KR20240038856A - 기판 가열 장치와 이를 이용한 기판 처리 장치 - Google Patents

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윤강섭
이영일
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Abstract

본 발명은 기판 가열 장치와 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 단자대를 효율적으로 냉각할 수 있도록 구조가 개선된 기판 가열 장치와 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명은, 기판을 가열하기 위한 기판 가열 장치에 있어서, 상기 기판의 하부에 배치되는 열원인 가열부; 상기 가열부의 아래쪽에 배치되어 냉기를 제공하는 냉각 플레이트; 상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 가열 장치를 제공한다.

Description

기판 가열 장치와 이를 이용한 기판 처리 장치{Wafer Heating Apparatus and Wafer Processing Apparatus using above}
본 발명은 기판 가열 장치와 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 단자대를 효율적으로 냉각할 수 있도록 구조가 개선된 기판 가열 장치와 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자는 실리콘 기판 위에 소정의 패턴을 형성하도록 박막을 순차적으로 적층 하는 과정을 반복함으로써 제조되는데, 박막의 형성 및 적층을 위해서는 증착 공정, 사진 공정 및 식각 공정 등 다수의 단위 공정들을 반복 수행하게 된다. 이러한 단위 공정들을 수행하는 반도체 소자 제조 설비는 소정 단위 개수의 기판들을 일괄 처리하는 배치(batch) 형태의 설비와 기판을 한 장씩 순차적으로 처리하는 매엽식 설비로 크게 나누어지며, 매엽식 설비에는 기판을 스핀 척에 지지된 상태로 회전시키면서 기판 상면에 처리액을 공급하여 처리되는 설비가 있다. 이러한 매엽식 설비는, 구동원에서 발생한 회전력이 스핀 척의 하부에 연결된 회전축에 의해 스핀 척에 전달되고, 이에 따라 스핀 척 상에 장착된 기판이 회전하게 되며, 회전하는 기판의 상부에서 감광액, 현상액 또는 세정액 등의 약액을 분사하여 기판을 처리하는 구성을 갖는다.
한편, 기판에 약액을 공급하여 처리하는 설비에서 처리 효율 향상을 위해 기판을 가열하면서 처리하는 경우가 있다.
기판을 가열하기 위한 기판 가열 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 열원인 램프히터(1), 반사판(3), 냉각 플레이트(4)를 포함할 수 있고, 램프히터(1)는 단자대(2)로부터 전력을 공급받는다. 공정이 완료된 이후에는 기판을 냉각할 필요가 있으므로 냉각 플레이트(4)에 의해 기판을 냉각한다.
그런데 상기 단자대(2)는 고온환경인 반사판(3)의 상부에 배치되므로 과열되어 수명이 단축될 수 있어서 적절한 냉각이 필요한데, 냉각 플레이트(4)의 상부에는 가열된 반사판이 있어서 단자대(2)의 냉각이 쉽지 않은 문제가 있다.
본 발명은 배경 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 고온 환경에 노출된 단자대를 효율적으로 냉각할 수 있도록 구조가 개선된 기판 가열 장치 및 이를 이용한 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
전술한 과제의 해결 수단으로서 본 발명은,
기판을 가열하기 위한 기판 가열 장치에 있어서,
상기 기판의 하부에 배치되는 열원인 가열부;
상기 가열부의 아래쪽에 배치되어 냉기를 제공하는 냉각 플레이트;
상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 가열 장치를 제공한다.
상기 가열부와 냉각 플레이트 사이에 배치되어 가열부에서 발산된 열을 기판 쪽으로 반사시키는 반사판;을 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 반사판에는 틈(opening)이 형성되어 있어서 상기 단자대의 하단부는 상기 틈을 관통한 상태로 상기 냉각 플레이트와 접하는 것이 바람직하다.
상기 틈은 상기 단자대의 단면 형상에 대응하도록 구성되는 것이 바람직하다.
상기 냉각 플레이트에는 아래쪽으로 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 것이 바람직하다.
상기 홈의 폭은 상기 틈의 폭에 비해 좁은 것이 바람직하다.
상기 가열부는 동심원 형상의 여러 개의 IR 램프히터를 포함하며 각각의 IR 램프히터는 동일한 평면에 배치되는 것이 바람직하다.
상기 냉각 플레이트의 내부에는 냉각수가 흐르는 유로가 배치되는 것이 바람직하다.
본 발명은 또한, 처리 영역을 제공하는 챔버;
상기 챔버의 처리 영역에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지유닛;
상기 기판 지지유닛에 의해 지지된 기판에 약액을 공급하기 위한 약액 공급유닛;
상기 기판을 가열하기 위한 기판 가열유닛; 을 포함하며,
상기 기판 가열유닛은 상기 기판의 하부에 배치되는 열원인 가열부와, 상기 가열부의 아래쪽에 배치되어 냉기를 제공하는 냉각 플레이트와, 상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은,
기판의 표면을 식각하기 위한 기판 식각 장치에 있어서,
처리 영역을 제공하는 챔버;
상기 챔버의 처리 영역에 설치되어 기판을 지지하며 스핀 척과 상기 스핀 척을 회전시키기 위한 회전 구동부를 포함하는 기판 지지유닛;
상기 기판 지지유닛에 의해 지지된 기판에 식각액을 공급하기 위한 것으로서 상기 기판에 식각액을 분사하는 노즐, 상기 노즐을 이동시키기 위한 노즐 구동부, 상기 식각액을 가열하기 위한 식각액 가열부를 포함하는 식각액 공급유닛;
상기 식각액 공급유닛에 의해 기판의 표면으로 분사된 식각액이 기판의 표면과 반응하면서 생기는 반응 부산물이나 기판에서 비산된 식각액을 회수하기 위하여 상기 기판 지지유닛을 감싸는 형태로 마련되는 회수유닛;
상기 기판을 가열하기 위하여 상기 스핀 척의 하부에 배치되는 기판 가열유닛; 을 포함하며,
상기 기판 가열유닛은,
상기 지지유닛의 하부에 배치되는 열원으로서 여러 개가 동일한 평면에 동심원 형상으로 배치된 IR 램프히터인 가열부;
상기 가열부 하부에 배치되어 냉기를 제공하며 내부에 냉각수가 흐르는 유로가 형성된 냉각 플레이트;
상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대;
상기 가열부와 냉각 플레이트 사이에 배치되어 가열부에서 발산된 열을 기판 쪽으로 반사시키는 반사판을 포함하며,
상기 반사판에는 상기 단자대의 단면 형상에 대응되는 형상의 틈(opening)이 형성되어 있어서 상기 단자대의 하단부는 상기 틈을 관통한 상태로 상기 냉각 플레이트와 접하고,
상기 냉각 플레이트 중 상기 틈의 하부에는 아래쪽으로 상기 틈의 폭에 비해 좁은 폭을 가지도록 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 기판 식각 장치를 제공한다.
본 발명에 의하면 고온 환경에 노출된 단자대를 효율적으로 냉각할 수 있도록 구조가 개선된 기판 가열 장치 및 이를 이용한 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 종래의 기판 가열 장치를 설명하기 위한 단면도.
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 기판 가열 장치의 분리 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 기판 가열 장치의 결합단면도.
도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면.
도 5는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 기판 식각 장치를 설명하기 위한 도면.
이하에서는 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명함으로써 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 제공하기로 한다.
우선 본 발명의 첫 번째 형태인 기판 가열 장치에 대하여 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 기판 가열 장치의 분리 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 기판 가열 장치의 결합단면도이다.
본 실시예에 따른 기판 가열 장치(100)는 식각이나 세정 등의 처리를 위한 기판 처리 장치에 설치되어 기판(W)을 가열하는 장치로서 가열부(10), 단자대(20), 반사판(30) 및 냉각 플레이트(40)를 포함하여 구성된다.
상기 가열부(10)는 기판(W)을 가열하기 위하여 상기 기판(W)의 하부에 배치되는 열원이다. 상기 기판(W)은 스핀 척(50)에 의해 지지가 되는데 스핀 척(50)에는 기판(W)과 접하면서 지지하는 여러 개의 척 핀(51)이 설치된다.
상기 가열부(10)는 도 2에 도시된 바와 같이 여러 개가 동심원 형상으로 배치되는 IR 램프히터로 구성될 수 있다. 각각의 IR 램프히터는 내부가 빈 케이싱과 케이싱의 내부에 설치되는 필라멘트(미도시)를 포함하며, 케이싱의 양단부는 발열을 위한 전력공급을 받기 위해 단자대(20)와 연결된다.
상기 여러 개의 IR 램프히터는 동일한 평면에 배치되는데, IR 램프히터가 동일한 평면에 배치된다는 의미는 각각의 IR 램프히터가 설치된 높이가 모두 같아서 각각의 IR 램프히터와 기판(W) 사이의 거리가 동일하다는 의미이다. 기판을 처리하는 과정에서 기판(W)을 균일하게 가열하지 않으면 기판의 처리 균일도가 떨어질 수 있는데, IR 램프히터를 동일한 평면에 배치하면 각각의 IR 램프히터와 기판(W) 사이의 거리가 동일해져서 기판(W)을 균일하게 가열할 수 있다. 상기 가열부(10)인 IR 램프히터에는 중력에 의해 아래로 처지는 것을 방지하여 동일한 평면에 배치되는 것이 유지될 수 있도록 IR 램프히터를 지지하는 지지수단(11)이 마련된다.
상기 단자대(20)는 전원으로부터 전력을 공급받아 상기 가열부(10)에 공급하는 구성으로서 전력 공급을 위한 전원 케이블(21)과 연결된다. 상기 단자대(20)는 세라믹 재질로 제작될 수 있다.
상기 반사판(30)은 상기 기판(W)을 효율적으로 가열하기 위하여 상기 가열부(10)의 아래쪽에 배치되어 가열부(10)인 IR 램프히터에서 발산된 열을 기판(W) 쪽으로 반사시킨다. 또한, 반사판(30)은 기판(W)을 균일하게 가열할 수 있게 한다.
상기 반사판(30)은 상기 발열수단(10)에서 발산된 복사열이 투과되지 못하도록 불투명한 재질로 제작될 수 있다.
상기 반사판(30)에는 도 2에 도시된 바와 같이 상기 단자대(20)의 단면 형상에 대응되는 형상의 틈(31; opening)이 형성된다. 상기 단자대(20)의 단면 형상에 대응되는 형상이란 상기 단자대(20)가 상기 틈(31)을 관통하도록 배치될 때 틈(31) 중 단자대(20)가 관통하고 남은 공간이 제작 공차 정도로 적은 형상을 의미한다. 틈(31)의 형상을 단자대(20)의 단면 형상과 대응되는 형상으로 구성함으로써 반사판(30)의 면적을 최대화하여 가열부(10)에서 발산된 열을 최대한으로 반사시킬 수 있도록 구성한다.
상기 냉각 플레이트(40)는 상기 반사판(30)의 하부에 배치되어 냉기를 제공하는 구성으로서 내부에는 냉각수가 흐르는 유로(미도시)가 배치되어 냉각수가 유로를 따라 흐르도록 구성된다. 냉각 플레이트(40)에 배치된 유로를 따라 냉각수가 흐르면서 열을 흡수하여 외부로 배출된다.
상기 냉각 플레이트(40)는 기판(W), 단자대(20) 및 하부 척(60)을 냉각시킬 수 있도록 하부 척(60)의 상부에 배치되며, 하부 척(60)에 의해 지지된다.
상기 단자대(20)의 하단부는 상기 틈(31)을 관통하여 상기 냉각 플레이트(40)와 직접 접촉하도록 구성된다. 단자대(20)가 냉각 플레이트(40)와 직접 접촉함으로써 단자대(20)의 냉각효율을 높여 가열부(10)에 의해 기판(W)을 가열하는 과정에서 단자대(20)가 함께 과열되어 손상되는 것을 방지한다.
도 3에 도시된 바와 같이 상기 냉각 플레이트(40) 중 상기 틈(31)의 하부에는 아래 쪽으로 패인 홈(41)이 형성되고, 중앙부에는 관통공(42)이 형성되어 있다. 상기 단자대(20)와 연결되는 전원 케이블(21)이 상기 홈(41)에 수용된 상태로 냉각 플레이트(40)에 의해 냉각되고 상기 관통공(42)을 관통하도록 구성되어 있어서 전원 케이블(21)의 냉각효율을 높일 수 있도록 한다.
상기 단자대(20)와 마찬가지로 단자대(20)와 연결된 전원 케이블(21) 역시 가열부(10)에 의해 가열되어 수명이 짧아지거나 효율이 떨어질 수 있는데 홈(41)에 수용된 상태로 냉각될 수 있도록 함으로써 전원 케이블(21)이 가열됨에 따라 발생할 수 있는 문제를 해결한다.
전원 케이블(21)은 홈(41) 내에서 냉각 플레이트(40)에 직접 접촉함으로써 냉각 플레이트(40)에 의해 냉각될 수 있다.
한편, 상기 홈(41)의 폭(d1)은 상기 틈(31)의 폭(d2)에 비해 작게 형성되어 상기 단자대(30)가 냉각 플레이트(40)에 지지될 수 있도록 구성할 수 있다.
상기 반사판(30)과 하부 척(60)에도 상기 냉각 플레이트(40)와 마찬가지로 각각 관통공(32, 61)이 형성되어 있는데 이는 스핀 척(50)을 회전시키기 위한 회전 구동부(미도시)의 회전축인 스핀들(미도시)을 설치하기 위한 공간이 필요하기 때문이다.
이하에서는 본 발명의 두 번째 형태인 기판 처리 장치의 일 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 챔버(1000), 기판 지지유닛(200), 약액 공급유닛(300), 기판 가열유닛(100)을 포함하여 구성된다. 본 실시예의 기판 처리 장치는 기판을 세정하기 위한 세정 장치나 식각 장치 등 기판을 가열하면서 공정을 수행하는 다양한 종류의 장치일 수 있다.
상기 챔버(1000)는 기판을 처리하기 위한 처리 영역을 제공한다.
상기 기판 지지유닛(200)은 상기 챔버(1000)가 제공하는 처리 영역에 설치되어 기판(W)을 지지하는 구성으로서 스핀 척(50), 하부 척(60), 스핀들(70) 및 회전구동부(80)를 포함하여 구성될 수 있다. 상기 스핀 척(50)에는 여러 개의 척 핀(51)이 설치된다.
상기 기판 지지유닛(200)의 주변에는 기판(W)의 표면으로 분사되어 기판(W)을 처리한 후 생기는 처리 부산물이나 기판(W)에서 비산된 약액을 회수하기 위한 회수유닛(500)이 마련될 수 있다.
상기 약액 공급유닛(300)은 상기 기판(W)을 처리하기 위한 약액을 공급하기 위한 구성으로서 배관과 밸브, 펌프 등을 포함하여 구성될 수 있는데 이는 공지의 구성을 적용할 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다. 도면에 점선은 약액의 이동을 표시한 것이다. 상기 약액으로는 기판(W)을 세정하기 위한 세정액이나 기판(W)을 식각하기 위한 식각액 등이 될 수 있다.
상기 약액 공급유닛(300)은 분사 유닛(400)을 포함할 수 있는데, 상기 분사 유닛(400)은 약액 공급유닛(300)과 연결되어 약액 공급유닛(300)에 의해 공급된 약액을 기판(W)에 분사하는 구성이다. 상기 분사 유닛(400)은 노즐 헤드(401)와 노즐(402)을 포함하여 구성될 수 있으며, 노즐(402)을 통해 기판(W)으로 약액을 분사한다.
상기 기판 가열유닛(100)은 상기 기판(W)을 가열하는 구성으로서, 가열부(10), 단자대(20), 반사판(30) 및 냉각 플레이트(40)를 포함하여 구성되는데(도 2 및 도 3 참조), 전술한 기판 가열장치와 실질적으로 동일한 구성으로 볼 수 있으며 앞서 설명하였으므로 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
이하에서는 도면을 참조하면서 본 발명의 세 번째 형태인 기판 식각 장치의 일 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 기판 식각 장치를 설명하기 위한 도면이다.
본 실시예에 따른 기판 식각 장치는 기판(W)의 표면을 식각하기 위한 장치로서 챔버(1000), 기판 지지유닛(200), 식각액 공급유닛(300), 회수유닛(500) 및 기판 가열유닛(100)을 포함하여 이루어진다.
상기 챔버(1000)는 식각 처리를 위한 처리 영역을 제공한다.
상기 기판 지지유닛(200)은 상기 챔버(1000)가 제공하는 영역에 설치되어 기판(W)을 지지하는 구성으로서 스핀 척(50), 하부 척(60), 스핀들(70), 회전 구동부(80)를 포함하여 구성될 수 있다. 상기 스핀 척(50)에는 여러 개의 척 핀(51)이 설치된다.
상기 식각액 공급유닛(300)은 상기 기판 지지유닛(200)에 의해 지지된 기판(W)에 식각액을 공급하기 위한 구성으로서 노즐(301), 노즐 구동부(302), 식각액 가열부(303)를 포함하여 구성될 수 있다. 상기 식각액으로는 인산(H3PO4)이 사용될 수 있으며, 인산에 의해 기판(W) 표면의 실리콘 산화막이나 실리콘 질화막 등을 식각 할 수 있다.
상기 노즐(301)은 식각액을 기판(W)에 직접 분사하는 구성이다.
상기 노즐 구동부(302)는 상기 노즐(301)을 이동시키는 구성으로서, 노즐(301)이 기판(W)에 식각액을 분사할 때에는 노즐(301)이 기판(W)의 중심 상부에 위치할 수 있도록 구동하고, 식각액 분사가 완료된 후에는 노즐(301)이 기판으로부터 이격되도록 구동한다.
상기 식각액 가열부(303)는 식각액을 가열한다. 식각액에 의한 식각은 화학반응에 의해 이루어지는데 식각액의 온도가 올라가면 화학반응의 속도가 증가할 수 있으므로 식각액을 가열하는 것이다. 식각액 가열부(303)는 식각액을 끓는 점 이하의 온도, 예를 들어 150℃로 가열할 수 있다.
한편, 식각 반응을 위해 식각액과 함께 기판(W)에 순수(Deionized water; DIW)를 공급하는 순수 공급유닛(400)이 포함될 수도 있다. 순수 공급유닛(400)은 순수노즐(401), 순수노즐 구동부(미도시), 순수 가열부(402)를 포함할 수 있다.
상기 순수노즐(401)은 기판(W)에 순수를 분사하는 구성이고, 순수노줄 구동부는 상기 순수노즐(401)을 구동하는 구성이며, 순수 가열부(402)는 식각 반응 속도를 올리기 위해 순수를 가열하는 구성이다. 상기 순수노즐 구동부의 구동 메커니즘은 상기 노즐 구동부(302)의 구동 메커니즘과 실질적으로 동일하게 구성될 수 있다.
상기 회수유닛(500)은 상기 식각액 공급유닛(300)에 의해 기판(W)의 표면으로 분사된 식각액이나 순수가 기판의 표면과 반응하면서 생기는 반응 부산물이나 기판(W)에서 비산된 식각액이나 순수를 회수하는 구성으로서 도 5에 도시된 바와 같이 기판 지지유닛(200)과 기판(W)을 감싸는 형태로 배치된다.
상기 기판 가열유닛(100)은 상기 기판(W)을 가열하기 위하여 상기 스핀 척(50)의 하부에 배치되는 구성으로서, 가열부(10), 단자대(20), 반사판(30) 및 냉각 플레이트(40)를 포함하여 구성되는데(도 2 또는 도 3 참조), 전술한 기판 가열장치와 실질적으로 동일한 구성이므로 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명함으로써 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 제공하였으나 본 발명의 기술적 사상이 설명된 실시예에 한정되는 것은 아니며 본 발명의 기술적 사상에 어긋나지 않는 범위 안에서 다양한 형태로 구체화될 수 있다.
10 : 가열부 20 : 단자대
30 : 반사판 40 : 냉각 플레이트

Claims (20)

  1. 기판을 가열하기 위한 기판 가열 장치에 있어서,
    상기 기판의 하부에 배치되는 열원인 가열부;
    상기 가열부의 아래쪽에 배치되어 냉기를 제공하는 냉각 플레이트;
    상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 가열 장치.
  2. 제1항 있에서,
    상기 가열부와 냉각 플레이트 사이에 배치되어 가열부에서 발산된 열을 기판 쪽으로 반사시키는 반사판;을 더 포함하는 기판 가열 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 반사판에는 틈(opening)이 형성되어 있어서 상기 단자대의 하단부는 상기 틈을 관통한 상태로 상기 냉각 플레이트와 접하는 기판 가열 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 틈은 상기 단자대의 단면 형상에 대응하도록 구성되는 기판 가열 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 냉각 플레이트에는 아래쪽으로 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 기판 가열 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 냉각 플레이트 중 상기 틈의 하부에는 아래쪽으로 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 기판 가열 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 홈의 폭은 상기 틈의 폭에 비해 좁은 기판 가열 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 가열부는 동심원 형상의 여러 개의 IR 램프히터를 포함하며 각각의 IR 램프히터는 동일한 평면에 배치되는 기판 가열 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 냉각 플레이트의 내부에는 냉각수가 흐르는 유로가 배치되는 기판 가열 장치.
  10. 처리 영역을 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 처리 영역에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지유닛;
    상기 기판 지지유닛에 의해 지지된 기판에 약액을 공급하기 위한 약액 공급유닛;
    상기 기판을 가열하기 위한 기판 가열유닛; 을 포함하며,
    상기 기판 가열유닛은 상기 기판의 하부에 배치되는 열원인 가열부와, 상기 가열부의 아래쪽에 배치되어 냉기를 제공하는 냉각 플레이트와, 상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대를 포함하는 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 가열부와 냉각 플레이트 사이에 배치되어 가열부에서 발산된 열을 기판 쪽으로 반사시키는 반사판;을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 반사판에는 틈(opening)이 형성되어 있어서 상기 단자대의 하단부는 상기 틈을 관통한 상태로 상기 냉각 플레이트와 접촉하는 기판 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 틈은 상기 단자대의 단면 형상에 대응하도록 구성되는 기판 처리 장치.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 냉각 플레이트에는 아래쪽으로 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 기판 처리 장치.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 냉각 플레이트 중 상기 틈의 하부에는 아래쪽으로 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 기판 처리 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 홈의 폭은 상기 틈의 폭에 비해 좁은 기판 처리 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 가열부는 동심원 형상의 여러 개의 IR 램프히터를 포함하며 각각의 IR 램프히터는 동일한 평면에 배치되는 기판 처리 장치.
  18. 제10항에 있어서,
    상기 냉각 플레이트의 내부에는 냉각수가 흐르는 유로가 배치되는 기판 처리 장치.
  19. 제10항에 있어서,
    상기 기판 지지유닛은 스핀 척과 상기 스핀 척의 아래쪽에 배치되어 상기 스핀 척을 회전시키기 위한 회전 구동부를 포함하는 기판 처리 장치.
  20. 기판의 표면을 식각하기 위한 기판 식각 장치에 있어서,
    처리 영역을 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 처리 영역에 설치되어 기판을 지지하며 스핀 척과 상기 스핀 척을 회전시키기 위한 회전 구동부를 포함하는 기판 지지유닛;
    상기 기판 지지유닛에 의해 지지된 기판에 식각액을 공급하기 위한 것으로서 상기 기판에 식각액을 분사하는 노즐, 상기 노즐을 이동시키기 위한 노즐 구동부, 상기 식각액을 가열하기 위한 식각액 가열부를 포함하는 식각액 공급유닛;
    상기 식각액 공급유닛에 의해 기판의 표면으로 분사된 식각액이 기판의 표면과 반응하면서 생기는 반응 부산물이나 기판에서 비산된 식각액을 회수하기 위하여 상기 기판 지지유닛을 감싸는 형태로 마련되는 회수유닛;
    상기 기판을 가열하기 위하여 상기 스핀 척의 하부에 배치되는 기판 가열유닛; 을 포함하며,
    상기 기판 가열유닛은,
    상기 지지유닛의 하부에 배치되는 열원으로서 여러 개가 동일한 평면에 동심원 형상으로 배치된 IR 램프히터인 가열부;
    상기 가열부 하부에 배치되어 냉기를 제공하며 내부에 냉각수가 흐르는 유로가 형성된 냉각 플레이트;
    상기 가열부에 전력을 공급하며 하단부가 상기 냉각 플레이트와 접하는 단자대;
    상기 가열부와 냉각 플레이트 사이에 배치되어 가열부에서 발산된 열을 기판 쪽으로 반사시키는 반사판을 포함하며,
    상기 반사판에는 상기 단자대의 단면 형상에 대응되는 형상의 틈(opening)이 형성되어 있어서 상기 단자대의 하단부는 상기 틈을 관통한 상태로 상기 냉각 플레이트와 접하고,
    상기 냉각 플레이트 중 상기 틈의 하부에는 아래쪽으로 상기 틈의 폭에 비해 좁은 폭을 가지도록 패인 홈이 마련되어 상기 단자대와 연결되는 전원 케이블은 상기 홈에 수용되어 냉각 플레이트에 의해 냉각되는 기판 식각 장치.
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