photo-alignment polymer on the substrate
Process (3): The process of further apply | coating the composition containing a polymeric liquid crystal on an oriented film, and forming a coating film.
Step (4): A step of polymerizing the polymerizable liquid crystal in the coating film to form an optical film.
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