KR20240045116A - Antistatic aid - Google Patents

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KR20240045116A
KR20240045116A KR1020230127322A KR20230127322A KR20240045116A KR 20240045116 A KR20240045116 A KR 20240045116A KR 1020230127322 A KR1020230127322 A KR 1020230127322A KR 20230127322 A KR20230127322 A KR 20230127322A KR 20240045116 A KR20240045116 A KR 20240045116A
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KR1020230127322A
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마사유키 다카시마
히로마사 하기와라
사토루 이마이즈미
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고에이 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 하기 식 (I)

Figure pat00018

(식 중, R1 은 산소 원자를 함유하는 탄화수소기, 하이드록시기, 또는 카르복시기를 나타내고,
R2 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기, 하이드록시기, 카르복시기, 혹은 수소 원자를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물을 함유하는, 대전 방지 보조제를 제공하는 것이다.The present invention has the following formula (I)
Figure pat00018

(Wherein, R 1 represents a hydrocarbon group containing an oxygen atom, a hydroxy group, or a carboxyl group,
R 2 represents a hydrocarbon group, hydroxy group, carboxyl group, or hydrogen atom that may contain an oxygen atom.)
To provide an antistatic auxiliary agent containing a compound represented by .

Description

대전 방지 보조제{ANTISTATIC AID}Antistatic auxiliary {ANTISTATIC AID}

본 발명은 대전 방지 보조제에 관한 것이다. 또, 본 발명은 대전 방지 보조제를 함유하는 조성물, 점착제 조성물, 점착제층, 점착 시트, 표면 보호 필름 및 점착제 부착 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to antistatic auxiliaries. Additionally, the present invention relates to a composition containing an antistatic auxiliary agent, an adhesive composition, an adhesive layer, an adhesive sheet, a surface protection film, and an optical film with an adhesive.

액정 디스플레이 등에 사용되는 편광판이나 터치 패널용 기판을 첩합 (貼合) 할 때에 사용되는 점착층에는, 점착층 표면 저항을 낮추어 대전 방지를 하기 위해서, 무기염이나 유기염 등의 이온성 화합물을 대전 방지제로서 첨가하는 경우가 있다. 점착층 표면에 정전기가 체류하면, 표면에 미립자가 부착되기 쉬워지고, 또, 다음 공정에서 첩합하는 편광판이나 터치 패널 기판 등에 그 정전기가 전사되어 동작 불량의 원인이 되기 때문에, 점착층 표면의 대전 방지는 최근 점점 더 중요해지고 있다.The adhesive layer used when bonding a polarizer used in a liquid crystal display, etc., or a touch panel substrate, contains ionic compounds such as inorganic salts or organic salts as an antistatic agent in order to prevent static electricity by lowering the surface resistance of the adhesive layer. There are cases where it is added as . If static electricity stays on the surface of the adhesive layer, it becomes easy for fine particles to adhere to the surface, and that static electricity is transferred to the polarizer or touch panel substrate to be bonded in the next step, causing malfunction. This prevents static electricity on the surface of the adhesive layer. has become increasingly important recently.

그 때문에 이들 대전 방지제의 기능을 보다 발휘시키기 위해서, 에틸렌카보네이트나 프로필렌카보네이트를 대전 방지제용 보조제로서 함께 점착제에 첨가하는 것이 알려져 있다 (특허문헌 1 ∼ 3).Therefore, in order to further demonstrate the function of these antistatic agents, it is known to add ethylene carbonate or propylene carbonate to the adhesive as an auxiliary agent for the antistatic agent (Patent Documents 1 to 3).

그러나, 에틸렌카보네이트는 융점이 35 ℃ 부근인 점에서, 고체로서도 액체로서도 공업적으로 취급하기가 어렵고, 또, 실제로 점착제에 대전 방지제와 함께 첨가해도, 표면 저항을 낮추는 효과가 작은 경우가 있다 (후술하는 비교예 2 참조).However, because ethylene carbonate has a melting point around 35°C, it is difficult to handle industrially both as a solid and as a liquid, and even if it is actually added to the adhesive together with an antistatic agent, the effect of lowering the surface resistance may be small (described later). (see Comparative Example 2).

또 프로필렌카보네이트를 사용했을 경우, 점착층을 형성한 직후에는 낮은 표면 저항이 얻어져도, 그 후 시간 경과적으로 표면 저항이 상승해 버려, 대전 방지 성능이 안정적이지 못하다는 문제가 있었다 (후술하는 비교예 3 참조).In addition, when propylene carbonate was used, even though low surface resistance was obtained immediately after forming the adhesive layer, there was a problem in that the surface resistance increased over time and the antistatic performance was not stable (comparison described later). see example 3).

이러한 점에서, 대전 방지제와 함께 점착제에 첨가했을 때에, 낮은 대전 방지성을 부여할 수 있으며, 또한 시간 경과적 안정성도 있는 대전 방지 보조제가 요구되고 있다.In this regard, there is a demand for an antistatic auxiliary that can provide low antistatic properties when added to an adhesive together with an antistatic agent and also has stability over time.

일본 공개특허공보 2019-156916Japanese Patent Publication 2019-156916 WO2007/111200A1WO2007/111200A1 일본 공개특허공보 2010-265388Japanese Patent Publication No. 2010-265388

본 발명은 종래의 대전 방지제용 보조제 카보네이트 화합물에 비해서, 낮은 표면 저항이 얻어지며, 또한, 시간 경과적으로도 안정적인 표면 저항이 얻어지는 대전 방지 보조제를 제공하는 것을 과제로 한다.The object of the present invention is to provide an antistatic auxiliary agent that achieves low surface resistance and stable surface resistance over time compared to conventional auxiliary carbonate compounds for antistatic agents.

본 발명자들은, 종래의 대전 방지제용 보조제인 카보네이트 화합물에 비해서, 낮은 표면 저항이 얻어지며, 또한, 시간 경과적으로도 안정적인 표면 저항이 얻어지는 대전 방지 보조제에 대해서 예의 검토하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The present inventors have carefully studied an antistatic auxiliary agent that achieves low surface resistance and stable surface resistance over time compared to carbonate compounds, which are conventional auxiliary agents for antistatic agents, and completed the present invention. It has arrived.

즉 본 발명은, 이하의〔1〕∼〔12〕를 제공하는 것이다.That is, the present invention provides the following [1] to [12].

〔1〕〔One〕

하기 식 (I) Equation (I)

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, R1 은 산소 원자를 함유하는 탄화수소기, 하이드록시기, 또는 카르복시기를 나타내고, (Wherein, R 1 represents a hydrocarbon group containing an oxygen atom, a hydroxy group, or a carboxyl group,

R2 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기, 하이드록시기, 카르복시기, 혹은 수소 원자를 나타낸다.) R 2 represents a hydrocarbon group, hydroxy group, carboxyl group, or hydrogen atom that may contain an oxygen atom.)

로 나타내는 화합물을 함유하는, 대전 방지 보조제.An antistatic auxiliary containing the compound represented by .

〔2〕〔2〕

R1 이 에테르 결합을 갖는 탄화수소기를 나타내는,〔1〕에 기재된 대전 방지 보조제.The antistatic auxiliary agent according to [1], wherein R 1 represents a hydrocarbon group having an ether bond.

〔3〕〔3〕

R1 이 하기 식 (II) R 1 is the following formula (II)

-R3-O-R4 (II) -R 3 -OR 4 (II)

(식 중, R3 은 2 가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R4 는 탄화수소기를 나타낸다.) (In the formula, R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, and R 4 represents a hydrocarbon group.)

로 나타내는 기인,〔1〕에 기재된 대전 방지 보조제.The antistatic auxiliary agent described in [1].

〔4〕〔4〕

R2 가 수소 원자를 나타내는,〔1〕에 기재된 대전 방지 보조제.The antistatic auxiliary agent according to [1], wherein R 2 represents a hydrogen atom.

〔5〕〔5〕

대전 방지제와,〔1〕에 기재된 대전 방지 보조제를 함유하는 조성물.A composition containing an antistatic agent and an antistatic auxiliary agent according to [1].

〔6〕〔6〕

대전 방지제가 카티온과 아니온으로 이루어지는 염이고, 카티온과 아니온 중 어느 일방 또는 양방이 유기 이온인〔5〕에 기재된 조성물.The composition according to [5], wherein the antistatic agent is a salt consisting of a cation and an anion, and one or both of the cation and anion are organic ions.

〔7〕〔7〕

아크릴계 점착제와, 대전 방지제와,〔1〕에 기재된 대전 방지 보조제를 함유하는 점착제 조성물.An adhesive composition containing an acrylic adhesive, an antistatic agent, and an antistatic auxiliary agent according to [1].

〔8〕〔8〕

아크릴계 점착제와, 대전 방지제와,〔1〕에 기재된 대전 방지 보조제를 함유하는 점착제층.An adhesive layer containing an acrylic adhesive, an antistatic agent, and an antistatic auxiliary agent according to [1].

〔9〕〔9〕

기재층과〔8〕에 기재된 점착제층을 형성하여 이루어지는 점착 시트.An adhesive sheet formed by forming a base layer and an adhesive layer as described in [8].

〔10〕〔10〕

기재층과〔8〕에 기재된 점착제층을 포함하는 표면 보호 필름.A surface protection film comprising a base material layer and an adhesive layer according to [8].

〔11〕〔11〕

광학 필름과〔8〕에 기재된 점착제층을 포함하는 점착제 부착 광학 필름.An optical film with an adhesive comprising an optical film and an adhesive layer according to [8].

〔12〕〔12〕

대전 방지 보조제를 제조하기 위한, 하기 식 (I) For preparing an antistatic auxiliary, the following formula (I)

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 중, R1 은 산소 원자를 함유하는 탄화수소기, 하이드록시기, 또는 카르복시기를 나타내고, (Wherein, R 1 represents a hydrocarbon group containing an oxygen atom, a hydroxy group, or a carboxyl group,

R2 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기, 하이드록시기, 카르복시기, 혹은 수소 원자를 나타낸다.) R 2 represents a hydrocarbon group, hydroxy group, carboxyl group, or hydrogen atom that may contain an oxygen atom.)

로 나타내는 화합물의 사용.Use of compounds represented by .

본 발명은 저저항 표면이 얻어지며, 또한, 그 시간 경과적 안정성이 우수한 대전 방지 보조제를 제공한다.The present invention provides an antistatic auxiliary agent that produces a low-resistance surface and has excellent stability over time.

도 1 은, 보조제 1 의 IR 측정 결과.
도 2 는, 보조제 2 의 IR 측정 결과.
도 3 은, 보조제 3 의 IR 측정 결과.
Figure 1 shows the IR measurement results of auxiliary agent 1.
Figure 2 shows the IR measurement results of adjuvant 2.
Figure 3 shows the IR measurement results of auxiliary agent 3.

본 발명의 대전 방지 보조제는, 하기 식 (I) The antistatic auxiliary of the present invention has the following formula (I)

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 중, R1 은 산소 원자를 함유하는 탄화수소기, 하이드록시기, 또는 카르복시기를 나타내고, (Wherein, R 1 represents a hydrocarbon group containing an oxygen atom, a hydroxy group, or a carboxyl group,

R2 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기, 하이드록시기, 카르복시기, 혹은 수소 원자를 나타낸다.) R 2 represents a hydrocarbon group, hydroxy group, carboxyl group, or hydrogen atom that may contain an oxygen atom.)

로 나타내는 화합물을 함유한다.Contains the compound represented by .

산소 원자를 함유하는 탄화수소기에 있어서, 산소 원자는, 하이드록시기, 에테르 (-O-), 에스테르 (-O-CO- 또는 -CO-O-), 및, 카르보닐 (-CO-) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기로서 함유된다. 산소 원자를 함유하는 탄화수소기는, 바람직하게는 적어도 1 종의 에테르 (-O-) 결합을 갖는 탄화수소기이다.In the hydrocarbon group containing an oxygen atom, the oxygen atom consists of a hydroxy group, ether (-O-), ester (-O-CO- or -CO-O-), and carbonyl (-CO-). It is contained as at least one type of group selected from the group. The hydrocarbon group containing an oxygen atom is preferably a hydrocarbon group having at least one type of ether (-O-) bond.

산소 원자를 함유하는 탄화수소기의 산소 원자의 수는, 바람직하게는 1 ∼ 5 개, 보다 바람직하게는 1 ∼ 3 개, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 2 개이다.The number of oxygen atoms in the hydrocarbon group containing oxygen atoms is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.

산소 원자를 함유하는 탄화수소기 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기의 탄화수소기에 있어서, 하나의 바람직한 양태로는 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기, 보다 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 12 의 탄화수소기를 들 수 있다.In the hydrocarbon group of a hydrocarbon group containing an oxygen atom or a hydrocarbon group that may contain an oxygen atom, one preferred embodiment includes a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. .

바람직한 R1 은 하기 식 (II) Preferred R 1 is represented by the following formula (II)

-R3-O-R4 (II) -R 3 -OR 4 (II)

(식 중, R3 은 2 가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R4 는 탄화수소기를 나타낸다.) (In the formula, R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, and R 4 represents a hydrocarbon group.)

로 나타내는 기이다.It is a group represented by .

R3 으로 나타내는 2 가의 지방족 탄화수소기로는, 탄소수 1 ∼ 8 의 2 가의 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 예를 들어, -(CH2)n1- (n1 은 1 ∼ 8 의 정수를 나타낸다), -CH(CH3)-(CH2)n2- (n2 는 1 ∼ 6 의 정수를 나타낸다), -C(CH3)2-(CH2)n3- (n3 은 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다) 등을 들 수 있고, -(CH2)- 가 바람직하다.The divalent aliphatic hydrocarbon group represented by R 3 is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, for example -(CH 2 ) n1 - (n1 represents an integer of 1 to 8), -CH( CH 3 )-(CH 2 ) n2 - (n2 represents an integer from 1 to 6), -C(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) n3 - (n3 represents an integer from 1 to 5), etc. can be, and -(CH 2 )- is preferable.

R4 로 나타내는 탄화수소기로는, 포화 직사슬형 탄화수소기, 포화 분기 사슬형 탄화수소기, 포화 고리형 탄화수소기, 불포화 직사슬형 탄화수소기, 불포화 분기 사슬형 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 방향 지방족 탄화수소기를 들 수 있다. 하나의 양태로서 R4 로 나타내는 탄화수소기로는, 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기가 바람직하다.The hydrocarbon group represented by R 4 includes a saturated straight-chain hydrocarbon group, a saturated branched-chain hydrocarbon group, a saturated cyclic hydrocarbon group, an unsaturated straight-chain hydrocarbon group, an unsaturated branched-chain hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic aliphatic hydrocarbon group. I can hear it. In one embodiment, the hydrocarbon group represented by R 4 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.

상기 포화 직사슬형 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기 등의 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형의 알킬기를 들 수 있다.Examples of the saturated linear hydrocarbon group include linear alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, and n-propyl group.

상기 포화 분기 사슬형 탄화수소기로는, 이소프로필기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-에틸헥실기 등의 탄소수 3 ∼ 10 의 분기 사슬형 알킬기를 들 수 있다.Examples of the saturated branched hydrocarbon group include branched alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, such as isopropyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, and 2-ethylhexyl group.

상기 포화 고리형 탄화수소기로는, 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 노르보르닐기, 아다만틸기 등의 시클로알킬기나, 메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기를 들 수 있다.Examples of the saturated cyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, norbornyl group, and adamantyl group, methylcyclohexyl group, and ethylcyclohexyl group.

상기 불포화 직사슬형 탄화수소기로는, 비닐기, 비닐리덴기, 알릴기, 부테닐기 등, CH2=C 의 구조를 갖는 탄소수 2 ∼ 10 의 직사슬형의 알케닐기 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated linear hydrocarbon group include vinyl group, vinylidene group, allyl group, butenyl group, and linear alkenyl group of 2 to 10 carbon atoms having a CH 2 =C structure.

상기 불포화 분기 사슬형 탄화수소기로는, 프로펜-2-일기, 부텐-2-일기, 부텐-3-일기 등의 탄소수 3 ∼ 10 의 분기 사슬형 알케닐기, 부틴-3-일기 등의 탄소수 4 ∼ 10 의 분기 사슬형 알키닐기 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated branched hydrocarbon group include branched alkenyl groups having 3 to 10 carbon atoms such as propen-2-yl group, buten-2-yl group and buten-3-yl group, and branched alkenyl groups having 4 to 10 carbon atoms such as butyn-3-yl group. 10 branched chain alkynyl groups, etc.

상기 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기 등의 탄소수 6 ∼ 10 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, and naphthyl group.

상기 방향 지방족 탄화수소기로는, 벤질기, 메틸벤질기, β-페닐에틸기 (페네틸기), 1-페닐에틸기, 1-메틸-1-페닐에틸기, p-메틸벤질기, 스티릴기, 신나밀기 등의 탄소수 7 ∼ 10 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다.The aromatic aliphatic hydrocarbon group includes benzyl group, methylbenzyl group, β-phenylethyl group (phenethyl group), 1-phenylethyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, styryl group, cinnamyl group, etc. An aromatic hydrocarbon group having 7 to 10 carbon atoms is included.

산소 원자를 함유하는 탄화수소기로는, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, n-프로필옥시메틸기, 이소프로필옥시메틸기, n-부틸옥시메틸기, 이소부틸옥시메틸기, tert-부틸옥시메틸기, (2-에틸헥실)옥시메틸기, 알릴옥시메틸기, (2-프로페닐옥시)메틸, 2-메톡시에틸기, 3-메톡시프로필기, 4-메톡시부틸기, 5-메톡시펜틸기, 6-메톡시헥실기, 7-메톡시헵틸기, 8-메톡시옥틸기, 9-메톡시노닐기, 10-메톡시데실기, 2-에톡시에틸기, 3-에톡시프로필기, 4-에톡시부틸기, 2-(2'-메톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-에톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-tert-부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-펜틸옥시에톡시)에틸기, 2-〔2'-(2"-에틸부틸옥시)에톡시〕에틸기, 2-(2'-n-헥실옥시에톡시)에틸기, 2-〔2'-(3"-에틸펜틸옥시)에톡시〕에틸기, 2-(2'-n-헵틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-옥틸옥시에톡시)에틸기 등을 들 수 있다.Hydrocarbon groups containing oxygen atoms include methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-propyloxymethyl group, isopropyloxymethyl group, n-butyloxymethyl group, isobutyloxymethyl group, tert-butyloxymethyl group, (2-ethylhexyl) )Oxymethyl group, allyloxymethyl group, (2-propenyloxy)methyl, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 5-methoxypentyl group, 6-methoxyhexyl group , 7-methoxyheptyl group, 8-methoxyoctyl group, 9-methoxynonyl group, 10-methoxydecyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, 4-ethoxybutyl group, 2- (2'-methoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-ethoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-propyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-isopropyloxyethoxy) ) Ethyl group, 2-(2'-n-butyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-isobutyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-tert-butyloxyethoxy)ethyl group, 2-( 2'-n-pentyloxyethoxy)ethyl group, 2-[2'-(2"-ethylbutyloxy)ethoxy]ethyl group, 2-(2'-n-hexyloxyethoxy)ethyl group, 2-[2 '-(3"-ethylpentyloxy)ethoxy]ethyl group, 2-(2'-n-heptyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-octyloxyethoxy)ethyl group, etc.

산소 원자를 함유하는 탄화수소기로는, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, n-프로필옥시메틸기, 이소프로필옥시메틸기, n-부틸옥시메틸기, 이소부틸옥시메틸기, tert-부틸옥시메틸기, (2-에틸헥실)옥시메틸기, 알릴옥시메틸기, 2-(2'-메톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-에톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-tert-부틸옥시에톡시)에틸기 등이 바람직하다.Hydrocarbon groups containing oxygen atoms include methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-propyloxymethyl group, isopropyloxymethyl group, n-butyloxymethyl group, isobutyloxymethyl group, tert-butyloxymethyl group, (2-ethylhexyl) ) Oxymethyl group, allyloxymethyl group, 2-(2'-methoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-ethoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-propyloxyethoxy)ethyl group, 2 -(2'-isopropyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-butyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-isobutyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-tert- Butyloxyethoxy)ethyl group and the like are preferred.

본 발명의 대전 방지 보조제는, 대전 방지제와 함께 점착제나 그 밖의 수지 제품에 사용하는 경우, 취급의 관점 등에서 10 ℃ 이상에 있어서 액체인 것이 바람직하다. 또, 점착제나 그 밖의 수지 제품의 수지나 병용하는 대전 방지제와의 상용성이 양호한 것이 바람직하다.When the antistatic auxiliary of the present invention is used together with an antistatic agent in an adhesive or other resin product, it is preferable that it is a liquid at 10°C or higher from the viewpoint of handling, etc. Additionally, it is desirable to have good compatibility with the resin of the adhesive or other resin products or with the antistatic agent used together.

본 발명에 있어서의 대전 방지제로는, 공지된 대전 방지제를 널리 사용할 수 있어, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 Q·A- (Q 는 유기 암모늄 이온, 유기 포스포늄 이온, 유기 술포늄 이온, 이미다졸륨 이온 또는 피리디늄 이온을 나타낸다. A- 는 유기 또는 무기의 아니온을 나타낸다.) 로 나타내는 오늄염의 대전 방지제를 들 수 있다. 이와 같은 대전 방지제는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2019-147771, 일본 공개특허공보 2019-108414, 일본 공개특허공보 2019-85570, 일본 공개특허공보 2019-65173, 일본 공개특허공보 2018-150257, 일본 공개특허공보 2017-218465, 일본 공개특허공보 2017-48149, 일본 공개특허공보 2016-188315 등에 개시되어 있는 대전 방지제를 들 수 있다. 점착제용 수지에 대해서 대전 방지제를 사용하는 경우, 점착제용 수지와의 상용성이 양호한 것을 사용하는 것이 바람직하다.As the antistatic agent in the present invention, known antistatic agents can be widely used and are not particularly limited, but examples include Q + · A - (Q + is an organic ammonium ion, an organic phosphonium ion, and an organic sulfonium ion. , represents an imidazolium ion or a pyridinium ion. A - represents an organic or inorganic anion.) Examples include antistatic agents of onium salts represented by . Such antistatic agents are, for example, Japanese Patent Publication No. 2019-147771, Japanese Patent Publication No. 2019-108414, Japanese Patent Publication No. 2019-85570, Japanese Patent Publication No. 2019-65173, Japanese Patent Publication No. 2018-150257, Japan. Antistatic agents disclosed in Unexamined Patent Publication 2017-218465, Japanese Unexamined Patent Publication 2017-48149, Japanese Unexamined Patent Publication 2016-188315, etc. can be mentioned. When using an antistatic agent for the adhesive resin, it is preferable to use one that has good compatibility with the adhesive resin.

바람직한 Q 로는, 하기의 식 (2b) ∼ 식 (5e) 의 카티온을 들 수 있다.Preferred examples of Q + include cations of the following formulas (2b) to (5e).

Figure pat00004
Figure pat00004

(R1b ∼ R3b 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기이고, R4b 는 수소 원자, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기이다. R1b 와 R2b 는 말단에서 서로 결합하여, 치환기를 가져도 되는 피롤리딘 고리, 치환기를 가져도 되는 피페리딘 고리 또는 치환기를 가져도 되는 피리딘 고리를 형성해도 된다. 단, R1b 와 R2b 가 말단에서 서로 결합하여 피리딘 고리를 형성하는 경우에는, R3b 는 존재하지 않는다.) (R 1b to R 3b are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom , or an aralkyl group of 7 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and R 4b is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an aralkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom. It is an alkenyl group, an aryl group with 6 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an aralkyl group with 7 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom. R 1b and R 2b are bonded to each other at the terminals and have a substituent. It may form a pyrrolidine ring, a piperidine ring which may have a substituent, or a pyridine ring which may have a substituent. However, when R 1b and R 2b are bonded to each other at the terminals to form a pyridine ring, R 3b does not exist.)

Figure pat00005
Figure pat00005

(R1c ∼ R3c 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 알케닐기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기이고, R4c 는 수소 원자, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기이고, R1c 와 R2c 는 말단에서 서로 결합하여, 치환기를 가져도 되는 포스포란 고리, 치환기를 가져도 되는 포스포리난 고리 또는 치환기를 가져도 되는 포스포린 고리를 형성해도 된다. 단, R1c 와 R2c 가 말단에서 서로 결합하여 포스포린 고리를 형성하는 경우에는, R3c 는 존재하지 않는다.) (R 1c to R 3c are an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an alkenyl group of 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an aralkyl group of 7 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and R 4c is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom. It is a nyl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and R 1c and R 2c are bonded to each other at the terminals and may have a substituent. It may form a phosphorane ring, a phosphorinane ring that may have a substituent, or a phosphorine ring that may have a substituent. However, when R 1c and R 2c are bonded to each other at the terminals to form a phosphorine ring, R 3c does not exist.)

Figure pat00006
Figure pat00006

(R1d, R5d 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 알케닐기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기이고, R2d ∼ R4d 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐옥시기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴옥시기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬옥시기이다.) (R 1d and R 5d are an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an alkenyl group with 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an aryl group with 6 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and R 2d to R 4d are a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group with 1 to 20 carbon atoms, an aryl group with 6 to 20 carbon atoms, or a carbon number. An aralkyl group with 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 20 carbon atoms, an alkenyloxy group with 1 to 20 carbon atoms, an aryloxy group with 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyloxy group with 7 to 20 carbon atoms.)

Figure pat00007
Figure pat00007

(R1e 는, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 또는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기이고, R2e, R3e 는 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 트리플루오로메틸기, 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알콕시기를 나타낸다.) (R 1e is an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an alkenyl group with 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, an aryl group with 6 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, or is an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and R 2e and R 3e are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom, It represents an alkoxy group with 1 to 20 carbon atoms.)

R1e 와 R2e 는 서로 말단에서 결합하여 고리를 형성해도 되고, R1e 와 R2e 가 서로 결합하여 고리를 형성하는 경우, 예를 들어, 피페리딘 고리, 피롤리딘 고리, 모르폴린 고리 등을 형성해도 된다.R 1e and R 2e may be bonded to each other at the ends to form a ring, and when R 1e and R 2e are bonded to each other to form a ring, for example, a piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, etc. may be formed.

여기에서 상기한 식 (2b) 로 나타내고 있는 R1b ∼ R3b, R4b, 식 (3c) 로 나타내고 있는 R1c ∼ R3c, R4c, 식 (4d) 로 나타내고 있는 R1d, R5d, R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e ∼ R3e 의 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기는 직사슬형, 분지 사슬형, 고리형 중 어느 것이어도 된다. 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 이코실기, 2-에틸헥실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기이다.Here, R 1b to R 3b and R 4b represented by the formula (2b), R 1c to R 3c and R 4c represented by the formula (3c), and R 1d , R 5d and R represented by the formula (4d). The alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms for R 1e to R 3e represented by 2d to R 4d and formula (5e) may be linear, branched, or cyclic. Alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, icosyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, Cyclobutyl group, cyclohexyl group, etc. are mentioned, and methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group, decyl group, and dodecyl group are preferable.

식 (2b) 로 나타내고 있는 R1b ∼ R3b, R4b, 식 (3c) 로 나타내고 있는 R1c ∼ R3c, R4c, 식 (4d) 로 나타내고 있는 R1d, R5d, R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e 의 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기로는, 비닐기, 알릴기, 1-프로페닐기, 이소프로페닐기, 부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 운데세닐기, 도데세닐기, 시클로부테닐기, 시클로펜테닐기, 시클로헥세닐기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 비닐기, 알릴기이다.R 1b to R 3b and R 4b represented by formula (2b), R 1c to R 3c and R 4c represented by formula (3c), and R 1d , R 5d , and R 2d to R 4d represented by formula (4d). , Alkenyl groups having 1 to 20 carbon atoms for R 1e shown in formula (5e) include vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, 1,3-butadienyl group, pentenyl group, Hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, undecenyl group, dodecenyl group, cyclobutenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc., preferably vinyl group and allyl group. It's awesome.

식 (2b) 로 나타내고 있는 R1b ∼ R3b, R4b, 식 (3c) 로 나타내고 있는 R1c ∼ R3c, R4c, 식 (4d) 로 나타내고 있는 R1d, R5d, R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e 의 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 페닐기이다.R 1b to R 3b and R 4b represented by formula (2b), R 1c to R 3c and R 4c represented by formula (3c), and R 1d , R 5d , and R 2d to R 4d represented by formula (4d). , Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms for R 1e represented by formula (5e) include phenyl group, naphthyl group, and anthracene group, and phenyl group is preferred.

식 (2b) 로 나타내고 있는 R1b ∼ R3b, R4b, 식 (3c) 로 나타내고 있는 R1c ∼ R3c, R4c, 식 (4d) 로 나타내고 있는 R1d, R5d, R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e 의 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기로는, 벤질기, 메틸벤질기, β-페닐에틸기 (페네틸기), 1-페닐에틸기, 1-메틸-1-페닐에틸기, p-메틸벤질기, 스티릴기, 신나밀기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 벤질기이다.R 1b to R 3b and R 4b represented by formula (2b), R 1c to R 3c and R 4c represented by formula (3c), and R 1d , R 5d , and R 2d to R 4d represented by formula (4d). , The aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms for R 1e shown in formula (5e) includes benzyl group, methylbenzyl group, β-phenylethyl group (phenethyl group), 1-phenylethyl group, and 1-methyl-1-phenylethyl group. , p-methylbenzyl group, styryl group, cinnamyl group, etc., and benzyl group is preferred.

식 (2b) 로 나타내고 있는 R1b ∼ R3b, R4b, 식 (3c) 로 나타내고 있는 R1c ∼ R3c, R4c, 식 (4d) 로 나타내고 있는 R1d, R5d, R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e 가 산소 원자를 함유하는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하는 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 산소 원자를 함유하는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기 또는 산소 원자를 함유하는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기인 경우, 산소 원자는, 하이드록시기, 에테르 (-O-), 에스테르 (-O-CO- 또는 -CO-O-), 및, 카르보닐 (-CO-) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기로서 함유되고, 바람직하게는 적어도 1 종의 에테르 (-O-) 결합을 포함하는 기이다.R 1b to R 3b and R 4b represented by formula (2b), R 1c to R 3c and R 4c represented by formula (3c), and R 1d , R 5d , and R 2d to R 4d represented by formula (4d). , R 1e shown in formula (5e) is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms containing an oxygen atom, an alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms containing an oxygen atom, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms containing an oxygen atom, or oxygen. In the case of an aralkyl group containing 7 to 20 carbon atoms, the oxygen atom is a hydroxy group, ether (-O-), ester (-O-CO- or -CO-O-), and carbonyl (- It contains at least one type of group selected from the group consisting of CO-), and is preferably a group containing at least one type of ether (-O-) bond.

산소 원자를 함유하는 경우의 산소 원자의 수는, 바람직하게는 1 ∼ 5 개, 보다 바람직하게는 1 ∼ 3 개, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 2 개이다.When it contains oxygen atoms, the number of oxygen atoms is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2.

식 (2b) 로 나타내고 있는 R1b ∼ R3b, R4b, 식 (3c) 로 나타내고 있는 R1c ∼ R3c, R4c, 식 (4d) 로 나타내고 있는 R1d, R5d, R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e 의 산소 원자를 함유하는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 산소 원자를 함유하는 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐기, 산소 원자를 함유하는 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기 또는 산소 원자를 함유하는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기의 예로는, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, n-프로필옥시메틸기, 이소프로필옥시메틸기, n-부틸옥시메틸기, 이소부틸옥시메틸기, tert-부틸옥시메틸기, (2-에틸헥실)옥시메틸기, 2-(2'-메톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-에톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-tert-부틸옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-펜틸옥시에톡시)에틸기, 2-〔2'-(2"-에틸부틸옥시)에톡시〕에틸기, 알릴옥시메틸기, 알릴옥시에틸기, 1-프로페닐옥시메틸기, 1-프로페닐옥시에틸기, 이소프로페닐옥시메틸기, 이소프로페닐옥시에틸기, 부테닐옥시메틸기, 부테닐옥시에틸기, 4-메톡시페닐기, 4-메톡시벤질기, 페닐옥시메틸기, 페닐옥시에틸기, 나프틸옥시메틸기, 나프틸옥시에틸기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 이소프로필옥시메틸기, (2-에틸헥실)옥시메틸기, 2-(2'-메톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-에톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-프로필옥시에톡시)에틸기, 2-(2'-이소프로필옥시에톡시)에틸기를 들 수 있다.R 1b to R 3b and R 4b represented by formula (2b), R 1c to R 3c and R 4c represented by formula (3c), and R 1d , R 5d , and R 2d to R 4d represented by formula (4d). , an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms containing an oxygen atom for R 1e represented by formula (5e), an alkenyl group of 1 to 20 carbon atoms containing an oxygen atom, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms or oxygen containing an oxygen atom. Examples of aralkyl groups containing 7 to 20 carbon atoms include methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-propyloxymethyl group, isopropyloxymethyl group, n-butyloxymethyl group, isobutyloxymethyl group, and tert-butyloxymethyl group. , (2-ethylhexyl)oxymethyl group, 2-(2'-methoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-ethoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-propyloxyethoxy)ethyl group , 2-(2'-isopropyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-butyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-isobutyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'- tert-butyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-pentyloxyethoxy)ethyl group, 2-[2'-(2"-ethylbutyloxy)ethoxy]ethyl group, allyloxymethyl group, allyloxyethyl group , 1-propenyloxymethyl group, 1-propenyloxyethyl group, isopropenyloxymethyl group, isopropenyloxyethyl group, butenyloxymethyl group, butenyloxyethyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-methoxybenzyl group, Examples include phenyloxymethyl group, phenyloxyethyl group, naphthyloxymethyl group, naphthyloxyethyl group, etc., preferably methoxymethyl group, ethoxymethyl group, isopropyloxymethyl group, (2-ethylhexyl)oxymethyl group, 2- (2'-methoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-ethoxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-n-propyloxyethoxy)ethyl group, 2-(2'-isopropyloxyethoxy) ) An ethyl group can be mentioned.

식 (4d) 로 나타내고 있는 R2d ∼ R4d, 식 (5e) 로 나타내고 있는 R1e 의, 탄소수 1 ∼ 20 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알케닐옥시기, 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴옥시기 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬옥시기의 예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시메틸기, 이소부틸옥시기, tert-부틸옥시기, (2-에틸헥실)옥시기, 2-메톡시에톡시기, 2-(n-프로필옥시)에톡시기, 2-(이소프로필옥시)에톡시기, 2-(n-부틸옥시)에톡시기, 2-(이소부틸옥시)에톡시기, 2-(tert-부틸옥시)에톡시기, 2-(n-펜틸옥시)에톡시기, 2-(2'-에틸부틸옥시)에톡시기, 알릴옥시기, 1-프로페닐옥시기, 이소프로페닐옥시기, 부테닐옥시기, 4-메톡시페닐기, 페녹시기, 나프틸옥시기 등을 들 수 있다.R 2d to R 4d represented by formula (4d), R 1e represented by formula (5e), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, or Examples of aralkyloxy groups having 7 to 20 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxymethyl group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, (2- Ethylhexyl)oxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-(n-propyloxy)ethoxy group, 2-(isopropyloxy)ethoxy group, 2-(n-butyloxy)ethoxy group, 2-(iso Butyloxy) ethoxy group, 2-(tert-butyloxy) ethoxy group, 2-(n-pentyloxy) ethoxy group, 2-(2'-ethylbutyloxy) ethoxy group, allyloxy group, 1-propenyl oxide group, isopropenyloxy group, butenyloxy group, 4-methoxyphenyl group, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.

A- 로는, 트리플루오로메탄술폰산 아니온, 노나플루오로부탄술폰산 아니온, 비스(플루오로술포닐)이미드 아니온, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 아니온, 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드 아니온 등의 비스(퍼플루오로알킬술포닐)이미드 아니온, 테트라플루오로보레이트 아니온, 헥사플루오로포스페이트 아니온, 불화물 이온, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 티오시아네이트 이온, 요오드화물 이온, 아세트산 이온, 메톡시아세트산 이온, 에톡시아세트산 이온, 프로폭시아세트산 이온, (2-메톡시에톡시)아세트산 이온, (2-에톡시에톡시)아세트산 이온, 트리플루오로아세트산 이온, 펜타플루오로프로피온산 이온, 헵타플루오로부탄산 이온, 펜타데카플루오로옥탄산 이온, 벤조산 이온 등의 카르복실산 이온, 메탄술폰산 이온, 에탄술폰산 이온, 트리플루오로메탄술폰산 이온, 펜타플루오로에탄술폰산 이온, p-톨루엔술폰산 이온, p-도데실벤젠술폰산 이온 등의 술폰산 이온, 메틸인산모노에스테르 이온, 에틸인산모노에스테르 이온, 프로필인산모노에스테르 이온, 메틸인산디에스테르 이온, 에틸인산디에스테르 이온 등의 인산 이온, 식 (III) 으로 나타내는 아니온을 들 수 있다.A - is trifluoromethanesulfonate anion, nonafluorobutanesulfonate anion, bis(fluorosulfonyl)imide anion, bis(trifluoromethanesulfonyl)imide anion, bis(pentafluor Bis(perfluoroalkylsulfonyl)imide anion such as loethanesulfonyl)imide anion, tetrafluoroborate anion, hexafluorophosphate anion, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, thio Cyanate ion, iodide ion, acetate ion, methoxyacetate ion, ethoxyacetate ion, propoxyacetate ion, (2-methoxyethoxy)acetate ion, (2-ethoxyethoxy)acetate ion, trifluoride Carboxylic acid ions such as loacetate ion, pentafluoropropionate ion, heptafluorobutanoate ion, pentadecafluorooctanoate ion, benzoate ion, methanesulfonate ion, ethanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion, penta Sulfonic acid ions such as fluoroethanesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, and p-dodecylbenzenesulfonate ion, methyl phosphate monoester ion, ethyl phosphate monoester ion, propyl phosphate monoester ion, methyl phosphate diester ion, and ethyl phosphorus. Phosphate ions such as acid diester ions, and anions represented by formula (III) can be mentioned.

Figure pat00008
Figure pat00008

(식 중, RIIIa ∼ RIIId 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기를 나타낸다.) (In the formula, R IIIa to R IIId each independently represent a fluorine atom or a hydrocarbon group that may have a substituent.)

탄화수소기로는, 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, RIIIa ∼ RIIId 중 적어도 어느 1 개 이상이 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. RIIIa ∼ RIIId 에 있어서 탄화수소기의 탄소수로는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 14, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 6 이다.Examples of the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group, and it is preferable that at least one of R IIIa to R IIId is an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent. In R IIIa to R IIId , the number of carbon atoms of the hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 14, and still more preferably 1 to 6.

지방족 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 에티닐기, 프로피닐기, 펜티닐기, 헥시닐기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기로는, 예를 들어, 페닐기, 비페닐기, 비페닐레닐기, 아줄레닐기, 터페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 나프타세닐기, 페난트릴기, 플루오레닐기를 들 수 있고, 바람직하게는 페닐기이다.Aliphatic hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, ethenyl, propenyl, butenyl, and pentenyl. , hexenyl group, ethynyl group, propynyl group, pentynyl group, hexynyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. Examples of aromatic hydrocarbon groups include phenyl group, biphenyl group, biphenylenyl group, azulenyl group, terphenyl group, naphthyl group, anthryl group, naphthacenyl group, phenanthryl group, and fluorenyl group, and are preferred. It is a phenyl group.

RIIIa ∼ RIIId 에 있어서, 상기 탄화수소기가 치환기를 갖는 경우, 당해 치환기로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐기, 메톡시기, 에톡시기, tert-부톡시기 등의 알콕시기, 페녹시기, p-톨릴옥시기 등의 아릴옥시기, 벤질옥시기 등의 아르알킬옥시기, 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기 등의 알킬기, 페닐기, p-톨릴기, 자일릴기, 쿠메닐기, 나프틸기, 페난트릴기 등의 아릴기, 벤질기 등의 아르알킬기 등의 외에, 하이드록실기, 아미노기 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐기, 메톡시기, 에톡시기, tert-부톡시기 등의 알콕시기, 페녹시기, p-톨릴옥시기 등의 아릴옥시기, 벤질옥시기 등의 아르알킬옥시기이고, 특히 바람직하게는 불소 원자이다. 치환기의 수는, 바람직하게는 1 ∼ 9 개, 보다 바람직하게는 1 ∼ 7 개, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 5 개이다.For R IIIa to R IIId , when the hydrocarbon group has a substituent, the substituent includes, for example, a halogen group such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methoxy group, an ethoxy group, and a tert-butoxy group. Alkoxy groups such as phenoxy groups, aryloxy groups such as p-tolyloxy groups, aralkyloxy groups such as benzyloxy groups, alkyl groups such as methyl groups, ethyl groups, tert-butyl groups, and dodecyl groups, phenyl groups, and p-tolyl groups. In addition to aryl groups such as aryl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, and phenanthryl group, and aralkyl groups such as benzyl group, hydroxyl group, amino group, etc. can be mentioned. Preferably, halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, and tert-butoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and p-tolyloxy group, and benzyl. It is an aralkyloxy group such as an oxy group, and a fluorine atom is particularly preferable. The number of substituents is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 7, and still more preferably 1 to 5.

식 (III) 으로 나타내는 아니온으로는, 예를 들어, 테트라페닐보레이트 아니온, 테트라키스(4-클로로페닐)보레이트 아니온, 테트라키스(4-플루오로페닐)보레이트 아니온, 테트라키스(4-메틸페닐)보레이트 아니온, 테트라키스[4-(트리플루오로메틸)]페닐보레이트 아니온, 테트라키스(4-메톡시페닐)보레이트 아니온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 아니온 등을 들 수 있다.Anions represented by formula (III) include, for example, tetraphenylborate anion, tetrakis(4-chlorophenyl)borate anion, tetrakis(4-fluorophenyl)borate anion, tetrakis(4) -methylphenyl)borate anion, tetrakis[4-(trifluoromethyl)]phenylborate anion, tetrakis(4-methoxyphenyl)borate anion, tetrakis(pentafluorophenyl)borate anion, etc. I can hear it.

본 발명의 대전 방지 보조제는, 대전 방지제와 함께 점착제나 하드 코트제, 도료, 그 밖의 수지에 혼합하여 사용할 수 있다.The antistatic auxiliary of the present invention can be used by mixing it with an antistatic agent in an adhesive, hard coat agent, paint, or other resin.

이 때, 대전 방지제와 대전 방지 보조제를 혼합하여 본 발명의 대전 방지제와 대전 방지 보조제를 함유하는 조성물로 하고, 당해 조성물을 점착제나 하드 코트제, 도료, 그 밖의 수지에 첨가하여 사용할 수도 있다.At this time, the antistatic agent and the antistatic auxiliary are mixed to form a composition containing the antistatic agent and the antistatic auxiliary of the present invention, and the composition can be used by adding it to an adhesive, hard coat agent, paint, or other resin.

여기에서, 대전 방지용 보조제로서 사용하는 대전 방지제를 용해시킬 수 있는 대전 방지용 보조제를 선택함으로써, 당해 조성물을 점착제나 하드 코트제, 도료, 그 밖의 수지에 첨가하여 사용할 때에, 대전 방지제를 용해시키기 위한 용매의 사용을 생략할 수도 있다.Here, by selecting an antistatic auxiliary that can dissolve the antistatic agent used as an antistatic auxiliary, when the composition is used by adding it to an adhesive, hard coat agent, paint, or other resin, a solvent for dissolving the antistatic agent is used. The use of can also be omitted.

또, 일반적으로, 대전 방지제나 대전 방지 보조제는, 그 메이커로부터 점착제를 도공하는 메이커에게 따로 따로 공급되고, 도공 메이커에 있어서 점착제용 수지 용액이나 희석용 용제와 함께 혼합되지만, 본 발명의 대전 방지제를 대전 방지 보조제에 용해시킨 조성액을 사용함으로써, 도공 메이커에 있어서의 점착제의 조제 작업을 생략화할 수 있다.In addition, generally, antistatic agents and antistatic auxiliaries are separately supplied from the manufacturer to the maker who applies the adhesive, and are mixed with the adhesive resin solution or dilution solvent at the coating manufacturer, but the antistatic agent of the present invention is By using a liquid composition dissolved in an antistatic auxiliary agent, the preparation work of the adhesive in the coating maker can be omitted.

대전 방지제와 대전 방지 보조제를 함유하는 본 발명의 조성물로는, 대전 방지제와 대전 방지 보조제로 이루어지는 조성물, 또는 그것을 용제로 희석한 조성물로 할 수 있다.The composition of the present invention containing an antistatic agent and an antistatic auxiliary agent may be a composition consisting of an antistatic agent and an antistatic auxiliary agent, or a composition diluted with a solvent.

대전 방지제와 대전 방지 보조제로 이루어지는 조성물로는, 대전 방지제를 0.1 ∼ 30 질량% 대전 방지 보조제에 용해시킨 조성물, 바람직하게는 대전 방지제를 0.5 ∼ 20 질량% 대전 방지 보조제에 용해시킨 조성물, 보다 바람직하게는 대전 방지제를 1.0 ∼ 10 질량% 대전 방지 보조제에 용해시킨 조성물이다.The composition comprising an antistatic agent and an antistatic auxiliary is preferably a composition in which an antistatic agent is dissolved in 0.1 to 30% by mass of an antistatic auxiliary, preferably a composition in which an antistatic agent is dissolved in 0.5 to 20% by mass of an antistatic auxiliary, more preferably is a composition in which an antistatic agent is dissolved in 1.0 to 10% by mass of an antistatic auxiliary agent.

또, 대전 방지제와 대전 방지 보조제와 용제로 이루어지는 조성물로는, 대전 방지제를 0.1 ∼ 20 질량%, 대전 방지 보조제를 30 ∼ 80 질량%, 나머지를 용제로 하는 조성물, 바람직하게는 대전 방지제를 0.1 ∼ 10 질량%, 대전 방지 보조제를 40 ∼ 70 질량%, 나머지를 용제로 하는 조성물이다.In addition, the composition consisting of an antistatic agent, an antistatic auxiliary, and a solvent is a composition containing 0.1 to 20% by mass of an antistatic agent, 30 to 80% by mass of an antistatic auxiliary, and the remainder is a solvent, preferably 0.1 to 0.1% by mass of an antistatic agent. It is a composition containing 10% by mass, 40 to 70% by mass of an antistatic auxiliary, and the remainder as a solvent.

이 경우의 용제로는, 대전 방지제, 대전 방지 보조제, 점착용 수지 조성물을 모두 용해시킬 수 있는 용제가 바람직하다. 용제로는, 예를 들어, 아세트산에틸, 메탄올, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 아세톤 등이 바람직하고, 아세트산에틸이 보다 바람직하다.The solvent in this case is preferably one that can dissolve all of the antistatic agent, antistatic auxiliary agent, and adhesive resin composition. As a solvent, for example, ethyl acetate, methanol, toluene, methyl ethyl ketone, acetone, etc. are preferable, and ethyl acetate is more preferable.

대전 방지제와 대전 방지 보조제를 함유하는 본 발명의 조성물은, 용도에 따라서 추가로 각종 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 이들 첨가제로는, 가교제, 점착 부여제, 가소제, 산화 방지제, 난연제, 투명화제 등을 들 수 있다.The composition of the present invention containing an antistatic agent and an antistatic auxiliary may further contain various additives depending on the intended use. These additives include crosslinking agents, tackifiers, plasticizers, antioxidants, flame retardants, clarifying agents, etc.

본 발명의 점착제 조성물은, 대전 방지제와 대전 방지 보조제와 점착제를 함유하고, 추가로 용매를 함유하고 있어도 된다. 상기 점착제 조성물을 수지 성형체 등의 임의의 기재 표면에 도공한 후, 필요에 따라서 용매를 제거함으로써 기재 표면에 대전 방지성의 점착층을 형성할 수 있다.The adhesive composition of the present invention contains an antistatic agent, an antistatic auxiliary agent, and an adhesive, and may further contain a solvent. After the adhesive composition is applied to the surface of an arbitrary substrate such as a resin molded body, an antistatic adhesive layer can be formed on the substrate surface by removing the solvent as necessary.

점착제로는, 공지된 것을 널리 사용할 수 있어, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제 등을 들 수 있고, 아크릴계 점착제가 바람직하다. 점착제는, 어떠한 형태를 갖고 있는 점착제이어도 되고, 예를 들어, 활성 에너지선 경화형 점착제, 용제형 (용액형) 점착제, 에멀션형 점착제, 열 용융형 점착제 (핫 멜트형 점착제) 등의 형태로 사용할 수 있다.As the adhesive, known adhesives can be widely used and are not particularly limited, but examples include acrylic adhesives, rubber adhesives, vinyl alkyl ether adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, urethane adhesives, and epoxy. These include adhesives and the like, and acrylic adhesives are preferred. The adhesive may be of any type. For example, it can be used in the form of an active energy ray-curable adhesive, a solvent-type (solution-type) adhesive, an emulsion-type adhesive, or a heat-melting adhesive (hot melt-type adhesive). there is.

아크릴계 점착제는 그 투명성이 높다는 점 등의 이유로 광학 부재 용도에서 바람직하게 사용되는 점착제이다. 이 점에서, 시간 경과에 의한 색상 변화가 적은 본 발명의 대전 방지 보조제는, 특히 아크릴계 점착제에 바람직하게 사용된다. 아크릴계 점착제는, 아크릴계 폴리머를 필수 성분으로 하여 함유하는 점착제 조성물이다. 아크릴계 점착제에는, 아크릴계 폴리머에 추가하여, 필요에 따라서, 용매 등 그 밖의 성분 (첨가제) 등이 함유되어 있어도 된다.Acrylic adhesives are preferably used in optical member applications for reasons such as their high transparency. In this regard, the antistatic auxiliary of the present invention, which shows little change in color over time, is particularly preferably used in acrylic adhesives. An acrylic adhesive is an adhesive composition containing an acrylic polymer as an essential ingredient. In addition to the acrylic polymer, the acrylic adhesive may contain other components (additives) such as a solvent as needed.

아크릴계 폴리머는, 직사슬 또는 분기 사슬형의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 필수의 모노머 성분 (단량체 성분) 으로 하여 구성되는 아크릴계 폴리머인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 별도의 명시가 없는 한,「(메트)아크릴」이란,「아크릴」및/또는「메타크릴」을 나타낸다.The acrylic polymer is preferably an acrylic polymer composed of an alkyl (meth)acrylate ester having a straight-chain or branched alkyl group as an essential monomer component (monomer component). In addition, in this specification, unless otherwise specified, “(meth)acryl” refers to “acrylic” and/or “methacryl.”

본 발명의 점착제 조성물은, 바람직하게는 점착제용 수지 100 질량부에 대해서, 대전 방지제를 0.01 ∼ 10 질량부, 대전 방지 보조제를 0.01 ∼ 30 질량부 함유하고, 보다 바람직하게는, 대전 방지제를 0.1 ∼ 5.0 질량부, 대전 방지 보조제를 0.1 ∼ 15.0 질량부 함유한다. 대전 방지 보조제의 사용량이 0.01 질량부보다 적을 경우, 대전 방지 보조제의 효과가 충분히 발휘되기 어렵고, 30 질량부보다 많을 경우에는 점착제의 점착력이 저하되는 경우가 있기 때문에, 상기 범위가 바람직하다.The adhesive composition of the present invention preferably contains 0.01 to 10 parts by mass of an antistatic agent and 0.01 to 30 parts by mass of an antistatic auxiliary, based on 100 parts by mass of resin for adhesive, and more preferably contains 0.1 to 30 parts by mass of an antistatic agent. It contains 5.0 parts by mass and 0.1 to 15.0 parts by mass of an antistatic auxiliary agent. If the amount of the antistatic auxiliary is less than 0.01 parts by mass, it is difficult to fully exert the effect of the antistatic auxiliary, and if it is more than 30 parts by mass, the adhesive strength of the adhesive may decrease, so the above range is preferable.

대전 방지제의 사용량이 0.01 질량부보다 적을 경우, 대전 방지제의 효과가 충분히 발휘되기 어렵고, 10 질량부보다 많을 경우에는 점착제의 점착력이 저하되는 경우가 있기 때문에, 상기 범위가 바람직하다.If the amount of the antistatic agent used is less than 0.01 parts by mass, it is difficult to fully exert the effect of the antistatic agent, and if it is more than 10 parts by mass, the adhesive strength of the adhesive may decrease, so the above range is preferable.

본 발명의 점착제 조성물에는, 용도에 따라서 각종 첨가제를 병용하는 것이 가능하다. 이들 첨가제로는, 가교제, 점착 부여제, 가소제, 산화 방지제, 난연제, 투명화제 등을 들 수 있다.In the adhesive composition of the present invention, various additives can be used together depending on the intended use. These additives include crosslinking agents, tackifiers, plasticizers, antioxidants, flame retardants, clarifying agents, etc.

가교제로는, 예를 들어, 아크릴계 폴리머가 수산기나 카르복실기 등의 활성 수소 함유 관능기를 갖는 경우, 이소시아네이트계 가교제를 사용할 수 있다.As a crosslinking agent, for example, when the acrylic polymer has an active hydrogen-containing functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group, an isocyanate-based crosslinking agent can be used.

이 외에, 에폭시계 가교제, 멜라민계 수지, 아지리딘 유도체, 및 금속 킬레이트 화합물 등의 가교제를 사용해도 된다. 이들 가교제는 단독으로 사용해도 되고, 조합하여 사용해도 된다.In addition to this, crosslinking agents such as epoxy-based crosslinking agents, melamine-based resins, aziridine derivatives, and metal chelate compounds may be used. These crosslinking agents may be used individually or in combination.

상기 이소시아네이트계 가교제로는, 트리메틸렌디이소시아네이트, 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 (HDI), 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 (IPDI), 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 (XDI) 등의 방향족 이소시아네이트류, 상기 이소시아네이트 화합물을 알로파네이트 결합, 뷰렛 결합, 이소시아누레이트 결합, 우레트디온 결합, 우레아 결합, 카르보디이미드 결합, 우레톤이민 결합, 옥사디아진트리온 결합 등에 의해서 변성된 폴리이소시네이트 변성체를 들 수 있다. 예를 들어, 시판품으로서, 상품명 타케네이트 300S, 타케네이트 500, 타케네이트 600, 타케네이트 D165N, 타케네이트 D178N, 타케네이트 D170N (이상, 미츠이 화학 주식회사 제조), 스미듀르 T80, 스미듀르 L, 데스모듀르 N3400 (이상, 스미카 코베스트로우레탄 주식회사 제조), 밀리오네이트 MR, 밀리오네이트 MT, 코로네이트 L, 코로네이트 HL, 코로네이트 HX (이상, 토소 주식회사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 이소시아네이트 화합물은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 혼합하여 사용해도 되며, 2 관능의 이소시아네이트 화합물과 3 관능 이상의 이소시아네이트 화합물을 병용하여 사용하는 것도 가능하다. 가교제를 병용하여 사용함으로써 점착성과 내반발성 (곡면에 대한 접착성) 을 양립시키는 것이 가능해지고, 점착제 조성물을 사용하여 점착 시트를 제조했을 때에, 보다 접착 신뢰성이 우수한 점착 시트를 얻을 수 있다.The isocyanate-based crosslinking agent includes aliphatic polyisocyanates such as trimethylene diisocyanate, butylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), and dimer acid diisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate ( IPDI), alicyclic isocyanates such as 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), etc. aromatic isocyanates, the isocyanate compound is modified by an allophanate bond, biuret bond, isocyanurate bond, urethione bond, urea bond, carbodiimide bond, uretonimine bond, oxadiazinetrione bond, etc. and polyisocinate modified products. For example, commercial products include Takenate 300S, Takenate 500, Takenate 600, Takenate D165N, Takenate D178N, Takenate D170N (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.), Sumidur T80, Sumidur L, and Desmo. Dur N3400 (above, manufactured by Sumika Kobe Strourethane Co., Ltd.), Millionate MR, Millionate MT, Coronate L, Coronate HL, Coronate HX (above, manufactured by Tosoh Corporation), etc. These isocyanate compounds may be used individually or in mixture of two or more types, and it is also possible to use a bifunctional isocyanate compound and a trifunctional or higher isocyanate compound in combination. By using a crosslinking agent in combination, it becomes possible to achieve both adhesion and repellency resistance (adhesion to curved surfaces), and when a pressure-sensitive adhesive sheet is produced using the pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive sheet with more excellent adhesive reliability can be obtained.

본 발명의 점착제 조성물은, 추가로 경화 촉매를 포함하고 있어도 된다.The adhesive composition of the present invention may further contain a curing catalyst.

가교제로서 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우, 경화 촉매로는, 예를 들어, 주석 촉매나 아민 촉매 등의 공지된 우레탄 촉매를 사용할 수 있다. 촉매 병용에 의해서, 높은 가교성 (가교도·경화성) 이 얻어지고, 높은 가교 밀도의 점착제층과 대전 방지제의 적당한 상분리에 의한 표면 이행이 발생, 높은 대전 방지성이 얻어지는 것이 되기 때문에 바람직한 양태가 된다.When using an isocyanate-based crosslinking agent as a crosslinking agent, known urethane catalysts such as tin catalysts and amine catalysts can be used as the curing catalyst, for example. By using the catalyst in combination, high crosslinking properties (crosslinking degree and curability) are obtained, surface migration occurs due to appropriate phase separation of the adhesive layer with a high crosslinking density and the antistatic agent, and high antistatic properties are obtained, which is a desirable aspect. .

상기 주석 촉매로는, 예를 들어, 디부틸주석디클로라이드, 디부틸주석옥사이드, 디부틸주석디브로마이드, 디부틸주석말레에이트, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석술파이드, 트리부틸주석메톡시드, 트리부틸주석아세테이트, 트리에틸주석에톡시드, 트리부틸주석에톡시드, 디옥틸주석옥사이드, 디옥틸주석디라우레이트, 트리부틸주석클로라이드, 트리부틸주석트리클로로아세테이트, 2-에틸헥산산주석 등을 들 수 있다. 이들 촉매는 단독으로 사용해도 되고, 조합하여 사용해도 된다.Examples of the tin catalyst include dibutyltin dichloride, dibutyltin oxide, dibutyltin dibromide, dibutyltin maleate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, and dibutyltin alcohol. Pide, tributyltin methoxide, tributyltin acetate, triethyltin ethoxide, tributyltin ethoxide, dioctyltin oxide, dioctyltin dilaurate, tributyltin chloride, tributyltin trichloroacetate , tin 2-ethylhexanoate, etc. These catalysts may be used individually or in combination.

본 발명의 점착제 조성물을 도공하는 기재는, 무기, 유기를 구별하지 않고, 각종 기재를 사용할 수 있어 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 셀로판, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부티레이트, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸펜텐, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 불소 수지, 나일론, 아크릴 수지 등의 수지, 유리 등을 들 수 있고, 모두 공지된 것을 사용할 수 있다. 기재는 용도에 따라서 시트상, 필름상, 판상 등이어도 된다.The substrate for coating the adhesive composition of the present invention is not particularly limited as various substrates can be used regardless of whether they are inorganic or organic, and include, for example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene terephthalate. Phthalate, polyethylene, polypropylene, cellophane, diacetylcellulose, triacetylcellulose, acetylcellulose butyrate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, Resins such as polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyetherimide, polyimide, fluororesin, nylon, acrylic resin, glass, etc. may be mentioned, and all known ones can be used. The base material may be sheet-shaped, film-shaped, plate-shaped, etc. depending on the intended use.

본 발명의 점착제층은 점착제 조성물을 함유하는 도액을 기재에 도포하고, 필요에 따라서 건조시킴으로써 기재의 표면 및/또는 이면 중 적어도 일부에 점착제층을 갖는 피복물을 얻을 수 있다. 도포 방법에 대해서는 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들어 그라비어 코트법, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 다이 코트법, 스프레이 코트법, 브러시 도포법, 침지법, 커튼 코트법, 스핀 코트법 등이 공지되어 있고, 각종 방법을 적절히 선택할 수 있다. 점착제층의 막두께는, 건조 후의 막두께로서, 1 ∼ 200 ㎛, 바람직하게는 1 ∼ 50 ㎛, 보다 바람직하게는 5 ∼ 20 ㎛ 이다.The adhesive layer of the present invention can be obtained by applying a coating solution containing an adhesive composition to a substrate and drying it as necessary, thereby obtaining a coating having an adhesive layer on at least a portion of the surface and/or the back surface of the substrate. The application method is not particularly limited, and examples include gravure coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, spray coating, brush coating, dipping, and curtain coating. Methods, spin coat methods, etc. are known, and various methods can be appropriately selected. The film thickness of the adhesive layer is 1 to 200 μm, preferably 1 to 50 μm, and more preferably 5 to 20 μm as the film thickness after drying.

점착제를 자외선으로 경화시키는 경우에는, 고압 수은등, 저압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 카본 아크, 크세논 아크 등의 광원을 이용할 수 있다.When curing the adhesive with ultraviolet rays, light sources such as a high-pressure mercury lamp, low-pressure mercury lamp, ultra-high pressure mercury lamp, metal halide lamp, carbon arc, or xenon arc can be used.

본 발명의 점착제층을 갖는 물품으로는, 점착 시트나 점착 테이프, 점착판 등을 들 수 있다.Articles having an adhesive layer of the present invention include adhesive sheets, adhesive tapes, and adhesive plates.

본 발명의 점착 시트는, 기재의 편면 상에, 본 발명의 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 적층된 것이다. 점착제층에 추가로 박리 시트 (세퍼레이터) 가 적층되어도 된다. 박리 시트에는, 점착제층의 점착면과 합쳐지는 측의 면에, 실리콘계, 불소계의 이형제 등에 의해서 이형 처리가 실시될 수 있다.The adhesive sheet of the present invention is one in which an adhesive layer made of the adhesive composition of the present invention is laminated on one side of a base material. In addition to the adhesive layer, a release sheet (separator) may be laminated. The release sheet may be subjected to a mold release treatment with a silicone-based or fluorine-based mold release agent or the like on the side that joins the adhesive side of the pressure-sensitive adhesive layer.

본 발명의 점착 시트는, 편광판이나 그 밖의 광학용 필름의 표면 보호 필름 등에 바람직하게 사용할 수 있다.The adhesive sheet of the present invention can be suitably used as a surface protection film for a polarizing plate or other optical film.

본 발명의 점착제층을 갖는 광학 필름은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 디스플레이용 편광판 필름이나 위상차 필름, 렌즈 필름, 광학 보상 필름, 광 확산 필름, 전자파 실드 필름 등을 들 수 있다.The optical film having an adhesive layer of the present invention is not particularly limited, but examples include a polarizing plate film for a display, a retardation film, a lens film, an optical compensation film, a light diffusion film, and an electromagnetic wave shield film.

본 발명의 점착제 부착 광학 필름의 구체적인 예로서, 기재인 PET 필름의 편면에, 본 발명의 점착제를 롤 코터법이나 바 코트법 등에 의해서 도공된 점착제층을 형성하고, 그 점착제층을 개재하여 편광판을 첩부한 편광판 필름이나, 기재인 PET 필름의 양면에, 동일하게 본 발명의 점착제를 도공한 점착제층을 형성하여, 편면에 편광판, 편면에 광 확산 필름 등을 첩합한 적층 필름 등이 있다. 나아가서는 이들 광학 필름과 유리 기판, 컬러 필터 기판이나 터치 패널 기판 등을 본 발명의 점착제에 의해서 첩합한 화상 표시 장치나 부재 등을 들 수 있다.As a specific example of the optical film with an adhesive of the present invention, an adhesive layer of the present invention is formed on one side of a PET film as a substrate by applying the adhesive of the present invention by a roll coater method, a bar coat method, etc., and a polarizing plate is formed through the adhesive layer. There is a laminated film in which a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is equally applied to both sides of a laminated polarizing plate film or a PET film as a substrate, and a polarizing plate is bonded to one side and a light diffusion film to one side. Further examples include image display devices and members in which these optical films, glass substrates, color filter substrates, touch panel substrates, etc. are bonded together with the adhesive of the present invention.

[실시예] [Example]

다음으로, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 전혀 이것들에 한정되는 것은 아니다.Next, the present invention will be specifically explained based on examples, but the present invention is not limited to these at all.

·표면 저항치의 측정・Measurement of surface resistance value

저항률계 (미츠비시 화학 주식회사 제조 하이레스터 UP) 를 사용하여 측정하였다.Measurement was made using a resistivity meter (Hirester UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).

제조예 1Manufacturing Example 1

Figure pat00009
Figure pat00009

알릴글리시딜에테르 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 25.0 g, 아세트산에틸 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 25.0 g, 요오드화나트륨 (칸토 화학 주식회사 제조 시약) 4.0 g 을 180 ml 오토클레이브에 투입하여 밀폐하고, 용기 외주에 설치된 히터를 사용하여 용기 내의 온도를 100 ℃ 로 가열하였다. 그곳에 이산화탄소 가스를 용기 내 압력이 0.5 ㎫ 로 될 때까지 공급하고, 그 압력을 유지한 채로 3 시간 교반함으로써, 글리시딜기를 카보네이트화시킨 반응액을 얻었다. 그 후 반응액을 동일한 용량의 아세트산에틸에 용해시킨 후, 구상 실리카 칼럼 (바이오타지·재팬 제조 Biotage sfar sillica HD C_High Capasity Duo 20 um) 에 통액시킴으로써, 실리카 칼럼 내에 반응액과 요오드화나트륨을 담지시키고, 그 후, 아세트산에틸과 헥산의 혼합 용매를 통액시킴으로써 카보네이트화 반응물을 용출시킴으로써 요오드화나트륨을 제거하였다. 그 후 이배퍼레이터에 의한 감압 건조에 의해서 불필요한 아세트산에틸을 제거하여 보조제 1 (1,3-디옥솔란, 4-[(2-프로페닐옥시)메틸]) 을 얻었다.25.0 g of allyl glycidyl ether (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 25.0 g of ethyl acetate (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and 4.0 g of sodium iodide (reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were placed in a 180 ml autoclave and sealed. , the temperature inside the container was heated to 100°C using a heater installed on the outer periphery of the container. Carbon dioxide gas was supplied there until the pressure inside the container reached 0.5 MPa, and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the pressure, thereby obtaining a reaction solution in which the glycidyl group was carbonated. Thereafter, the reaction solution was dissolved in the same volume of ethyl acetate, and then passed through a spherical silica column (Biotage sfar sillica HD C_High Capasity Duo 20 um, manufactured by Biotage Japan) to support the reaction solution and sodium iodide in the silica column. Afterwards, sodium iodide was removed by eluting the carbonation reaction product by passing a mixed solvent of ethyl acetate and hexane. Afterwards, unnecessary ethyl acetate was removed by drying under reduced pressure using an evaporator to obtain auxiliary agent 1 (1,3-dioxolane, 4-[(2-propenyloxy)methyl]).

<동정 데이터><Identification data>

얻어진 보조제 1 은, 원료가 되는 알릴글리시딜에테르와 함께, 다이아몬드 프리즘을 사용한 ATR-FTIR (전반사 푸리에 변환 적외 분광 광도계 (니혼 분광 주식회사 제조 FT/IR-6600)) 에 의한 비교 측정을 행하여, 1750 ∼ 1800 ㎝-1 부근에서 검출되는 고리형 카보네이트기의 C=O 결합의 검출에 의해서, 반응물 생성의 확인을 행하였다 (도 1 참조).The obtained auxiliary agent 1, along with allyl glycidyl ether as a raw material, was subjected to comparative measurement using ATR-FTIR (total reflection Fourier transform infrared spectrophotometer (FT/IR-6600 manufactured by Nippon Spectrophotometer Co., Ltd.)) using a diamond prism, and the result was 1750 Production of the reactant was confirmed by detection of the C=O bond of the cyclic carbonate group detected in the vicinity of ~1800 cm -1 (see Figure 1).

제조예 2Production example 2

Figure pat00010
Figure pat00010

제조예 1 의 알릴글리시딜에테르를 2-에틸헥실글리시딜에테르 (토쿄 화성 사 제조 시약) 로 대신한 것 이외에는, 동일한 반응에 의해서 보조제 2 (1,3-디옥솔란, 4-[[(2-에틸헥실)옥시]메틸]) 를 얻었다.Auxiliary agent 2 (1,3-dioxolane, 4-[[( 2-ethylhexyl)oxy]methyl]) was obtained.

<동정 데이터><Identification data>

얻어진 보조제 2 는, 제조예 1 과 동일하게 다이아몬드 프리즘을 사용한 ATR-FTIR 측정에 의한 C=O 결합의 검출에 의해서 반응 생성물의 확인을 행하였다 (도 2 참조).The obtained auxiliary agent 2 was confirmed as a reaction product by detection of a C=O bond by ATR-FTIR measurement using a diamond prism in the same manner as in Production Example 1 (see Fig. 2).

제조예 3Production example 3

Figure pat00011
Figure pat00011

제조예 1 의 알릴글리시딜에테르를 에틸글리시딜에테르 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 로 대신한 것 이외에는, 동일한 반응에 의해서 보조제 3 (1,3-디옥솔란, 4-에톡시메틸) 을 얻었다.Auxiliary agent 3 (1,3-dioxolane, 4-ethoxymethyl) was prepared in the same reaction except that the allyl glycidyl ether in Preparation Example 1 was replaced with ethyl glycidyl ether (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). got it

<동정 데이터><Identification data>

얻어진 보조제 3 은, 제조예 1 과 동일하게 다이아몬드 프리즘을 사용한 ATR-FTIR 측정에 의한 C=O 결합의 검출에 의해서 반응 생성물의 확인을 행하였다 (도 3 참조).The obtained auxiliary agent 3 was confirmed as a reaction product by detection of a C=O bond by ATR-FTIR measurement using a diamond prism in the same manner as in Production Example 1 (see Fig. 3).

제조예 4 : 대전 방지제 1Preparation Example 4: Antistatic agent 1

(4-1) 1-데실피리디늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트의 합성(4-1) Synthesis of 1-decylpyridinium tetrakis(pentafluorophenyl)borate

1 L 4 구 플라스크에, 암모늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 수용액 432.6 g (암모늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 순분 1.64 ㏖), 톨루엔 151.3 g, 1-데실피리디늄브로마이드 수용액 140.1 g (1-데실피리디늄브로마이드 순분 139.1 m㏖) 을 넣고, 60 ℃ 에서 2 시간 반응시켰다. 반응 후, 정치 (靜置) 하여 실온까지 냉각시켰다. 냉각된 반응액에 이온 교환수를 첨가하여 세정하는 조작을 3 회 행하였다. 얻어진 유기층을 감압 농축하여 1-데실피리디늄·테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 127.6 g 을 얻었다. 또한, 1-데실피리디늄브로마이드 수용액은 일본 공개특허공보 2015-78131호의 실시예 2 의 기재에 따라서 제조할 수 있다.In a 1 L 4-neck flask, 432.6 g of ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate aqueous solution (ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate net content of 1.64 mol), 151.3 g of toluene, and 140.1 g of 1-decylpyridinium bromide aqueous solution. (1-Decylpyridinium bromide pure content: 139.1 mmol) was added and reacted at 60°C for 2 hours. After the reaction, it was left to stand and cooled to room temperature. Ion-exchanged water was added to the cooled reaction solution, and the washing operation was performed three times. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain 127.6 g of 1-decylpyridinium-tetrakis(pentafluorophenyl)borate. Additionally, the 1-decylpyridinium bromide aqueous solution can be prepared according to the description of Example 2 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-78131.

(4-2) 대전 방지제 1 의 조제(4-2) Preparation of antistatic agent 1

1-데실피리디늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트에 아세트산에틸을 첨가하여 용해시키고, 농도가 5 질량% 인 1-데실피리디늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트의 아세트산에틸 용액 (대전 방지제 1) 으로 하였다.1-Decylpyridiniumtetrakis(pentafluorophenyl)borate was dissolved by adding ethyl acetate, and an ethyl acetate solution of 1-decylpyridiniumtetrakis(pentafluorophenyl)borate with a concentration of 5 mass% was prepared ( It was used as antistatic agent 1).

제조예 5 : 대전 방지제 2Preparation Example 5: Antistatic Agent 2

(5-1) 메틸트리옥틸암모늄·도데실벤젠술포네이트의 합성(5-1) Synthesis of methyltrioctylammonium·dodecylbenzenesulfonate

5 L 플라스크에, 메틸트리옥틸암모늄클로라이드 수용액 620.9 g (메틸트리옥틸암모늄클로라이드 순분 1.25 ㏖), 이온 교환수 894.6 g, 톨루엔 979.4 g 을 넣고, 그곳에 도데실벤젠술폰산 422.9 g 을 4 시간에 걸쳐서 적하하였다. 적하 후, 3 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 반응액을 정치하여 분액하고, 수층을 제거하였다. 얻어진 유기층에 이온 교환수를 첨가하여 세정하는 조작을 2 회 행하였다. 세정 후의 유기층을 감압 농축하고, 농축액을 여과하여 메틸트리옥틸암모늄·도데실벤젠술포네이트 814.7 g 을 얻었다.In a 5 L flask, 620.9 g of methyltrioctylammonium chloride aqueous solution (methyltrioctylammonium chloride net content: 1.25 mol), 894.6 g of ion-exchanged water, and 979.4 g of toluene were added, and 422.9 g of dodecylbenzenesulfonic acid was added dropwise over 4 hours. . After dropwise addition, it was allowed to react for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to stand, the liquid was separated, and the aqueous layer was removed. The operation of adding ion-exchanged water to the obtained organic layer and washing it was performed twice. The organic layer after washing was concentrated under reduced pressure, and the concentrated liquid was filtered to obtain 814.7 g of methyltrioctylammonium dodecylbenzenesulfonate.

(5-2) 대전 방지제 2 의 조제(5-2) Preparation of antistatic agent 2

메틸트리옥틸암모늄도데실벤젠술포네이트에 아세트산에틸을 첨가하여 용해시키고, 농도가 5 질량% 인 메틸트리옥틸암모늄·도데실벤젠술포네이트의 아세트산에틸 용액 (대전 방지제 2) 으로 하였다.Ethyl acetate was added and dissolved in methyltrioctylammonium dodecylbenzenesulfonate to obtain an ethyl acetate solution (antistatic agent 2) of methyltrioctylammonium dodecylbenzenesulfonate with a concentration of 5% by mass.

제조예 6 : 대전 방지제 3Preparation Example 6: Antistatic Agent 3

(6-1) 트리부틸도데실포스포늄트리플루오로메탄술포네이트의 합성(6-1) Synthesis of tributyldodecylphosphonium trifluoromethanesulfonate

플라스크에 리튬트리플루오로메탄술포네이트 729.2 g (4.67 ㏖), 이온 교환수 2317 g, 트리부틸도데실포스포늄브로마이드 2756.0 g 을 넣고, 3 시간 반응시켰다. 반응 후, 분액하여 수층을 제거하였다. 얻어진 유기층에 이온 교환수를 첨가하여 세정하는 조작을 3 회 행하였다. 세정 후의 유기층을 감압 농축하여, 트리부틸도데실포스포늄트리플루오로메탄술포네이트 2167.5 g 을 얻었다.729.2 g (4.67 mol) of lithium trifluoromethane sulfonate, 2317 g of ion-exchanged water, and 2756.0 g of tributyldodecylphosphonium bromide were added to the flask and allowed to react for 3 hours. After the reaction, the liquid was separated and the aqueous layer was removed. The operation of adding ion-exchanged water and washing the obtained organic layer was performed three times. The organic layer after washing was concentrated under reduced pressure to obtain 2167.5 g of tributyldodecylphosphonium trifluoromethane sulfonate.

(6-2) 대전 방지제 3 의 조제(6-2) Preparation of antistatic agent 3

트리부틸도데실포스포늄트리플루오로메탄술포네이트에 아세트산에틸을 첨가하여 용해시키고, 농도가 5 질량% 인 트리부틸도데실포스포늄트리플루오로메탄술포네이트의 아세트산에틸 용액 (대전 방지제 3) 으로 하였다.Ethyl acetate was added and dissolved in tributyldodecylphosphonium trifluoromethane sulfonate to obtain an ethyl acetate solution of tributyldodecylphosphonium trifluoromethane sulfonate with a concentration of 5 mass% (antistatic agent 3). .

제조예 7 : 대전 방지제 4Preparation Example 7: Antistatic agent 4

(7-1) 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드의 합성(7-1) Synthesis of 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide

3 L 플라스크에, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨클로라이드 수용액 763.8 g (1-에틸-3-메틸이미다졸륨클로라이드 순분 2.87 ㏖), 이온 교환수 497.6 g 을 넣고, 그곳에 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 수용액 1153.0 g (리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 순분 3.01 ㏖) 을 적하하여, 3 시간 반응시켰다. 반응 후, 반응액을 분액하여 수층을 제거하였다. 얻어진 유기층에 이온 교환수를 첨가하여 세정하는 조작을 2 회 행하였다. 세정 후의 유기층을 감압 농축하고, 농축액을 여과하여 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 1051.1 g 을 얻었다.In a 3 L flask, 763.8 g of 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride aqueous solution (1-ethyl-3-methylimidazolium chloride net content: 2.87 mol) and 497.6 g of ion-exchanged water were added, and lithium bis (trifluoride) was added thereto. 1153.0 g of lomethanesulfonyl)imide aqueous solution (lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide net content of 3.01 mol) was added dropwise and allowed to react for 3 hours. After the reaction, the reaction liquid was separated and the aqueous layer was removed. The operation of adding ion-exchanged water to the obtained organic layer and washing it was performed twice. The organic layer after washing was concentrated under reduced pressure, and the concentrated liquid was filtered to obtain 1051.1 g of 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide.

(7-2) 대전 방지제 4 의 조제(7-2) Preparation of antistatic agent 4

1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드에 아세트산에틸을 첨가하여 용해시키고, 농도가 5 질량% 인 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드의 아세트산에틸 용액 (대전 방지제 4) 으로 하였다.1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide was dissolved by adding ethyl acetate, and 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoroethylene)imide was dissolved at a concentration of 5% by mass. It was used as an ethyl acetate solution of lomethanesulfonyl)imide (antistatic agent 4).

제조예 8 : 점착제 조성물의 조정 방법Preparation Example 8: Method for adjusting adhesive composition

<점착용 주재의 합성><Synthesis of adhesive base material>

2-에틸헥실아크릴레이트 모노머 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 150 g, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 7.5 g, 아조비스이소부티로니트릴 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 0.3 g, 아세트산에틸 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조 시약) 236 g 을 1 L 세퍼러블 플라스크에 투입하고, 질소 버블링을 행하면서 플라스크 내를 질소 치환하였다. 그 후 교반하면서 승온하여 60 ℃ 에서 5 시간, 추가로 승온하여 70 ℃ 2 시간 반응시키고, 40 질량% 아크릴 수지 함유의 점착제용 주재 A 를 얻었다.150 g of 2-ethylhexyl acrylate monomer (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4-hydroxybutylacrylate (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 7.5 g, azobisisobutyronitrile (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.3 g and 236 g of ethyl acetate (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added to a 1 L separable flask, and the inside of the flask was purged with nitrogen while nitrogen bubbling was performed. After that, the temperature was raised while stirring, and the reaction was performed at 60°C for 5 hours, and the temperature was further raised to react at 70°C for 2 hours to obtain base material A for an adhesive containing 40% by mass of acrylic resin.

평가 방법Assessment Methods

(표면 저항 1 의 측정) (Measurement of surface resistance 1)

표 1 에 기재된 조성에 의해서 얻어진 점착제를, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (토레이사 제조 루미러 필름 T60) 상에, 두께 20 um 가 되도록 바코터 (No.50) 로 도공하고, 그 후 120 ℃ 3 분간 오븐 중에서 건조시켰다. 그 후 도공막 표면을 보호 필름인 PET 세퍼레이터 (닛파 주식회사 제조 이형 필름) 로 라미네이트한 후, 온도 25 ℃, 습도 50 %Rh 로 제어된 실내에 하룻밤 방치하였다.The adhesive obtained with the composition shown in Table 1 was coated on a polyethylene terephthalate (PET) film (Lumire Film T60 manufactured by Toray Industries, Inc.) with a bar coater (No. 50) to a thickness of 20 um, and then coated at 120°C. It was dried in an oven for 3 minutes. After that, the surface of the coated film was laminated with a PET separator (release film manufactured by Nippa Co., Ltd.) as a protective film, and then left overnight in a room controlled at a temperature of 25°C and a humidity of 50%Rh.

그 후 PET 세퍼레이터를 벗긴 후의 점착층 표면의 표면 저항치 (Ω/□) 를, 온도 25 ℃, 습도 50 %Rh 환경 하에서 측정하였다.After that, the surface resistance value (Ω/□) of the surface of the adhesive layer after peeling off the PET separator was measured in an environment with a temperature of 25°C and a humidity of 50%Rh.

(표면 저항 2 의 측정) (Measurement of surface resistance 2)

표면 저항 1 의 하룻밤 방치한 후의 라미네이트가 종료된 점착층 필름을, 60 ℃ 오븐 중에서 3 일간 방치하고, 그 후 PET 세퍼레이터를 벗겨 그 표면 저항치 (Ω/□) 를 25 ℃ 50 %Rh 환경 하에서 측정하였다.The laminated adhesive layer film with a surface resistance of 1 left overnight was left in an oven at 60°C for 3 days, after which the PET separator was peeled off and its surface resistance (Ω/□) was measured in an environment of 25°C and 50%Rh. .

(표면 저항 3 의 측정) (Measurement of surface resistance 3)

표면 저항 1 의 하룻밤 방치한 후의 라미네이트가 종료된 점착층 필름을, 25 ℃ 50 %Rh 로 제어된 실내에서 1 주일 방치하고, 그 후 PET 세퍼레이터를 벗겨 그 표면 저항치 (Ω/□) 를 25 ℃ 50 %Rh 환경 하 측정하였다.The laminated adhesive layer film after being left overnight with a surface resistance of 1 was left for one week in a room controlled at 25°C 50%Rh, and then the PET separator was peeled off and the surface resistance (Ω/□) was measured at 25°C 50%. Measurements were made under a %Rh environment.

실시예 1Example 1

점착제용 주재 A59.3 g, 대전 방지제 1 (1-데실피리디늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 5 질량% 함유하는 아세트산에틸 용액) 4.8 g, 보조제 1 (1.9 g, 1.2 m㏖), 가교제 A 로서 타케네이트 D-170N (미츠이 화학 주식회사 제조) 의 20 질량% 를 함유하는 아세트산에틸 용액 4.8 g, 경화용 촉매 B 로서 디라우릴산디부틸주석의 0.05 질량% 를 함유하는 아세트산에틸 용액 4.8 g, 및 용매로서 아세트산에틸 24.3 g 을 혼합하고, 점착제 조성물 100 g 을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.59.3 g of adhesive base material, antistatic agent 1 (ethyl acetate solution containing 5% by mass of 1-decylpyridinium tetrakis(pentafluorophenyl)borate) 4.8 g, auxiliary agent 1 (1.9 g, 1.2 mmol) , 4.8 g of an ethyl acetate solution containing 20 mass% of Takenate D-170N (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.) as a crosslinking agent A, and 4.8 g of an ethyl acetate solution containing 0.05 mass% of dibutyltin dilaurate as a curing catalyst B. , and 24.3 g of ethyl acetate as a solvent were mixed to obtain 100 g of an adhesive composition. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 2.

실시예 2Example 2

실시예 1 에 있어서 보조제 1 을 보조제 2 (2.7 g, 1.2 m㏖), 용매로서의 아세트산에틸을 23.4 g 으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.An adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the auxiliary agent 1 was replaced with auxiliary agent 2 (2.7 g, 1.2 mmol) and ethyl acetate as the solvent was changed to 23.4 g. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 2.

실시예 3Example 3

실시예 1 에 있어서 보조제 1 을 보조제 3 (1.7 g, 1.2 m㏖), 용매로서의 아세트산에틸을 24.4 g 으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.An adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the auxiliary agent 1 was replaced with auxiliary agent 3 (1.7 g, 1.2 mmol) and ethyl acetate as the solvent was changed to 24.4 g. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 2.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1 에 있어서 보조제 1 을 사용하지 않고, 용매로서의 아세트산에틸을 26.1 g 으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.An adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the auxiliary agent 1 was not used and ethyl acetate as the solvent was changed to 26.1 g. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 2.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1 에 있어서 보조제 1 을 보조제 4 (1.0 g, 1.2 m㏖), 용매로서의 아세트산에틸을 25.0 g 으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.An adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the auxiliary agent 1 was replaced with auxiliary agent 4 (1.0 g, 1.2 mmol) and ethyl acetate as the solvent was changed to 25.0 g. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 2.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1 에 있어서 보조제 1 을 보조제 5 (1.2 g, 1.2 m㏖), 용매로서의 아세트산에틸을 25.0 g 으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.An adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the auxiliary agent 1 was replaced with auxiliary agent 5 (1.2 g, 1.2 mmol) and ethyl acetate as the solvent was changed to 25.0 g. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 2.

실시예 4, 5 및 비교예 4 ∼ 7Examples 4, 5 and Comparative Examples 4 to 7

점착제용 주재 A, 대전 방지제 2, 3 으로서 하기에 나타내는 이온 액체를 5 질량% 함유하는 아세트산에틸 용액, 보조제 1, 2, 5 로서 표 1 에 나타내는 화합물, 가교제 A, 경화용 촉매 B 로서 표 1 에 나타내는 용액, 및 용매로서 아세트산에틸을 사용하고, 표 3 에 기재된 배합 (단위 : g) 으로 혼합하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다. 표 3 중, 표면 저항치 이외의 수치 단위는 모두「g」이다.Base A for adhesive, ethyl acetate solution containing 5% by mass of the ionic liquid shown below as antistatic agents 2 and 3, compounds shown in Table 1 as auxiliary agents 1, 2, and 5, crosslinking agent A, and catalyst B for curing as shown in Table 1. The solution shown and ethyl acetate as a solvent were mixed in the formulation (unit: g) shown in Table 3 to obtain an adhesive composition. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 3. In Table 3, all numerical units other than surface resistance values are "g".

실시예 6Example 6

점착제용 주재 A, 대전 방지제 1, 2, 3 으로서 하기에 나타내는 이온 액체를 5 질량% 함유하는 아세트산에틸 용액, 보조제 1, 2, 5 로서 표 1 에 나타내는 화합물, 가교제 A, 경화용 촉매 B 로서 표 1 에 나타내는 용액, 및 용매로서 아세트산에틸을 사용하고, 표 4 에 기재된 배합 (단위 : g) 으로 혼합하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물에 대해서 평가를 행하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다. 표 4 중, 표면 저항치 이외의 수치 단위는 모두「g」이다.Base A for adhesive, ethyl acetate solution containing 5% by mass of the ionic liquid shown below as antistatic agents 1, 2, and 3, compounds shown in Table 1 as auxiliary agents 1, 2, and 5, crosslinking agent A, and catalyst B for curing. The solution shown in 1 and ethyl acetate as a solvent were mixed in the formulation (unit: g) shown in Table 4 to obtain an adhesive composition. The obtained adhesive composition was evaluated. The results are shown in Table 4. In Table 4, all numerical units other than surface resistance values are "g".

Claims (12)

하기 식 (I)
Figure pat00016

(식 중, R1 은 산소 원자를 함유하는 탄화수소기, 하이드록시기, 또는 카르복시기를 나타내고,
R2 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기, 하이드록시기, 카르복시기, 혹은 수소 원자를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물을 함유하는, 대전 방지 보조제.
Equation (I)
Figure pat00016

(Wherein, R 1 represents a hydrocarbon group containing an oxygen atom, a hydroxy group, or a carboxyl group,
R 2 represents a hydrocarbon group, hydroxy group, carboxyl group, or hydrogen atom that may contain an oxygen atom.)
An antistatic auxiliary containing the compound represented by .
제 1 항에 있어서,
R1 이 에테르 결합을 갖는 탄화수소기를 나타내는, 대전 방지 보조제.
According to claim 1,
An antistatic auxiliary agent, wherein R 1 represents a hydrocarbon group having an ether bond.
제 1 항에 있어서,
R1 이 하기 식 (II)
-R3-O-R4 (II)
(식 중, R3 은 2 가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R4 는 탄화수소기를 나타낸다.)
로 나타내는 기인, 대전 방지 보조제.
According to claim 1,
R 1 is the following formula (II)
-R 3 -OR 4 (II)
(In the formula, R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, and R 4 represents a hydrocarbon group.)
Represented by gin, anti-static adjuvant.
제 1 항에 있어서,
R2 가 수소 원자를 나타내는, 대전 방지 보조제.
According to claim 1,
An antistatic auxiliary agent in which R 2 represents a hydrogen atom.
대전 방지제와, 제 1 항에 기재된 대전 방지 보조제를 함유하는 조성물.A composition containing an antistatic agent and an antistatic auxiliary agent according to claim 1. 제 5 항에 있어서,
대전 방지제가 카티온과 아니온으로 이루어지는 염이고, 카티온과 아니온 중 어느 일방 또는 양방이 유기 이온인 조성물.
According to claim 5,
A composition in which the antistatic agent is a salt consisting of a cation and an anion, and either or both of the cation and anion are organic ions.
아크릴계 점착제와, 대전 방지제와, 제 1 항에 기재된 대전 방지 보조제를 함유하는 점착제 조성물.An adhesive composition containing an acrylic adhesive, an antistatic agent, and the antistatic auxiliary agent according to claim 1. 아크릴계 점착제와, 대전 방지제와, 제 1 항에 기재된 대전 방지 보조제를 함유하는 점착제층.An adhesive layer containing an acrylic adhesive, an antistatic agent, and the antistatic auxiliary agent according to claim 1. 기재층과 제 8 항에 기재된 점착제층을 형성하여 이루어지는 점착 시트.An adhesive sheet formed by forming a base layer and an adhesive layer according to claim 8. 기재층과 제 8 항에 기재된 점착제층을 포함하는 표면 보호 필름.A surface protection film comprising a base material layer and the adhesive layer according to claim 8. 광학 필름과 제 8 항에 기재된 점착제층을 포함하는 점착제 부착 광학 필름.An optical film with an adhesive comprising an optical film and the adhesive layer according to claim 8. 대전 방지 보조제를 제조하기 위한, 하기 식 (I)
Figure pat00017

(식 중, R1 은 산소 원자를 함유하는 탄화수소기, 하이드록시기, 또는 카르복시기를 나타내고,
R2 는 산소 원자를 함유하고 있어도 되는 탄화수소기, 하이드록시기, 카르복시기, 혹은 수소 원자를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물의 사용.
For preparing an antistatic auxiliary, the following formula (I)
Figure pat00017

(Wherein, R 1 represents a hydrocarbon group containing an oxygen atom, a hydroxy group, or a carboxyl group,
R 2 represents a hydrocarbon group, hydroxy group, carboxyl group, or hydrogen atom that may contain an oxygen atom.)
Use of compounds represented by .
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